JP2015502897A - ゾルゲル溶液から目的物を製造する方法 - Google Patents
ゾルゲル溶液から目的物を製造する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015502897A JP2015502897A JP2014532419A JP2014532419A JP2015502897A JP 2015502897 A JP2015502897 A JP 2015502897A JP 2014532419 A JP2014532419 A JP 2014532419A JP 2014532419 A JP2014532419 A JP 2014532419A JP 2015502897 A JP2015502897 A JP 2015502897A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mold
- sol
- gel
- gel solution
- drying
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 52
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 42
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims description 34
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 34
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 21
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 17
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 6
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 6
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 3
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 claims description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 3
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 107
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 90
- 238000000034 method Methods 0.000 description 42
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 17
- 239000000047 product Substances 0.000 description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 16
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 11
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 10
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000012491 analyte Substances 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 5
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 4
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000013536 elastomeric material Substances 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 3
- 238000000678 plasma activation Methods 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 229910001848 post-transition metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005372 Plexiglas® Polymers 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 2
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 2
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 2
- 238000000352 supercritical drying Methods 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 2
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 101710162828 Flavin-dependent thymidylate synthase Proteins 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 101710135409 Probable flavin-dependent thymidylate synthase Proteins 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004320 controlled atmosphere Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005370 electroosmosis Methods 0.000 description 1
