JP2015218109A - ３−ブテン−２−オールの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ラセミ体、（Ｓ）または（Ｒ）−体の３−ブテン−２−オールを効率よく製造する方法を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）
【化１】
（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、Ｘ−はＯＨ−、ＨＣＯ３ −、ＣＯ３ ２−、Ｒ４Ｏ−、Ｒ５ＣＯ２ −、Ｒ６ＳＯ３ −（Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）及びハロゲン化物イオンを表し、Ｘ−がＣＯ３ ２−の場合にｎは０．５を表し、Ｘ−がＣＯ３ ２−以外の場合にｎは１を表す。＊が付された炭素原子は不斉炭素原子である。）
で表されるアンモニウム塩化合物を、ホフマン脱離させることを特徴とする、３−ブテン−２−オールの製造方法。
【選択図】なし
【解決手段】下記一般式（１）
【化１】
（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、Ｘ−はＯＨ−、ＨＣＯ３ −、ＣＯ３ ２−、Ｒ４Ｏ−、Ｒ５ＣＯ２ −、Ｒ６ＳＯ３ −（Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）及びハロゲン化物イオンを表し、Ｘ−がＣＯ３ ２−の場合にｎは０．５を表し、Ｘ−がＣＯ３ ２−以外の場合にｎは１を表す。＊が付された炭素原子は不斉炭素原子である。）
で表されるアンモニウム塩化合物を、ホフマン脱離させることを特徴とする、３−ブテン−２−オールの製造方法。
【選択図】なし
Description
本発明は、医農薬製造中間体として有用な３−ブテン−２−オールの製造方法に関する
３−ブテン−２−オールの製造方法としては、以下のような方法が報告されている。
非特許文献１、２、３、４、５、及び６に記載されるような１，３−ブタンジオールの脱水反応が挙げられるが、高い転化率を得るためには３００℃以上の非常に高温な条件が必要であったり、有害なメチルビニルケトンが副生したり、選択性が低かったりする問題がある。
非特許文献７及び８に記載されるような３−ブチン−２−オールの水素化においては、１，３−ブタンジオールに比べて原料の３−ブチン−２−オールは高価であり、特に光学活性体を合成する場合には、光学活性１，３−ブタンジオールが例えば比較的安価な４−ヒドロキシ―２―ブタノンの不斉水素化によって簡便に１工程で合成できるのに対し、光学活性３−ブチン−２−オールは例えば３−ブチン−２−オンの不斉還元、ラセミの３−ブチン−２−オールの光学分割、アセチレン末端が保護された３−ブチン−２−オンの不斉還元後に脱保護を行うなど、高価な原料を使用したり、工程が複雑なためコスト的な問題がある。また、用いる触媒量が比較的多いこと、反応時間が長いことや収率が低い場合があるなどの問題もある。
非特許文献１、２、３、４、５、及び６に記載されるような１，３−ブタンジオールの脱水反応が挙げられるが、高い転化率を得るためには３００℃以上の非常に高温な条件が必要であったり、有害なメチルビニルケトンが副生したり、選択性が低かったりする問題がある。
非特許文献７及び８に記載されるような３−ブチン−２−オールの水素化においては、１，３−ブタンジオールに比べて原料の３−ブチン−２−オールは高価であり、特に光学活性体を合成する場合には、光学活性１，３−ブタンジオールが例えば比較的安価な４−ヒドロキシ―２―ブタノンの不斉水素化によって簡便に１工程で合成できるのに対し、光学活性３−ブチン−２−オールは例えば３−ブチン−２−オンの不斉還元、ラセミの３−ブチン−２−オールの光学分割、アセチレン末端が保護された３−ブチン−２−オンの不斉還元後に脱保護を行うなど、高価な原料を使用したり、工程が複雑なためコスト的な問題がある。また、用いる触媒量が比較的多いこと、反応時間が長いことや収率が低い場合があるなどの問題もある。
非特許文献９、１０、及び１１にはエポキシド経由の合成法が記載されている。非特許文献９に記載された方法では、ビタミンＢ１２を用いた光学活性体の合成法が記載されているが、高価な触媒が多量に必要で光学純度も高くない問題がある。非特許文献１０に記載された方法では、インジウム触媒を用いたラセミ体の合成法が記載されているが、触媒効率が低く、特定化学物質に指定され健康障害を発生させる懸念が高いインジウムを多量に使用する問題がある。非特許文献１１に記載された光学活性体の合成方法では、多量のヨウ化ナトリウムと亜鉛−銅合金をする問題があり、光学純度も７４％ｅｅ程度しかない。さらに、求電子剤であるエポキシドはＤＮＡ中の求核性の高いグアニン塩基と反応して変異原性を有する懸念が持たれている。
非特許文献１２に記載されるようなメチルビニルケトンの水素化においては、メチルビニルケトンの有害性が高いという問題がある。
非特許文献１３に記載されるような不斉アルキル化においては、原料合成にアクロレインが用いられている。また、非特許文献１４に記載されるようなアクロレインとメチルグリニャール試薬から合成する方法が挙げられるが、アクロレインの有害性が高いことや、不安定で工業的に入手困難という問題がある。
非特許文献１３に記載されるような不斉アルキル化においては、原料合成にアクロレインが用いられている。また、非特許文献１４に記載されるようなアクロレインとメチルグリニャール試薬から合成する方法が挙げられるが、アクロレインの有害性が高いことや、不安定で工業的に入手困難という問題がある。
非特許文献１５に記載されるようなアリルアルコールの異性化方法においては、光学活性体の合成に応用できないという問題があり、非特許文献１６に記載されるようなマイゼンハイマー転移による合成法においては、超音波バス中で２２時間反応させなければならないことや、基質合成時に−４０℃という極低温条件が必要といったスケールアップ時に問題となる工程がある。
非特許文献１７に記載されるような３−クロロブタン−２−オンの酵母還元を経由する方法は、（Ｓ）−体しか合成できないことや、酵母還元時の溶媒量が多く生産性が低い問題がある。
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本発明の目的は、ラセミ体、（Ｓ）または（Ｒ）−体の３−ブテン−２−オールを効率よく製造する方法を提供することにある。
本発明者らは上記の事情に鑑み、鋭意検討を行った結果、ラセミ体及び高光学純度の両鏡像体が容易に入手可能な１，３−ブタンジオールを原料とし、ホフマン脱離を経由してラセミ体、（Ｓ）または（Ｒ）−体の３−ブテン−２−オールを比較的温和な条件下で、有害性の高い原料を用いることなく効率よく製造できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
本発明は以下の［１］及び［２］に関するものである。
［１］下記一般式（１）
［１］下記一般式（１）
（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は同一又は異なっていてもよく、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、Ｘ−はＯＨ−、ＨＣＯ３ −、ＣＯ３ ２−、Ｒ４Ｏ−（Ｒ４はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）、Ｒ５ＣＯ２ −（Ｒ５はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）、Ｒ６ＳＯ３ −（Ｒ６はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）及びハロゲン化物イオンを表し、Ｘ−がＣＯ３ ２−の場合にｎは０．５を表し、Ｘ−がＣＯ３ ２−以外の場合にｎは１を表す。＊が付された炭素原子は不斉炭素原子であり、式（１）で表される化合物はラセミ体であっても光学活性体であってもよい。）
