JP2015532524A - ポリマー太陽電池及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
ポリマー太陽電池の製造方法は、清潔なガラス基板に正極、電子緩衝層、及び活性層を順次に製造してから、活性層に負極を製造し、最終的にポリマー太陽電池を得る。活性層に負極を製造する工程は、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートを溶解させてポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートの溶液を得て、酸化亜鉛を酢酸に溶解させて酸化亜鉛溶液を得た後、酸化亜鉛溶液とポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートの溶液とを混合した混合液を、活性層(4)にスピンコーティングした後、乾燥して負極を得る。負極と活性層との屈折率差を利用してポリマー太陽電池の光吸収率及びエネルギー変換効率を向上させ、製造プロセスが簡単であり、逆構造によりポリマー太陽電池の使用寿命の延長に有利であるので、その製品及び製造方法は産業化の適用が期待できる。【選択図】図1
Description
本発明は、有機太陽電池技術分野に関し、特にポリマー太陽電池及びその製造方法関する。
1982年に、Weinbergerらは、ポリアセチレンの光起電特性について研究して最初の真の意味での太陽電池を製造したが、当時の光電変換効率は10−3%とうい極めて低い効率である。続いて、Glenisらは、種々のポリチオフェン太陽電池を製造したが、当時の太陽電池は、開路電圧が極めて低く、光電変換効率が低いという問題があった。1986年に、C.W.Tangらは初めてp型半導体及びn型半導体を二層構造の太陽電池デバイスに導入した以来、光電流を大幅に向上させ、マイルストーンとして有機ポリマー太陽電池の大きな発展をもたらす。
二層構造のポリマー太陽電池は、正、負電極及びそれらの間にある光活性薄層、すなわち活性層を含む。活性層は、一般的に、ドナー(D)及びアクセプタ(A)からなる不均質構造を有する。アクセプタの材料は、主としてCdSe、n−ポリマー、並びにC60及びその誘導体PCBMなどである。PCBM型太陽電池の正負極は、それぞれインジウムスズ酸化物(ITO)及び低い仕事関数の金属であってもよい。活性層は、一般的に共役ポリマー及びPCBMを混合して得られる。光が透明なITOを透過して共役ポリマー分子に照射するとき、光子エネルギーはポリマーのバンドギャップより大きい場合に励起子を励起する。その励起子はD/A界面に移動する場合、D/Aのエネルギー準位差が励起子の結合エネルギーより大きいため、励起子を界面で分離させ、電子がPCBMにより負極に転送するとともに、正孔がポリマーにより正極ITOに転送することで、光電流及び光電圧が生じる。
現在、活性層材料の構造を変更することにより、その太陽光に対する吸収率を高めてエネルギー変換効率を向上させることが多いが、この方法は、研究開発のコストが高く、時間が長くかかるという問題があった。一方、太陽光が活性層に照射されたとき吸収して利用できる光は少なく、その大部分が電池を通過して利用できない。そのため、ポリマー太陽電池の組成又は構造を改良することで、太陽電池の太陽光に対する利用率を向上させることは、エネルギー変換効率を向上するための1つの重要な手段である。しかしながら、現在、それに関する技術は少ない。
上記した問題を解決するために、本発明の目的は、ポリマー太陽電池の製造方法を提供することにある。本発明に係るポリマー太陽電池は、負極がポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)及びポリスチレンスルホナート(PSS)に酸化亜鉛(ZnO)をドープしてなることで、負極の屈折率と活性層の屈折率との間に差を生じさせる。このようにして、活性層を通過する太陽光は、散乱して全反射され、さらに吸収されるので、ポリマー太陽電池の太陽光に対する利用率及びそのエネルギー変換効率を向上することができる。
本発明は、さらに上記製造方法で製造されるポリマー太陽電池を提供する。
一側面において、本発明で提供するポリマー太陽電池の製造方法は、
清潔なガラス基板を用意して、そのガラス基板に正極、電子緩衝層、及び活性層を順次に製造する工程と、
上記活性層に負極を製造して最終的にポリマー太陽電池を得る、負極製造工程と、を含み、
上記負極製造工程は、
ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)及びポリスチレンスルホナート(PSS)をクロロベンゼンに加えて溶解させ、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートの溶液を得るステップと、
酸化亜鉛を酢酸に溶解させ、濃度が0.05g/ml〜0.6g/mlである酸化亜鉛溶液を得るステップと、
上記酸化亜鉛溶液と上記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートの溶液とを体積比1:10〜3:4で混合して、混合液を得るステップと、
上記活性層に上記混合液をスピンコーティングした後、乾燥して負極を得るステップと、を有し、
上記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートの溶液を得るステップにおいて、上記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートの溶液には、上記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)と上記ポリスチレンスルホナートとの重量比が2:1〜6:1であり、上記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)の、上記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートの溶液に占める質量百分率が1%〜5%であり、
