JP2015228531A - Semiconductor device manufacturing method - Google Patents

Semiconductor device manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP2015228531A
JP2015228531A JP2015185716A JP2015185716A JP2015228531A JP 2015228531 A JP2015228531 A JP 2015228531A JP 2015185716 A JP2015185716 A JP 2015185716A JP 2015185716 A JP2015185716 A JP 2015185716A JP 2015228531 A JP2015228531 A JP 2015228531A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
identification number
lead frame
information
server
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015185716A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6415411B2 (en
Inventor
薫 横澤
Kaoru Yokozawa
薫 横澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Electronics Corp
Original Assignee
Renesas Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Electronics Corp filed Critical Renesas Electronics Corp
Priority to JP2015185716A priority Critical patent/JP6415411B2/en
Publication of JP2015228531A publication Critical patent/JP2015228531A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6415411B2 publication Critical patent/JP6415411B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49171Fan-out arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/93Batch processes
    • H01L2224/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L2224/97Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a management method which can quickly investigate a cause of a failure that occurs in a manufacturing process of a semiconductor product.SOLUTION: A semiconductor device manufacturing method comprises: storing manufacturing conditions in each manufacturing process of a QFP in a main server (MS) in association with an identification number of the QFP; and impressing a two-dimensional barcode (BC2) corresponding to the identification number on a surface of the QFP. By doing this, when a fault occurs in the QFP, the manufacturing conditions of the QFP stored in the main server (MS) can be instantaneously tracked by reading the two-dimensional barcode (BC2) of the QFP and identifying the identification number.

Description

本発明は、半導体装置の製造方法に関し、特に、半導体装置の製造工程で発生した不良の原因を速やかに究明することのできる半導体製造技術に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor manufacturing technique capable of quickly investigating the cause of a defect that has occurred in a semiconductor device manufacturing process.

半導体装置の製造工程は、単結晶シリコンなどからなる半導体ウエハの主面(集積回路形成面)にフォトリソグラフィー技術、CVD技術、スパッタリング技術およびエッチング技術などを組み合わせて集積回路を形成する前工程(ウエハプロセス)と、上記集積回路が形成された半導体ウエハをダイシングして複数個の半導体チップに個片化した後、個々の半導体チップを樹脂やセラミックなどからなるパッケージに封止する後工程(組立て工程)とに大別される。   The manufacturing process of a semiconductor device is a pre-process (wafer) in which an integrated circuit is formed by combining a photolithography technique, a CVD technique, a sputtering technique, an etching technique, and the like on the main surface (integrated circuit forming surface) of a semiconductor wafer made of single crystal silicon or the like Process), and the semiconductor wafer on which the integrated circuit is formed is diced into a plurality of semiconductor chips, and then the individual semiconductor chips are sealed in a package made of resin, ceramic, or the like (assembly process) ).

半導体製造メーカは、このような工程を経て製造される半導体製品(半導体パッケージ)の表面に製品型名、顧客ロゴマーク、製造コードなどの製品情報を表示することによって、製品管理を行っている。   A semiconductor manufacturer performs product management by displaying product information such as a product type name, a customer logo, and a manufacturing code on the surface of a semiconductor product (semiconductor package) manufactured through such a process.

特許文献1(特開平11−008327号公報)は、複数の半導体チップがダイシングにより半導体ウエハから切り離された後でも、複数の半導体チップのそれぞれを管理可能にする半導体チップ識別付与方法を開示している。具体的には、まず半導体ウエハに形成された複数の半導体チップについて、ウエハ番号やウエハ内のチップの位置をチップ識別コードとして決定する。次に、チップ識別コードが付与された複数の半導体チップがダイシングにより半導体ウエハから切り離されてリードフレームに実装された時、それぞれの半導体チップの近傍のリードフレーム枠部に上記識別コードに対応するバーコードを付す。そして、このバーコードをバーコードリーダで読み取っておき、ICパッケージを組み立てた後、上記バーコードリーダで読み取ったバーコードに対応するバーコードをICパッケージの裏面に付す。この半導体チップ識別コード付与方法によれば、ICパッケージの裏面のバーコードを読み取ることにより、ICパッケージの組立て後においても、そのICパッケージに内蔵されている半導体チップの製造ロットやウエハ番号を識別できるので、製造段階の条件などの追跡調査が可能となる。   Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 11-008327) discloses a semiconductor chip identification imparting method that enables each of a plurality of semiconductor chips to be managed even after the plurality of semiconductor chips are separated from the semiconductor wafer by dicing. Yes. Specifically, first, for a plurality of semiconductor chips formed on a semiconductor wafer, the wafer number and the position of the chip in the wafer are determined as a chip identification code. Next, when a plurality of semiconductor chips to which a chip identification code is assigned are separated from a semiconductor wafer by dicing and mounted on a lead frame, a bar corresponding to the identification code is placed on a lead frame frame portion in the vicinity of each semiconductor chip. A code is attached. The bar code is read by a bar code reader, the IC package is assembled, and a bar code corresponding to the bar code read by the bar code reader is attached to the back surface of the IC package. According to this semiconductor chip identification code assigning method, by reading the barcode on the back surface of the IC package, the manufacturing lot and wafer number of the semiconductor chip built in the IC package can be identified even after the IC package is assembled. Therefore, follow-up surveys such as manufacturing stage conditions are possible.

特許文献2(特開2004−022981号公報)は、小型の半導体パッケージのうち、QFN(Quad Fat No lead package)やTSSOP(Thin Shrink Small Outline Package)のように、リードフレームのチップ搭載部がパッケージの裏面から露出する製品において、パッケージの表面とチップ搭載部の裏面とに外部から視認可能な製品情報を表示する技術を開示している。この文献では、パッケージの表面に例えば顧客ロゴマーク、製品型名、製造コード、ロットトレースコードのように、品種間で共通性の低い製品情報を表示し、チップ搭載部の裏面には、例えば生産国コードのように、製品間で共通性が高い製品情報を表示する。また、パッケージの表面の製品情報は、パッケージをモールド成型した後、印刷、捺印またはレーザマーキングによって形成し、チップ搭載部の裏面の製品情報は、パッケージの組立て開始前にあらかじめプレスまたはエッチングによって形成する。   Patent Document 2 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-022981) discloses that a chip mounting portion of a lead frame is a package, such as QFN (Quad Fat No lead package) and TSSOP (Thin Shrink Small Outline Package), among small semiconductor packages. In a product exposed from the back surface of the chip, a technology for displaying product information visible from the outside on the front surface of the package and the back surface of the chip mounting portion is disclosed. In this document, product information that is less common between product types is displayed on the front surface of the package, such as a customer logo, product type name, manufacturing code, and lot trace code. Product information that is highly common among products, such as a country code, is displayed. The product information on the front surface of the package is formed by printing, stamping or laser marking after the package is molded, and the product information on the back surface of the chip mounting portion is formed by pressing or etching in advance before starting the assembly of the package. .

特開平11−008327号公報JP-A-11-008327 特開2004−022981号公報JP 2004-022981 A

前述したように、半導体製造メーカは、完成品である半導体製品(半導体パッケージ)の表面に製品情報を表示することによって、製品管理を行っている。   As described above, a semiconductor manufacturer performs product management by displaying product information on the surface of a finished semiconductor product (semiconductor package).

しかしながら、近年は、半導体製品の品種が多様化し、かつ各半導体製品の製造工程も多様化・複雑化しているため、半導体製品に不良が発生した場合、従来の製品管理方法では、当該不良の原因を速やかに究明することが困難になっている。   However, in recent years, the variety of semiconductor products has been diversified, and the manufacturing process of each semiconductor product has also become diversified and complicated. Therefore, when a defect occurs in a semiconductor product, the conventional product management method causes the cause of the defect. It is difficult to investigate quickly.

例えば特許文献1では、半導体パッケージの裏面にバーコードの形式で半導体チップ識別コードを付与することによって、前工程の製造条件の追跡調査を可能にしている。しかし、この識別コードには、後工程(組立て工程)の製造条件に関する情報が含まれていないので、後工程で発生した不良の原因の追跡調査には利用できない。   For example, in Patent Document 1, a semiconductor chip identification code is assigned to the back surface of a semiconductor package in the form of a bar code, thereby making it possible to follow up the manufacturing conditions of the previous process. However, since this identification code does not include information on the manufacturing conditions of the subsequent process (assembly process), it cannot be used for the follow-up investigation of the cause of the defect that occurred in the subsequent process.

本発明の目的は、半導体製品の不良原因を速やかに究明することのできる管理方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a management method capable of quickly investigating the cause of defects in semiconductor products.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。   The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。   Of the inventions disclosed in the present application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.

本願発明の好ましい一態様である半導体装置の製造方法は、以下の工程を含む:
(a)チップ搭載部を有するデバイス領域、および前記デバイス領域の周囲に位置する外枠部を備えた基材を準備する工程;
(b)前記(a)工程の後、前記基材の前記外枠部に第1識別番号を付与する工程;
(c)前記(b)工程の後、前記基材の前記チップ搭載部に半導体チップを搭載する工程;
(d)前記(c)工程の後、前記外枠部が露出するように、前記半導体チップを樹脂で封止し、封止体を形成する工程;
(e)前記(d)工程の後、前記第1識別番号を読み取り、サーバに格納されている複数のサーバ内情報のうち、読み取った前記第1識別番号に対応する第1サーバ内情報を第2識別番号として前記封止体に付与する工程。
A manufacturing method of a semiconductor device which is a preferred embodiment of the present invention includes the following steps:
(A) preparing a substrate having a device region having a chip mounting portion and an outer frame portion located around the device region;
(B) After the step (a), a step of assigning a first identification number to the outer frame portion of the base material;
(C) After the step (b), a step of mounting a semiconductor chip on the chip mounting portion of the base material;
(D) After the step (c), the step of sealing the semiconductor chip with a resin so as to expose the outer frame portion and forming a sealing body;
(E) After the step (d), the first identification number is read, and the first in-server information corresponding to the read first identification number among the plurality of in-server information stored in the server is The process of giving to the said sealing body as 2 identification number.

本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下の通りである。   The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

本願発明の好ましい一態様によれば、半導体パッケージの表面に付されたバーコードを読み取ることにより、コンピュータに格納された当該半導体パッケージの製造条件を瞬時に追跡することができるので、迅速に不良対策を講じることができる。   According to a preferred aspect of the present invention, the manufacturing conditions of the semiconductor package stored in the computer can be tracked instantaneously by reading the barcode attached to the surface of the semiconductor package, so that countermeasures against defects can be quickly taken. Can be taken.

本発明の実施の形態1であるQFPの製造工程を示す全体フロー図である。It is a whole flowchart which shows the manufacturing process of QFP which is Embodiment 1 of this invention. QFPの製造に用いるリードフレームの全体平面図である。It is a whole top view of the lead frame used for manufacture of QFP. QFPの製造に用いる半導体ウエハの全体平面図である。It is a whole top view of the semiconductor wafer used for manufacture of QFP. ID刻印工程を示すリードフレームの平面図である。It is a top view of a lead frame showing an ID marking process. ID刻印工程の別例を示すリードフレームの平面図である。It is a top view of the lead frame which shows another example of ID marking process. ダイパッド部の表面に接着剤を供給する工程を示すリードフレームの平面図である。It is a top view of a lead frame showing the process of supplying adhesives to the surface of a die pad part. ダイボンディング工程を示すリードフレームの平面図である。It is a top view of a lead frame showing a die bonding process. ダイボンディング工程の別例を示すリードフレームの平面図である。It is a top view of the lead frame which shows another example of a die bonding process. ワイヤボンディング工程を示すリードフレームの一部拡大平面図である。It is a partial enlarged plan view of a lead frame showing a wire bonding process. モールド工程を示すリードフレームの平面図である。It is a top view of a lead frame showing a molding process. タイバー切断工程を示すリードフレームの一部拡大平面図である。It is a partial enlarged plan view of a lead frame showing a tie bar cutting step. レーザマーキング工程を示すリードフレームの平面図である。It is a top view of the lead frame which shows a laser marking process. 二次元バーコードをモールド樹脂の表面に刻印する方法を示す図であり、(a)はリードフレームの搬送方向に平行な方向から見た側面図、(b)はリードフレームの搬送方向に直交する方向から見た側面図である。It is a figure which shows the method of marking a two-dimensional barcode on the surface of a mold resin, (a) is a side view seen from the direction parallel to the conveyance direction of a lead frame, (b) is orthogonal to the conveyance direction of a lead frame. It is the side view seen from the direction. レーザマーキング工程の別例を示すリードフレームの平面図である。It is a top view of the lead frame which shows another example of a laser marking process. 外装メッキ工程後のリードフレームの一部拡大平面図である。It is a partially enlarged plan view of the lead frame after the exterior plating process. リードフレーム切断工程後の封止体を示す平面図である。It is a top view which shows the sealing body after a lead frame cutting process. QFPの完成状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the completion state of QFP. 本発明の実施の形態2であるCSPの製造工程を示す全体フロー図である。It is a whole flowchart which shows the manufacturing process of CSP which is Embodiment 2 of this invention. CSPの製造に用いるマップ基板の表面を示す全体平面図である。It is a whole top view which shows the surface of the map board used for manufacture of CSP. CSPの製造に用いるマップ基板の裏面を示す全体平面図である。It is a whole top view which shows the back surface of the map board used for manufacture of CSP. ID刻印工程を示すマップ基板の平面図である。It is a top view of the map board | substrate which shows ID marking process. ダイボンディング工程を示すマップ基板の平面図である。It is a top view of the map board | substrate which shows a die bonding process. ワイヤボンディング工程を示すマップ基板の一部拡大平面図である。It is a partial enlarged plan view of the map board | substrate which shows a wire bonding process. モールド工程を示すマップ基板の平面図である。It is a top view of the map board | substrate which shows a mold process. レーザマーキング工程を示すマップ基板の平面図である。It is a top view of the map board | substrate which shows a laser marking process. レーザマーキング工程の別例を示すマップ基板の平面図である。It is a top view of the map board | substrate which shows another example of a laser marking process. ボールマウント工程を示すマップ基板の一部断面図である。It is a partial cross section figure of the map board | substrate which shows a ball | bowl mount process. CSPの完成状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the completion state of CSP.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の機能を有する部材には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。また、以下の実施の形態では、特に必要なときを除き、同一または同様な部分の説明を原則として繰り返さない。また、以下の実施の形態を説明する図面においては、構成を分かり易くするために、平面図であってもハッチングを付す場合がある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that components having the same function are denoted by the same reference symbols throughout the drawings for describing the embodiments, and the repetitive description thereof will be omitted. Also, in the following embodiments, the description of the same or similar parts will not be repeated in principle unless particularly necessary. Further, in the drawings for explaining the following embodiments, hatching may be given even in a plan view for easy understanding of the configuration.

(実施の形態1)
本実施の形態は、半導体パッケージの一種であるQFP(Quad Flat Package)の製造に適用したものであり、図1は、このQFPの製造工程を示す全体フロー図である。
(Embodiment 1)
The present embodiment is applied to the manufacture of a QFP (Quad Flat Package) which is a kind of semiconductor package, and FIG. 1 is an overall flowchart showing the manufacturing process of the QFP.