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001802 infusion Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012686 silicon precursor Substances 0.000 description 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRPMCZNLJXJVSG-UHFFFAOYSA-N trichloro(1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-henicosafluorodecyl)silane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)[Si](Cl)(Cl)Cl QRPMCZNLJXJVSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIFIHLXNOOCGLJ-UHFFFAOYSA-N trichloro(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyl)silane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CC[Si](Cl)(Cl)Cl VIFIHLXNOOCGLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWAWYEUJUWLESO-UHFFFAOYSA-N trichloromethylsilane Chemical compound [SiH3]C(Cl)(Cl)Cl DWAWYEUJUWLESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B1/00—Producing shaped prefabricated articles from the material
- B28B1/24—Producing shaped prefabricated articles from the material by injection moulding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
- B28B11/12—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for removing parts of the articles by cutting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B7/00—Moulds; Cores; Mandrels
- B28B7/34—Moulds, cores, or mandrels of special material, e.g. destructible materials
- B28B7/344—Moulds, cores, or mandrels of special material, e.g. destructible materials from absorbent or liquid- or gas-permeable materials, e.g. plaster moulds in general
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B7/00—Moulds; Cores; Mandrels
- B28B7/34—Moulds, cores, or mandrels of special material, e.g. destructible materials
- B28B7/346—Manufacture of moulds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B7/00—Moulds; Cores; Mandrels
- B28B7/34—Moulds, cores, or mandrels of special material, e.g. destructible materials
- B28B7/348—Moulds, cores, or mandrels of special material, e.g. destructible materials of plastic material or rubber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/016—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by a liquid phase reaction process, e.g. through a gel phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/14—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/16—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on silicates other than clay
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/624—Sol-gel processing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/40—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn
- C03B2201/42—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn doped with titanium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/20—Wet processes, e.g. sol-gel process
- C03C2203/26—Wet processes, e.g. sol-gel process using alkoxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3232—Titanium oxides or titanates, e.g. rutile or anatase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/44—Metal salt constituents or additives chosen for the nature of the anions, e.g. hydrides or acetylacetonate
- C04B2235/441—Alkoxides, e.g. methoxide, tert-butoxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/60—Aspects relating to the preparation, properties or mechanical treatment of green bodies or pre-forms
- C04B2235/602—Making the green bodies or pre-forms by moulding
- C04B2235/6027—Slip casting
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/60—Aspects relating to the preparation, properties or mechanical treatment of green bodies or pre-forms
- C04B2235/606—Drying
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Inert Electrodes (AREA)
- Colloid Chemistry (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
Description