上記混合液を得るステップにおいて、上記酸化亜鉛と上記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)との重量比が0.75:1〜6:1である。
清潔なガラス基板を用意して、そのガラス基板に正極、電子緩衝層、及び活性層を順次に製造する工程と、
上記活性層に負極を製造して最終的にポリマー太陽電池を得る、負極製造工程と、を含み、
上記負極製造工程は、
ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)及びポリスチレンスルホナート(PSS)をクロロベンゼンに加えて溶解させ、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートの溶液を得るステップと、
酸化亜鉛を酢酸に溶解させ、濃度が0.05g/ml〜0.6g/mlである酸化亜鉛溶液を得るステップと、
上記酸化亜鉛溶液と上記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートの溶液とを体積比1:10〜3:4で混合して、混合液を得るステップと、
上記活性層に上記混合液をスピンコーティングした後、乾燥して負極を得るステップと、を有し、
上記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートの溶液を得るステップにおいて、上記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートの溶液には、上記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)と上記ポリスチレンスルホナートとの重量比が2:1〜6:1であり、上記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)の、上記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートの溶液に占める質量百分率が1%〜5%であり、
上記混合液を得るステップにおいて、上記酸化亜鉛と上記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)との重量比が0.75:1〜6:1である。
好ましくは、上記酸化亜鉛の粒径は、50nm〜200nmである。
酢酸で酸化亜鉛を溶解する理由は、酢酸が弱酸であり、ガラスに対する腐食を低減できるためである。酸化亜鉛を溶解する目的を達成できれば、他の濃度の酢酸水溶液で酸化亜鉛を溶解してもよく、その場合、乾燥過程で水分を取り除ければよい。上記酸化亜鉛溶液の濃度は、酸化亜鉛の質量と酢酸の体積との比であり、酸化亜鉛溶液、並びにポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートの溶液の密度は、1mg/mlであるとみなされる。
上記PEDOTの分子量は、13000〜50000の範囲であり、一般的に市販のPEDOT/PSS溶液におけるPEDOTの分子量の範囲である。
好ましくは、上記負極を製造するとき、上記スピンコーティングは、回転数が2000rpm〜6000rpmであり、時間が10秒〜60秒である。
好ましくは、上記乾燥は、不活性雰囲気において行い、温度が50℃〜200℃であり、時間が10分間〜30分間である。
好ましくは、上記負極の厚さは100nm〜300nmである。
好ましくは、上記ガラス基板は市販の一般的なガラス基板である。
好ましくは、上記正極の材料は、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、金(Au)、又は白金(Pt)である。より好ましくは、上記正極の材料はアルミニウム(Al)である。
好ましくは、上記正極の製造は、真空蒸着法を採用し、蒸着圧力が2×10−5Pa〜5×10−3Paであり、蒸着速度が1nm/s〜10nm/sである。
好ましくは、上記正極の厚さは10nm〜30nmである。より好ましくは、上記正極の厚さは15nmである。
好ましくは、上記電子緩衝層の材料は、フッ化リチウム(LiF)、炭酸リチウム(Li2CO3)、又は炭酸セシウム(Cs2CO3)である。より好ましくは、上記電子緩衝層の材料は炭酸セシウム(Cs2CO3)である。
好ましくは、上記電子緩衝層の製造は、真空蒸着法を採用し、蒸着圧力が2×10−5Pa〜5×10−3Paであり、蒸着速度が0.1nm/s〜1nm/sである。
好ましくは、上記電子緩衝層の厚さは0.5nm〜10nmである。より好ましくは、上記電子緩衝層の厚さは2nmである。
好ましくは、上記活性層の材料は、ポリ(3−ヘキシルチオフェン)(P3HT)及び(6,6)−フェニル−C61−酪酸メチル(PCBM)を含む。(6,6)−フェニル−C61−酪酸メチルは、分子式がC72H14O2であり、C60の誘導体である。
上記活性層の製造は、具体的に、ポリ(3−ヘキシルチオフェン)(P3HT)と(6,6)−フェニル−C61−酪酸メチル(PCBM)とを重量比1:0.8〜1:4で溶媒に加え、撹拌して溶解させたポリ(3−ヘキシルチオフェン)(P3HT)及び(6,6)−フェニル−C61−酪酸メチル(PCBM)の混合溶液を、不活性ガス雰囲気において電子緩衝層にスピンコーティングし、室温で24時間〜48時間放置して活性層を得ることである。
好ましくは、上記ポリ(3−ヘキシルチオフェン)(P3HT)と上記(6,6)−フェニル−C61−酪酸メチル(PCBM)との重量比は1:0.8である。
好ましくは、上記活性層の製造は、具体的にアニ−ル処理をさらに含み、アニ−ル温度が50℃〜200℃であり、アニ−ル時間が5分間〜100分間である。