で表されるアンモニウム塩化合物を、ホフマン脱離させることを特徴とする、下記式（２）
で表されるアンモニウム塩化合物を、ホフマン脱離させることを特徴とする、下記式（２）
（式（２）中、＊が付された炭素原子は不斉炭素原子であり、式（２）で表される化合物はラセミ体であっても光学活性体であってもよい。）
で表される３−ブテン−２−オールの製造方法。
［２］下記一般式（１’）で表される化合物。
で表される３−ブテン−２−オールの製造方法。
［２］下記一般式（１’）で表される化合物。
（式（１’）中、Ｒ１’、Ｒ２’及びＲ３’は同一又は異なっていてもよく、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、Ｘａ−は、Ｒ７ＳＯ３−（Ｒ７はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）を表す。＊が付された炭素原子は不斉炭素原子であり、式（１’）で表される化合物はラセミ体であっても光学活性体であってもよい。）
本発明の製造方法により、３−ブテン−２−オールが較的温和な条件下で有害性の高い原料を用いることなく効率よく製造することが可能である。また、容易に入手可能な光学活性原料を用いることで高い光学純度で（Ｓ）及び（Ｒ）−体を製造することが可能である。
一般式（１）及び（１’）で表される化合物における各基について説明する。
アルキル基としては、炭素数１〜５０、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられ、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基等が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１〜５０、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられ、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基等が挙げられる。
また、アリール基としては、炭素数６〜３６、好ましくは炭素数６〜１８、より好ましくは炭素数６〜１４の単環式、多環式又は縮合環式のアリール基が挙げられ、具体的には、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基等が挙げられる。
また、アラルキル基としては、前記したアルキル基の少なくとも１個の水素原子が前記したアリール基で置換された基が挙げられ、例えば炭素数７〜１５のアラルキル基が好ましく、具体的にはベンジル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基、１−フェニルプロピル基、３−ナフチルプロピル基等が挙げられる。
次に、一般式（１）におけるＸ−について説明する。
Ｘ−としてはＨＯ−、ＨＣＯ３ −（炭酸水素アニオン）、ＣＯ３ ２−（炭酸アニオン）、下記式（３）で表されるアルコキシアニオン、下記式（４）で表されるカルボキシラートアニオン、または下記式（５）で表されるがスルホニルオキシアニオンが挙げられる。
Ｒ４Ｏ− （３）
Ｒ５ＣＯ２ − （４）
Ｒ６ＳＯ３ − （５）
（一般式（３）、（４）及び（５）におけるＲ４、Ｒ５及びＲ６は、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、これらの基の具体例としては一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２及びＲ３で説明したような基と同様の基を表す。）
Ｘ−が炭酸アニオンである場合には炭酸アニオンが２価のアニオンであるため、アニオン１分子にアンモニウムカチオン２分子が結合した一般式（６）のような構造を有する。
Ｘ−としてはＨＯ−、ＨＣＯ３ −（炭酸水素アニオン）、ＣＯ３ ２−（炭酸アニオン）、下記式（３）で表されるアルコキシアニオン、下記式（４）で表されるカルボキシラートアニオン、または下記式（５）で表されるがスルホニルオキシアニオンが挙げられる。
Ｒ４Ｏ− （３）
Ｒ５ＣＯ２ − （４）
Ｒ６ＳＯ３ − （５）
（一般式（３）、（４）及び（５）におけるＲ４、Ｒ５及びＲ６は、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、これらの基の具体例としては一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２及びＲ３で説明したような基と同様の基を表す。）
Ｘ−が炭酸アニオンである場合には炭酸アニオンが２価のアニオンであるため、アニオン１分子にアンモニウムカチオン２分子が結合した一般式（６）のような構造を有する。
（式（６）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は同一又は異なっていてもよく、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表。＊が付された炭素原子は不斉炭素原子であり、式（６）で表される化合物はラセミ体であっても光学活性体であってもよい。）
本発明のホフマン脱離反応は、無溶媒又は溶媒中で好適に実施することができる。用いられる溶媒としては、反応温度以上の沸点を有するものが好ましく、単一溶媒あるいは混合溶媒が用いられる。具体的にはトルエン、キシレン、クメン、パラシメン等の芳香族炭化水素、流動パラフィン等の脂肪族炭化水素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、ジグライム、テトラグライム等のエーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール等の多価アルコール類が挙げられる。この中でも芳香族炭化水素または脂肪族炭化水素が好ましく、特に好ましい溶媒としては、流動パラフィンが挙げられる。溶媒の使用量は、反応条件等により適宜選択することができる。反応は必要に応じ撹拌下に行われる。
本発明のホフマン脱離反応は、無溶媒又は溶媒中で好適に実施することができる。用いられる溶媒としては、反応温度以上の沸点を有するものが好ましく、単一溶媒あるいは混合溶媒が用いられる。具体的にはトルエン、キシレン、クメン、パラシメン等の芳香族炭化水素、流動パラフィン等の脂肪族炭化水素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、ジグライム、テトラグライム等のエーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール等の多価アルコール類が挙げられる。この中でも芳香族炭化水素または脂肪族炭化水素が好ましく、特に好ましい溶媒としては、流動パラフィンが挙げられる。溶媒の使用量は、反応条件等により適宜選択することができる。反応は必要に応じ撹拌下に行われる。