QFPを製造するには、まず基材(チップ搭載部材)として、図2に示すリードフレームと、図3に示す半導体ウエハとを用意する。   To manufacture QFP, first, as a base material (chip mounting member), a lead frame shown in FIG. 2 and a semiconductor wafer shown in FIG. 3 are prepared.

<リードフレームについて>
図2に示すリードフレームLFは、銅(Cu)または銅合金からなり、複数のデバイス領域(半導体装置となる領域)と、複数のデバイス領域の周囲に位置する外枠部8からなる。各デバイス領域は、半導体チップを搭載する部分であるチップ搭載領域(ダイパッド、チップ搭載部)4、チップ搭載領域4の周囲に形成された複数のリード5、チップ搭載領域4と一体に形成された複数の吊りリード6、リード5および吊りリード6のそれぞれと一体に形成されたタイバー7を有している。また、リード5、吊りリード6およびタイバー7のそれぞれは外枠部8で支持された構造になっており、チップ搭載領域4は吊りリード6を介して外枠部8で支持された構造になっている。
<Lead frame>
The lead frame LF shown in FIG. 2 is made of copper (Cu) or a copper alloy, and includes a plurality of device regions (regions to be a semiconductor device) and an outer frame portion 8 positioned around the plurality of device regions. Each device area is formed integrally with a chip mounting area (die pad, chip mounting portion) 4 which is a part for mounting a semiconductor chip, a plurality of leads 5 formed around the chip mounting area 4, and a chip mounting area 4. The plurality of suspension leads 6, the leads 5, and the suspension leads 6 are each provided with a tie bar 7 formed integrally with the suspension leads 6. Each of the lead 5, the suspension lead 6, and the tie bar 7 has a structure supported by the outer frame portion 8, and the chip mounting area 4 has a structure supported by the outer frame portion 8 through the suspension lead 6. ing.

なお、実際のリードフレームは、多数個のダイパッド4を備えているが、ここでは図面を見易くするために、3個のデバイス領域を備えたリードフレームLFを例示する。すなわち、このリードフレームLFは、3個の半導体チップを搭載する構造になっているので、1枚のリードフレームLFから3個のQFPを取得することができる。   The actual lead frame includes a large number of die pads 4. Here, in order to make the drawing easy to see, a lead frame LF including three device regions is illustrated. That is, since this lead frame LF has a structure in which three semiconductor chips are mounted, three QFPs can be obtained from one lead frame LF.

また、本実施の形態では、使用するリードフレームLFが銅、または銅合金からなるものについて説明するが、鉄(Fe)系の金属からなるリードフレームを使用してもよい。   In this embodiment, the lead frame LF used is made of copper or a copper alloy. However, a lead frame made of iron (Fe) metal may be used.

<半導体ウエハについて>
次に、図3に示す半導体ウエハ1Aは、前工程およびそれに続くダイシング工程が完了した後のものであり、多数個の半導体チップ1に分割された状態になっている。本実施の形態では、図3に示すように、半導体ウエハ1Aの周縁部に形成されたノッチを基準に、複数の半導体チップ1が行列状に形成されている。上記前工程は、半導体ウエハ1Aの各半導体チップ1にフォトリソグラフィー技術、CVD技術、スパッタリング技術およびエッチング技術などを組み合わせて集積回路を形成する複数の工程と、各半導体チップ1の主面に形成されたボンディングパッド2の表面にプローブ針を接触させ、前記集積回路を構成する素子の良否や素子間を接続する配線の導通・非導通を判別する電気特性検査工程を含んでいる。
<About semiconductor wafers>
Next, the semiconductor wafer 1 </ b> A shown in FIG. 3 is the one after the previous process and the subsequent dicing process are completed, and is divided into a large number of semiconductor chips 1. In the present embodiment, as shown in FIG. 3, a plurality of semiconductor chips 1 are formed in a matrix with reference to notches formed in the peripheral edge of the semiconductor wafer 1A. The pre-process is formed on the main surface of each semiconductor chip 1 and a plurality of processes for forming an integrated circuit by combining photolithography technology, CVD technology, sputtering technology, etching technology, and the like on each semiconductor chip 1 of the semiconductor wafer 1A. In addition, a probe needle is brought into contact with the surface of the bonding pad 2 and an electrical characteristic inspection step is performed for determining whether the elements constituting the integrated circuit are good or bad and the conduction / non-conduction of the wiring connecting the elements.

また、本実施の形態では、上記前工程において、各半導体チップ1に半導体ウエハ1Aの製造ロット番号、半導体ウエハ番号、半導体ウエハ1A内における当該半導体チップ1の位置、当該半導体チップ1が良品か不良品かなどの情報を含むチップ識別番号(ID)を作成しておき、後工程においてこの半導体ウエハ1Aを受け取った後に、このチップ識別番号を図1に示すサーバ(ウエハマップデータ管理サーバWS)に格納している。そのため、ウエハマップデータ管理サーバ(WS)を参照することで、各半導体チップ1がどの製造ロットで製造され、どの半導体ウエハ1Aのどの位置にあったかを容易に特定することができる。   In the present embodiment, in the preceding step, each semiconductor chip 1 has a manufacturing lot number of the semiconductor wafer 1A, a semiconductor wafer number, a position of the semiconductor chip 1 in the semiconductor wafer 1A, and whether or not the semiconductor chip 1 is a good product. A chip identification number (ID) including information such as a non-defective product is created, and after receiving the semiconductor wafer 1A in a later process, the chip identification number is stored in the server (wafer map data management server WS) shown in FIG. Storing. Therefore, by referring to the wafer map data management server (WS), it is possible to easily identify in which manufacturing lot each semiconductor chip 1 is manufactured and in which semiconductor wafer 1A.

次に、図1に示す全体フローおよび図4〜図17を参照しながら、本実施の形態のQFPの製造方法を工程順に説明する。   Next, the QFP manufacturing method of the present embodiment will be described in the order of steps with reference to the overall flow shown in FIG. 1 and FIGS. 4 to 17.

<ID刻印工程>
まず、前記図2に示すリードフレームLFを所定の数だけ用意する。そして、図4に示すように、各リードフレームLFにおいてデバイス領域の外側に位置する外枠部8の表面(上面、主面)に、当該リードフレームLFを識別するための識別番号(ID)を付与する。なお、本実施の形態における識別番号(ID)の形状は、二次元バーコード(BC1)であり、例えば用意したリードフレームLFの数が100枚であれば、これらのリードフレームLFに順次00、01、…、99の数字を二次元バーコード(BC1)の形式で刻印する。
<ID stamping process>
First, a predetermined number of lead frames LF shown in FIG. 2 are prepared. As shown in FIG. 4, an identification number (ID) for identifying the lead frame LF is provided on the surface (upper surface, main surface) of the outer frame portion 8 located outside the device region in each lead frame LF. Give. The shape of the identification number (ID) in the present embodiment is a two-dimensional barcode (BC1). For example, if the number of prepared lead frames LF is 100, 00, Numbers 01,..., 99 are imprinted in the form of a two-dimensional barcode (BC1).

二次元バーコード(BC1)は、縦、横二方向に情報を持つバーコードであり、一方向にのみ情報を持つ一次元バーコードに比べて記録できる情報量が極めて多いという特徴がある。また、一次元バーコードに比べて面積を小さくできるので、外枠部8の幅が狭いリードフレームLFの表面にも刻印することができる。なお、リードフレームLFの外枠部8の面積が十分に広い場合は、二次元バーコード(BC1)に代えて一次元バーコードを刻印してもよい。   The two-dimensional barcode (BC1) is a barcode having information in two vertical and horizontal directions, and has a feature that the amount of information that can be recorded is extremely large compared to a one-dimensional barcode having information only in one direction. Further, since the area can be reduced as compared with the one-dimensional barcode, the outer frame portion 8 can be marked on the surface of the lead frame LF having a narrow width. When the area of the outer frame portion 8 of the lead frame LF is sufficiently large, a one-dimensional barcode may be engraved instead of the two-dimensional barcode (BC1).

このように、リードフレームLFの表面に当該リードフレームLFの識別番号をバーコード形式で刻印することにより、リードフレームLFの識別番号の特定を自動化することができる。   As described above, the identification number of the lead frame LF can be automatically specified by marking the identification number of the lead frame LF in the barcode format on the surface of the lead frame LF.

リードフレームLFの表面に二次元バーコード(BC1)を刻印するには、レーザービームを使用する。ここで、本実施の形態において使用するレーザの条件として、パワーは160〜170W、パルス発生周波数(Qsw)は27〜35kHz、ポリゴンミラー回転数は100〜120rpmである。また、特に、リードフレームLFが銅(Cu)または銅合金で構成されている場合には、約532nmまたはその近傍の波長を有するレーザービーム(所謂グリーンレーザ)を使用することが望ましい。グリーンレーザは、他の波長のレーザービーム(例えば、約1064nmの波長からなる赤外光)に比べて銅に対する吸収率が高いので、レーザ出力のコントロールが容易である。従って、グリーンレーザを使用することにより、リードフレームLFの表面に精度よく二次元バーコード(BC1)を刻印することができる。また、刻印時にリードフレームLFの表面から発生する異物の量を低減することができるので、リードフレームLFの表面の汚染が低減される。   A laser beam is used to imprint a two-dimensional barcode (BC1) on the surface of the lead frame LF. Here, as conditions for the laser used in the present embodiment, the power is 160 to 170 W, the pulse generation frequency (Qsw) is 27 to 35 kHz, and the polygon mirror rotational speed is 100 to 120 rpm. In particular, when the lead frame LF is made of copper (Cu) or a copper alloy, it is desirable to use a laser beam (so-called green laser) having a wavelength of about 532 nm or its vicinity. Since the green laser has a higher absorption rate with respect to copper than a laser beam having another wavelength (for example, infrared light having a wavelength of about 1064 nm), the laser output can be easily controlled. Therefore, by using the green laser, the two-dimensional barcode (BC1) can be marked on the surface of the lead frame LF with high accuracy. Further, since the amount of foreign matter generated from the surface of the lead frame LF at the time of marking can be reduced, contamination of the surface of the lead frame LF is reduced.

リードフレームLFに二次元バーコード(BC1)を刻印する際は、その後の製造工程で二次元バーコード(BC1)が損傷して判読不能となるのを防ぐために、図5に示すように、外枠部8の複数箇所に同一の二次元バーコード(BC1)を刻印してもよい。   When marking the two-dimensional barcode (BC1) on the lead frame LF, as shown in FIG. 5, in order to prevent the two-dimensional barcode (BC1) from being damaged and becoming unreadable in the subsequent manufacturing process, The same two-dimensional barcode (BC1) may be stamped at a plurality of locations on the frame portion 8.

次に、図1に示すバーコードリーダ(R0)を使って、各リードフレームLFに刻印された二次元バーコード(BC1)を読み取り、その識別番号をサーバ(リードフレームマップデータ管理サーバLS)に格納する。これにより、リードフレームマップデータ管理サーバ(LS)において、各識別番号に対応する基材に施した各工程の条件を記録するための準備が整う。   Next, using the barcode reader (R0) shown in FIG. 1, the two-dimensional barcode (BC1) imprinted on each lead frame LF is read, and the identification number is read to the server (lead frame map data management server LS). Store. Thereby, in the lead frame map data management server (LS), the preparation for recording the conditions of each process performed on the base material corresponding to each identification number is completed.

また、カメラ(C0)を使った画像認識によって各リードフレームLFの外観検査を行い、不良(リード5の欠損や変形など)の有無を調べる。そして、不良が検出された場合には、当該リードフレームLFの識別番号と不良箇所との関連付けを行い、その情報をリードフレームマップデータ管理サーバ(LS)に格納する。   Further, the appearance of each lead frame LF is inspected by image recognition using the camera (C0), and the presence / absence of defects (defects or deformation of the leads 5) is checked. If a defect is detected, the identification number of the lead frame LF is associated with the defective portion, and the information is stored in the lead frame map data management server (LS).

<ダイボンディング工程>
次に、上記二次元バーコード(BC1)が刻印されたリードフレームLFをダイボンディング工程で使用するダイボンダ(ダイボンディング装置)に搬送する。そして、図6に示すように、リードフレームLFの各チップ搭載領域(ダイパッド、チップ搭載部)4の表面に接着剤9を供給した後、図7に示すように、前記図3に示す半導体ウエハ1Aから取得した半導体チップ1を1個ずつピックアップして各ダイパッド4上に搭載する。すなわち、半導体チップ1は、接着剤9を介してチップ搭載領域4に搭載される。
<Die bonding process>
Next, the lead frame LF engraved with the two-dimensional barcode (BC1) is conveyed to a die bonder (die bonding apparatus) used in a die bonding process. Then, as shown in FIG. 6, after supplying the adhesive 9 to the surface of each chip mounting area (die pad, chip mounting portion) 4 of the lead frame LF, as shown in FIG. 7, the semiconductor wafer shown in FIG. The semiconductor chips 1 acquired from 1A are picked up one by one and mounted on each die pad 4. That is, the semiconductor chip 1 is mounted on the chip mounting area 4 via the adhesive 9.

リードフレームLFの各チップ搭載領域4上に半導体チップ1を搭載する際は、図1に示す位置認識用のカメラ(C1)を使って半導体チップ1とダイパッド4との位置合わせを行う。また、認識手段(バーコードリーダR1)を使って、リードフレームLFに刻印された二次元バーコード(BC1)を読み取り、先の工程(ここでは、ID刻印工程)においてサーバ(リードフレームマップデータ管理サーバLS)に格納されている複数の基材情報(サーバ内情報)のうち、ダイボンダ(ダイボンディング装置)のバーコードリーダ(R1)で認識したリードフレームLFに該当する情報(識別番号)をサーバ内から引き出す。そして、認識したリードフレームLFの一部に不良があるかどうかを確認する。その結果、当該識別番号が付与されたリードフレームLFの一部に不良(例えばチップ搭載領域4に欠損や変形)がある場合には、図8に示すように、当該不良のある箇所(この例では中央部)のチップ搭載領域4に半導体チップ1を搭載しないようにする。   When the semiconductor chip 1 is mounted on each chip mounting area 4 of the lead frame LF, the semiconductor chip 1 and the die pad 4 are aligned using the position recognition camera (C1) shown in FIG. Further, the two-dimensional barcode (BC1) stamped on the lead frame LF is read using the recognition means (barcode reader R1), and the server (lead frame map data management) is performed in the previous process (here, the ID stamping process). Among the plurality of base material information (in-server information) stored in the server LS), information (identification number) corresponding to the lead frame LF recognized by the barcode reader (R1) of the die bonder (die bonding apparatus) is stored in the server. Pull out from inside. Then, it is confirmed whether or not a part of the recognized lead frame LF is defective. As a result, when a part of the lead frame LF to which the identification number is assigned has a defect (for example, a chip mounting region 4 is missing or deformed), as shown in FIG. In this case, the semiconductor chip 1 is not mounted in the chip mounting area 4 in the central portion.