・蒸発乾燥、および
・超臨界乾燥
・第1に、乾燥は、上方への溶媒の移動によって、空気と接触する面5で開始する(この移動は図1の(a)、(b)、(c)、(d)の実線の上向き矢印によって表され、点線の上向き矢印は有機溶媒の蒸発現象を示し、それによってメニスカス6が形成され、乾燥中のゲルの変形を反映する(図1の(a)および(b)を参照))。
・第2に、メニスカス6の端部7からの側部の乾燥の進行(図1の(c)および(d)を参照)。
・分散媒体内の懸濁粒子を含むゾルゲル溶液を、液体支持体上で、堆積する段階、
・製造しようとする目的物にその形状が対応するゲル化体を形成するために、前記溶液をゲル化する段階、および
・固化された目的物を製造するために、ゲル化体を乾燥する段階。
・薄膜の形態の目的物を得ることのみを可能にし、複雑な形状の目的物の調製は除外される。
・液体支持体を構成する液体によって、製造される目的物の汚染のリスクが存在する。
・得ようとする目的物の形状に関する制限。
・最初に得ようとしている形状と比較したときの目的物の変形、並びに不均一なミクロ構造を引き起こす不均一な乾燥。
(a)製造される目的物の成形型の内部に前記ゾルゲル溶液を導入する段階、
(b)ゾルゲル溶液をゲル化する段階、
(c)前記成形型内で段階(b)において得られた前記ゲルを乾燥する段階であって、それによって前記ゲルが上述の目的物の構成材料に変換される段階、
前記成形型が閉じられたチャンバからなり、段階(b)および/または段階(c)の間に形成される気体の排出を可能にするのに適した材料を含むことを特徴とする。
・全ての面において複雑な構造を有することができる目的物。
・前記乾燥した、均一な外観を可能にする乾燥の制御。これはゲルの均一な収縮をもたらし、結果的にこの目的物の成形型に関連して得ることが望まれる目的物の相対的な寸法が維持され、また目的物のミクロ構造特性の良好な制御をもたらす。すなわち、言い換えれば、乾燥の作用の下で前記ゲルが収縮するときの、目的物の寸法の間の比率の保存である。
・成形型内に存在する空気の閉じ込め。これはゾルゲル溶液およびゲルを外部から保護し、その結果起こり得る裂け目を防ぐ。
・製造しようとする目的物に対応する形状のパートを溶液と接触させて配置する操作。この溶液は、以下を含む。
*その主鎖に、上記定義された化学式(I)の一連の繰り返し単位および少なくとも2つの末端エチレン性基を含むポリマー、および
*架橋剤
・前記溶液を架橋する操作。
・開始パートの除去操作。これによって前記成形型が残る。
・有機スズ触媒および白金塩の存在下での四官能性アルコイルシリケート。
・金属塩の存在下でのR−SiX3またはSiX4型の架橋剤、ここでRはアルキル基であってよく、Xはアセトキシ基、アルコキシ基、アミノ基、アミド基などの加水分解性基であってよい。
* 飽和または不飽和の脂肪族または芳香族モノアルコール。例えば化学式R1−OHを有し、R1は、線形または分岐の、1から30個の、好ましくは1から10個の炭素原子を有するアルキル基、またはフェニル基を表す。
* ジオール。例えばHO−R2−OHの化学式を有し、R2は、線形または分岐の、1から30個の、好ましくは1から10個の炭素原子を有するアルキレン基、またはフェニレン基を表す。
・水。これはゾルゲル溶液のゲル化工程を容易にすることに寄与し得る。
・加水分解の動力学およびゾルゲル溶液をゲルに変換する間の縮合反応の速度を向上することを可能にする触媒(これらの触媒は無機酸などの無機酸、酢酸などの有機酸であってよい)。
・有機または無機顔料。
・フルオロフォア化合物、燐光化合物、耐UV剤、無反射剤、または被分析物との反応基を有する化合物(保証の観点で、例えば被分析物の検知)などの、光学的性質を有する有機化合物。
・超臨界二酸化炭素などの、超臨界流体を用いる乾燥。
・熱による乾燥。
・真空下での乾燥。
・制御された雰囲気下での乾燥。
・上述の乾燥方法の組み合わせ。
・気体検知の分野。本発明の方法は、電磁波を導くことを可能とし、特定の構造(例えば光学ファイバなど)の形態を有することができる、セラミックまたはガラスに基づくセンサを考えるために使用されることができる。
・レーザの分野。本発明の方法は特に色素レーザを考えるために使用されることができ、色素レーザはレーザ調製のための基礎として働く溶液ゲル内に組み込まれることができ、本発明の方法によって得られるモノリスは正確な寸法および優れた表面品質を有する。
・マイクロ流体に関する分野。本発明の方法は、特にマイクロチャンネルを考えるために使用されることができ、これはガラスプレートなどの支持体上に作製することができる。
・化学分析の分野。本発明の方法は、特に気相クロマトグラフィーなどのクロマトグラフィー装置の構成内部に加えられるためのマイクロカラムを考えるために使用されることができる。
・電気浸透の分野。本発明の方法は、特に、微孔多孔質膜およびマイクロチャンネルを備えた装置を考えるために使用されることができる。
・電気泳動の分野。本発明の方法は、特に、マイクロリアクタを考えるために使用されることができる。
・光学分野。本発明の方法は、レンズ、導波路または導光路、およびより詳細にはマイクロレンズなどのフレネルレンズおよびマイクロレンズのアレイを考えるために使用されることができる。
・エネルギー分野。本発明の方法は、特に、燃料電池またはスーパーキャパシタのための電極材料を考えるために、または水素などの貯蔵燃料の材料を考えるために使用されることができる。
・ミクロ電子工学の分野。本発明の方法は、絶縁材料、圧電性材料、または誘電体材料を考えるために使用されることができ、前記材料はミクロ構造化されることができる。
・再現されることを目的として、成形型を形成するために、ミクロ構造化されたパートが使用される。
・このパートは、本発明の方法により再現され、これにより寸法が減少されたミクロ構造を有する部分を得ることが可能になる。
この実施例は、本発明の方法による目的物の調製を説明する。前記目的物は1ユーロの一部である。
成形型は以下の一連の操作によって調製される。
ゾルゲル溶液は以下の一連の操作によって調製される。
目的物は以下の一連の操作に従って調製される。
この実施例は、本発明の方法による目的物の調製を説明し、前記目的物はダイヤモンド形状を有する装飾的なものである。
成形型は、以下の寸法を有するダイヤモンド形状の装飾的な目的物から、実施例1の条件と同様の条件で調製される:長さ50mm、幅29.5mm、および高さ18mm。
ゾルゲル溶液は実施例1の条件と同様の条件で調製される。
目的物は実施例1の条件と同様の条件で調製される。
この実施例は、本発明の方法による目的物の調製を説明し、前記目的物は3つのフレネルマイクロレンズを含む(プレートの面の1つにエッチングされた)プレートであり、前記プレートは添付の図4に示される(前記プレートは「ポリカーボネートプレート」と示される)。
成形型は実施例1と同様の条件で、図4に示されるプレートから調製される。
ゾルゲル溶液は実施例1の条件と同様の条件で調製される。
目的物は、実施例1のものと同様の条件で製造される。
この実施例は、本発明の方法による目的物の調製を説明し、前記目的物は導光路である。
使用される成形型はシリコーン製の市販のチューブであり、内直径が3mm、厚みが1mm、かつ長さが26cmである。
ゾルゲル溶液は実施例1の条件と同様の条件で調製される。
テフロン(登録商標)ストッパが上述のチューブの一端に導入される。ゾルゲルと接触するストッパの面は、滑らかな表面が得られるまで、予め研磨される。