好ましくは、上記ポリ(3−ヘキシルチオフェン)(P3HT)及び(6,6)−フェニル−C61−酪酸メチル(PCBM)の混合溶液の濃度は、8mg/ml〜24mg/mlである。より好ましくは、上記ポリ(3−ヘキシルチオフェン)及び(6,6)−フェニル−C61−酪酸メチルの混合溶液の濃度は、18mg/mlである。
好ましくは、上記混合溶液をスピンコーティングした後、200℃で5分間アニーリングする。
好ましくは、上記スピンコーティングは、回転数が4000rpm〜6000rpmであり、時間が10秒〜30秒である。
活性層におけるP3HTとPCBMの重量比及び濃度を制御することにより、活性層の屈折率を約1.7に達し、太陽光に対する全反射を実現させる。
好ましくは、上記溶媒はトルエン、キシレン、クロロベンゼン、又はクロロホルムである。
好ましくは、上記活性層の厚さは80nm〜300nmである。より好ましくは、上記活性層の厚さは200nmである。
別の側面において、本発明は、順番に積層される、ガラス基板と、正極と、電子緩衝層と、活性層と、負極とを含むポリマー太陽電池を提供する。上記負極は、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)及びポリスチレンスルホナート(PSS)に酸化亜鉛(ZnO)をドープしてなる。ここで、上記酸化亜鉛と上記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)との重量比は0.75:1〜6:1であり、上記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)と上記ポリスチレンスルホナートとの重量比は2:1〜6:1である。
好ましくは、上記酸化亜鉛の粒径は50nm〜200nmである。
好ましくは、上記負極の厚さは100nm〜300nmである。
負極において、ZnOは溶解した後で電離され、乾燥してから亜鉛のイオン化合物の形で存在して導電機能を働くとともに、PEDOTは正孔を輸送する機能を働くことで、負極に正孔輸送層及び負極の機能を兼備させる。
好ましくは、上記負極の厚さは100nm〜300nmである。
好ましくは、上記ガラス基板は市販の一般的なガラス基板である。
好ましくは、上記正極の材料は、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、金(Au)、又は白金(Pt)である。より好ましくは、上記正極の材料はアルミニウム(Al)である。
好ましくは、上記正極の厚さは10nm〜30nmである。より好ましくは、上記正極の厚さは15nmである。
好ましくは、上記電子緩衝層の材料は、フッ化リチウム(LiF)、炭酸リチウム(Li2CO3)、又は炭酸セシウム(Cs2CO3)である。より好ましくは、上記電子緩衝層の材料は炭酸セシウム(Cs2CO3)である。
好ましくは、上記電子緩衝層の厚さは0.5nm〜10nmである。より好ましくは、上記電子緩衝層の厚さは2nmである。
好ましくは、上記活性層の材料は、ポリ(3−ヘキシルチオフェン)(P3HT)及び(6,6)−フェニル−C61−酪酸メチル(PCBM)を含む。(6,6)−フェニル−C61−酪酸メチルは、分子式がC72H14O2であり、C60的誘導体である。P3HT:PCBMの重量比は1:0.8〜1:4である。
好ましくは、P3HT:PCBMの重量比は1:0.8である。
好ましくは、上記活性層の厚さは80nm〜300nmである。より好ましくは、上記活性層の厚さは200nmである。
太陽電池の太陽光に対する利用率は、エネルギー変換効率に影響を与える1つの要因である。現在、よく用いられる方法は、活性層材料の構造の変更により太陽光に対する吸収率を向上させることであるが、本発明は負極にドープする方法を用いて電池の太陽光に対する吸収率を向上させ、さらにエネルギー変換効率を向上させる。本発明に係るポリマー太陽電池の負極は、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)及びポリスチレンスルホナート(PSS)に酸化亜鉛(ZnO)をドープしてなる。PEDOTの屈折率が約1.5であり、本発明における活性層の屈折率が約1.7であるため、活性層に吸収されない光は活性層を通過して負極に到達するとき、屈折率の差によって全反射され、再び活性層に戻って吸収して利用される。また、負極に含まれる酢酸亜鉛粒子の粒径が大きいため、光を散乱させ、ポリマー太陽電池の太陽光に対する吸収率及エネルギー変換効率を向上することができる。
本発明で提供されるポリマー太陽電池及びその製造方法は、下記に示すような有益な効果を有する。すなわち、
(1)本発明に係るポリマー太陽電池において、負極と活性層との間に屈折率差を存在するため、光が全反射されて活性層に戻って、さらに吸収して利用されるとともに、負極における酢酸亜鉛粒子の粒径が大きいため、光を散乱させ、電池の光吸収率及びエネルギー変換効率を向上することができる。
(1)本発明に係るポリマー太陽電池において、負極と活性層との間に屈折率差を存在するため、光が全反射されて活性層に戻って、さらに吸収して利用されるとともに、負極における酢酸亜鉛粒子の粒径が大きいため、光を散乱させ、電池の光吸収率及びエネルギー変換効率を向上することができる。
(2)ポリマー太陽電池は負極としてITOガラスをよく使用するが、ITO機能層におけるインジウム元素は、ガラスに浸透してポリマー太陽電池の使用寿命を縮めるうえ、希元素であるためコストも高い同時に、ITO機能層におけるスズ元素は毒性が高い。しかしながら、本発明に係る負極は、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートに酸化亜鉛をドープしてなるため、コストが低く、安定性が良い。
(3)本発明に係るポリマー太陽電池の負極は、高導電性(PEDOT及びZnイオン由来)及び高注入効率(PEDOT由来)を有し、正孔緩衝層及び負極の機能を同時に発揮するので、正孔緩衝層及び負極をそれぞれ製造する必要なく、電池の製造プロセスを簡素化する。