ホフマン脱離を行う際の反応温度は、５０℃〜３００℃、好ましくは８０℃〜１５０℃である。反応温度が低すぎると未反応の原料が多く残存する場合があり好ましくない。本発明において、ホフマン脱離を行う際は、あらかじめ加熱した反応容器または溶媒に基質を滴下してもよく、また基質を入れた反応容器を加熱してもよい。また、３−ブテン−２−オールの沸点より高い温度で反応した場合には、留出してくる３−ブテン−２−オールを適宜取り出すこともできる。
反応終了後は、蒸留により精製することで目的の３−ブテン−２−オールを高純度で得ることができる。
反応終了後は、蒸留により精製することで目的の３−ブテン−２−オールを高純度で得ることができる。
次に、一般式（１’）で表されるアンモニウムスルホネートについて説明する。
一般式（１’）で表されるアンモニウムスルホネートは塩基で処理することで、アニオンを変換することが可能である。塩基としてはアルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物、アルコキシド、炭酸塩、カルボキシラート塩が挙げられ、より具体的には水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムt-ブトキシド、カリウムｔｅｒｔ-ブトキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、酢酸ナトリウム、及び酢酸カリウムなどが挙げられる。
一般式（１’）で表されるアンモニウムスルホネートは塩基で処理することで、アニオンを変換することが可能である。塩基としてはアルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物、アルコキシド、炭酸塩、カルボキシラート塩が挙げられ、より具体的には水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムt-ブトキシド、カリウムｔｅｒｔ-ブトキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、酢酸ナトリウム、及び酢酸カリウムなどが挙げられる。
本発明の方法に使用される原料化合物（１）は、Ｘ−がヒドロキシイオンの場合、例えば以下のスキームによって製造することができる。
なお、原料の１，３−ブタンジオールは市販のラセミ化合物又は光学活性化合物を使用してもよく、または４−ヒドロキシ−２−ブタノンを不斉水素化したものを使用してもよい。
以下に実施例をあげて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
分析機器は以下のとおりである。
ＧＣ機器：島津 ＧＣ−２０１０
ＧＣキャピラリー：ＤＢ−１（長さ：６０ｍ、径：０．２５ｍｍ、膜厚：１．００μｍ）
注入温度２００℃，検出温度２８０℃
３５℃（１０分保持）−１０℃／分−２３０℃（１０℃／分）−２３０℃（０．５分保持）
また、ガスクロマトグラフィーを用いた定量分析は、内部標準物質としてデカンを用い、市販の３−ブテン−２−オールを標準物質とし、３点にて検量線を作成しておこなった。
１Ｈ−ＮＭＲ及び１３Ｃ−ＮＭＲ：MERCURY plus 300（バリアン社製）
ＨＰＬＣ機器：ジーエルサイエンス ＧＬ−７４３０
ＨＰＬＣカラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ Ｐｒｏｄｉｇｙ ＯＤＳ（２）（長さ：１５０ｍｍ、径：４．６ｍｍ、粒径：５．０μｍ）
オーブン温度：４０℃，波長：２１０ｎｍ、流速：１．０ｍＬ／分
溶離液Ａ：２０ｎＭリン酸水溶液、Ｂ：アセトニトリル
分析機器は以下のとおりである。
ＧＣ機器：島津 ＧＣ−２０１０
ＧＣキャピラリー：ＤＢ−１（長さ：６０ｍ、径：０．２５ｍｍ、膜厚：１．００μｍ）
注入温度２００℃，検出温度２８０℃
３５℃（１０分保持）−１０℃／分−２３０℃（１０℃／分）−２３０℃（０．５分保持）
また、ガスクロマトグラフィーを用いた定量分析は、内部標準物質としてデカンを用い、市販の３−ブテン−２−オールを標準物質とし、３点にて検量線を作成しておこなった。
１Ｈ−ＮＭＲ及び１３Ｃ−ＮＭＲ：MERCURY plus 300（バリアン社製）
ＨＰＬＣ機器：ジーエルサイエンス ＧＬ−７４３０
ＨＰＬＣカラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ Ｐｒｏｄｉｇｙ ＯＤＳ（２）（長さ：１５０ｍｍ、径：４．６ｍｍ、粒径：５．０μｍ）
オーブン温度：４０℃，波長：２１０ｎｍ、流速：１．０ｍＬ／分
溶離液Ａ：２０ｎＭリン酸水溶液、Ｂ：アセトニトリル
［参考例１］（Ｒ）−１，３−ブタンジオールの合成
５Ｌオートクレーブに４−ヒドロキシ−２−ブタノン（２．５ｋｇ，２８．３８ｍｏｌ）、［Ｍｅ２ＮＨ２］［（ＲｕＣｌ（（Ｒ）−ｓｅｇｐｈｏｓ）２（ｕ−Ｃｌ）３］（高砂香料工業社製）（４．６７ｇ，０．００５７ｍｏｌ）、メタノール（２．５Ｌ）を加え、窒素置換後、水素加圧下（１．５〜３ＭＰａ）、６０℃で８時間攪拌した。冷却後、窒素置換し反応液（４．５ｋｇ）を得た。反応液を減圧下濃縮することで、２．５６ｋｇの濃縮液を得た。得られた濃縮液を減圧蒸留（７５℃〜８７℃／６６６．６〜１３３．３Ｐａ）することで、（Ｒ）−１，３−ブタンジオール（１．９９ｋｇ、２２．１ｍｏｌ）を得た。得られた（Ｒ）−１，３−ブタンジオールをジベンゾエートへと誘導し、光学活性カラム（Chiralcel OD-H）を用いたＨＰＬＣにより測定したところ、光学純度は、９８．８％ｅｅであった。
［参考例２］１，３−ブタンジオールのトシル化
５Ｌオートクレーブに４−ヒドロキシ−２−ブタノン（２．５ｋｇ，２８．３８ｍｏｌ）、［Ｍｅ２ＮＨ２］［（ＲｕＣｌ（（Ｒ）−ｓｅｇｐｈｏｓ）２（ｕ−Ｃｌ）３］（高砂香料工業社製）（４．６７ｇ，０．００５７ｍｏｌ）、メタノール（２．５Ｌ）を加え、窒素置換後、水素加圧下（１．５〜３ＭＰａ）、６０℃で８時間攪拌した。冷却後、窒素置換し反応液（４．５ｋｇ）を得た。反応液を減圧下濃縮することで、２．５６ｋｇの濃縮液を得た。得られた濃縮液を減圧蒸留（７５℃〜８７℃／６６６．６〜１３３．３Ｐａ）することで、（Ｒ）−１，３−ブタンジオール（１．９９ｋｇ、２２．１ｍｏｌ）を得た。得られた（Ｒ）−１，３−ブタンジオールをジベンゾエートへと誘導し、光学活性カラム（Chiralcel OD-H）を用いたＨＰＬＣにより測定したところ、光学純度は、９８．８％ｅｅであった。
［参考例２］１，３−ブタンジオールのトシル化
１Ｌの４つ口フラスコに、１，３−ブタンジオール（７３．７ｇ，０．８１８ｍｏｌ）、ジクロロメタン（１６３．７ｍＬ）、及びトリエチルアミン（１１４．６ｇ，１．１３ｍｏｌ）を加え、氷浴にて冷却した。Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（３８５．８ｍｇ）を加え、塩化パラトルエンスルホニル（１２０．０ｇ，０．６２９ｍｏｌ）のジクロロメタン（３４０．９ｍＬ）溶液を５〜９℃で１時間かけて滴下した。４０分後、氷浴を外し室温にて１．５時間撹拌した後、水（１８５ｍＬ）を加えて分液後、得られた有機層を２規定塩酸（１８５ｍＬ）で２回、飽和重曹水（１８５ｍＬ）、飽和食塩水（１８５ｍＬ）の順で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮することで１４６．５ｇの濃縮物を得た。ＨＰＬＣ分析でのトシラートとジトシラートの面積比は９１：９であった。また１Ｈ−ＮＭＲで確認するとトシラートとジトシラート生成比は約９５：５であった。
［実施例１］アンモニウム塩の合成
［実施例１］アンモニウム塩の合成