この実施例は、本発明の方法による目的物の調製を説明し、前記目的物は酸化ケイ素および酸化チタン(TiO2−SiO2)に基づく光学レンズである。
レンズ表面のプラズマ活性化の後の、FDTS(ペルフルオロデシルトリクロロシランに対応する)による表面処理が必要である。ポリジメチルシロキサン(PDMS)は成形型の架橋段階でガラスと共有結合を形成する可能性があり、これにより成形型からのレンズの除去が不可能となる場合がある。この処理によって、成形型とマスターとのそのような共有結合の形成を回避することができる。
成形型は以下の一連の操作によって調製される。
ゾルゲル溶液は以下の一連の操作によって調製される。
目的物は以下の一連の操作に従って調製される。
元々のマスター(φ=12.29mm、厚み=3.27mm)
ゾルゲル溶液から得られた部分(φ=10.06mm、厚み=1.49mm)
3 ゾルゲル溶液
5 空気と接触する面
6 メニスカス
7端部
Claims (6)
- ゾルゲル溶液から得られた構成材料でできた目的物の製造方法であって、以下の段階を連続して含み、
(a)製造される目的物の成形型の内部に前記ゾルゲル溶液を導入する段階、
(b)ゾルゲル溶液をゲル化する段階、
(c)前記成形型内で段階(b)において得られた前記ゲルを乾燥する段階であって、それによって前記ゲルが上述の目的物の構成材料に変換される段階、
前記成形型が閉じられたチャンバからなり、段階(b)および/または段階(c)の間に形成される気体の排出を可能にするのに適した材料を含むことを特徴とする製造方法。 - 成形型の材料がエラストマー材料である、請求項1に記載の製造方法。
- 成形型の材料がポリシロキサン系の材料である、請求項1または2に記載の製造方法。
- 成形型の材料がポリジメチルシロキサン系の材料である、請求項1から3の何れか1項に記載の製造方法。
- 導入段階(a)の前に、製造される目的物の成形型の調製段階を含む、請求項1から4の何れか1項に記載の製造方法。
- 導入段階(a)の前に、ゾルゲル溶液の調製段階を含む、請求項1から5の何れか1項に記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1158768 | 2011-09-29 | ||
FR1158768A FR2980789B1 (fr) | 2011-09-29 | 2011-09-29 | Procede de fabrication d'un objet a partir d'une solution sol-gel |
PCT/EP2012/069277 WO2013045671A1 (fr) | 2011-09-29 | 2012-09-28 | Procede de fabrication d'un objet a partir d'une solution sol-gel |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015502897A true JP2015502897A (ja) | 2015-01-29 |
JP2015502897A5 JP2015502897A5 (ja) | 2017-02-23 |
JP6129182B2 JP6129182B2 (ja) | 2017-05-17 |
Family
ID=46924496
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014532419A Active JP6129182B2 (ja) | 2011-09-29 | 2012-09-28 | ゾルゲル溶液から目的物を製造する方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9266765B2 (ja) |
EP (1) | EP2760799B1 (ja) |
JP (1) | JP6129182B2 (ja) |
CN (1) | CN103958422B (ja) |
FR (1) | FR2980789B1 (ja) |
WO (1) | WO2013045671A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019000362A (ja) * | 2017-06-15 | 2019-01-10 | キヤノンメディカルシステムズ株式会社 | 医用画像処理装置、医用画像診断装置及び医用画像処理プログラム |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013170052A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-11-14 | Sio2 Medical Products, Inc. | Saccharide protective coating for pharmaceutical package |
PL2251453T3 (pl) | 2009-05-13 | 2014-05-30 | Sio2 Medical Products Inc | Uchwyt na pojemnik |
US9458536B2 (en) | 2009-07-02 | 2016-10-04 | Sio2 Medical Products, Inc. | PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles |
US11624115B2 (en) | 2010-05-12 | 2023-04-11 | Sio2 Medical Products, Inc. | Syringe with PECVD lubrication |
US9878101B2 (en) | 2010-11-12 | 2018-01-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods |
US9272095B2 (en) | 2011-04-01 | 2016-03-01 | Sio2 Medical Products, Inc. | Vessels, contact surfaces, and coating and inspection apparatus and methods |
EP2776603B1 (en) | 2011-11-11 | 2019-03-06 | SiO2 Medical Products, Inc. | PASSIVATION, pH PROTECTIVE OR LUBRICITY COATING FOR PHARMACEUTICAL PACKAGE, COATING PROCESS AND APPARATUS |
US11116695B2 (en) | 2011-11-11 | 2021-09-14 | Sio2 Medical Products, Inc. | Blood sample collection tube |
US9554968B2 (en) | 2013-03-11 | 2017-01-31 | Sio2 Medical Products, Inc. | Trilayer coated pharmaceutical packaging |
CN104854257B (zh) | 2012-11-01 | 2018-04-13 | Sio2医药产品公司 | 涂层检查方法 |