また、リードフレームLFの各チップ搭載領域4上に半導体チップ1を搭載する際は、ウエハマップデータ管理サーバ(WS)に格納された当該半導体チップ1の識別情報を参照し、その識別情報に該当する半導体チップ1が良品であるか不良品であるかを確認する。そして、当該半導体チップ1が不良品である場合は、チップ搭載領域4上に搭載しないようにする。   Further, when the semiconductor chip 1 is mounted on each chip mounting area 4 of the lead frame LF, the identification information of the semiconductor chip 1 stored in the wafer map data management server (WS) is referred to, and the identification information corresponds to the identification information. It is confirmed whether the semiconductor chip 1 to be manufactured is a good product or a defective product. If the semiconductor chip 1 is defective, it is not mounted on the chip mounting area 4.

次に、二次元バーコード(BC1)から得られた上記リードフレームLFの識別番号と上記リードフレームLFに搭載された半導体チップ1の識別番号との関連付けを行い、その情報(補正したサーバ内情報)をサーバ(メインサーバMS)に格納する。また、上記リードフレームLFのダイパッド4上に半導体チップ1を搭載した時の条件(製造条件:使用したダイボンディング装置の型番、接着剤9の種類など)と上記リードフレームLFの識別番号との関連付けを行い、その情報をメインサーバ(MS)に格納する。   Next, the identification number of the lead frame LF obtained from the two-dimensional barcode (BC1) is associated with the identification number of the semiconductor chip 1 mounted on the lead frame LF, and the information (corrected in-server information) ) In the server (main server MS). Further, the relationship between the conditions when the semiconductor chip 1 is mounted on the die pad 4 of the lead frame LF (manufacturing conditions: the model number of the die bonding apparatus used, the type of the adhesive 9, etc.) and the identification number of the lead frame LF And store the information in the main server (MS).

このようにして、各リードフレームLFの各ダイパッド4上に半導体チップ1を搭載すると共に、各リードフレームLFの識別番号と各リードフレームLFに搭載された半導体チップ1の識別番号とを関連付け、それらの情報をメインサーバ(MS)に格納する。また、各リードフレームLFの各ダイパッド4上に半導体チップ1を搭載した時の条件と各リードフレームLFの識別番号とを関連付け、それらの情報をメインサーバ(MS)に格納する。   In this way, the semiconductor chip 1 is mounted on each die pad 4 of each lead frame LF, and the identification number of each lead frame LF is associated with the identification number of the semiconductor chip 1 mounted on each lead frame LF. Is stored in the main server (MS). Further, the condition when the semiconductor chip 1 is mounted on each die pad 4 of each lead frame LF is associated with the identification number of each lead frame LF, and the information is stored in the main server (MS).

その後、各リードフレームLFを枚葉式ベーク炉に収容して接着剤9を熱硬化させることにより、半導体チップ1をダイパッド4上に固定する。   Thereafter, each lead frame LF is accommodated in a single wafer baking furnace, and the adhesive 9 is thermally cured to fix the semiconductor chip 1 on the die pad 4.

<ワイヤボンディング工程>
次に、上記ダイボンディング工程が完了したリードフレームLFをワイヤボンディング工程で使用するワイヤボンダ(ワイヤボンディング装置)に搬送する。そして、図1に示す位置認識用のカメラ(C2)を使ってリードフレームLFをワイヤボンディング装置のステージに位置決めした後、図9(リードフレームLFの一部を拡大して示す平面図)に示すように、半導体チップ1のボンディングパッド2とリード5を導電性部材3で電気的に接続する。なお、本実施の形態における導電性部材は、金(Au)からなるワイヤである。
<Wire bonding process>
Next, the lead frame LF that has completed the die bonding process is transported to a wire bonder (wire bonding apparatus) used in the wire bonding process. Then, after positioning the lead frame LF on the stage of the wire bonding apparatus using the position recognition camera (C2) shown in FIG. 1, it is shown in FIG. 9 (a plan view showing an enlarged part of the lead frame LF). Thus, the bonding pad 2 and the lead 5 of the semiconductor chip 1 are electrically connected by the conductive member 3. The conductive member in the present embodiment is a wire made of gold (Au).

次に、認識手段(バーコードリーダR2)を使って、リードフレームLFに刻印された二次元バーコード(BC1)を読み取り、先の工程においてサーバ(リードフレームマップデータ管理サーバLS)に格納された複数の基材情報(サーバ内情報)のうち、ワイヤボンダ(ワイヤボンディング装置)のバーコードリーダ(R2)で認識したリードフレームLFに該当する情報(識別番号)をサーバ内から引き出す。そして、認識したリードフレームLFの一部に不良があるかどうかを確認する。その結果、当該識別番号が付与されたリードフレームLFの一部に不良がある場合には、当該不良のある箇所にワイヤ3をボンディングしないようにする。   Next, using the recognition means (barcode reader R2), the two-dimensional barcode (BC1) stamped on the lead frame LF is read and stored in the server (lead frame map data management server LS) in the previous step. Among the plurality of base material information (in-server information), information (identification number) corresponding to the lead frame LF recognized by the bar code reader (R2) of the wire bonder (wire bonding apparatus) is extracted from the server. Then, it is confirmed whether or not a part of the recognized lead frame LF is defective. As a result, if there is a defect in a part of the lead frame LF to which the identification number is assigned, the wire 3 is not bonded to the defective part.

次に、上記ワイヤ3のボンディング条件(製造条件:使用したワイヤボンディング装置の型番、ワイヤ3の径など)と二次元バーコード(BC1)から得られた上記リードフレームLFの識別番号との関連付けを行い、その情報(補正したサーバ内情報)をサーバ(メインサーバMS)に格納する。   Next, the wire 3 bonding conditions (manufacturing conditions: model number of wire bonding apparatus used, wire 3 diameter, etc.) are associated with the identification number of the lead frame LF obtained from the two-dimensional barcode (BC1). The information (corrected in-server information) is stored in the server (main server MS).

このようにして、各リードフレームLFに搭載された半導体チップ1のボンディングパッド2とリード5をワイヤ3で電気的に接続すると共に、ワイヤ3のボンディング条件と各リードフレームLFの識別番号との関連付けを行い、それらの情報をサーバ(メインサーバMS)に格納する。   In this way, the bonding pads 2 of the semiconductor chip 1 mounted on each lead frame LF and the leads 5 are electrically connected by the wires 3, and the bonding conditions of the wires 3 are associated with the identification numbers of the lead frames LF. And store the information in the server (main server MS).

その後、各リードフレームLFの外観検査を行い、ワイヤ3の断線や短絡の有無を調べる。そして、不良が検出された場合には、二次元バーコード(BC1)から得られた当該リードフレームLFの識別番号と不良箇所とを関連付けてリードフレームマップデータ管理サーバ(LS)に格納する。   Thereafter, an appearance inspection of each lead frame LF is performed to check whether the wire 3 is disconnected or short-circuited. If a defect is detected, the identification number of the lead frame LF obtained from the two-dimensional barcode (BC1) and the defective portion are associated with each other and stored in the lead frame map data management server (LS).

<モールド工程>
次に、上記ワイヤボンディング工程(または、外観検査工程)が完了したリードフレームLFをモールド工程(樹脂封止工程)で使用するモールド装置(金型)内に搬送する。そして、リードフレームLFをモールド装置の金型(図示せず)内に配置し、必要に応じて、モールド装置の認識手段(バーコードリーダR3)を使ってリードフレームLFに刻印された二次元バーコード(BC1)を読み取り、先の工程においてサーバ(リードフレームマップデータ管理サーバLS)に格納された複数の基材情報(サーバ内情報)のうち、モールド装置のバーコードリーダ(R3)で認識したリードフレームLFに該当する情報(識別番号)をサーバ内から引き出す。そして、図10に示すように、半導体チップ1、ワイヤ3、チップ搭載領域(ダイパッド)4、リード5の各一部(インナーリード)および吊りリード6の各一部を樹脂(モールド樹脂)で封止し、封止体(樹脂封止体)10を形成する。このとき、外枠部8に形成された識別番号(ID、二次元バーコードBC1)が封止体10の外部に露出するように、デバイス領域(デバイス領域内に搭載された半導体チップ1)を樹脂で封止する。また、図1に示すカメラ(C3)を使って樹脂の充填性などの監視を行う。
<Molding process>
Next, the lead frame LF that has completed the wire bonding step (or appearance inspection step) is conveyed into a molding apparatus (mold) used in the molding step (resin sealing step). Then, the lead frame LF is placed in a mold (not shown) of the molding apparatus, and if necessary, a two-dimensional bar stamped on the lead frame LF using a recognition means (bar code reader R3) of the molding apparatus. The code (BC1) was read and recognized by the barcode reader (R3) of the molding apparatus among the plurality of base material information (in-server information) stored in the server (lead frame map data management server LS) in the previous step. Information (identification number) corresponding to the lead frame LF is extracted from the server. Then, as shown in FIG. 10, the semiconductor chip 1, the wire 3, the chip mounting area (die pad) 4, each part of the lead 5 (inner lead) and each part of the suspension lead 6 are sealed with resin (mold resin). The sealing body (resin sealing body) 10 is formed. At this time, the device region (semiconductor chip 1 mounted in the device region) is placed so that the identification number (ID, two-dimensional barcode BC1) formed on the outer frame 8 is exposed to the outside of the sealing body 10. Seal with resin. Also, the resin filling property and the like are monitored using the camera (C3) shown in FIG.

次に、バーコードリーダ(R3)を使って、リードフレームLFに刻印された二次元バーコード(BC1)を読み取った後、モールド条件(製造条件:使用したモールド装置の型番、封止体10の種類など)と二次元バーコード(BC1)から得られた上記リードフレームLFの識別番号との関連付けを行い、その情報(補正したサーバ内情報)をサーバ(メインサーバMS)に格納する。   Next, after reading the two-dimensional barcode (BC1) engraved on the lead frame LF using the barcode reader (R3), the molding conditions (manufacturing conditions: the model number of the molding apparatus used, the sealing body 10 Type) and the identification number of the lead frame LF obtained from the two-dimensional barcode (BC1), and the information (corrected in-server information) is stored in the server (main server MS).

このようにして、各リードフレームLFをモールド装置の金型に装着し、半導体チップ1、ワイヤ3、チップ搭載領域(ダイパッド)4、リード5の各一部(インナーリード)および吊りリード6の各一部を樹脂で封止する。また、モールド条件と各リードフレームLFの識別番号との関連付けを行い、それらの情報をメインサーバ(MS)に格納する。   In this way, each lead frame LF is mounted on the mold of the molding apparatus, and each of the semiconductor chip 1, the wire 3, the chip mounting area (die pad) 4, each part of the lead 5 (inner lead) and each of the suspension leads 6. A part is sealed with resin. Further, the mold condition is associated with the identification number of each lead frame LF, and the information is stored in the main server (MS).

<タイバー切断工程>
次に、図11に示すように、封止体10の外部に露出したリードフレームLFのタイバー7を切断し、各リード(アウターリード)5をそれぞれ電気的に分離する。なお、タイバー7は、先の樹脂封止工程において、封止体10が形成される領域から外側に樹脂が漏れないようにするためのものである。この工程では、図1に示すカメラ(C4)を使って切断状況の監視を行う。
<Tie bar cutting process>
Next, as shown in FIG. 11, the tie bar 7 of the lead frame LF exposed to the outside of the sealing body 10 is cut, and each lead (outer lead) 5 is electrically separated. The tie bar 7 is used to prevent the resin from leaking outside from the region where the sealing body 10 is formed in the previous resin sealing step. In this step, the cutting status is monitored using the camera (C4) shown in FIG.

次に、認識手段(バーコードリーダR4)を使って、リードフレームLFに刻印された二次元バーコード(BC1)を読み取った後、タイバー7の切断条件(製造条件:使用した切断装置の型番など)と二次元バーコード(BC1)から得られたリードフレームLFの識別番号との関連付けを行い、その情報(補正したサーバ内情報)をサーバ(メインサーバMS)に格納する。   Next, after the two-dimensional barcode (BC1) engraved on the lead frame LF is read using the recognition means (barcode reader R4), the cutting conditions of the tie bar 7 (manufacturing conditions: the model number of the cutting device used, etc.) ) And the identification number of the lead frame LF obtained from the two-dimensional barcode (BC1), and the information (corrected in-server information) is stored in the server (main server MS).

このようにして、各リードフレームLFのタイバー7を切断すると共に、タイバー7の切断条件と各リードフレームLFの識別番号との関連付けを行い、それらの情報をメインサーバ(MS)に格納する。   In this manner, the tie bar 7 of each lead frame LF is cut, the cutting condition of the tie bar 7 is associated with the identification number of each lead frame LF, and the information is stored in the main server (MS).

その後、各リードフレームLFを枚葉式ベーク炉に収容し、封止体10を構成する樹脂を完全硬化させる。   Thereafter, each lead frame LF is accommodated in a single wafer baking furnace, and the resin constituting the sealing body 10 is completely cured.

<レーザマーキング工程>
次に、上記モールド工程(または、ベーク処理)が完了したリードフレームLFをレーザマーキング工程で使用する装置に搬送し、図12に示すように、リードフレームLFに形成された各封止体10の表面に二次元バーコード(BC2)を刻印する。
<Laser marking process>
Next, the lead frame LF that has been subjected to the molding process (or baking process) is transferred to an apparatus that is used in the laser marking process, and as shown in FIG. 12, each sealing body 10 formed on the lead frame LF A two-dimensional barcode (BC2) is imprinted on the surface.

この二次元バーコード(BC2)の形成工程では、まず、レーザマーキング装置の認識手段(バーコードリーダR5)を使って基材(リードフレームLF)のデバイス領域の外側(外枠部8)に刻印された二次元バーコード(BC1)を読み取る。そして、先の工程においてサーバ(リードフレームマップデータ管理サーバLS)に格納された複数の基材情報(サーバ内情報)のうち、レーザーマーキング装置のバーコードリーダ(R5)で認識したリードフレームLFに該当する情報(サーバ内情報、チップ位置情報、ウエハの製造ロット番号、半導体ウエハ番号、組立ロット番号、製品型名など)をサーバ内から引き出す。次に、この引き出した情報を新たな識別番号(二次元バーコードBC2)として、封止体10の表面側に形成する。   In the process of forming the two-dimensional barcode (BC2), first, the recognition means (barcode reader R5) of the laser marking device is used to mark the outer side (outer frame portion 8) of the device region of the base material (lead frame LF). Read the two-dimensional barcode (BC1). Then, among the plurality of base material information (in-server information) stored in the server (lead frame map data management server LS) in the previous step, the lead frame LF recognized by the barcode reader (R5) of the laser marking device is used. Corresponding information (in-server information, chip position information, wafer production lot number, semiconductor wafer number, assembly lot number, product type name, etc.) is extracted from the server. Next, the extracted information is formed as a new identification number (two-dimensional barcode BC2) on the surface side of the sealing body 10.