１Ｌの４つ口フラスコに、参考例２で得られた濃縮物１００ｇ、３０％トリメチルアミン水溶液（３４３ｇ）及びエタノール（２０ｍＬ）を加えた。３１〜３８℃で、３時間撹拌した後、減圧濃縮した。濃縮物にエタノール（２００ｍＬ）を加え減圧濃縮する操作を５回行い得られた結晶を減圧乾燥することでトリメチルアンモニウムトシラート（１２１．０ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ）：δ ７．５４（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）， ７．２０（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），３．７５−３．６５（ｍ，１Ｈ），３．３０−３．１０（ｍ，２Ｈ），２．９１（ｓ，９Ｈ），２．２２（ｓ，３Ｈ），１．８０−１．６０（ｍ，２Ｈ），１．０７（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，３Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５．４ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ）：δ １４２．５，１３９．９，１２９．７，１２５．５，６５．１，６４．１，５３．０，３１．２，２２．３，２０．７
［参考例３］アニオン交換
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ）：δ ７．５４（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）， ７．２０（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），３．７５−３．６５（ｍ，１Ｈ），３．３０−３．１０（ｍ，２Ｈ），２．９１（ｓ，９Ｈ），２．２２（ｓ，３Ｈ），１．８０−１．６０（ｍ，２Ｈ），１．０７（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，３Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５．４ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ）：δ １４２．５，１３９．９，１２９．７，１２５．５，６５．１，６４．１，５３．０，３１．２，２２．３，２０．７
［参考例３］アニオン交換
５００ｍＬの４つ口フラスコに、実施例１で得られたトリメチルアンモニウムトシラートのうちの１１５ｇ及びエタノール（１５７．７ｍＬ）を加え、室温にて水酸化カリウム（２８．９ｇ）のエタノール（２６２．７ｍＬ）溶液を１５分かけて滴下した。３０分撹拌後、濾過にて塩を除去した。得られた濾液を減圧下で濃縮し、９９．６ｇの濃縮物を得た。濃縮物にはトリメチルアンモニウムヒドロキシドの他にエタノール及びトシル酸カリウム塩が残留していた。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ）：δ ７．４２（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，０．２Ｈ，残留トシル酸カリウム塩), ７．１１（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ, ０．２Ｈ，残留トシル酸カリウム塩), ３．７０−３．５０（ｍ，１Ｈ），３．３７（ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，４．７Ｈ，残留エタノール), ３．３０−３．１０（ｍ，２Ｈ），２．８５（ｓ，９Ｈ）， ２．１３（ｓ，０．３Ｈ，残留トシル酸カリウム塩)，１．８０−１．５０（ｍ，２Ｈ），０．９６（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，３Ｈ），０．９１（ｔ，Ｊ＝７．０ Ｈｚ，７．０Ｈ，残留エタノール)
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５．４ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ）：δ １２９．５ （残留トシル酸カリウム塩）, １２５．５ （残留トシル酸カリウム塩）, ６４．７, ６４．２, ５７．３（残留エタノール), ５２．９, ３１．４, ２２．５, １７．１（残留エタノール）
［実施例２］３−ブテン−２−オールの合成
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ）：δ ７．４２（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，０．２Ｈ，残留トシル酸カリウム塩), ７．１１（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ, ０．２Ｈ，残留トシル酸カリウム塩), ３．７０−３．５０（ｍ，１Ｈ），３．３７（ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，４．７Ｈ，残留エタノール), ３．３０−３．１０（ｍ，２Ｈ），２．８５（ｓ，９Ｈ）， ２．１３（ｓ，０．３Ｈ，残留トシル酸カリウム塩)，１．８０−１．５０（ｍ，２Ｈ），０．９６（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，３Ｈ），０．９１（ｔ，Ｊ＝７．０ Ｈｚ，７．０Ｈ，残留エタノール)
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５．４ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ）：δ １２９．５ （残留トシル酸カリウム塩）, １２５．５ （残留トシル酸カリウム塩）, ６４．７, ６４．２, ５７．３（残留エタノール), ５２．９, ３１．４, ２２．５, １７．１（残留エタノール）
［実施例２］３−ブテン−２−オールの合成
参考例３で得られた濃縮物を１２０〜１３０℃で加熱し、６６．７ｋＰａにて留出してくる成分をコンデンサーで冷却しながら捕集することで、７７．６ｇの留分を得た。ＧＣにて分析したところ、含有物としてトリメチルアミン、エタノール、及び３−ブテン−２−オールが検出され、それぞれの面積％は２０．１％、５０．５％、２２．１％であった。また、ＧＣによる定量分析の結果、３−ブテン−２−オールが１２．９ｇ含まれていた。
［参考例４］１，３−ブタンジオールのトシル化
［参考例４］１，３−ブタンジオールのトシル化
１Ｌの４つ口フラスコに、１，３−ブタンジオール（１２１．８ｇ, １．３５ｍｏｌ）、トルエン（２００ｍＬ）、及びトリエチルアミン（２４６．２ｇ, ２．４３ｍｏｌ）を加え、氷浴にて冷却した。Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（１．６５ｇ）を加え、塩化パラトルエンスルホニル（１９８．２ｇ, １．０４ｍｏｌ）のトルエン（４００ｍＬ）溶液を３〜１２℃で１時間かけて滴下した。滴下終了後、氷浴を外し室温で２時間撹拌した後、水(４００ｍＬ)を加え分液後、得られた有機層を、４規定塩酸（４００ｍＬ）、飽和重曹水(２００ｍＬ)、水（２００ｍＬ）の順で洗浄し、減圧下で濃縮することで２４１．０ｇの濃縮物を得た。ＨＰＬＣ分析でのトシラートとジトシラートの面積比は８９：１１であった。