(4)正極として一般的にAl又はAgなどの易酸化性金属を用いるが、本発明に係るポリマー太陽電池は逆構造を有し、製造時にまず正極、電子緩衝層、活性層を製造してから負極を製造することで、正極が製造過程で酸化されることを防止し、正極の安定性を大幅に向上させ、ポリマー太陽電池の使用寿命の延長に積極的な役割を果たすので、その製造方法の産業化の適用が期待できる。
以下、本発明の好適な実施形態が示される。本発明の思想を逸脱しないことを前提とする場合、複数の改良及び修飾をしても、本発明の保護範囲に属するものであると理解されるべきである。
[実施例1]
ポリマー太陽電池の製造方法は、下記のステップ(1)〜ステップ(4)を含む。
ポリマー太陽電池の製造方法は、下記のステップ(1)〜ステップ(4)を含む。
<ステップ(1)>
ガラスに対してフォトエッチング処理を行った後、2cm×2cmのサイズに切り出し、発光面積が0.3cm×0.3cmである。洗剤、脱イオン水、アセトン、エタノール、イソプロピルアルコールで順番にそれぞれ15分間超音波処理を行い、ガラス表面における有機汚染物質を除去した。
ガラスに対してフォトエッチング処理を行った後、2cm×2cmのサイズに切り出し、発光面積が0.3cm×0.3cmである。洗剤、脱イオン水、アセトン、エタノール、イソプロピルアルコールで順番にそれぞれ15分間超音波処理を行い、ガラス表面における有機汚染物質を除去した。
<ステップ(2)>
高真空成膜装置(Shenyang Scientific InstrumentDevelopment Center Co., Ltd.製、圧力<1×10−3Pa)を用いてガラスに正極Al及び電子緩衝層Cs2CO3を順番に蒸着した。正極を蒸着する場合には、圧力が5×10−4Paであり、蒸着速度が5nm/sであり、厚さが15nmである。電子緩衝層を蒸着する場合には、圧力が5×10−4Paであり、蒸着速度が0.2nm/sであり、厚さgが2nmである。
高真空成膜装置(Shenyang Scientific InstrumentDevelopment Center Co., Ltd.製、圧力<1×10−3Pa)を用いてガラスに正極Al及び電子緩衝層Cs2CO3を順番に蒸着した。正極を蒸着する場合には、圧力が5×10−4Paであり、蒸着速度が5nm/sであり、厚さが15nmである。電子緩衝層を蒸着する場合には、圧力が5×10−4Paであり、蒸着速度が0.2nm/sであり、厚さgが2nmである。
<ステップ(3)>
その後、活性層を製造した。すなわち、5mgのP3HT及び4mgのPCBMをクロロベンゼン0.5mlに加え、撹拌して溶解させ、濃度が18mg/mlであるP3HT及びPCBMの混合溶液を得た。不活性ガスの充満したグローブボックスにおいて、電子緩衝層に上記混合溶液を5000rpmの回転数で15秒スピンコーティングした。その後、室温で24時間放置してから、200℃で5分間アニーリングして、厚さが200nmである活性層を得た。
その後、活性層を製造した。すなわち、5mgのP3HT及び4mgのPCBMをクロロベンゼン0.5mlに加え、撹拌して溶解させ、濃度が18mg/mlであるP3HT及びPCBMの混合溶液を得た。不活性ガスの充満したグローブボックスにおいて、電子緩衝層に上記混合溶液を5000rpmの回転数で15秒スピンコーティングした。その後、室温で24時間放置してから、200℃で5分間アニーリングして、厚さが200nmである活性層を得た。
<ステップ(4)>
続いて、活性層に負極を製造した。すなわち、粒径が100nmのZnOを酢酸に溶解させ、濃度が0.4g/mlであるZnO溶液を得た。質量平均分子量が13000〜50000のPEDOT、及びPSSをクロロベンゼンに加えて溶解させた後、PEDOT及びPSSの溶液を得た。PEDOT及びPSSの溶液には、PEDOTとPSSとの重量比が5:1であり、PEDOTのPEDOT及びPSSの溶液に占める質量百分率が4%であり、ZnOとPEDOTとの重量比が5:1である。得られたZnO溶液とPEDOT及びPSSの溶液とを体積比1:2で混合して混合液を得た。活性層に上記混合物を4000rpmの回転数で20秒スピンコーティングした後、窒素ガスにおいて150℃で30分間乾燥させ、厚さが250nmである負極を得て、本発明のポリマー太陽電池を製造した。
続いて、活性層に負極を製造した。すなわち、粒径が100nmのZnOを酢酸に溶解させ、濃度が0.4g/mlであるZnO溶液を得た。質量平均分子量が13000〜50000のPEDOT、及びPSSをクロロベンゼンに加えて溶解させた後、PEDOT及びPSSの溶液を得た。PEDOT及びPSSの溶液には、PEDOTとPSSとの重量比が5:1であり、PEDOTのPEDOT及びPSSの溶液に占める質量百分率が4%であり、ZnOとPEDOTとの重量比が5:1である。得られたZnO溶液とPEDOT及びPSSの溶液とを体積比1:2で混合して混合液を得た。活性層に上記混合物を4000rpmの回転数で20秒スピンコーティングした後、窒素ガスにおいて150℃で30分間乾燥させ、厚さが250nmである負極を得て、本発明のポリマー太陽電池を製造した。
本発明で製造されたポリマー太陽電池は、順番に積層される、ガラス基板1と、正極2と、電子緩衝層3と、活性層4と、負極5とを含む。図1は本発明で製造されたポリマー太陽電池の構造図である。実施例1で製造されたポリマー太陽電池の構造は、ガラス基板/Al/Cs2CO3/(P3HT:PCBM)/(ZnO:PEDOT:PSS)で表示される。ここで、(ZnO:PEDOT:PSS)は、負極がPEDOT及びPSSにZnOをドープしてなることを表し、(P3HT:PCBM)は、活性層の材料がP3HT及びPCBMであることを表す。