なお、封止体10の表面に形成する二次元バーコード(BC2)に格納される情報は、サーバで管理している情報を選択的に呼び出して二次元バーコードへ持たせることが可能であり、前記情報に限定されるものではない。そのため、この二次元バーコード(BC2)に格納される情報は、リードフレームLFの外枠部8に刻印された前記二次元バーコード(BC1)と同一の情報であってもよい。この場合、バーコードリーダで認識した後に、リードフレームマップデータ管理サーバ(LS)に格納しておいた複数の基材情報の中から該当する基材(リードフレームLF)の情報を照合することで、上記した各情報を引き出すことができる。なお、本実施の形態では、レーザマーキング工程で使用するレーザの条件は、ID刻印工程で使用したものと同じ条件であるが、これに限定されるものではない。   The information stored in the two-dimensional barcode (BC2) formed on the surface of the sealing body 10 can be given to the two-dimensional barcode by selectively calling information managed by the server. The information is not limited to the above. Therefore, the information stored in the two-dimensional barcode (BC2) may be the same information as the two-dimensional barcode (BC1) stamped on the outer frame portion 8 of the lead frame LF. In this case, after recognizing with the barcode reader, the information of the corresponding base material (lead frame LF) is collated from the plurality of base material information stored in the lead frame map data management server (LS). Each information described above can be extracted. In the present embodiment, the laser conditions used in the laser marking process are the same as those used in the ID marking process, but are not limited thereto.

図13は、二次元バーコード(BC2)の刻印方法を示す図であり、(a)はリードフレームLFの搬送方向に平行な方向から見た側面図、(b)はリードフレームLFの搬送方向に直交する方向から見た側面図である。また、図中の符号11は、レーザマーキング装置のガイドレール、12は搬送爪である。   13A and 13B are diagrams illustrating a method of marking a two-dimensional bar code (BC2), where FIG. 13A is a side view seen from a direction parallel to the lead frame LF transport direction, and FIG. 13B is a lead frame LF transport direction. It is the side view seen from the direction orthogonal to Moreover, the code | symbol 11 in a figure is a guide rail of a laser marking apparatus, and 12 is a conveyance nail | claw.

リードフレームLFに形成された封止体10の表面に二次元バーコード(BC2)を刻印するには、まずバーコードリーダ(R5)を使って、リードフレームLFの外枠部8に刻印された二次元バーコード(BC1)を読み取り、当該リードフレームLFの識別番号を特定する。なお、図13に示すように、リードフレームLFをガイドレール11で保持して搬送する際は、リードフレームLFの下面のみを保持するので、バーコードリーダ(R5)をリードフレームLFの上方に配置することにより、二次元バーコード(BC1)を容易に読み取ることができる。また、バーコードリーダ(R5)を使って二次元バーコード(BC1)を読み取る際は、ガイドレール11を停止させる、あるいは、緩い(遅い)速度でリードフレームLFを搬送(移動)させることが好ましい。   In order to engrave the two-dimensional bar code (BC2) on the surface of the sealing body 10 formed on the lead frame LF, first, the outer frame portion 8 of the lead frame LF was engraved using the bar code reader (R5). The two-dimensional bar code (BC1) is read and the identification number of the lead frame LF is specified. As shown in FIG. 13, when the lead frame LF is held by the guide rail 11 and transported, only the lower surface of the lead frame LF is held, so the barcode reader (R5) is disposed above the lead frame LF. By doing so, the two-dimensional barcode (BC1) can be easily read. Further, when reading the two-dimensional barcode (BC1) using the barcode reader (R5), it is preferable to stop the guide rail 11 or to convey (move) the lead frame LF at a slow (slow) speed. .

次に、各封止体10の表面に順次レーザビームLBを照射し、当該リードフレームLFの識別番号に対応する二次元バーコード(BC2)を刻印する。図示は省略するが、本実施の形態では、封止体10の表面に二次元バーコード(BC2)を刻印する際に、製品情報(製品型名、顧客ロゴマーク、製造コードなど)のマークも併せて刻印する。これにより、マーク工程を1回で済ませることができるため、製造工程を簡略化することができる。   Next, the surface of each sealing body 10 is sequentially irradiated with a laser beam LB, and a two-dimensional barcode (BC2) corresponding to the identification number of the lead frame LF is marked. Although illustration is omitted, in the present embodiment, when the two-dimensional barcode (BC2) is engraved on the surface of the sealing body 10, product information (product model name, customer logo mark, manufacturing code, etc.) is also marked. Also engraved together. Thereby, since the marking process can be completed once, the manufacturing process can be simplified.

また、二次元バーコード(BC2)およびマークを刻印する際は、リードフレームマップデータ管理サーバ(LS)を参照し、ここまでの工程で当該リードフレームLFの一部に不良が発生していたかどうかを確認する。そして、当該リードフレームLFの一部に不良が発生していた場合には、図14に示すように、当該不良のある箇所(この例では中央部)の封止体10の表面に二次元バーコード(BC2)およびマークを刻印しないようにする。なお、本実施の形態では、二次元バーコード(BC2)を封止体10の表面側に形成する例を説明したが、封止体10の裏面側に形成してもよい。   Further, when imprinting the two-dimensional barcode (BC2) and the mark, the lead frame map data management server (LS) is referred to and whether or not a defect has occurred in a part of the lead frame LF in the steps so far. Confirm. If a defect has occurred in a part of the lead frame LF, as shown in FIG. 14, a two-dimensional bar is formed on the surface of the sealing body 10 at the defective portion (in this example, the central portion). The code (BC2) and the mark are not stamped. In the present embodiment, the example in which the two-dimensional barcode (BC2) is formed on the front surface side of the sealing body 10 has been described, but it may be formed on the back surface side of the sealing body 10.

次に、カメラ(C5)を使って二次元バーコード(BC2)およびマークが確実に刻印されたかどうかを確認し、その結果を当該リードフレームLFの識別番号と関連付けてメインサーバ(MS)に格納する。   Next, the camera (C5) is used to check whether the two-dimensional barcode (BC2) and the mark are securely engraved, and the result is stored in the main server (MS) in association with the identification number of the lead frame LF. To do.

<外装メッキ工程>
次に、上記二次元バーコード(BC2)およびマークの刻印が完了したリードフレームLFを電解メッキ槽に浸漬し、封止体10の外部に露出したリードフレームLFの表面に、所謂、鉛フリーはんだ(RoHS指令において、鉛(Pb)の含有率が1000ppm(0.1wt%)以下に規定されるもの)からなるメッキ層(メッキ膜)を形成する。なお、本実施の形態における鉛フリーはんだの材料は、錫(Sn)、または錫(Sn)を主成分とする合金であり、詳細には、錫(Sn)−ビスマス(Bi)合金である。
<Exterior plating process>
Next, the two-dimensional barcode (BC2) and the lead frame LF on which the marking of the mark has been completed are immersed in an electrolytic plating bath, and a so-called lead-free solder is formed on the surface of the lead frame LF exposed to the outside of the sealing body 10. A plating layer (plating film) made of a lead (Pb) content of 1000 ppm (0.1 wt% or less in the RoHS directive) is formed. Note that the material of the lead-free solder in this embodiment is tin (Sn) or an alloy containing tin (Sn) as a main component, and more specifically, a tin (Sn) -bismuth (Bi) alloy.

ここで、この外装メッキ処理を行うと、リードフレームLFの外枠部8に刻印された二次元バーコード(BC1)の表面にもメッキ層が形成されるため、図15に示すように、リードフレームLFの外枠部8に刻印された二次元バーコード(BC1)の溝内にメッキ層が堆積する。これにより、外枠部8に形成しておいた二次元バーコード(BC1)をバーコードリーダで認識することが困難となる。   Here, when this exterior plating process is performed, a plating layer is also formed on the surface of the two-dimensional barcode (BC1) engraved on the outer frame portion 8 of the lead frame LF. Therefore, as shown in FIG. A plating layer is deposited in the groove of the two-dimensional barcode (BC1) stamped on the outer frame portion 8 of the frame LF. This makes it difficult to recognize the two-dimensional barcode (BC1) formed on the outer frame portion 8 with a barcode reader.

しかしながら、本実施の形態では、外装メッキ処理工程に先立ち、この外枠部8に刻印された二次元バーコード(BC1)およびリードフレームマップデータ管理サーバ(LS)に格納された情報に基づいて、封止体10の表面に二次元バーコード(BC2)を刻印しているため、上記のような不具合を回避することができる。   However, in the present embodiment, prior to the exterior plating process, based on the two-dimensional barcode (BC1) stamped on the outer frame 8 and information stored in the lead frame map data management server (LS), Since the two-dimensional barcode (BC2) is engraved on the surface of the sealing body 10, the above problems can be avoided.

また、二次元バーコード(BC2)を例えばインクマーク方式により形成した場合には、形成された情報(二次元バーコード)がこの外装メッキ工程において使用するメッキ液で変形する(溶ける)虞れがある。しかしながら、本実施の形態では、二次元バーコード(BC2)を刻印により形成しているため、たとえ二次元バーコード(BC2)を形成した後に外装メッキ処理を行ったとしても、二次元バーコード(BC2)がメッキ液によって変形することはない。   Further, when the two-dimensional barcode (BC2) is formed by, for example, the ink mark method, the formed information (two-dimensional barcode) may be deformed (dissolved) by the plating solution used in the exterior plating process. is there. However, in this embodiment, since the two-dimensional barcode (BC2) is formed by engraving, even if the exterior plating process is performed after the two-dimensional barcode (BC2) is formed, the two-dimensional barcode ( BC2) is not deformed by the plating solution.

<リードフレーム切断工程>
次に、上記外装メッキが完了したリードフレームLFをリードフレーム切断工程に搬送する。そして、図16に示すように、封止体10の外部に露出したリードフレームLFの不要箇所(タイバー7および外枠部8)を切断・除去する。続いて、図17に示すように、封止体10の外部に露出したリード5(アウターリード)をガルウィング状に成形することにより、QFPが完成する。
<Lead frame cutting process>
Next, the lead frame LF for which the exterior plating has been completed is conveyed to a lead frame cutting step. Then, as shown in FIG. 16, unnecessary portions (tie bar 7 and outer frame portion 8) of lead frame LF exposed to the outside of sealing body 10 are cut and removed. Subsequently, as shown in FIG. 17, the QFP is completed by forming the leads 5 (outer leads) exposed outside the sealing body 10 into a gull wing shape.

次に、図1に示すバーコードリーダ(R6)を使って各QFPの二次元バーコード(BC2)を読み取る。そして、封止体10の表面に二次元バーコード(BC2)が刻印されていないQFPを不良品として取り除き、良品と判定されたQFPのみをピックアップしてトレーに収納する。   Next, the two-dimensional barcode (BC2) of each QFP is read using the barcode reader (R6) shown in FIG. Then, the QFP in which the two-dimensional barcode (BC2) is not engraved on the surface of the sealing body 10 is removed as a defective product, and only the QFP determined to be good is picked up and stored in the tray.

<試験工程>
次に、トレーに収納された良品のQFPを試験工程に搬送し、バーンイン試験および電気特性試験を行う。バーンイン試験工程では、図1に示すカメラ(C6)を使ってQFPをバーンインソケットに装着し、電気特性試験工程では、カメラ(C7)を使ってQFPをテストソケットに装着する。
<Test process>
Next, the good QFP stored in the tray is transported to the test process, and a burn-in test and an electrical property test are performed. In the burn-in test process, the QFP is mounted on the burn-in socket using the camera (C6) shown in FIG. 1, and in the electrical characteristic test process, the QFP is mounted on the test socket using the camera (C7).

次に、バーコードリーダ(R7)を使って各QFPの二次元バーコード(BC2)を読み取る。そして、試験結果と各QFPの識別番号との関連付けを行い、それらの情報をメインサーバ(MS)に格納する。   Next, the barcode reader (R7) is used to read the two-dimensional barcode (BC2) of each QFP. Then, the test result is associated with the identification number of each QFP, and the information is stored in the main server (MS).

<最終外観検査工程>
次に、上記試験工程で良品と判定されたQFPを最終外観検査工程に搬送する。ここでは、図1に示すカメラ(C8)を使った画像認識によってQFPの外観検査を行い、リード5(アウターリード)の欠損や変形などの有無を調べる。
<Final appearance inspection process>
Next, the QFP determined as a non-defective product in the test process is transported to the final appearance inspection process. Here, the appearance of the QFP is inspected by image recognition using the camera (C8) shown in FIG. 1, and the presence or absence of a defect or deformation of the lead 5 (outer lead) is examined.

次に、バーコードリーダ(R8)を使って各QFPの二次元バーコード(BC2)を読み取る。そして、検査結果と各QFPの識別番号との関連付けを行い、それらの情報をメインサーバ(MS)に格納する。   Next, the two-dimensional barcode (BC2) of each QFP is read using a barcode reader (R8). Then, the inspection result is associated with the identification number of each QFP, and the information is stored in the main server (MS).

以上の工程を経て製造されたQFPは、製造メーカから顧客先に出荷され、所定の配線基板に実装されて使用される。なお、製造メーカから顧客先への出荷状況は、上記二次元バーコード(BC2)と関連付けて管理される。   The QFP manufactured through the above steps is shipped from the manufacturer to the customer, and is used by being mounted on a predetermined wiring board. Note that the shipment status from the manufacturer to the customer is managed in association with the two-dimensional barcode (BC2).

また、本実施の形態では、基材(リードフレームLF)の外枠部8に識別番号(ID、二次元バーコード)を刻印しておき、モールド工程においてこの識別番号を読み取り、リードフレームマップデータ管理サーバ(LS)に格納されている複数の情報(サーバ内情報)のうち、読み取った基材の識別番号(第1識別番号)に対応する情報(サーバ内情報)を、新たな識別番号(ID、二次元バーコード)として暗号化し、暗号化された識別番号(第2識別番号)を封止体10に付与(形成)している。   Further, in the present embodiment, an identification number (ID, two-dimensional barcode) is engraved on the outer frame portion 8 of the base material (lead frame LF), and this identification number is read in the molding process to obtain lead frame map data. Among a plurality of pieces of information (in-server information) stored in the management server (LS), information (in-server information) corresponding to the read base material identification number (first identification number) is replaced with a new identification number ( ID (two-dimensional barcode) is encrypted, and the encrypted identification number (second identification number) is given (formed) to the sealing body 10.

そこで、完成した半導体装置(QFP)を出荷した後に、顧客先においてQFPに不良が発生した場合には、製造メーカは、当該不良が発生したQFPの封止体10に刻印された二次元バーコード(BC2)をバーコードリーダで読み取ることによって、当該QFPの識別番号を特定する。   Therefore, after shipping the completed semiconductor device (QFP), if a defect occurs in the QFP at the customer site, the manufacturer can use a two-dimensional barcode stamped on the QFP sealing body 10 where the defect has occurred. The identification number of the QFP is specified by reading (BC2) with a barcode reader.