［実施例３］ジメチルベンジルアンモニウムトシラートの合成
［実施例３］ジメチルベンジルアンモニウムトシラートの合成
参考例４で得られた濃縮物のうちの１００．０ｇに、エタノール（２４０．８ｍＬ）及びジメチルベンジルアミン（５５．３ｇ）を加え８時間還流した。
生成物をＨＰＬＣで分析したところ、面積％は原料のトシラートが０．１％、目的物のジメチルベンジルアンモニウムトシラートが４１．６％、トルエンスルホン酸が４３．３％、ジメチルベンジルアミンが１１．４％であった。
生成物からエタノールを留去した残渣のＮＭＲデータを下記に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ）：δ ７．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ), ７．４３−７．１９（７Ｈ（うち２Ｈ分は残留Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン），ｍ）、７．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１ Ｈｚ), ４．５２（２Ｈ，ｓ），３．８０−３．４５（３Ｈ，ｍ），３．４７（０．８Ｈ，ｓ，残留Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン），３．００−２．８４（６Ｈ），２．３０−２．２０（４．４Ｈ，（うち２．４Ｈは残留Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン）），１．９５−１．８０（２Ｈ，ｍ），１．１４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５．４ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ）：δ １４３．４，１３９．４，１３３．１，１３０．３，１２９．２（残留Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン），１２８．９，１２８．７，１２８．２（残留Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン），１２７．３，１２７．２（残留Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン），１２５．７，６７．５，６４．４，６４．０（残留Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン），６２．２，４９．３，４９．１，４４．９（残留Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン），３１．７，２３．５，２１．２
［実施例４］３−ブテン−２−オールの合成
生成物をＨＰＬＣで分析したところ、面積％は原料のトシラートが０．１％、目的物のジメチルベンジルアンモニウムトシラートが４１．６％、トルエンスルホン酸が４３．３％、ジメチルベンジルアミンが１１．４％であった。
生成物からエタノールを留去した残渣のＮＭＲデータを下記に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ）：δ ７．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ), ７．４３−７．１９（７Ｈ（うち２Ｈ分は残留Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン），ｍ）、７．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１ Ｈｚ), ４．５２（２Ｈ，ｓ），３．８０−３．４５（３Ｈ，ｍ），３．４７（０．８Ｈ，ｓ，残留Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン），３．００−２．８４（６Ｈ），２．３０−２．２０（４．４Ｈ，（うち２．４Ｈは残留Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン）），１．９５−１．８０（２Ｈ，ｍ），１．１４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５．４ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ）：δ １４３．４，１３９．４，１３３．１，１３０．３，１２９．２（残留Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン），１２８．９，１２８．７，１２８．２（残留Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン），１２７．３，１２７．２（残留Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン），１２５．７，６７．５，６４．４，６４．０（残留Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン），６２．２，４９．３，４９．１，４４．９（残留Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン），３１．７，２３．５，２１．２
［実施例４］３−ブテン−２−オールの合成
実施例３で得られたジメチルベンジルアンモニウムトシラートの反応液に、２８％ナトリウムメトキシドのメタノール溶液（１１０．９ｇ）を滴下した。滴下後氷冷し、生じた塩を濾過した。濾液を減圧下で濃縮した後、１４０℃で加熱し、７０．０〜５０．０ｋＰａにて留出してくる成分をコンデンサーで冷却しながら捕集することで、７３．７ｇの留分を得た。ＧＣにて分析したところ、メタノール、エタノール、３−ブテン−２−オール及びＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンの面積％はそれぞれ、９．０％、７２．３％、１０．５％、及び２．６％であった。
［実施例５］ジメチルベンジルアンモニウムトシラートの合成
［実施例５］ジメチルベンジルアンモニウムトシラートの合成
参考例４で得られた濃縮物のうちの１１１．２ｇに、エタノール（１３３．８ｍＬ）及びジメチルベンジルアミン（６１．５ｇ）を加え８時間還流した。
生成物をＨＰＬＣで分析したところ、面積％は原料のトシラートが０．３％、目的物のジメチルベンジルアンモニウムトシラートが４４．１％、トルエンスルホン酸が４４．４％、ジメチルベンジルアミンが７．１％であった。反応液をそのまま実施例６で使用した。
［実施例６］３−ブテン−２−オールの合成
生成物をＨＰＬＣで分析したところ、面積％は原料のトシラートが０．３％、目的物のジメチルベンジルアンモニウムトシラートが４４．１％、トルエンスルホン酸が４４．４％、ジメチルベンジルアミンが７．１％であった。反応液をそのまま実施例６で使用した。
［実施例６］３−ブテン−２−オールの合成
実施例５で得られたジメチルベンジルアンモニウムトシラートの反応液に、水酸化カリウム（３４．７ｇ）のエタノール（３０９．４ｍＬ)溶液を滴下した。滴下後氷冷し、生じた塩を濾過した。濾液を減圧下で濃縮した後、１２０〜１３０℃で加熱し、６０．０〜１０．９ｋＰａにて留出してくる成分をコンデンサーで冷却しながら捕集することで、８８．３ｇの留分を得た。ＧＣにて分析したところ、エタノール、３−ブテン−２−オール及びＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンの面積％はそれぞれ、６８．１、１４．８％及び８．９％であった。また、ＧＣによる定量分析の結果、留分中には３−ブテン−２−オールが９．６ｇ含まれていた。