また、対比用の通常のポリマー太陽電池を製造した。その構造は、ITO/(PEDOT:PSS)/(P3HT:PCBM)/Cs2CO3/Alで表示される。ここで、(PEDOT:PSS)は、正孔緩衝層の材料がPEDOT及びPSSであることを表し、(P3HT:PCBM)は、活性層の材料がP3HT及びPCBMであることを表す。そのうち、負極はITO、すなわちインジウムスズ酸化物ガラスであり、ITO機能層の厚さは120nmである。正孔緩衝層は、材料がPEDOT及びPSSの混合材料であり、その製造は、重量比が5:1であるPEDOT及びPSSを水に加えて溶解させ、PEDOTの濃度が5質量%であるPEDOT/PSS水溶液を得た後、正極に上記水溶液を回転数5000rpmで15秒スピンコーティングしてから乾燥させ、厚さが80nmである正孔緩衝層を得ることである。活性層は、材料及び製造方法が実施例1と同様であり、厚さが200nmである。電子緩衝層は、材料がCs2CO3であり、厚さが2nmであり、製造方法が実施例1と同様である。正極は、材料がAlであり、厚さが80nmであり、製造方法が実施例1と同様である。対比用ポリマー太陽電池と実施例1のポリマー太陽電池を比べると、本発明は逆構造を採用し、ZnOを正孔緩衝層材料にドープして負極を製造することで、負極及び正孔緩衝層の機能を同時に発揮するので、製造プロセスを簡素化させることが分かる。
[実施例2]
ポリマー太陽電池の製造方法は、下記のステップ(1)〜ステップ(4)を含む。
ポリマー太陽電池の製造方法は、下記のステップ(1)〜ステップ(4)を含む。
<ステップ(1)>
ガラスに対してフォトエッチング処理を行った後、2cm×2cmのサイズに切り出し、発光面積が0.3cm×0.3cmである。洗剤、脱イオン水、アセトン、エタノール、イソプロピルアルコールで順番にそれぞれ15分間超音波処理を行い、ガラス表面における有機汚染物質を除去した。
ガラスに対してフォトエッチング処理を行った後、2cm×2cmのサイズに切り出し、発光面積が0.3cm×0.3cmである。洗剤、脱イオン水、アセトン、エタノール、イソプロピルアルコールで順番にそれぞれ15分間超音波処理を行い、ガラス表面における有機汚染物質を除去した。
<ステップ(2)>
高真空成膜装置(Shenyang Scientific InstrumentDevelopment Center Co., Ltd製、圧力<1×10−3Pa)を用いてガラスに正極Ag及び電子緩衝層LiFを順番に蒸着した。正極を蒸着する場合には、圧力が5×10−3Paであり、蒸着速度が10nm/sであり、厚さが10nmである。電子緩衝層を蒸着する場合には、圧力が5×10−3Paであり、蒸着速度が1nm/sであり、厚さが0.7nmである。
高真空成膜装置(Shenyang Scientific InstrumentDevelopment Center Co., Ltd製、圧力<1×10−3Pa)を用いてガラスに正極Ag及び電子緩衝層LiFを順番に蒸着した。正極を蒸着する場合には、圧力が5×10−3Paであり、蒸着速度が10nm/sであり、厚さが10nmである。電子緩衝層を蒸着する場合には、圧力が5×10−3Paであり、蒸着速度が1nm/sであり、厚さが0.7nmである。
<ステップ(3)>
その後、活性層を製造した。すなわち、4.8mgのP3HT及び19.2mgのPCBMをクロロホルム1mlに加え、撹拌して溶解させ、濃度が24mg/mlであるP3HT及びPCBMの混合溶液を得た。不活性ガスの充満したグローブボックスにおいて、電子緩衝層に上記混合溶液を4000rpmの回転数で30秒スピンコーティングした。その後、室温で36時間放置して、厚さが80nmである活性層を得た。
その後、活性層を製造した。すなわち、4.8mgのP3HT及び19.2mgのPCBMをクロロホルム1mlに加え、撹拌して溶解させ、濃度が24mg/mlであるP3HT及びPCBMの混合溶液を得た。不活性ガスの充満したグローブボックスにおいて、電子緩衝層に上記混合溶液を4000rpmの回転数で30秒スピンコーティングした。その後、室温で36時間放置して、厚さが80nmである活性層を得た。
<ステップ(4)>
続いて、活性層に負極を製造した。すなわち、粒径が200nmのZnOを酢酸に溶解させ、濃度が0.6g/mlであるZnO溶液を得た。質量平均分子量が13000〜50000のPEDOT、及びPSSをクロロベンゼンに加えて溶解させた後、PEDOT及びPSSの溶液を得た。PEDOT及びPSSの溶液には、PEDOTとPSSとの重量比が2:1であり、PEDOTのPEDOT及びPSSの溶液に占める質量百分率が1%であり、ZnOとPEDOTとの重量比が6:1である。得られたZnO溶液とPEDOT及びPSSの溶液とを体積比1:10で混合して混合液を得た。活性層に上記混合物を2000rpmの回転数で60秒スピンコーティングした後、窒素ガスにおいて50℃で30分間乾燥させ、厚さが100nmである負極を得て、本発明のポリマー太陽電池を製造した。
続いて、活性層に負極を製造した。すなわち、粒径が200nmのZnOを酢酸に溶解させ、濃度が0.6g/mlであるZnO溶液を得た。質量平均分子量が13000〜50000のPEDOT、及びPSSをクロロベンゼンに加えて溶解させた後、PEDOT及びPSSの溶液を得た。PEDOT及びPSSの溶液には、PEDOTとPSSとの重量比が2:1であり、PEDOTのPEDOT及びPSSの溶液に占める質量百分率が1%であり、ZnOとPEDOTとの重量比が6:1である。得られたZnO溶液とPEDOT及びPSSの溶液とを体積比1:10で混合して混合液を得た。活性層に上記混合物を2000rpmの回転数で60秒スピンコーティングした後、窒素ガスにおいて50℃で30分間乾燥させ、厚さが100nmである負極を得て、本発明のポリマー太陽電池を製造した。
本発明で製造されたポリマー太陽電池は、順番に積層される、ガラス基板、正極、電子緩衝層、活性層と、負極とを含む。その構造は、具体的にガラス基板/Ag/LiF/(P3HT:PCBM)/(ZnO:PEDOT:PSS)である。ここで、(ZnO:PEDOT:PSS)は、負極がPEDOT及びPSSにZnOをドープしてなることを表し、(P3HT:PCBM)は、活性層の材料がP3HT及びPCBMであることを表す。
[実施例3]
ポリマー太陽電池の製造方法は、下記のステップ(1)〜ステップ(4)を含む。
ポリマー太陽電池の製造方法は、下記のステップ(1)〜ステップ(4)を含む。
<ステップ(1)>
ガラスに対してフォトエッチング処理を行った後、2cm×2cmのサイズに切り出し、発光面積が0.3cm×0.3cmである。洗剤、脱イオン水、アセトン、エタノール、イソプロピルアルコールで順番にそれぞれ15分間超音波処理を行い、ガラス表面における有機汚染物質を除去した。
ガラスに対してフォトエッチング処理を行った後、2cm×2cmのサイズに切り出し、発光面積が0.3cm×0.3cmである。洗剤、脱イオン水、アセトン、エタノール、イソプロピルアルコールで順番にそれぞれ15分間超音波処理を行い、ガラス表面における有機汚染物質を除去した。
<ステップ(2)>
高真空成膜装置(Shenyang Scientific InstrumentDevelopment Center Co., Ltd製、圧力<1×10−3Pa)を用いてガラスに正極Au及び電子緩衝層Cs2CO3を順番に蒸着した。正極を蒸着する場合には、圧力が2×10−5Paであり、蒸着速度が1nm/sであり、厚さが30nmである。電子緩衝層を蒸着する場合には、圧力が2×10−5Paであり、蒸着速度が0.1nm/sであり、厚さが0.5nmである。
高真空成膜装置(Shenyang Scientific InstrumentDevelopment Center Co., Ltd製、圧力<1×10−3Pa)を用いてガラスに正極Au及び電子緩衝層Cs2CO3を順番に蒸着した。正極を蒸着する場合には、圧力が2×10−5Paであり、蒸着速度が1nm/sであり、厚さが30nmである。電子緩衝層を蒸着する場合には、圧力が2×10−5Paであり、蒸着速度が0.1nm/sであり、厚さが0.5nmである。
<ステップ(3)>
その後、活性層を製造した。すなわち、4mgのP3HT及び12mgのPCBMをクロロホルム1mlに加え、撹拌して溶解させ、濃度が16mg/mlであるP3HT及びPCBMの混合溶液を得た。不活性ガスの充満したグローブボックスにおいて、電子緩衝層に上記混合溶液を6000rpmの回転数で10秒スピンコーティングした。その後、室温で20時間放置してから、100℃で100分間アニーリングし、厚さが200nmである活性層を得た。
その後、活性層を製造した。すなわち、4mgのP3HT及び12mgのPCBMをクロロホルム1mlに加え、撹拌して溶解させ、濃度が16mg/mlであるP3HT及びPCBMの混合溶液を得た。不活性ガスの充満したグローブボックスにおいて、電子緩衝層に上記混合溶液を6000rpmの回転数で10秒スピンコーティングした。その後、室温で20時間放置してから、100℃で100分間アニーリングし、厚さが200nmである活性層を得た。
<ステップ(4)>
続いて、活性層に負極を製造した。すなわち、粒径が50nmのZnOを酢酸に溶解させ、濃度が0.05g/mlであるZnO溶液を得た。質量平均分子量が13000〜50000のPEDOT、及びPSSをクロロベンゼンに加えて溶解させた後、PEDOT及びPSSの溶液を得た。PEDOT及びPSSの溶液には、PEDOTとPSSとの重量比が6:1であり、PEDOTのPEDOT及びPSSの溶液に占める質量百分率が5%であり、ZnOとPEDOTとの重量比が0.75:1である。得られたZnO溶液とPEDOT及びPSSの溶液とを体積比3:4で混合して混合液を得た。活性層に上記混合物を6000rpmの回転数で10秒スピンコーティングした後、窒素ガスにおいて200℃で10分間乾燥させ、厚さが300nmである負極を得て、本発明のポリマー太陽電池を製造した。
続いて、活性層に負極を製造した。すなわち、粒径が50nmのZnOを酢酸に溶解させ、濃度が0.05g/mlであるZnO溶液を得た。質量平均分子量が13000〜50000のPEDOT、及びPSSをクロロベンゼンに加えて溶解させた後、PEDOT及びPSSの溶液を得た。PEDOT及びPSSの溶液には、PEDOTとPSSとの重量比が6:1であり、PEDOTのPEDOT及びPSSの溶液に占める質量百分率が5%であり、ZnOとPEDOTとの重量比が0.75:1である。得られたZnO溶液とPEDOT及びPSSの溶液とを体積比3:4で混合して混合液を得た。活性層に上記混合物を6000rpmの回転数で10秒スピンコーティングした後、窒素ガスにおいて200℃で10分間乾燥させ、厚さが300nmである負極を得て、本発明のポリマー太陽電池を製造した。
本発明で製造されたポリマー太陽電池は、順番に積層される、ガラス基板、正極、電子緩衝層、活性層と、負極とを含む。その構造は、具体的にガラス基板/Au/Cs2CO3/(P3HT:PCBM)/(ZnO:PEDOT:PSS)である。ここで、(ZnO:PEDOT:PSS)は、負極がPEDOT及びPSSにZnOをドープしてなることを表し、(P3HT:PCBM)は、活性層の材料がP3HT及びPCBMであることを表す。
[実施例4]
ポリマー太陽電池の製造方法は、下記のステップ(1)〜ステップ(4)を含む。
[実施例4]
ポリマー太陽電池の製造方法は、下記のステップ(1)〜ステップ(4)を含む。
<ステップ(1)>
ガラスに対してフォトエッチング処理を行った後、2cm×2cmのサイズに切り出し、発光面積が0.3cm×0.3cmである。洗剤、脱イオン水、アセトン、エタノール、イソプロピルアルコールで順番にそれぞれ15分間超音波処理を行い、ガラス表面における有機汚染物質を除去した。