US9903782B2 (en) | 2012-11-16 | 2018-02-27 | Sio2 Medical Products, Inc. | Method and apparatus for detecting rapid barrier coating integrity characteristics |
US9764093B2 (en) | 2012-11-30 | 2017-09-19 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of PECVD deposition |
BR112015012470B1 (pt) | 2012-11-30 | 2022-08-02 | Sio2 Medical Products, Inc | Método de produção de um tambor médico para um cartucho ou seringa médica |
US9662450B2 (en) | 2013-03-01 | 2017-05-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Plasma or CVD pre-treatment for lubricated pharmaceutical package, coating process and apparatus |
US9937099B2 (en) | 2013-03-11 | 2018-04-10 | Sio2 Medical Products, Inc. | Trilayer coated pharmaceutical packaging with low oxygen transmission rate |
US9863042B2 (en) | 2013-03-15 | 2018-01-09 | Sio2 Medical Products, Inc. | PECVD lubricity vessel coating, coating process and apparatus providing different power levels in two phases |
EP3693493A1 (en) | 2014-03-28 | 2020-08-12 | SiO2 Medical Products, Inc. | Antistatic coatings for plastic vessels |
FR3030783B1 (fr) | 2014-12-17 | 2017-01-20 | Commissariat Energie Atomique | Retroreflecteur assurant les fonctions de retroreflexion et de captation d'un parametre de l'environnement |
KR20180048694A (ko) | 2015-08-18 | 2018-05-10 | 에스아이오2 메디컬 프로덕츠, 인크. | 산소 전달률이 낮은, 의약품 및 다른 제품의 포장용기 |
EP3293253A1 (en) | 2016-09-13 | 2018-03-14 | Carroucell | Process for producing a glass macroporous matrix and uses |
EP3403724A1 (en) | 2017-05-18 | 2018-11-21 | Hifibio | Process for manufacturing an array with microchannels |
FR3072673A1 (fr) * | 2017-10-23 | 2019-04-26 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Procede de preparation d'une poudre a base d'oxyde(s) d'yttrium, d'aluminium et eventuellement d'au moins un autre element |
US11027254B1 (en) | 2018-09-10 | 2021-06-08 | Consolidated Nuclear Security, LLC | Additive manufacturing of mixed-metal parts using sol-gel feed materials |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62265127A (ja) * | 1986-05-12 | 1987-11-18 | Hitachi Chem Co Ltd | シリカガラスの製法 |
JPS6456330A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-03 | Seiko Epson Corp | Production of quartz crucible |
JPH02283626A (ja) * | 1989-04-24 | 1990-11-21 | Toshiba Ceramics Co Ltd | シリカガラスの合成方法 |
JPH08225309A (ja) * | 1994-12-29 | 1996-09-03 | At & T Corp | ゾル−ゲル浮遊プロセスを含む作製 |
JP2002526370A (ja) * | 1998-10-07 | 2002-08-20 | 矢崎総業株式会社 | 多孔質型を用いたゾル・ゲル法 |
JP2004502632A (ja) * | 2000-07-10 | 2004-01-29 | ノヴァラ テクノロジー ソシエタ レスポンサビリタ リミタータ | 大きい寸法を有する乾燥ゲルおよびこれによって導かれるガラスを製造するためのゾル−ゲル法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5686031A (en) * | 1995-01-05 | 1997-11-11 | Regents Of The University Of California | Method for rapidly producing microporous and mesoporous materials |
US6099792A (en) * | 1998-10-07 | 2000-08-08 | Yazaki Corporation | Sol-gel process using porous mold |
US6514454B1 (en) | 1998-10-07 | 2003-02-04 | Yazaki Corporation | Sol-gel process using porous mold |
-
2011
- 2011-09-29 FR FR1158768A patent/FR2980789B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-09-28 JP JP2014532419A patent/JP6129182B2/ja active Active
- 2012-09-28 US US14/348,260 patent/US9266765B2/en active Active
- 2012-09-28 EP EP12762659.6A patent/EP2760799B1/fr active Active