［参考例５］１，３−ブタンジオールのトシル化
［参考例５］１，３−ブタンジオールのトシル化
３Ｌの４つ口フラスコに、１，３−ブタンジオール（１８０．０ｇ, ２．００ｍｏｌ）、トルエン（４００ｍＬ）、トリエチルアミン（３６３．８ｇ, ３．６０ｍｏｌ）、及びＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（２．４ｇ）を加え、氷浴にて冷却した。塩化パラトルエンスルホニル（３８０．８ｇ, ２．００ｍｏｌ）のトルエン（８００ｍＬ）溶液を０〜８℃で３時間かけて滴下した後、室温に昇温し、２．５時間撹拌した。水(５４０ｍＬ)を加え分液後、有機層を４規定塩酸（５４０ｍＬ）、水(５４０ｍＬ)にて洗浄し、減圧濃縮することで４５７．２ｇの濃縮物を得た。ＨＰＬＣ分析でのトシラートとジトシラートの面積比は８０ : ２０であった。
［実施例７］３−ブテン−２−オールの合成
［実施例７］３−ブテン−２−オールの合成
５００ｍＬの４つ口フラスコにトリメチルアミン塩酸塩（３９．１ｇ、０．４１ｍｏｌ）及びエタノール（５０ｍＬ）を加え、２８％ナトリウムメトキシドのメタノール溶液（７９．０ｇ）を滴下した。滴下後３０分撹拌した後、参考例５で合成したトシラート（５０．０ｇ）のエタノール（５０ｍＬ）溶液を滴下し、３時間還流しながら撹拌した後、１晩室温で放置した。水酸化ナトリウム（８．２ｇ、０．２ｍｏｌ）のメタノール（３６．０ｍＬ）溶液を滴下し、滴下後氷冷した。１時間撹拌後、濾過により塩を取り除き濾液を減圧濃縮した。濃縮物にテトラエチレングリコールジメチルエーテル（２０ｍＬ）とキシレン（２０ｍＬ）を加え、１５０℃の油浴で加熱し、留出してくる成分をコンデンサーで冷却しながら捕集することで、３７．６ｇの留分を得た。ガスクロマトグラフィーによる定量分析の結果、３−ブテン−２−オールが６．０g含まれていた。
［実施例８］３−ブテン−２−オールの合成
［実施例８］３−ブテン−２−オールの合成
５００ｍＬの４つ口フラスコにトリメチルアミン塩酸塩（３９．１ｇ、０．４１ｍｏｌ）及びエタノール（５０ｍＬ）を加え、２８％ナトリウムメトキシドのメタノール溶液（７９．０ｇ）を滴下した。滴下後１時間撹拌した後、参考例５で合成したトシラート（５０．０ｇ）のエタノール（５０ｍＬ）溶液を滴下し、２時間還流しながら撹拌した。続いて、水酸化ナトリウム（８．２ｇ、０．２ｍｏｌ）のメタノール（３６．０ｍＬ）溶液を滴下し、滴下後氷冷した。１時間撹拌後、濾過により塩を取り除き濾液を減圧濃縮した。濃縮物を１５０℃の油浴で加熱し、留出してくる成分をコンデンサーで冷却しながら捕集することで、５０．５ｇの留分を得た。ガスクロマトグラフィーにて分析し、メタノール、トリメチルアミン、エタノール、３−ブテン−２−オール、キシレンの面積％はそれぞれ、５．１％、１０．８％、３．７％、１４．３％、６３．６％であった。また、ガスクロマトグラフィーによる定量分析の結果、３−ブテン−２−オールが７．５g含まれていた。
［実施例９］３−ブテン−２−オールの合成
［実施例９］３−ブテン−２−オールの合成
５００ｍＬの４つ口フラスコにトリメチルアミン塩酸塩（３９．１ｇ、０．４１ｍｏｌ）及びエタノール（５０ｍＬ）を加え、２８％ナトリウムメトキシドのメタノール溶液（７９．０ｇ）を滴下した。滴下後１時間撹拌した後、参考例５で合成したトシラート（５０．０ｇ）のエタノール（５０ｍＬ）溶液を滴下し、２時間還流しながら撹拌した。続いて、水酸化ナトリウム（８．２ｇ、０．２ｍｏｌ）のエタノール（８１．９ｍＬ）溶液を滴下し、滴下後氷冷した。１時間撹拌後、濾過により塩を取り除き濾液を減圧濃縮した。濃縮物を１５０℃の油浴で加熱し、留出してくる成分をコンデンサーで冷却しながら捕集することで、５６．２ｇの留分を得た。ガスクロマトグラフィーにて分析し、メタノール、トリメチルアミン、エタノール、３−ブテン−２−オール、キシレンの面積％はそれぞれ、３．６％、９．２％、５．９％、１３．０％、６５．７％であった。また、ガスクロマトグラフィーによる定量分析の結果、３−ブテン−２−オールが８．３g含まれていた。
［実施例１０］３−ブテン−２−オールの合成
［実施例１０］３−ブテン−２−オールの合成
５００ｍＬの４つ口フラスコにトリメチルアミン塩酸塩（３９．１ｇ、０．４１ｍｏｌ）及びエタノール（５０ｍＬ）を加え、２８％ナトリウムメトキシドのメタノール溶液（７９．０ｇ）を滴下した。滴下後１時間撹拌した後、参考例５で合成したトシラート（５０．０ｇ）のエタノール（５０ｍＬ）溶液を滴下し、２時間還流しながら撹拌した。続いて、水酸化ナトリウム（８．２ｇ、０．２ｍｏｌ）のエタノール（８１．９ｍＬ）溶液を滴下し、滴下後氷冷した。１時間撹拌した後、濾過により塩を取り除き濾液を減圧濃縮した。１５０℃の油浴で加熱されたｐ−シメン（３０ｍＬ）に、得られた濃縮物を１時間かけて滴下し、留出してくる成分をコンデンサーで冷却しながら捕集し、６４．８ｇの留分を得た。ガスクロマトグラフィーにて分析し、メタノール、トリメチルアミン、エタノール、３−ブテン−２−オール、パラシメンの面積％はそれぞれ、０．１％、１４．１％、４５．９％、１６．３％、１８．０％であった。また、ガスクロマトグラフィーによる定量分析の結果、３−ブテン−２−オールが８．８g含まれていた。
［実施例１１］３−ブテン−２−オールの合成
［実施例１１］３−ブテン−２−オールの合成
５００ｍＬの４つ口フラスコにトリメチルアミン塩酸塩（３９．１ｇ、０．４１ｍｏｌ）及びエタノール（５０ｍＬ）を加え、２８％ナトリウムメトキシドのメタノール溶液（７９．０ｇ）を滴下した。滴下後１時間撹拌した後、参考例５で合成したトシラート（５０．０ｇ）のエタノール（５０ｍＬ）溶液を滴下し、３時間還流しながら撹拌した。続いて、室温にて水酸化ナトリウム（８．２ｇ、０．２ｍｏｌ）のエタノール（８１．９ｍＬ）溶液を滴下し、滴下後氷冷した。１時間撹拌した後濾過により塩を取り除き濾液を減圧濃縮した。１５０℃の油浴で加熱された流動パラフィン（３０ｍＬ）に得られた濃縮物を１．５時間かけて滴下し、留出してくる成分をコンデンサーで冷却しながら、１３．３ｋＰａまで減圧にして留出成分を捕集し、５４．６ｇの留分を得た。ガスクロマトグラフィーにて分析し、メタノール、トリメチルアミン、エタノール、３−ブテン−２−オールの面積％はそれぞれ、０．２％、１４．７％、５７．９％、２１．９％であった。また、ガスクロマトグラフィーによる定量分析の結果、３−ブテン−２−オールが８．９g含まれていた。
［実施例１２］３−ブテン−２−オールの合成
［実施例１２］３−ブテン−２−オールの合成
１Ｌの４つ口フラスコにトリメチルアミン塩酸塩（５４．０ｇ、０．５６ｍｏｌ）及びメタノール（５７．５ｍＬ）を加え、２８％ナトリウムメトキシドのメタノール溶液（１０９．０ｇ）を滴下した。滴下後３０分撹拌した後、参考例５で合成したトシラート（１１５．０ｇ）のメタノール（５７．５ｍＬ）溶液を滴下し、３．５時間還流しながら撹拌した。室温まで冷却後、水酸化ナトリウム（１８．８ｇ、０．４７ｍｏｌ）のメタノール（１０８．３ｍＬ)溶液を滴下し、滴下後氷冷した。１時間撹拌した後濾過により塩を取り除き濾液を減圧濃縮した。１５０℃の油浴で加熱された流動パラフィン（８０ｍＬ）に、得られた濃縮物を２．５時間かけて滴下し、留出してくる成分をコンデンサーで冷却しながら捕集し１６８．０ｇの留分を得た。ガスクロマトグラフィーにて分析し、メタノール、トリメチルアミン、３−ブテン−２−オールの面積％はそれぞれ、５３．０％、１７．９％、２０．５％であった。また、ガスクロマトグラフィーによる定量分析の結果、３−ブテン−２−オールが２１．２ｇ含まれていた。
［実施例１３］３−ブテン−２−オールの合成
［実施例１３］３−ブテン−２−オールの合成
１Ｌの４つ口フラスコにトリメチルアミン塩酸塩（５４．０ｇ、０．５６ｍｏｌ）とエタノール（５７．５ｍＬ）を加え、２０％ナトリウムエトキシドのエタノール溶液（１９２．２ｇ）を滴下した。滴下後３０分撹拌した後、トシラート（１１５．０ｇ）のエタノール（５７．５ｍＬ）溶液を滴下し、２時間還流しながら撹拌した。室温まで冷却し一晩放置した後、水酸化カリウム（２７．８ｇ）のエタノール（１０５．３ｍＬ）溶液を滴下し、滴下後氷冷した。１時間撹拌した後、濾過により塩を取り除き濾液を減圧濃縮した。１５０℃の油浴で加熱された流動パラフィン（６３．６ｍＬ）に濃縮物を３時間かけて滴下し、留出してくる成分をコンデンサーで冷却しながら捕集し１１６．２ｇの留分を得た。ガスクロマトグラフィーにて分析したところ、トリメチルアミン、エタノール、３−ブテン−２−オールの面積％はそれぞれ、１７．０％、５５．０％、２１．５％であった。また、ガスクロマトグラフィーによる定量分析の結果、３−ブテン−２−オールが２０．４ｇ含まれていた。
［実施例１４］３−ブテン−２−オールの合成
［実施例１４］３−ブテン−２−オールの合成
２Ｌの４つ口フラスコに、１，３−ブタンジオール（１００．０ｇ, １．１１ｍｏｌ）、トルエン（２００ｍＬ）、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（１．４ｇ、０．０１１ｍｏｌ）、及びトリエチルアミン（１３４．７ｇ, １．３３ｍｏｌ）を加え、氷浴にて冷却した。塩化パラトルエンスルホニル（２１１．５ｇ, １．１１ｍｏｌ）のトルエン（４００ｍＬ）溶液を−２〜５℃で４時間かけて滴下し、滴下終了後室温に昇温し、４時間撹拌した。水(２００ｍＬ)を加え分液後、有機層を２規定塩酸（２００ｍＬ）、水(２００ｍＬ)にて洗浄し、減圧濃縮することで２５７．８ｇの濃縮物を得た。ＨＰＬＣ分析でのトシラートとジトシラートの面積比は８２ : １８であった。
続いて、２Ｌの４つ口フラスコにトリメチルアミン塩酸塩（１２３．０ｇ、１．２９ｍｏｌ）とエタノール（１３５．５ｍＬ)を加え、２０％ナトリウムエトキシドのエタノール溶液（４３８．０ｇ）を滴下した。滴下後１時間撹拌した後、上記トシラートの濃縮物のエタノール（１３５．５ｍＬ)溶液を滴下し、３時間還流しながら撹拌した。室温まで冷却後、水酸化ナトリウム（４４．４ｇ、１．１１ｍｏｌ）のエタノール（４４３．８ｍＬ)溶液を滴下し、滴下後氷冷した。１時間撹拌した後濾過により塩を取り除き、濾液を減圧濃縮した。１５０℃の油浴で加熱された流動パラフィン（１５０ｍＬ）に、濃縮物を５時間かけて滴下し、留出してくる成分をコンデンサーで冷却しながら捕集し３３４．３ｇの留分を得た。ガスクロマトグラフィーにて分析したところ、トリメチルアミン、３−ブテン−２−オールの面積％はそれぞれ、１４．７％、５９．２％、１７．６％、であった。また、ガスクロマトグラフィーによる定量分析の結果、３−ブテン−２−オールが５６．４ｇ含まれており、１，３−ブタンジオールからの収率は７０．５％であった。
[実施例１５］（Ｒ）−３−ブテン−２−オールの合成
続いて、２Ｌの４つ口フラスコにトリメチルアミン塩酸塩（１２３．０ｇ、１．２９ｍｏｌ）とエタノール（１３５．５ｍＬ)を加え、２０％ナトリウムエトキシドのエタノール溶液（４３８．０ｇ）を滴下した。滴下後１時間撹拌した後、上記トシラートの濃縮物のエタノール（１３５．５ｍＬ)溶液を滴下し、３時間還流しながら撹拌した。室温まで冷却後、水酸化ナトリウム（４４．４ｇ、１．１１ｍｏｌ）のエタノール（４４３．８ｍＬ)溶液を滴下し、滴下後氷冷した。１時間撹拌した後濾過により塩を取り除き、濾液を減圧濃縮した。１５０℃の油浴で加熱された流動パラフィン（１５０ｍＬ）に、濃縮物を５時間かけて滴下し、留出してくる成分をコンデンサーで冷却しながら捕集し３３４．３ｇの留分を得た。ガスクロマトグラフィーにて分析したところ、トリメチルアミン、３−ブテン−２−オールの面積％はそれぞれ、１４．７％、５９．２％、１７．６％、であった。また、ガスクロマトグラフィーによる定量分析の結果、３−ブテン−２−オールが５６．４ｇ含まれており、１，３−ブタンジオールからの収率は７０．５％であった。
[実施例１５］（Ｒ）−３−ブテン−２−オールの合成
続いて、１Ｌの４つ口フラスコにトリメチルアミン塩酸塩（６１．５ｇ，０．６４４ｍｏｌ）及びエタノール（６５ｍＬ）を加え、室温にて２０％ナトリウムエトキシドのエタノール溶液（２１９ｇ）を４分かけて滴下した。室温で１時間撹拌した後、上記で得られた反応濃縮物のエタノール（６５ｍＬ）溶液を加え、８０℃の油浴で加熱し３．５時間撹拌した。室温まで冷却した後、水酸化カリウム（３２．６ｇ）のエタノール（１２３．９ｍＬ）溶液を１時間かけて滴下した。滴下後４．５時間撹拌し、一晩放置した。−５℃にて１時間撹拌した後、濾過により生じた塩を除去し濾液を減圧濃縮した。１５０℃の油浴で加熱された流動パラフィン（７５ｍＬ）に、上記濃縮物を３．５時間かけて滴下し、留出してくる成分をコンデンサーで冷却しながら捕集し、２６．７ｋＰａまで減圧して留出成分を回収し、１７３．１ｇの留分を得た。ガスクロマトグラフィーにて分析したところ、トリメチルアミン、エタノール、３−ブテン−２−オールの面積％はそれぞれ、１４．６％、６０．１％、１９．０％、であった。またガスクロマトグラフィーで定量したところ、３−ブテン−２−オール（２４．３ｇ，０．３３６ｍｏｌ）が得られたことが分かった。（Ｒ）−１，３−ブタンジオールからの収率は６０．６％であった。
[実施例１６］（Ｒ）−３−ブテン−２−オールの合成
[実施例１６］（Ｒ）−３−ブテン−２−オールの合成
続いて、１Ｌの４つ口フラスコにトリメチルアミン塩酸塩（６１．５ｇ，０．６４４ｍｏｌ）及びエタノール（６５ｍＬ）を加え、室温にて２０%ナトリウムエトキシドのエタノール溶液(２１９ｇ)を３分かけて滴下した。室温で１時間撹拌した後、上記で得られた反応濃縮物のエタノール（６５ｍＬ）溶液を加えた。８０℃の油浴で加熱しながら２時間撹拌した。室温まで冷却した後、水酸化カリウム（３２．６ｇ）のエタノール（１２３．９ｍＬ）溶液を１時間かけて滴下した。滴下後１９時間撹拌し、０〜−３℃にて１時間撹拌した後、濾過により生じた塩を除去し、濾液を濃縮して濃縮物を得た。１５０℃の油浴で加熱された流動パラフィン（７５ｍＬ）に、濃縮物を４．５時間かけて滴下し、留出してくる成分をコンデンサーで冷却しながら捕集し、２６．７ｋＰａまで減圧して留出成分を回収し、１８５ｇの留分を得た。ガスクロマトグラフィーで定量したところ、（Ｒ）−３−ブテン−２−オール（２３．１ｇ，０．３２０ｍｏｌ）が得られたことが分かった。（Ｒ）−１，３ブタンジオールからの収率は５７．７％であった。
[実施例１７］（Ｒ）−３−ブテン−２−オールの合成
[実施例１７］（Ｒ）−３−ブテン−２−オールの合成