製造メーカのメインサーバ(MS)には、QFPに封止された半導体チップがどの製造ロットの半導体ウエハから取得され、その半導体ウエハのどの位置にあったかといった前工程情報が当該QFPの識別番号と関連付けて格納されている。また、前述したダイボンディング工程、ワイヤボンディング工程、モールド工程、タイバー切断工程、レーザマーキング工程、外装メッキ工程、リードフレーム切断工程などにおいて、QFPがどのような条件で製造されたか、着工した製造装置、対応したオペレータ情報、使用した材料などといった後工程情報も当該QFPの識別番号と関連付けて格納されている。   In the manufacturer's main server (MS), the pre-process information such as from which semiconductor wafer of which manufacturing lot the semiconductor chip sealed in the QFP is obtained and in which position of the semiconductor wafer is associated with the identification number of the QFP. Stored. In addition, in the aforementioned die bonding process, wire bonding process, molding process, tie bar cutting process, laser marking process, exterior plating process, lead frame cutting process, etc. Post-process information such as corresponding operator information and used materials is also stored in association with the identification number of the QFP.

従って、QFPの二次元バーコード(BC2)を読み取って、当該QFPの識別番号を特定することにより、メインサーバ(MS)に格納された当該QFPの製造条件を瞬時に追跡することができる。これにより、QFPの不良原因を速やかに究明することができるので、当該不良原因を製造工程にフィードバックすることにより、迅速に不良対策を講じることができる。   Therefore, by reading the two-dimensional barcode (BC2) of the QFP and specifying the identification number of the QFP, the manufacturing conditions of the QFP stored in the main server (MS) can be tracked instantaneously. As a result, the cause of the defect in QFP can be quickly determined, and the countermeasure for the defect can be taken quickly by feeding back the cause of the defect to the manufacturing process.

また、上記した製造方法は、顧客先に出荷されたQFPの不良対策だけでなく、製造工程の途中で発生した不良対策にも適用することができる。すなわち、QFPの製造工程の途中で不良が見出された場合は、リードフレームLFに刻印された二次元バーコード(BC1)または封止体10に刻印された二次元バーコード(BC2)を読み取ることにより、その識別番号が付与された半製品の先行する工程における製造条件を瞬時に追跡し、製造工程の途中で不良原因を速やかに究明することができる。   In addition, the above-described manufacturing method can be applied not only to countermeasures for defects in QFP shipped to customers, but also to countermeasures for defects that occur during the manufacturing process. That is, when a defect is found during the QFP manufacturing process, the two-dimensional barcode (BC1) stamped on the lead frame LF or the two-dimensional barcode (BC2) stamped on the sealing body 10 is read. Thus, the manufacturing conditions in the preceding process of the semi-finished product to which the identification number is assigned can be tracked instantaneously, and the cause of the defect can be investigated quickly during the manufacturing process.

本実施の形態では、リードフレームを使用して組み立てられる半導体パッケージとして、QFPを例示したが、リードフレームを使用する他の半導体パッケージ、例えばQFNやTSSOPなどに適用できることは勿論である。   In the present embodiment, the QFP is exemplified as the semiconductor package assembled using the lead frame. However, it is needless to say that the semiconductor package can be applied to other semiconductor packages using the lead frame, such as QFN and TSSOP.

(実施の形態2)
本実施の形態は、半導体パッケージの一種であるCSP(Chip Size Package)の製造に適用したものであり、図18は、このCSPの製造工程を示す全体フロー図である。なお、前記実施の形態1と同一の内容(構成、条件、効果など)については、その説明を省略する。
(Embodiment 2)
This embodiment is applied to the manufacture of a CSP (Chip Size Package) which is a kind of semiconductor package, and FIG. 18 is an overall flowchart showing the manufacturing process of the CSP. The description of the same contents (configuration, conditions, effects, etc.) as those of the first embodiment will be omitted.

CSPを製造するには、まず基材(チップ搭載部材)として、図19および図20に示すような、複数のデバイス領域が形成された配線基板(マップ基板)20と、半導体ウエハとを用意する。なお、図19はマップ基板20の表面(上面、主面)を示す全体平面図、図20はマップ基板20の裏面(下面、実装面)を示す全体平面図である。   To manufacture a CSP, first, as a base material (chip mounting member), a wiring board (map board) 20 having a plurality of device regions formed as shown in FIGS. 19 and 20 and a semiconductor wafer are prepared. . 19 is an overall plan view showing the surface (upper surface, main surface) of the map substrate 20, and FIG. 20 is an overall plan view showing the back surface (lower surface, mounting surface) of the map substrate 20.

<マップ基板について>
マップ基板20は、後述するCSPの配線基板25の母体となる大型の配線基板であり、このマップ基板20を図19の一点鎖線で示すダイシングラインLに沿って格子状にダイシングすることにより、複数個の配線基板25が得られる構造になっている。このマップ基板20は、上記ダイシングラインLに沿って長辺方向が6個のブロックに区画され、短辺方向が3個のブロックに区画されている。各ブロックは、マップ基板20をダイシングした時に1個の配線基板25となる領域である。従って、このマップ基板20から3×6=18個のCSPを取得することができる。
<About the map board>
The map board 20 is a large-sized wiring board that becomes a base of a CSP wiring board 25 described later, and a plurality of map boards 20 are diced along a dicing line L indicated by a one-dot chain line in FIG. In this structure, the individual wiring boards 25 are obtained. The map substrate 20 is divided into six blocks along the dicing line L in the long side direction and is divided into three blocks in the short side direction. Each block is an area that becomes one wiring board 25 when the map board 20 is diced. Therefore, 3 × 6 = 18 CSPs can be acquired from the map board 20.

マップ基板20の各ブロックには、銅(Cu)からなる多数の導体パターンが形成されている。図19には、これらの導体パターンのうち、ランド(電極パッド、ボンディングリード)21が図示されており、図20には電極(電極パッド、バンプランド)22が図示されている。図示は省略するが、マップ基板20の表面には上記ランド21と電気的に接続された配線が形成されている。また、これらの配線は、マップ基板20を貫通するビアホール内に形成された導電性部材(ビア配線)を介してマップ基板20の裏面の電極22と電気的に接続されている。さらに、マップ基板20の表面は、上記ランド21が形成された領域を除いて絶縁膜(ソルダレジスト)で覆われており、マップ基板20の裏面は、上記電極22が形成された領域を除いて絶縁膜(ソルダレジスト)で覆われている。ランド21の表面および電極22の表面は、例えばニッケル(Ni)層の上に金(Au)層を積層したメッキ層が形成されている。   A number of conductor patterns made of copper (Cu) are formed in each block of the map substrate 20. 19 shows a land (electrode pad, bonding lead) 21 among these conductor patterns, and FIG. 20 shows an electrode (electrode pad, bump land) 22. Although illustration is omitted, a wiring electrically connected to the land 21 is formed on the surface of the map substrate 20. In addition, these wirings are electrically connected to the electrodes 22 on the back surface of the map substrate 20 through conductive members (via wirings) formed in via holes that penetrate the map substrate 20. Further, the surface of the map substrate 20 is covered with an insulating film (solder resist) except for the region where the land 21 is formed, and the back surface of the map substrate 20 is excluded except for the region where the electrode 22 is formed. It is covered with an insulating film (solder resist). On the surface of the land 21 and the surface of the electrode 22, for example, a plating layer in which a gold (Au) layer is stacked on a nickel (Ni) layer is formed.

<半導体ウエハについて>
CSPの製造に用いる半導体ウエハは、特に限定はされないが、例えば前記実施の形態1で用いた半導体ウエハ1A(図3参照)である。前述したように、半導体ウエハ1Aは、多数個の半導体チップ1に分割されている。また、各半導体チップ1には、半導体ウエハ1Aの製造ロット番号、ウエハ番号、半導体ウエハ1A内における当該半導体チップ1の位置、当該半導体チップ1が良品か不良品かなどの情報を含むチップ識別番号(ID)が付与されており、このチップ識別番号は、サーバ(ウエハマップデータ管理サーバWS)によって管理されている。
<About semiconductor wafers>
The semiconductor wafer used for manufacturing the CSP is not particularly limited, but is, for example, the semiconductor wafer 1A (see FIG. 3) used in the first embodiment. As described above, the semiconductor wafer 1 </ b> A is divided into a large number of semiconductor chips 1. Each semiconductor chip 1 includes a manufacturing lot number of the semiconductor wafer 1A, a wafer number, a position of the semiconductor chip 1 in the semiconductor wafer 1A, and a chip identification number including information such as whether the semiconductor chip 1 is a good product or a defective product. (ID) is assigned, and this chip identification number is managed by a server (wafer map data management server WS).

次に、図18に示す全体フローおよび図21〜図28を参照しながら、本実施の形態のCSPの製造方法を工程順に説明する。   Next, the manufacturing method of the CSP of this embodiment will be described in the order of steps with reference to the overall flow shown in FIG. 18 and FIGS. 21 to 28.

<ID刻印工程>
まず、前記図19および図20に示すマップ基板20を所定の数だけ用意する。そして、図21に示すように、各マップ基板20の外枠部8の表面(上面、主面)に当該マップ基板20の識別番号(ID)に対応する二次元バーコード(BC3)を刻印する。マップ基板20の外枠部8は、図19乃至図26に示すように、前述した18個のブロックの外側の領域であり、後述するデバイス領域(封止体23が形成される領域)の外側に位置している。
<ID stamping process>
First, a predetermined number of map substrates 20 shown in FIGS. 19 and 20 are prepared. Then, as shown in FIG. 21, a two-dimensional barcode (BC3) corresponding to the identification number (ID) of the map substrate 20 is imprinted on the surface (upper surface, main surface) of the outer frame portion 8 of each map substrate 20. . As shown in FIGS. 19 to 26, the outer frame portion 8 of the map substrate 20 is an area outside the 18 blocks described above, and is outside the device area (area where the sealing body 23 is formed) described later. Is located.

マップ基板20の表面(上面、主面)に二次元バーコード(BC3)を刻印するには、レーザービーム(例えば、約1064nmの波長からなる赤外光)を使用する。また、レーザービームによる刻印に代え、例えば二次元バーコード(BC3)を印刷したシールを外枠部8の表面に貼り付けてもよい。さらに、外枠部8の複数箇所に同一の二次元バーコード(BC3)を刻印してもよく、外枠部8の面積が十分に広い場合は、二次元バーコード(BC3)に代えて一次元バーコードを刻印してもよい。   In order to imprint a two-dimensional barcode (BC3) on the surface (upper surface, main surface) of the map substrate 20, a laser beam (for example, infrared light having a wavelength of about 1064 nm) is used. Further, instead of engraving with a laser beam, for example, a seal printed with a two-dimensional barcode (BC3) may be attached to the surface of the outer frame portion 8. Furthermore, the same two-dimensional barcode (BC3) may be engraved at a plurality of locations on the outer frame portion 8. When the area of the outer frame portion 8 is sufficiently large, the primary frame is replaced with the two-dimensional barcode (BC3). The original barcode may be engraved.

このように、マップ基板20の表面に当該マップ基板20の識別番号をバーコード形式で刻印することにより、マップ基板20の識別番号の特定を自動化することができる。   As described above, the identification number of the map substrate 20 can be automatically specified by imprinting the identification number of the map substrate 20 in the barcode format on the surface of the map substrate 20.

次に、図18に示すバーコードリーダ(R0)を使って、各マップ基板20に刻印された二次元バーコード(BC3)を読み取り、その識別番号をマップ基板データ管理サーバ(BS)に格納する。これにより、マップ基板データ管理サーバ(BS)において、各識別番号に対応する基材に施した各工程の条件を記録するための準備が整う。   Next, using the barcode reader (R0) shown in FIG. 18, the two-dimensional barcode (BC3) imprinted on each map board 20 is read, and the identification number is stored in the map board data management server (BS). . Thereby, in the map board data management server (BS), the preparation for recording the conditions of each process performed on the base material corresponding to each identification number is completed.

また、カメラ(C0)を使った画像認識によって各マップ基板20の外観検査を行い、不良の有無を調べる。そして、不良が検出された場合には、当該マップ基板20の識別番号と不良ブロックとの関連付けを行い、その情報をマップ基板データ管理サーバ(BS)に格納する。   Further, the appearance of each map board 20 is inspected by image recognition using the camera (C0) to check for defects. When a defect is detected, the identification number of the map board 20 is associated with the defective block, and the information is stored in the map board data management server (BS).

その後、各マップ基板20の表面をプラズマクリーニングまたは薬液洗浄し、ランド21の表面や電極22の表面を清浄化する。これは、上記したように、マップ基板20の表面には絶縁膜(ソルダレジスト)が形成されており、レーザービームを基材(マップ基板20)に照射することで発生する熱の影響により、絶縁膜から汚染物質(アウトガス)が発生するためである。そこで、本実施の形態では、ID刻印工程を行った後、ダイボンディング工程の前に、基材を清浄化するための工程を施す。   Thereafter, the surface of each map substrate 20 is subjected to plasma cleaning or chemical cleaning to clean the surfaces of the lands 21 and the surfaces of the electrodes 22. As described above, this is because an insulating film (solder resist) is formed on the surface of the map substrate 20, and is insulated by the influence of heat generated by irradiating the base material (map substrate 20) with a laser beam. This is because contaminants (outgas) are generated from the film. Therefore, in this embodiment, after performing the ID marking process, a process for cleaning the substrate is performed before the die bonding process.

<ダイボンディング工程>
次に、上記二次元バーコード(BC3)が刻印されたマップ基板20をダイボンディング工程で使用する装置(ダイボンディング装置)に搬送する。そして、マップ基板20の表面にブロック毎に接着剤(図示せず)を供給した後、図22に示すように、前記図3に示す半導体ウエハ1Aから取得した半導体チップ1を1個ずつピックアップして各ブロック(チップ搭載領域)に搭載する。
<Die bonding process>
Next, the map substrate 20 engraved with the two-dimensional barcode (BC3) is transported to an apparatus (die bonding apparatus) used in a die bonding process. Then, after supplying an adhesive (not shown) for each block to the surface of the map substrate 20, as shown in FIG. 22, the semiconductor chips 1 obtained from the semiconductor wafer 1A shown in FIG. 3 are picked up one by one. Mounted on each block (chip mounting area).

マップ基板20の各ブロック(チップ搭載領域)に半導体チップ1を搭載する際は、図18に示す位置認識用のカメラ(C1)を使って半導体チップ1とブロックとの位置合わせを行う。また、バーコードリーダ(R1)を使って、マップ基板20に刻印された二次元バーコード(BC3)を読み取り、先の工程(ID刻印工程)においてサーバ(マップ基板データ管理サーバBS)に格納されている複数の基材情報(サーバ内情報)のうち、ダイボンディング装置のバーコードリーダ(R1)で認識したマップ基板20に該当する識別番号をサーバ内から引き出す。そして、認識したマップ基板20の一部に不良があるかどうかを確認する。その結果、当該識別番号に該当するマップ基板20の一部に不良がある場合には、当該不良のあるブロックに半導体チップ1を搭載しないようにする。   When the semiconductor chip 1 is mounted on each block (chip mounting region) of the map substrate 20, the position of the semiconductor chip 1 and the block is aligned using the position recognition camera (C1) shown in FIG. Further, the two-dimensional barcode (BC3) imprinted on the map board 20 is read using the bar code reader (R1), and stored in the server (map board data management server BS) in the previous process (ID marking process). Among the plurality of base material information (in-server information), an identification number corresponding to the map substrate 20 recognized by the barcode reader (R1) of the die bonding apparatus is extracted from the server. Then, it is confirmed whether or not a part of the recognized map substrate 20 is defective. As a result, when a part of the map substrate 20 corresponding to the identification number has a defect, the semiconductor chip 1 is not mounted on the defective block.

また、マップ基板20の各ブロック上に半導体チップ1を搭載する際は、ウエハマップデータ管理サーバ(WS)に格納された当該半導体チップ1の識別番号を参照し、その識別番号に該当する半導体チップ1が良品であるか不良品であるかを確認する。そして、当該半導体チップ1が不良品である場合は、マップ基板20上に搭載しないようにする。   When the semiconductor chip 1 is mounted on each block of the map substrate 20, the semiconductor chip 1 corresponding to the identification number is referred to by referring to the identification number of the semiconductor chip 1 stored in the wafer map data management server (WS). Check whether 1 is a good product or a defective product. If the semiconductor chip 1 is a defective product, it is not mounted on the map substrate 20.

次に、二次元バーコード(BC3)から得られた上記マップ基板20の識別番号と上記マップ基板20上に搭載された半導体チップ1の識別番号との関連付けを行い、その情報をサーバ(メインサーバMS)に格納する。また、上記マップ基板20上に半導体チップ1を搭載した時の条件(使用したダイボンディング装置の型番、接着剤の種類など)と上記マップ基板20の識別番号との関連付けを行い、その情報をメインサーバ(MS)に格納する。   Next, the identification number of the map substrate 20 obtained from the two-dimensional barcode (BC3) is associated with the identification number of the semiconductor chip 1 mounted on the map substrate 20, and the information is stored in the server (main server). MS). Further, the conditions when the semiconductor chip 1 is mounted on the map substrate 20 (the model number of the die bonding apparatus used, the type of adhesive, etc.) are associated with the identification number of the map substrate 20, and the information is stored as main information. Store in the server (MS).

このようにして、各マップ基板20の各ブロックに半導体チップ1を搭載すると共に、各マップ基板20の識別番号と各マップ基板20上に搭載された半導体チップ1の識別番号とを関連付け、それらの情報をメインサーバ(MS)に格納する。また、各マップ基板20の各ブロックに半導体チップ1を搭載した時の条件と各マップ基板20の識別番号とを関連付け、それらの情報をメインサーバ(MS)に格納する。   In this way, the semiconductor chip 1 is mounted on each block of each map substrate 20 and the identification number of each map substrate 20 is associated with the identification number of the semiconductor chip 1 mounted on each map substrate 20. Information is stored in the main server (MS). Further, the condition when the semiconductor chip 1 is mounted on each block of each map substrate 20 is associated with the identification number of each map substrate 20, and the information is stored in the main server (MS).

<ワイヤボンディング工程>
次に、上記ダイボンディング工程が完了したマップ基板20をワイヤボンディング工程で使用する装置(ワイヤボンディング装置)に搬送する。そして、図18に示す位置認識用のカメラ(C2)を使ってマップ基板20をワイヤボンディング装置のステージに位置決めした後、図23(マップ基板20の一部を拡大して示す平面図)に示すように、半導体チップ1のボンディングパッド2とマップ基板20のランド21を、導電性部材3で電気的に接続する。なお、本実施の形態で使用する導電性部材3は、前記実施の形態1と同様に、金(Au)からなるワイヤである。
<Wire bonding process>
Next, the map substrate 20 in which the die bonding process is completed is transported to an apparatus (wire bonding apparatus) used in the wire bonding process. And after positioning the map board | substrate 20 on the stage of a wire bonding apparatus using the camera (C2) for position recognition shown in FIG. 18, it shows in FIG. 23 (plan view which expands and shows a part of map board | substrate 20). As described above, the bonding pads 2 of the semiconductor chip 1 and the lands 21 of the map substrate 20 are electrically connected by the conductive member 3. The conductive member 3 used in the present embodiment is a wire made of gold (Au), as in the first embodiment.

次に、バーコードリーダ(R2)を使って、マップ基板20に刻印された二次元バーコード(BC3)を読み取り、先の工程(ID刻印工程)においてマップ基板データ管理サーバBSに格納されている複数の基材情報(サーバ内情報)のうち、バーコードリーダ(R2)で認識したマップ基板20に該当する識別番号をサーバ内から引き出す。そして、認識したマップ基板20の一部に不良があるかどうかを確認する。その結果、当該識別番号に該当するマップ基板20の一部に不良がある場合には、当該不良のあるブロックのランド21にワイヤ3をボンディングしないようにする。   Next, using the barcode reader (R2), the two-dimensional barcode (BC3) imprinted on the map board 20 is read and stored in the map board data management server BS in the previous process (ID marking process). Of the plurality of base material information (in-server information), an identification number corresponding to the map substrate 20 recognized by the barcode reader (R2) is extracted from the server. Then, it is confirmed whether or not a part of the recognized map substrate 20 is defective. As a result, when there is a defect in a part of the map substrate 20 corresponding to the identification number, the wire 3 is not bonded to the land 21 of the defective block.

次に、上記ワイヤ3のボンディング条件(使用したワイヤボンディング装置の型番、ワイヤ3の径など)と二次元バーコード(BC3)から得られた上記マップ基板20の識別番号との関連付けを行い、その情報をメインサーバ(MS)に格納する。   Next, the bonding conditions of the wire 3 (the model number of the wire bonding apparatus used, the diameter of the wire 3 etc.) are associated with the identification number of the map substrate 20 obtained from the two-dimensional barcode (BC3). Information is stored in the main server (MS).

このようにして、各マップ基板20上に搭載された半導体チップ1のボンディングパッド2とランド21をワイヤ3で電気的に接続すると共に、ワイヤ3のボンディング条件と各マップ基板20の識別番号との関連付けを行い、それらの情報をメインサーバ(MS)に格納する。   In this manner, the bonding pads 2 of the semiconductor chip 1 mounted on each map substrate 20 and the lands 21 are electrically connected by the wires 3, and the bonding conditions of the wires 3 and the identification numbers of the map substrates 20 are The association is performed and the information is stored in the main server (MS).

その後、各マップ基板20の外観検査を行い、ワイヤ3の断線や短絡の有無を調べる。そして、不良が検出された場合には、二次元バーコード(BC3)から得られた当該マップ基板20の識別番号と当該不良のあるブロックとを関連付けてマップ基板データ管理サーバ(BS)に格納する。   Then, the appearance inspection of each map board | substrate 20 is performed, and the presence or absence of the disconnection of a wire 3 or a short circuit is investigated. When a defect is detected, the identification number of the map board 20 obtained from the two-dimensional barcode (BC3) is associated with the defective block and stored in the map board data management server (BS). .

<モールド工程>
次に、上記ワイヤボンディング工程(または、外観検査工程)が完了したマップ基板20の表面をプラズマクリーニングした後、モールド工程で使用する装置に搬送する。そして、マップ基板20をモールド装置の金型(図示せず)内に配置し、必要に応じて、モールド装置の認識手段(バーコードリーダR3)を使ってマップ基板20に刻印された二次元バーコード(BC3)を読み取り、先の工程においてサーバ(マップ基板データ管理サーバBS)に格納された複数の基材情報(サーバ内情報)のうち、モールド装置のバーコードリーダ(R3)で認識したマップ基板20に該当する識別番号をサーバ内から引き出す。
<Molding process>
Next, the surface of the map substrate 20 on which the wire bonding step (or appearance inspection step) has been completed is plasma-cleaned and then transferred to an apparatus used in the molding step. Then, the map substrate 20 is placed in a mold (not shown) of the molding apparatus, and if necessary, a two-dimensional bar stamped on the map substrate 20 using the recognition means (barcode reader R3) of the molding apparatus. A map read by the code (BC3) and recognized by the barcode reader (R3) of the molding apparatus among the plurality of base material information (in-server information) stored in the server (map board data management server BS) in the previous step. An identification number corresponding to the substrate 20 is extracted from the server.

そして、図24に示すように、半導体チップ1、ワイヤ3およびランド21をモールド樹脂で封止し、封止体(樹脂封止体)23を形成する。このとき、外枠部8に形成された識別番号(二次元バーコードBC3)が封止体23の外部に露出するように、デバイス領域(デバイス領域内に搭載された半導体チップ1)を樹脂で封止する。また、図18に示すカメラ(C3)を使って樹脂の充填性などの監視を行う。なお、このモールド工程では、半導体チップ1、ワイヤ3およびランド21をブロック毎に封止するのではなく、全ブロックを一括して樹脂で封止する。そのため、マップ基板20の表面は、外枠部8を除く全面が封止体23によって被覆される。   Then, as shown in FIG. 24, the semiconductor chip 1, the wires 3, and the lands 21 are sealed with a mold resin to form a sealing body (resin sealing body) 23. At this time, the device region (semiconductor chip 1 mounted in the device region) is made of resin so that the identification number (two-dimensional barcode BC3) formed on the outer frame portion 8 is exposed to the outside of the sealing body 23. Seal. Also, the resin filling property and the like are monitored using the camera (C3) shown in FIG. In this molding step, the semiconductor chip 1, the wires 3 and the lands 21 are not sealed for each block, but all the blocks are collectively sealed with resin. Therefore, the entire surface of the map substrate 20 except the outer frame portion 8 is covered with the sealing body 23.

次に、バーコードリーダ(R3)を使って、マップ基板20の外枠部8に刻印された二次元バーコード(BC3)を読み取った後、モールド条件(使用したモールド装置の型番、封止体23の種類など)と二次元バーコード(BC3)から得られた上記マップ基板20の識別番号との関連付けを行い、その情報をメインサーバ(MS)に格納する。   Next, after reading the two-dimensional barcode (BC3) engraved on the outer frame portion 8 of the map substrate 20 using the barcode reader (R3), the molding conditions (model number of the molding apparatus used, sealing body) 23) and the identification number of the map board 20 obtained from the two-dimensional barcode (BC3), and the information is stored in the main server (MS).

このようにして、各マップ基板20をモールド装置の金型に装着し、半導体チップ1、ワイヤ3およびランド21を樹脂で封止する。また、モールド条件と各マップ基板20の識別番号との関連付けを行い、それらの情報をメインサーバ(MS)に格納する。   In this way, each map substrate 20 is mounted on the mold of the molding apparatus, and the semiconductor chip 1, the wires 3, and the lands 21 are sealed with resin. In addition, the mold condition is associated with the identification number of each map substrate 20, and the information is stored in the main server (MS).

<レーザマーキング工程>
次に、マップ基板20を枚葉式ベーク炉に収容して封止体23を完全硬化させた後、レーザマーキング工程で使用する装置に搬送し、図25に示すように、封止体23の表面に二次元バーコード(BC4)をブロック毎に刻印する。
<Laser marking process>
Next, after the map substrate 20 is accommodated in a single wafer baking furnace and the sealing body 23 is completely cured, it is transported to an apparatus used in the laser marking process, and as shown in FIG. A two-dimensional barcode (BC4) is imprinted on the surface for each block.

この二次元バーコード(BC4)の形成工程では、まず、レーザマーキング装置のバーコードリーダ(R4)を使ってマップ基板20の外枠部8に刻印された二次元バーコード(BC3)を読み取る。そして、先の工程においてマップ基板データ管理サーバ(BS)に格納された複数の基材情報(サーバ内情報)のうち、バーコードリーダ(R4)で認識したマップ基板20に該当する情報(サーバ内情報、チップ位置情報、ウエハの製造ロット番号、半導体ウエハ番号、組立ロット番号、製品型名など)をサーバ内から引き出す。次に、この引き出した情報を新たな識別番号(二次元バーコードBC4)として、封止体23の表面側に形成する。また、封止体23の表面に二次元バーコード(BC4)を刻印する際には、製品情報(製品型名、顧客ロゴマーク、製造コードなど)のマーク(図示せず)も併せて刻印する。   In the process of forming the two-dimensional barcode (BC4), first, the two-dimensional barcode (BC3) imprinted on the outer frame portion 8 of the map substrate 20 is read using the barcode reader (R4) of the laser marking device. Of the plurality of base material information (in-server information) stored in the map board data management server (BS) in the previous step, information corresponding to the map board 20 recognized by the barcode reader (R4) (inside the server) Information, chip position information, wafer production lot number, semiconductor wafer number, assembly lot number, product type name, etc.) are extracted from the server. Next, this extracted information is formed as a new identification number (two-dimensional barcode BC4) on the surface side of the sealing body 23. Further, when a two-dimensional barcode (BC4) is engraved on the surface of the sealing body 23, a mark (not shown) of product information (product type name, customer logo mark, manufacturing code, etc.) is also engraved. .

なお、封止体23の表面に形成する二次元バーコード(BC4)に格納される情報は、サーバで管理している情報を選択的に呼び出して二次元バーコードへ持たせることが可能であり、前記情報に限定されるものではない。そのため、この二次元バーコード(BC4)に格納される情報は、マップ基板20の外枠部8に刻印された前記二次元バーコード(BC3)と同一の情報であってもよい。この場合、バーコードリーダで認識した後に、マップ基板データ管理サーバ(BS)に格納しておいた複数の基材情報の中から該当するマップ基板20の情報を照合することで、上記した各情報を引き出すことができる。なお、本実施の形態では、レーザマーキング工程で使用するレーザの条件は、ID刻印工程で使用したものと同じ条件であるが、これに限定されるものではない。また、二次元バーコード(BC4)の形成方法は、レーザービームに限定されない。例えば二次元バーコード(BC4)を印刷したシールを封止体23の表面に貼り付けてもよい。   The information stored in the two-dimensional barcode (BC4) formed on the surface of the sealing body 23 can be selectively called by the information managed by the server and given to the two-dimensional barcode. The information is not limited to the above. Therefore, the information stored in the two-dimensional barcode (BC4) may be the same information as the two-dimensional barcode (BC3) stamped on the outer frame portion 8 of the map substrate 20. In this case, after recognizing with a barcode reader, each information mentioned above is collated by collating the information of the applicable map board | substrate 20 out of the some base material information stored in the map board data management server (BS). Can be pulled out. In the present embodiment, the laser conditions used in the laser marking process are the same as those used in the ID marking process, but are not limited thereto. Further, the method for forming the two-dimensional barcode (BC4) is not limited to the laser beam. For example, a seal printed with a two-dimensional barcode (BC4) may be attached to the surface of the sealing body 23.

二次元バーコード(BC4)およびマークを刻印する際は、マップ基板データ管理サーバ(BS)を参照し、ここまでの工程で当該マップ基板20の一部に不良が発生していたかどうかを確認する。そして、当該マップ基板20の一部に不良が発生していた場合には、図26に示すように、当該不良のあるブロックに二次元バーコード(BC4)およびマークを刻印しないようにする。   When imprinting the two-dimensional barcode (BC4) and the mark, the map board data management server (BS) is referred to and it is confirmed whether or not a defect has occurred in a part of the map board 20 through the steps so far. . When a defect has occurred in a part of the map substrate 20, as shown in FIG. 26, the two-dimensional barcode (BC4) and the mark are not imprinted on the defective block.

次に、カメラ(C4)を使って二次元バーコード(BC4)およびマークが確実に刻印されたかどうかをブロック毎に確認し、その結果を当該マップ基板20の識別番号と関連付けてメインサーバ(MS)に格納する。   Next, using the camera (C4), it is confirmed for each block whether or not the two-dimensional barcode (BC4) and the mark are surely engraved, and the result is associated with the identification number of the map board 20 and the main server (MS ).

<ボールマウント工程>
次に、上記二次元バーコード(BC4)およびマークの刻印が完了したマップ基板20をボールマウント工程に搬送する。そして、図27に示すように、マップ基板20の裏面の電極22に、CSPの外部接続端子を構成する半田バンプ(ボール電極)24を接続する。その際、図18に示すカメラ(C5)を使って電極22と半田バンプ24の接続状態を確認し、その結果を当該マップ基板20の識別番号と関連付けてメインサーバ(MS)に格納する。
<Ball mounting process>
Next, the two-dimensional barcode (BC4) and the map substrate 20 on which the marking of the mark has been completed are transported to the ball mounting process. Then, as shown in FIG. 27, solder bumps (ball electrodes) 24 constituting external connection terminals of the CSP are connected to the electrodes 22 on the back surface of the map substrate 20. At that time, the connection state between the electrode 22 and the solder bump 24 is confirmed using the camera (C5) shown in FIG. 18, and the result is stored in the main server (MS) in association with the identification number of the map board 20.

<ダイシング工程>
次に、上記半田バンプ24の接続が完了したマップ基板20をダイシング工程に搬送し、前記図19のダイシングラインLに沿ってマップ基板20をダイシングする。マップ基板20をダイシングする際は、図18に示すカメラ(C6)を使ってダイシングブレードとマップ基板20の位置合わせを行う。これにより、図28に示すように、配線基板25の上面に搭載された半導体チップ1が封止体23によって封止され、配線基板25の裏面に半田バンプ24が接続されたCSPが完成する。
<Dicing process>
Next, the map substrate 20 in which the connection of the solder bumps 24 is completed is conveyed to a dicing process, and the map substrate 20 is diced along the dicing line L in FIG. When dicing the map substrate 20, the camera (C6) shown in FIG. 18 is used to align the dicing blade with the map substrate 20. As a result, as shown in FIG. 28, the semiconductor chip 1 mounted on the upper surface of the wiring board 25 is sealed by the sealing body 23, and the CSP in which the solder bumps 24 are connected to the back surface of the wiring board 25 is completed.

次に、図18に示すバーコードリーダ(R5)を使って各CSPの二次元バーコード(BC4)を読み取る。そして、封止体23の表面に二次元バーコード(BC4)が刻印されていないCSPを不良品として取り除き、良品と判定されたCSPのみをピックアップしてトレーに収納する。   Next, the two-dimensional barcode (BC4) of each CSP is read using the barcode reader (R5) shown in FIG. Then, the CSP in which the two-dimensional barcode (BC4) is not engraved on the surface of the sealing body 23 is removed as a defective product, and only the CSP determined to be good is picked up and stored in the tray.

<試験工程>
次に、トレーに収納された良品のCSPを試験工程に搬送し、図18に示すカメラ(C7)を使ってCSPをソケットに装着した後、バーンイン試験および電気特性試験を行う。続いて、バーコードリーダ(R6)を使って各CSPの二次元バーコード(BC4)を読み取る。そして、試験結果と各CSPの識別番号との関連付けを行い、それらの情報をメインサーバ(MS)に格納する。
<Test process>
Next, the non-defective CSP stored in the tray is transported to the test process, and after the CSP is mounted on the socket using the camera (C7) shown in FIG. 18, a burn-in test and an electrical characteristic test are performed. Subsequently, the two-dimensional barcode (BC4) of each CSP is read using a barcode reader (R6). Then, the test result is associated with the identification number of each CSP, and the information is stored in the main server (MS).

<最終外観検査工程>
次に、上記試験工程で良品と判定されたCSPを最終外観検査工程に搬送する。ここでは、図18に示すカメラ(C8)を使った画像認識によって半田バンプ24の接続状態を調べた後、バーコードリーダ(R7)を使って各CSPの二次元バーコード(BC4)を読み取る。そして、検査結果と各CSPの識別番号との関連付けを行い、それらの情報をメインサーバ(MS)に格納する。
<Final appearance inspection process>
Next, the CSP determined as a non-defective product in the test process is transported to the final appearance inspection process. Here, after checking the connection state of the solder bumps 24 by image recognition using the camera (C8) shown in FIG. 18, the two-dimensional barcode (BC4) of each CSP is read using the barcode reader (R7). Then, the inspection result is associated with the identification number of each CSP, and the information is stored in the main server (MS).

以上の各工程を経て製造されたCSPは、製造メーカから顧客先に出荷され、所定の配線基板に実装されて使用される。なお、製造メーカから顧客先への出荷状況は、上記二次元バーコード(BC4)と関連付けて管理される。   The CSP manufactured through the above steps is shipped from the manufacturer to the customer, mounted on a predetermined wiring board, and used. The shipment status from the manufacturer to the customer is managed in association with the two-dimensional barcode (BC4).

また、本実施の形態では、マップ基板20の外枠部8に識別番号(ID、二次元バーコード)を刻印しておき、モールド工程においてこの識別番号を読み取り、マップ基板データ管理サーバ(BS)に格納されている複数の情報(サーバ内情報)のうち、読み取った基材の識別番号(第1識別番号)に対応する情報(サーバ内情報)を、新たな識別番号(ID、二次元バーコード)として暗号化し、暗号化された識別番号(第2識別番号)を封止体23に付与(形成)している。   In the present embodiment, an identification number (ID, two-dimensional barcode) is imprinted on the outer frame portion 8 of the map substrate 20, and this identification number is read in the molding process to obtain a map substrate data management server (BS). Among the plurality of information (information in the server) stored in the server, information (information in the server) corresponding to the read base material identification number (first identification number) is replaced with a new identification number (ID, two-dimensional bar). And the encrypted identification number (second identification number) is given (formed) to the sealing body 23.

そこで、完成した半導体装置(CSP)を出荷した後に、顧客先においてCSPに不良が発生した場合、製造メーカは、当該不良が発生したCSPの封止体23に刻印された二次元バーコード(BC4)をバーコードリーダで読み取ることによって、当該CSPの識別番号を特定する。   Accordingly, after a completed semiconductor device (CSP) is shipped, if a defect occurs in the CSP at the customer site, the manufacturer can obtain a two-dimensional barcode (BC4) stamped on the sealing body 23 of the CSP in which the defect has occurred. ) Is read by a bar code reader to identify the identification number of the CSP.

製造メーカのメインサーバ(MS)には、CSPに封止された半導体チップがどの製造ロットの半導体ウエハから取得され、その半導体ウエハのどの位置にあったかといった前工程情報が当該CSPの識別番号と関連付けて格納されている。また、前述したダイボンディング工程、ワイヤボンディング工程、モールド工程、レーザマーキング工程、ボールマウント工程、ダイシング工程などにおいて、CSPがどのような条件で製造されたかといった後工程情報も当該CSPの識別番号と関連付けて格納されている。   In the manufacturer's main server (MS), the pre-process information such as which semiconductor wafer of the manufacturing lot the semiconductor chip sealed in the CSP is acquired and in which position is associated with the identification number of the CSP. Stored. Also, post-process information such as the conditions under which the CSP is manufactured in the die bonding process, wire bonding process, molding process, laser marking process, ball mounting process, dicing process, etc. described above is also associated with the identification number of the CSP. Stored.

従って、CSPの二次元バーコード(BC4)を読み取って、当該CSPの識別番号を特定することにより、メインサーバ(MS)に格納された当該CSPの製造条件を瞬時に追跡することができる。これにより、CSPの不良原因を速やかに究明することができるので、当該不良原因を製造工程にフィードバックすることにより、迅速に不良対策を講じることができる。   Therefore, by reading the two-dimensional barcode (BC4) of the CSP and specifying the identification number of the CSP, the manufacturing conditions of the CSP stored in the main server (MS) can be tracked instantaneously. As a result, the cause of the CSP failure can be investigated quickly, and therefore the failure countermeasure can be taken quickly by feeding back the cause of the failure to the manufacturing process.

以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。   As mentioned above, the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiment. However, the present invention is not limited to the embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

前記実施の形態1、2では、半導体チップをワイヤボンディング方式によって基材のチップ搭載領域に搭載する例を説明したが、導電性部材としてバンプ電極を用いたフリップチップ方式によって基材のチップ搭載領域に半導体チップを搭載することもできる。   In the first and second embodiments, the example in which the semiconductor chip is mounted on the chip mounting region of the base material by the wire bonding method has been described. However, the chip mounting region of the base material by the flip chip method using the bump electrode as the conductive member. A semiconductor chip can also be mounted on.

また、前記実施の形態では、基材(チップ搭載部材)としてリードフレームや大型配線基板(マップ基板)を例示したが、基材としてTABテープやフレキシブル配線基板を使用することもできる。   Moreover, in the said embodiment, although the lead frame and the large sized wiring board (map board | substrate) were illustrated as a base material (chip mounting member), a TAB tape and a flexible wiring board can also be used as a base material.

また、前記実施の形態1、2では、レーザを用いて基材および封止体に識別番号(ID)を刻印することについて例示したが、識別番号(ID)に対応する形状(二次元バーコード)が形成された端面を有する金型を用いて刻印する方法、あるいは識別番号(ID)を印刷したシールを貼り付ける方法であってもよい。しかしながら、識別番号(ID)の形状は、基材毎に異なるため、金型による形成方法では、各基材(リードフレーム、配線基板)に対応する金型を準備しておかなければならない。また、シールを貼り付ける方法の場合、後工程では、基材に対して熱が加えられる工程も含まれるため、シールが剥離する虞がある。そのため、識別番号(ID)の形成方法としては、前記実施の形態のように、レーザを用いることが好ましい。   Further, in the first and second embodiments, the example in which the identification number (ID) is engraved on the base material and the sealing body using the laser is illustrated, but the shape corresponding to the identification number (ID) (two-dimensional barcode) ) May be used for engraving using a mold having an end face or a method for attaching a seal printed with an identification number (ID). However, since the shape of the identification number (ID) is different for each base material, in the forming method using a mold, it is necessary to prepare a mold corresponding to each base material (lead frame, wiring board). Moreover, in the case of the method of sticking a seal | sticker, since a process with which heat is applied with respect to a base material is also included in a post process, there exists a possibility that a seal | sticker may peel. Therefore, as a method for forming an identification number (ID), it is preferable to use a laser as in the above embodiment.

また、前記実施の形態1、2では、レーザを用いて基材および封止体に識別番号(ID、二次元バーコード)を刻印することについて例示したが、特定のUV光(紫外線)のみ発するようにフィルターを掛けられた電気発光体(ブラックライト)を照射した時のみ発光する特殊発光インクで印刷してもよい。これは、セキュリティー上、不用意に公にしたくない情報を持つ二次元バーコードを刻印する際の有効な手段である。しかしながら、上記したように、実施の形態1では、レーザーマーキング工程の後にメッキ工程を行うため、印刷された特殊発光インクがメッキ液に溶ける虞れがあるため、識別番号(ID、二次元バーコード)は、レーザを用いて形成することが好ましい。   Further, in the first and second embodiments, the example in which the identification number (ID, two-dimensional barcode) is imprinted on the base material and the sealing body using the laser is exemplified, but only specific UV light (ultraviolet light) is emitted. In this way, printing may be performed with a special light-emitting ink that emits light only when irradiated with a filtered electroluminescent material (black light). This is an effective means for imprinting a two-dimensional barcode having information that you do not want to make public inadvertently for security reasons. However, as described above, in the first embodiment, since the plating process is performed after the laser marking process, the printed special light-emitting ink may be dissolved in the plating solution. Therefore, the identification number (ID, two-dimensional barcode) ) Is preferably formed using a laser.

また、前記実施の形態1、2では、チップ搭載領域の表面に接着剤を供給してから、半導体チップ1を搭載することについて例示したが、半導体チップ1(半導体ウエハ1A)の裏面に予めフィルム状の接着層を形成しておき、この接着層を介して半導体チップ1をチップ搭載領域に搭載してもよい。   In the first and second embodiments, the semiconductor chip 1 is mounted after the adhesive is supplied to the surface of the chip mounting area. However, a film is previously formed on the back surface of the semiconductor chip 1 (semiconductor wafer 1A). A shaped adhesive layer may be formed, and the semiconductor chip 1 may be mounted on the chip mounting region via the adhesive layer.

また、前記実施の形態1、2では、ダイボンディング工程において、ウエハマップデータ管理サーバ(WS)に格納された半導体チップ1の識別情報を参照してから、ダイボンドすることについて例示したが、他の手段を用いてもよい。例えば、半導体チップ1が良品か不良品かを判別する他の手段として、まず、半導体ウエハ1Aに形成された複数の半導体チップ1のうちの不良品には不良マークを形成しておく。次に、ダイボンディング工程において、この不良マークをダイボンディング装置に設けられたカメラ(C1)を用いて画像認識した場合には、不良品をスキップし、良品の半導体チップのみをチップ搭載領域に搭載する。そして、このダイボンディング工程において、半導体ウエハ1A内における当該半導体チップ1の位置情報及び良品・不良品情報、ウエハの製造ロット番号、半導体ウエハ番号と関連付けてチップ識別番号(ID)生成し、ウエハマップデータ管理サーバ(WS)へ格納する。また、このチップ識別番号(ID)と基材(リードフレーム、配線基板)の識別番号とを関連付けた情報をメインサーバ(MS)にも格納する。これにより、半導体装置が完成した後であっても、封止体の表面に形成された識別番号、あるいはこの識別番号とメインサーバ(MS)に格納された情報とを参照することで、封止体内に配置された半導体チップ1がどの製造ロットで製造され、どの半導体ウエハのどの位置にあったかを容易に特定することができる。   In the first and second embodiments, the example of die bonding after referring to the identification information of the semiconductor chip 1 stored in the wafer map data management server (WS) in the die bonding process is described. Means may be used. For example, as another means for determining whether the semiconductor chip 1 is a non-defective product or a defective product, first, a defective mark is formed on a defective product among the plurality of semiconductor chips 1 formed on the semiconductor wafer 1A. Next, in the die bonding process, when the defect mark is image-recognized using the camera (C1) provided in the die bonding apparatus, the defective product is skipped and only the good semiconductor chip is mounted in the chip mounting area. To do. In this die bonding step, the position information of the semiconductor chip 1 in the semiconductor wafer 1A, the non-defective / defective product information, the wafer manufacturing lot number, the chip identification number (ID) is generated in association with the semiconductor wafer number, and the wafer map Store in the data management server (WS). Further, information that associates the chip identification number (ID) with the identification number of the base material (lead frame, wiring board) is also stored in the main server (MS). Thereby, even after the semiconductor device is completed, the identification number formed on the surface of the sealing body, or the identification number and the information stored in the main server (MS) are referred to for sealing. It is possible to easily specify in which manufacturing lot the semiconductor chip 1 disposed in the body is manufactured and in which position of which semiconductor wafer.