- 2012-09-28 WO PCT/EP2012/069277 patent/WO2013045671A1/fr active Application Filing
- 2012-09-28 CN CN201280058238.9A patent/CN103958422B/zh active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62265127A (ja) * | 1986-05-12 | 1987-11-18 | Hitachi Chem Co Ltd | シリカガラスの製法 |
JPS6456330A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-03 | Seiko Epson Corp | Production of quartz crucible |
JPH02283626A (ja) * | 1989-04-24 | 1990-11-21 | Toshiba Ceramics Co Ltd | シリカガラスの合成方法 |
JPH08225309A (ja) * | 1994-12-29 | 1996-09-03 | At & T Corp | ゾル−ゲル浮遊プロセスを含む作製 |
JP2002526370A (ja) * | 1998-10-07 | 2002-08-20 | 矢崎総業株式会社 | 多孔質型を用いたゾル・ゲル法 |
JP2004502632A (ja) * | 2000-07-10 | 2004-01-29 | ノヴァラ テクノロジー ソシエタ レスポンサビリタ リミタータ | 大きい寸法を有する乾燥ゲルおよびこれによって導かれるガラスを製造するためのゾル−ゲル法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019000362A (ja) * | 2017-06-15 | 2019-01-10 | キヤノンメディカルシステムズ株式会社 | 医用画像処理装置、医用画像診断装置及び医用画像処理プログラム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20140232046A1 (en) | 2014-08-21 |
CN103958422B (zh) | 2016-10-05 |
FR2980789A1 (fr) | 2013-04-05 |
CN103958422A (zh) | 2014-07-30 |
WO2013045671A1 (fr) | 2013-04-04 |
FR2980789B1 (fr) | 2013-10-25 |
EP2760799A1 (fr) | 2014-08-06 |
US9266765B2 (en) | 2016-02-23 |
EP2760799B1 (fr) | 2015-04-08 |
JP6129182B2 (ja) | 2017-05-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6129182B2 (ja) | ゾルゲル溶液から目的物を製造する方法 | |
WO2000020331A1 (en) | Sol-gel process using porous mold | |
WO2015058778A1 (en) | Sol-gel based matrix | |
JPH05509283A (ja) | ゾルーゲルモノリスの製造方法 | |
KR20140010939A (ko) | 크랙 프리 에어로겔을 포함하는 광학 소자 | |
ES2901424T3 (es) | Proceso de litografía por nanoimpresión y sustrato con patrón obtenible a partir del mismo | |
CN101474538B (zh) | 在多孔基板表面涂覆溶胶-凝胶薄膜的方法 | |
US20130131203A1 (en) | Method for preparing hybrid materials obtained by fast condensation of an organosilicon sol | |
JP2005146176A (ja) | スルホン酸基を有する有機−シリカ複合膜、およびその製造方法 | |
AU764586B2 (en) | Sol-gel process using porous mold | |
TW201441152A (zh) | 用於製造透光防熱元件之材料及用彼製得之防光元件及製法 | |
US6514454B1 (en) | Sol-gel process using porous mold | |
EP2978579B1 (fr) | Procede de fabrication d'un objet de forme complexe en un materiau inorganique ou organique durci | |
FR3003791A1 (fr) | Procede de fabrication d'un objet specifique en un materiau inorganique ou organique durci | |
WO2014154710A1 (fr) | Procede de fabrication d'un objet en un materiau polymerique durci | |
JPS6232135B2 (ja) | ||
WO2014154711A1 (fr) | Procede de fabrication d'un objet comprenant au moins un filet, ledit objet etant en un materiau inorganique ou organique durci | |
JP2023013553A (ja) | 複合材料及び多孔体の製造方法 | |
JPH02311579A (ja) | 有機けい素薄膜の製造方法 | |
US20040023041A1 (en) | Solvogels and a method of manufacture of the same | |
Adeogun | Silica sol-gel hybrids based on ionene polymers | |
JPH0359013B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150911 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161024 |
|
A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20170123 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170313 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170411 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6129182 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |