JP2015516940A5

JP2015516940A5 -

Info

Publication number: JP2015516940A5
Application number: JP2015507529A
Authority: JP
Filing date: 2013-04-25
Publication date: 2016-03-17
Anticipated expiration: 2033-04-25

Claims

ＳｉＯ₂粒子を水性液体中に含む懸濁液の提供、該懸濁液の凍結および前記液体の除去を含む、ＳｉＯ₂顆粒の製造方法であって、前記凍結したＳｉＯ₂懸濁液を解凍して液相および凝集したＳｉＯ₂粒子の沈殿物を形成させ、前記液体を除去して、残留湿分を除去するために前記沈殿物を乾燥させてＳｉＯ₂顆粒を形成させる前記方法において、前記懸濁液が、ｐＨ値７超の調整のために、アルカリ金属を含まない塩基の添加物を窒素水素化物の形態で含むことを特徴とする前記方法。
前記懸濁液の凍結での含水量が、少なくとも３０質量％、最大９０質量％であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
前記懸濁液の凍結での含水量が、少なくとも７０質量％、最大９０質量％であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
前記ＳｉＯ₂懸濁液の凍結が、−５℃〜−４０℃の温度範囲で行われることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
前記懸濁液が、少なくとも１２時間の期間にわたって凍結されることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
窒素水素化物として、アンモニア（ＮＨ₃）または炭酸アンモニウム（（ＮＨ₄）₂ＣＯ₃）またはヘキサメチレンテトラミン（Ｃ₆Ｈ₁₂Ｎ₄）またはカルバミン酸アンモニウム（ＣＨ₆Ｎ₂Ｏ₂）が添加されることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
前記窒素水素化物が、ｐＨ値が９．５〜１４の範囲になる量で前記水性液体に添加されることを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法。
前記凝集したＳｉＯ₂ 粒子の沈殿物が、前記液相の除去後に、完全脱塩水中でスラリー化することにより洗浄されることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項に記載の方法。
前記沈殿物の残留湿分を除去するための乾燥工程が、１００℃〜５００℃の温度範囲で行われることを特徴とする、請求項１から８までのいずれか１項に記載の方法。
前記沈殿物が、乾燥の間に動かされることを特徴とする、請求項１から９までのいずれか１項に記載の方法。
前記液相の除去が、さらなる水性液体の分離下に、前記凝集したＳｉＯ₂粒子の沈殿物のデカンテーション、およびそれに続く遠心分離を含むことを特徴とする、請求項１から１０までのいずれか１項に記載の方法。
前記ＳｉＯ₂懸濁液が、密閉容器内で凍結されることを特徴とする、請求項１から１１までのいずれか１項に記載の方法。
前記水性ＳｉＯ₂懸濁液が、ＳｉＯ₂粒子の他にドーパントも含むことを特徴とする、請求項１から１２までのいずれか１項に記載の方法。
ドーパントとして、以下の元素の群：Ａｌ、Ｂ、Ｐ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｇ、Ｇａ、Ｚｎ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｃｕ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｔｉ、ならびにあらゆる希土類金属から選択される、１種または複数の酸化物（またはその前駆体）が使用されることを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
５００μｍまでの顆粒粒子の粒径を有するＳｉＯ₂顆粒が得られることを特徴とする、請求項１から１４までのいずれか１項に記載の方法。
請求項１３に記載の方法により製造されるＳｉＯ₂顆粒の、レーザー活性コンポーネントのための光学活性材料の出発材料としての使用。
請求項１３に記載の方法により製造されるＳｉＯ₂顆粒の、ドライエッチングプロセスにおける使用のための石英ガラスを製造するための出発材料としての使用。