また、前記実施の形態では、封止体に形成した識別番号(ID、二次元バーコード)を参照することで、製造工程における各情報を読み出すことができることについて説明したが、この識別番号をインデックスマークとして利用してもよい。なお、識別番号をインデックスマークとして使用する場合は、この識別番号とは別にインデックスマークを形成するための工程を省略することができる。   Moreover, in the said embodiment, although it demonstrated that each information in a manufacturing process could be read with reference to the identification number (ID, two-dimensional barcode) formed in the sealing body, this identification number is an index. It may be used as a mark. In addition, when using an identification number as an index mark, the process for forming an index mark separately from this identification number can be omitted.

本発明は、半導体製品の製造工程で発生する不良の管理に適用することができる。   The present invention can be applied to the management of defects occurring in the manufacturing process of semiconductor products.

1 半導体チップ
1A 半導体ウエハ
2 ボンディングパッド
3 導電性部材(ワイヤ)
4 チップ搭載領域(ダイパッド)
5 リード
6 吊りリード
7 タイバー
8 外枠部(外枠)
9 接着剤
10 封止体(樹脂封止体)
11 ガイドレール
12 搬送爪
20 配線基板(マップ基板)
21 ランド(電極パッド、ボンディングリード)
22 電極(電極パッド、バンプランド)
23 封止体(樹脂封止体)
24 半田バンプ(ボール電極)
25 配線基板
BC1〜BC4 二次元バーコード
C0〜C8 カメラ
R0〜R8 バーコードリーダ
LF リードフレーム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor chip 1A Semiconductor wafer 2 Bonding pad 3 Conductive member (wire)
4 Chip mounting area (die pad)
5 Lead 6 Hanging lead 7 Tie bar 8 Outer frame (outer frame)
9 Adhesive 10 Sealing body (resin sealing body)
11 Guide rail 12 Transport claw 20 Wiring board (map board)
21 land (electrode pad, bonding lead)
22 electrodes (electrode pads, bump lands)
23 Sealed body (resin sealed body)
24 Solder bump (ball electrode)
25 Wiring boards BC1 to BC4 Two-dimensional barcode C0 to C8 Camera R0 to R8 Barcode reader LF Lead frame

Claims (9)

以下の工程を含む、半導体装置の製造方法:
(a)チップ搭載部を有するデバイス領域、および平面視において前記デバイス領域の周囲に位置する外枠部、を備え、金属部材から成るリードフレームを準備する工程、
(b)前記(a)工程の後、前記リードフレームの前記外枠部に第1識別番号を刻印し、第1サーバ内情報としてサーバに格納する工程、
(c)前記(b)工程の後、前記リードフレームを第1装置に搬送する工程、
(d)前記(c)工程の後、前記リードフレームの前記外枠部に刻印された前記第1識別番号を前記第1装置の認識手段を用いて読み取り、前記サーバに格納されている複数のサーバ内情報のうち、認識した前記第1識別番号に対応する前記第1サーバ内情報を引き出す工程、
(e)前記(d)工程の後、前記リードフレームの前記チップ搭載部に半導体チップを搭載し、前記第1サーバ内情報を更新する工程、
(f)前記(e)工程の後、前記リードフレームを第2装置に搬送する工程、
(g)前記(f)工程の後、前記リードフレームの前記外枠部に刻印された前記第1識別番号を前記第2装置の認識手段を用いて読み取り、前記サーバに格納されている前記複数のサーバ内情報のうち、認識した前記第1識別番号に対応し、かつ、前記(e)工程で更新された前記第1サーバ内情報を引き出す工程、
(h)前記(g)工程の後、前記外枠部に刻印された前記第1識別番号が露出するように前記半導体チップを樹脂で封止し、前記第1サーバ内情報を更新する工程、
(i)前記(h)工程の後、前記リードフレームを第3装置に搬送する工程、
(j)前記(i)工程の後、前記リードフレームの前記外枠部に刻印された前記第1識別番号を前記第3装置の認識手段を用いて読み取り、前記サーバに格納されている前記複数のサーバ内情報のうち、認識した前記第1識別番号に対応し、かつ、前記(h)工程で更新された前記第1サーバ内情報を引き出す工程、
(k)前記(j)工程の後、前記(j)工程で引き出した前記第1サーバ内情報を第2識別番号として、前記(h)工程により形成された封止体の表面に付与する工程、
(l)前記(k)工程の後、前記封止体から露出する前記リードフレームの表面にメッキ膜を形成する工程。
A semiconductor device manufacturing method including the following steps:
(A) a step of preparing a lead frame made of a metal member, comprising: a device region having a chip mounting portion; and an outer frame portion positioned around the device region in plan view;
(B) After the step (a), a step of imprinting a first identification number on the outer frame portion of the lead frame and storing the first identification number in the server as information in the first server;
(C) After the step (b), a step of transporting the lead frame to the first device;
(D) After the step (c), the first identification number engraved on the outer frame portion of the lead frame is read using a recognition unit of the first device, and a plurality of items stored in the server are read. Extracting the first in-server information corresponding to the recognized first identification number among the in-server information;
(E) After the step (d), mounting a semiconductor chip on the chip mounting portion of the lead frame and updating the information in the first server;
(F) After the step (e), a step of transporting the lead frame to a second device;
(G) After the step (f), the first identification number stamped on the outer frame portion of the lead frame is read using the recognition unit of the second device, and the plurality of the plurality of numbers stored in the server Extracting the first in-server information corresponding to the recognized first identification number and updated in the step (e) among the in-server information
(H) After the step (g), the step of sealing the semiconductor chip with resin so that the first identification number stamped on the outer frame portion is exposed, and updating the information in the first server,
(I) After the step (h), a step of transporting the lead frame to a third device;
(J) After the step (i), the first identification number stamped on the outer frame portion of the lead frame is read using a recognition unit of the third device, and the plurality of the plurality of numbers stored in the server Extracting the first in-server information corresponding to the recognized first identification number and updated in the step (h) among the in-server information
(K) After the step (j), the step of applying the first server information extracted in the step (j) as a second identification number to the surface of the sealing body formed in the step (h) ,
(L) A step of forming a plating film on the surface of the lead frame exposed from the sealing body after the step (k).
前記第1、第2識別番号のそれぞれは、二次元バーコードであることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。   2. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein each of the first and second identification numbers is a two-dimensional barcode. 前記(b)工程では、前記リードフレームの前記外枠部にレーザービームを照射することで、前記第1識別番号を刻印することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。   2. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein, in the step (b), the first identification number is engraved by irradiating the outer frame portion of the lead frame with a laser beam. 3. 前記(k)工程では、前記封止体の前記表面にレーザービームを照射することで、前記第2識別番号を刻印することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。   2. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein, in the step (k), the second identification number is engraved by irradiating the surface of the sealing body with a laser beam. 前記(b)工程では、前記外枠部の複数箇所に前記第1識別番号を刻印することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。   2. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein in the step (b), the first identification number is stamped at a plurality of locations of the outer frame portion. 前記(e)工程において更新された前記第1サーバ内情報は、前記第1識別番号に、前記(e)工程における製造条件が関連付けられた情報であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。   The information in the first server updated in the step (e) is information in which manufacturing conditions in the step (e) are associated with the first identification number. A method for manufacturing a semiconductor device. 関連付けが行われた前記製造条件は、前記(e)工程において使用した前記第1装置の型番であることを特徴とする請求項6に記載の半導体装置の製造方法。   The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 6, wherein the manufacturing condition associated is the model number of the first device used in the step (e). 前記(h)工程において更新された前記第1サーバ内情報は、前記第1識別番号に、前記(h)工程における製造条件が関連付けられた情報であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。   The information in the first server updated in the step (h) is information in which manufacturing conditions in the step (h) are associated with the first identification number. A method for manufacturing a semiconductor device. 関連付けが行われた前記製造条件は、前記(h)工程において使用した前記第2装置の型番であることを特徴とする請求項8に記載の半導体装置の製造方法。   9. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 8, wherein the manufacturing condition associated is the model number of the second device used in the step (h).
JP2015185716A 2015-09-18 2015-09-18 Manufacturing method of semiconductor device Active JP6415411B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015185716A JP6415411B2 (en) 2015-09-18 2015-09-18 Manufacturing method of semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015185716A JP6415411B2 (en) 2015-09-18 2015-09-18 Manufacturing method of semiconductor device

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013082832A Division JP2013157626A (en) 2013-04-11 2013-04-11 Semiconductor device manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015228531A true JP2015228531A (en) 2015-12-17
JP6415411B2 JP6415411B2 (en) 2018-10-31

Family

ID=54885794

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015185716A Active JP6415411B2 (en) 2015-09-18 2015-09-18 Manufacturing method of semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6415411B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020035820A (en) * 2018-08-28 2020-03-05 太陽誘電株式会社 Module and manufacturing method thereof
JP2021097093A (en) * 2019-12-16 2021-06-24 Towa株式会社 Statistical data generation method, cutting device, and system

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62280039A (en) * 1986-05-30 1987-12-04 Hitachi Ltd Marking method
JPH0393240A (en) * 1989-09-06 1991-04-18 Fujitsu Ltd Manufacture of resin sealed type semiconductor device
JPH0397252A (en) * 1989-09-11 1991-04-23 Hitachi Cable Ltd Ic lead frame
JPH0494563A (en) * 1990-08-10 1992-03-26 Nec Corp Surface-mount semiconductor device and manufacture thereof
JPH04277669A (en) * 1991-03-06 1992-10-02 Nec Kyushu Ltd Lead frame
JPH118327A (en) * 1997-06-16 1999-01-12 Sony Corp Method for providing semiconductor chip identification code and method for managing semiconductor chip
JP2000150754A (en) * 1998-11-10 2000-05-30 Nec Corp Method and device for surface treatment of semiconductor device
JP2004193189A (en) * 2002-12-09 2004-07-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd Production management system of semiconductor device
JP2005191367A (en) * 2003-12-26 2005-07-14 Renesas Technology Corp Semiconductor device and its manufacturing method
JP2006066701A (en) * 2004-08-27 2006-03-09 Renesas Technology Corp Method of manufacturing semiconductor device
WO2006061879A1 (en) * 2004-12-06 2006-06-15 Renesas Technology Corp. Igniter, semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2007059948A (en) * 2006-11-27 2007-03-08 Oki Electric Ind Co Ltd Semiconductor chip, method for manufacturing semiconductor chip, lead frame, method for manufacturing lead frame, semiconductor device, and method for manufacturing semiconductor device
JP2007526624A (en) * 2003-06-23 2007-09-13 サンディスク コーポレイション Method for efficiently manufacturing a removable peripheral card

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62280039A (en) * 1986-05-30 1987-12-04 Hitachi Ltd Marking method
JPH0393240A (en) * 1989-09-06 1991-04-18 Fujitsu Ltd Manufacture of resin sealed type semiconductor device
JPH0397252A (en) * 1989-09-11 1991-04-23 Hitachi Cable Ltd Ic lead frame
JPH0494563A (en) * 1990-08-10 1992-03-26 Nec Corp Surface-mount semiconductor device and manufacture thereof
JPH04277669A (en) * 1991-03-06 1992-10-02 Nec Kyushu Ltd Lead frame
JPH118327A (en) * 1997-06-16 1999-01-12 Sony Corp Method for providing semiconductor chip identification code and method for managing semiconductor chip
JP2000150754A (en) * 1998-11-10 2000-05-30 Nec Corp Method and device for surface treatment of semiconductor device
JP2004193189A (en) * 2002-12-09 2004-07-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd Production management system of semiconductor device
JP2007526624A (en) * 2003-06-23 2007-09-13 サンディスク コーポレイション Method for efficiently manufacturing a removable peripheral card
JP2005191367A (en) * 2003-12-26 2005-07-14 Renesas Technology Corp Semiconductor device and its manufacturing method
JP2006066701A (en) * 2004-08-27 2006-03-09 Renesas Technology Corp Method of manufacturing semiconductor device
WO2006061879A1 (en) * 2004-12-06 2006-06-15 Renesas Technology Corp. Igniter, semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2007059948A (en) * 2006-11-27 2007-03-08 Oki Electric Ind Co Ltd Semiconductor chip, method for manufacturing semiconductor chip, lead frame, method for manufacturing lead frame, semiconductor device, and method for manufacturing semiconductor device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020035820A (en) * 2018-08-28 2020-03-05 太陽誘電株式会社 Module and manufacturing method thereof
JP2021097093A (en) * 2019-12-16 2021-06-24 Towa株式会社 Statistical data generation method, cutting device, and system
JP7377092B2 (en) 2019-12-16 2023-11-09 Towa株式会社 Statistical data generation method, cutting device and system

Also Published As

Publication number Publication date
JP6415411B2 (en) 2018-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5315186B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
US9362183B2 (en) Method of manufacturing semiconductor device
US7127365B2 (en) Method for identifying a defective die site
US6555400B2 (en) Method for substrate mapping
KR102325824B1 (en) Method of manufacturing semiconductor device
JP2000077550A (en) Manufacture of semiconductor package
JP2013157626A (en) Semiconductor device manufacturing method
JP2995264B2 (en) Printed circuit board strip for semiconductor package and defective printed circuit board unit display method of the board strip
JP6415411B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP2014062828A (en) Pattern matching method and semiconductor device manufacturing method
US11063000B2 (en) Semiconductor package authentication feature
JP2008028426A (en) Method of fabricating semiconductor device
US20080241999A1 (en) Semiconductor device and manufacturing method therefor
CN109964277A (en) For detecting and removing the method and apparatus of defective integrated antenna package
JP2008053443A (en) Method for manufacturing semiconductor device
JP2003347319A (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2009272474A (en) Semiconductor device manufacturing method
JP4977344B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP2003347318A (en) Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device manufactured by this manufacturing method
JP5444382B2 (en) Resin-sealed semiconductor device
JP2013138263A (en) Method for manufacturing resin-sealed type semiconductor device
JP2006179670A (en) Management method of semiconductor device
JPH04340742A (en) Discrimination method of imperfect semiconductor device
JP2015097297A (en) Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same
JP2014132682A (en) Resin encapsulated semiconductor device manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150918

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160927

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161125

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20170228

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170531

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20170608

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20170728

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180719

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180802

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20181002

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6415411

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150