ガラスに対してフォトエッチング処理を行った後、2cm×2cmのサイズに切り出し、発光面積が0.3cm×0.3cmである。洗剤、脱イオン水、アセトン、エタノール、イソプロピルアルコールで順番にそれぞれ15分間超音波処理を行い、ガラス表面における有機汚染物質を除去した。
<ステップ(2)>
高真空成膜装置(Shenyang Scientific InstrumentDevelopment Center Co., Ltd.製、圧力<1×10−3Pa)を用いてガラスに正極Pt及び電子緩衝層Li2CO3を順番に蒸着した。正極を蒸着する場合には、圧力が5×10−5Paであり、蒸着速度が8nm/sであり、厚さが12nmである。電子緩衝層を蒸着する場合には、圧力が5×10−5Paであり、蒸着速度が0.5nm/sであり、厚さが10nmである。
高真空成膜装置(Shenyang Scientific InstrumentDevelopment Center Co., Ltd.製、圧力<1×10−3Pa)を用いてガラスに正極Pt及び電子緩衝層Li2CO3を順番に蒸着した。正極を蒸着する場合には、圧力が5×10−5Paであり、蒸着速度が8nm/sであり、厚さが12nmである。電子緩衝層を蒸着する場合には、圧力が5×10−5Paであり、蒸着速度が0.5nm/sであり、厚さが10nmである。
<ステップ(3)>
その後、活性層を製造した。すなわち、2.67mgのP3HT及び5.33mgのPCBMをクロロホルム1mlに加え、撹拌して溶解させ、濃度が8mg/mlであるP3HT及びPCBMの混合溶液を得た。不活性ガスの充満したグローブボックスにおいて、電子緩衝層に上記混合溶液を5000rpmの回転数で20秒スピンコーティングした。その後、室温で48時間放置してから、70℃で100分間アニーリングし、厚さが300nmである活性層を得た。
その後、活性層を製造した。すなわち、2.67mgのP3HT及び5.33mgのPCBMをクロロホルム1mlに加え、撹拌して溶解させ、濃度が8mg/mlであるP3HT及びPCBMの混合溶液を得た。不活性ガスの充満したグローブボックスにおいて、電子緩衝層に上記混合溶液を5000rpmの回転数で20秒スピンコーティングした。その後、室温で48時間放置してから、70℃で100分間アニーリングし、厚さが300nmである活性層を得た。
<ステップ(4)>
続いて、活性層に負極を製造した。すなわち、粒径が80nmのZnOを酢酸に溶解させ、濃度が0.2g/mlであるZnO溶液を得た。質量平均分子量が13000〜50000のPEDOT、及びPSSをクロロベンゼンに加えて溶解させた後、PEDOT及びPSSの溶液を得た。PEDOT及びPSSの溶液には、PEDOTとPSSとの重量比が3:1であり、PEDOTのPEDOT及びPSSの溶液に占める質量百分率が2%であり、ZnOとPEDOTとの重量比が4:1である。得られたZnO溶液とPEDOT及びPSSの溶液とを体積比2:5で混合して混合液を得た。活性層に上記混合物を2500rpmの回転数で30秒スピンコーティングした後、窒素ガスにおいて50℃20分間乾燥させ、厚さが180nmである負極を得て、本発明のポリマー太陽電池を製造した。
続いて、活性層に負極を製造した。すなわち、粒径が80nmのZnOを酢酸に溶解させ、濃度が0.2g/mlであるZnO溶液を得た。質量平均分子量が13000〜50000のPEDOT、及びPSSをクロロベンゼンに加えて溶解させた後、PEDOT及びPSSの溶液を得た。PEDOT及びPSSの溶液には、PEDOTとPSSとの重量比が3:1であり、PEDOTのPEDOT及びPSSの溶液に占める質量百分率が2%であり、ZnOとPEDOTとの重量比が4:1である。得られたZnO溶液とPEDOT及びPSSの溶液とを体積比2:5で混合して混合液を得た。活性層に上記混合物を2500rpmの回転数で30秒スピンコーティングした後、窒素ガスにおいて50℃20分間乾燥させ、厚さが180nmである負極を得て、本発明のポリマー太陽電池を製造した。
本発明で製造されたポリマー太陽電池は、順番に積層される、ガラス基板、正極、電子緩衝層、活性層と、負極とを含む。その構造は、具体的にガラス基板/Pt/Li2CO3/(P3HT:PCBM)/(ZnO:PEDOT:PSS)である。ここで、(ZnO:PEDOT:PSS)は、負極がPEDOT及びPSSにZnOをドープしてなることを表し、(P3HT:PCBM)は、活性層の材料がP3HT及びPCBMであることを表す
[テスト実施例]
電流−電圧試験機(米国Keithly社製、品番:2602)、及び500Wのキセノンランプ(Osram)とAM1.5の光フィルターとを組み合わせて模擬太陽光とする白光光源を用いて、電圧に伴うポリマー太陽電池の電流密度の変化曲線を測定した。図2は実施例1のポリマー太陽電池(曲線1に対応)と通常のポリマー太陽電池(曲線2に対応)(通常電池と略称する)との電流密度−電圧変化曲線である。
[テスト実施例]
電流−電圧試験機(米国Keithly社製、品番:2602)、及び500Wのキセノンランプ(Osram)とAM1.5の光フィルターとを組み合わせて模擬太陽光とする白光光源を用いて、電圧に伴うポリマー太陽電池の電流密度の変化曲線を測定した。図2は実施例1のポリマー太陽電池(曲線1に対応)と通常のポリマー太陽電池(曲線2に対応)(通常電池と略称する)との電流密度−電圧変化曲線である。
また、実施例2〜4で製造されたポリマー太陽電池の電流密度−電圧関係曲線であり、その曲線により得られる短絡電流、開路電圧、エネルギー変換効率、及び曲線因子などの性能データについて、実施例1〜4及び対比用の通常の電池の性能データは表1に示され、ここで、η(%)はエネルギー変換効率を表す。
表1は、実施例1〜4で製造されたポリマー太陽電池及び通常電池の性能データを示す。
表1から分かるように、対比用の通常の電池は、短絡電流密度が6.18mA/cm2であり、エネルギー変換効率が1.40%である一方、本発明の実施例1〜4で製造されたポリマー太陽電池は、短絡電流密度が6.51mA/cm2〜9.46mA/cm2に上がり、エネルギー変換効率が1.52%〜2.37%であり、通常電池と比べて、その性能が明らかに向上した。本発明は逆構造を採用して、負極がPEDOT及びPSSにZnOをドープしてなることで、負極に高導電性及び高注入効率の特徴を兼備させ、また、屈折率差によって光が負極で反射された後、再び活性層に戻って吸収して利用されるため、ポリマー太陽電池の太陽光に対する吸収率及び光電変換効率を大幅に向上させることを示す。また、その製造方法が簡単であり、産業化の適用が期待できる。
実用性のある例示的な実施例を参照して本発明を説明したが、本発明は、上述した例示的な実施例に限定することなく、本発明の特許請求の範囲の趣旨と原則に基づいて行われた如何なる変更、均等な代替及び置換などは、本発明の保護範囲内に含まれることを理解されるべきである。
Claims (10)
- ポリマー太陽電池的製造方法であって、
清潔なガラス基板を用意して、前記ガラス基板に正極、電子緩衝層、及び活性層を順次に製造する工程と、
前記活性層に負極を製造して、最終的にポリマー太陽電池を得る、負極製造工程と、
を含み、
前記負極製造工程は、
ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートをクロロベンゼンに加えて溶解させ、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートの溶液を得るステップと、
酸化亜鉛を酢酸に溶解させ、濃度が0.05g/ml〜0.6g/mlである酸化亜鉛溶液を得るステップと、
前記酸化亜鉛溶液と前記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートの溶液とを体積比1:10〜3:4で混合して、混合液を得るステップと、
前記活性層に前記混合液をスピンコーティングした後、乾燥して負極を得るステップと、を有し、
前記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートの溶液を得るステップにおいて、前記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートの溶液には、前記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)と前記ポリスチレンスルホナートとの重量比が2:1〜6:1であり、前記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)の、前記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートの溶液に占める質量百分率が1%〜5%であり、
前記混合液を得るステップにおいて、前記酸化亜鉛と前記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)との重量比は0.75:1〜6:1である、
ことを特徴とするポリマー太陽電池的製造方法。 - 前記酸化亜鉛の粒径は、50nm〜200nmである、
ことを特徴とする請求項1に記載のポリマー太陽電池的製造方法。 - 前記負極を製造するとき、前記スピンコーティングは、回転数が2000rpm〜6000rpmであり、時間が10秒〜60秒である、
ことを特徴とする請求項1に記載のポリマー太陽電池的製造方法。 - 前記乾燥は、不活性雰囲気において行い、温度が50℃〜200℃であり、時間が10分間〜30分間である、
ことを特徴とする請求項1に記載のポリマー太陽電池的製造方法。 - 前記活性層の製造は、具体的に、ポリ(3−ヘキシルチオフェン)と(6,6)−フェニル−C61−酪酸メチルとを重量比1:0.8〜1:4で溶媒に加え、撹拌して溶解させたポリ(3−ヘキシルチオフェン)及び(6,6)−フェニル−C61−酪酸メチルの混合溶液を、不活性ガス雰囲気において電子緩衝層にスピンコーティングし、室温で24時間〜48時間放置して活性層を得ることであり、
前記ポリ(3−ヘキシルチオフェン)と前記(6,6)−フェニル−C61−酪酸メチルとの重量比は1:0.8〜1:4である、
ことを特徴とする請求項1に記載のポリマー太陽電池的製造方法。 - 前記活性層の製造は、具体的にアニ−ル処理をさらに含み、アニ−ル温度が50℃〜200℃であり、アニ−ル時間が5分間〜100分間である、
ことを特徴とする請求項5に記載のポリマー太陽電池的製造方法。 - 前記ポリ(3−ヘキシルチオフェン)及び(6,6)−フェニル−C61−酪酸メチルの混合溶液の濃度は、8mg/ml〜24mg/mlである、
ことを特徴とする請求項5に記載のポリマー太陽電池的製造方法。 - 前記スピンコーティングは、回転数が4000rpm〜6000rpmであり、時間が10秒〜30秒である、
ことを特徴とする請求項5に記載のポリマー太陽電池的製造方法。 - ポリマー太陽電池であって、
順番に積層される、ガラス基板と、正極と、電子緩衝層と、活性層和負極とを含み、
前記負極は、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホナートに酸化亜鉛をドープしてなり、
前記酸化亜鉛と前記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)との重量比は0.75:1〜6:1であり、前記ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)と前記ポリスチレンスルホナートとの重量比は2:1〜6:1である、
ことを特徴とするポリマー太陽電池。 - 前記酸化亜鉛の粒径は50nm〜200nmであり、前記負極の厚さは100nm〜300nmである、
ことを特徴とする請求項9に記載のポリマー太陽電池。
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