５００ｍＬの４つ口フラスコに、参考例１で得られた（Ｒ）−１，３−ブタンジオール（５０．０ｇ，０．５５５ｍｏｌ）、トルエン（１００ｍＬ）、トリメチルアミン塩酸塩（０．５３ｇ、０．００５６ｍｏｌ）及びトリエチルアミン（６７．４ｇ，０．６６６ｍｏｌ）を加え、冷却した。ここへ塩化パラトルエンスルホニル（１１１．１ｇ，０．５８３ｍｏｌ）のトルエン（２００ｍＬ）溶液を３時間かけて−６〜６℃で滴下した。１〜６℃で４０分撹拌した後、室温にて１時間撹拌した。１規定塩酸（１００ｍＬ)を加え分液後、有機層を水（１００ｍＬ）で洗浄し、トルエンを留去して反応濃縮物(１４７．５ｇ)を得た。ＨＰＬＣ分析でのトシラートとジトシラートの面積比は７８：２２であった。
続いて、１Ｌの４つ口フラスコにトリメチルアミン塩酸塩（６１．５ｇ，０．６４４ｍｏｌ）及びエタノール（６５ｍＬ）を加え、室温にて２０％ナトリウムエトキシドのエタノール溶液(２１９ｇ)を４分かけて滴下した。室温で１５分撹拌した後、６０℃に加熱し、反応濃縮物のエタノール（６５ｍＬ）溶液を４時間かけて滴下し、３時間撹拌した。室温まで冷却した後、水酸化カリウム（３２．６ｇ）のエタノール（１２３．９ｍＬ）溶液を１５分かけて滴下した。滴下後３時間撹拌し、一晩放置した。一晩放置後、さらに３時間撹拌し、冷却した。０〜−４℃にて１．５時間撹拌した後、濾過により生じた塩を除去し、濾液を減圧濃縮した。１５０℃の油浴で加熱された流動パラフィン（７５ｍＬ）に、濃縮物を３時間かけて滴下し、留出してくる成分をコンデンサーで冷却しながら捕集し、２６．７ｋＰａまで減圧して留出成分を回収し、１５８．３ｇの留分を得た。ガスクロマトグラフィーにて分析したところ、トリメチルアミン、エタノール、３−ブテン−２−オールの面積％はそれぞれ、１６．９％、５５．０％、２０．４％、であった。また、ガスクロマトグラフィーで定量したところ、（Ｒ）−３−ブテン−２−オール（２３．８ｇ, ０．３３０ｍｏｌ）が得られたことが分かった。（Ｒ）−１，３ブタンジオールからの収率は５９．５％であった。
[実施例１８］（Ｒ）−３−ブテン−２−オールの合成
続いて、１Ｌの４つ口フラスコにトリメチルアミン塩酸塩（６１．５ｇ，０．６４４ｍｏｌ）及びエタノール（６５ｍＬ）を加え、室温にて２０％ナトリウムエトキシドのエタノール溶液(２１９ｇ)を４分かけて滴下した。室温で１５分撹拌した後、６０℃に加熱し、反応濃縮物のエタノール（６５ｍＬ）溶液を４時間かけて滴下し、３時間撹拌した。室温まで冷却した後、水酸化カリウム（３２．６ｇ）のエタノール（１２３．９ｍＬ）溶液を１５分かけて滴下した。滴下後３時間撹拌し、一晩放置した。一晩放置後、さらに３時間撹拌し、冷却した。０〜−４℃にて１．５時間撹拌した後、濾過により生じた塩を除去し、濾液を減圧濃縮した。１５０℃の油浴で加熱された流動パラフィン（７５ｍＬ）に、濃縮物を３時間かけて滴下し、留出してくる成分をコンデンサーで冷却しながら捕集し、２６．７ｋＰａまで減圧して留出成分を回収し、１５８．３ｇの留分を得た。ガスクロマトグラフィーにて分析したところ、トリメチルアミン、エタノール、３−ブテン−２−オールの面積％はそれぞれ、１６．９％、５５．０％、２０．４％、であった。また、ガスクロマトグラフィーで定量したところ、（Ｒ）−３−ブテン−２−オール（２３．８ｇ, ０．３３０ｍｏｌ）が得られたことが分かった。（Ｒ）−１，３ブタンジオールからの収率は５９．５％であった。
[実施例１８］（Ｒ）−３−ブテン−２−オールの合成
１Ｌの４つ口フラスコに、（Ｒ）−１，３−ブタンジオール（５８．７ｇ，０．６５１ｍｏｌ）、トルエン（１１７ｍＬ）、トリメチルアミン塩酸塩（０．６２ｇ、０．００６５ｍｏｌ）及びトリエチルアミン（７９．１ｇ，０．７８１ｍｏｌ）を加え、ここへ塩化パラトルエンスルホニル（１３０．３ｇ，０．６８４ｍｏｌ）のトルエン（２３４ｍＬ）溶液を３時間かけて−６〜６℃で滴下し、１〜６℃で３時間撹拌した。１規定塩酸（１１７ｍＬ)を加え分液後、有機層を水（１１７ｍＬ）で洗浄し、トルエンを留去して反応濃縮物(１５３．１ｇ)を得た。ＨＰＬＣ分析でのトシラートとジトシラートの面積比は８１：１９であった。
続いて、１Ｌの４つ口フラスコにトリメチルアミン塩酸塩（７２．２ｇ，０．７５５ｍｏｌ）及びエタノール（７６ｍＬ）を加え、室温にて２０％ナトリウムエトキシドのエタノール溶液(２５７ｇ)を５０分かけて滴下した。続いて５０℃に加熱し、反応濃縮物のエタノール（７６ｍＬ）溶液を２時間かけて滴下し、４時間撹拌して一晩放置した。一晩放置した後、水酸化カリウム（３８．３ｇ）のエタノール（１４５．４ｍＬ）溶液を３０分かけて滴下した。滴下後４時間撹拌し、０〜−４℃にて１．５時間撹拌した後、濾過により生じた塩を除去し、濾液を減圧濃縮した。１５０℃の油浴で加熱された流動パラフィン（８８ｍＬ）に、濃縮物を２．５時間かけて滴下し、留出してくる成分をコンデンサーで冷却しながら捕集し、２６．７ｋＰａまで減圧して留出成分を回収し、１９９．７ｇの留分を得た。ガスクロマトグラフィーにて分析したところ、トリメチルアミン、エタノール、３−ブテン−２−オールの面積％はそれぞれ、１６．３％、５６．７％、１９．５％、であった。また、ガスクロマトグラフィーで定量したところ、（Ｒ）−３−ブテン−２−オール（２９．４ｇ, ０．４１１ｍｏｌ）が得られたことが分かった。（Ｒ）−１，３ブタンジオールからの収率は６３．１％であった。
続いて、１Ｌの４つ口フラスコにトリメチルアミン塩酸塩（７２．２ｇ，０．７５５ｍｏｌ）及びエタノール（７６ｍＬ）を加え、室温にて２０％ナトリウムエトキシドのエタノール溶液(２５７ｇ)を５０分かけて滴下した。続いて５０℃に加熱し、反応濃縮物のエタノール（７６ｍＬ）溶液を２時間かけて滴下し、４時間撹拌して一晩放置した。一晩放置した後、水酸化カリウム（３８．３ｇ）のエタノール（１４５．４ｍＬ）溶液を３０分かけて滴下した。滴下後４時間撹拌し、０〜−４℃にて１．５時間撹拌した後、濾過により生じた塩を除去し、濾液を減圧濃縮した。１５０℃の油浴で加熱された流動パラフィン（８８ｍＬ）に、濃縮物を２．５時間かけて滴下し、留出してくる成分をコンデンサーで冷却しながら捕集し、２６．７ｋＰａまで減圧して留出成分を回収し、１９９．７ｇの留分を得た。ガスクロマトグラフィーにて分析したところ、トリメチルアミン、エタノール、３−ブテン−２−オールの面積％はそれぞれ、１６．３％、５６．７％、１９．５％、であった。また、ガスクロマトグラフィーで定量したところ、（Ｒ）−３−ブテン−２−オール（２９．４ｇ, ０．４１１ｍｏｌ）が得られたことが分かった。（Ｒ）−１，３ブタンジオールからの収率は６３．１％であった。
［実施例１９］蒸留による（Ｒ）−３−ブテン−２−オールの精製
実施例１５と実施例１６で得られた留分を混合し、常圧にて２０段のスルーザーを用いて、還留をかけながら９０〜１３０℃に加熱して蒸留を行った。蒸留塔内に残ったものは、キシレン５０．４ｇを加えて押し出した。
前留分として純度６３．７％のフラクション０．６ｇ、
中間留分として純度９８．１〜９９．９％のフラクション３８．７ｇ、
後留分として純度９３．２％のフラクション０．９ｇを得た。
純度９８．１〜９９．９％のフラクションの光学純度を分析したところ、９８．０％ｅｅであった。
実施例１５と実施例１６で得られた留分を混合し、常圧にて２０段のスルーザーを用いて、還留をかけながら９０〜１３０℃に加熱して蒸留を行った。蒸留塔内に残ったものは、キシレン５０．４ｇを加えて押し出した。
前留分として純度６３．７％のフラクション０．６ｇ、
中間留分として純度９８．１〜９９．９％のフラクション３８．７ｇ、
後留分として純度９３．２％のフラクション０．９ｇを得た。
純度９８．１〜９９．９％のフラクションの光学純度を分析したところ、９８．０％ｅｅであった。
Claims (2)
- 下記一般式（１）
で表されるアンモニウム塩化合物を、ホフマン脱離させることを特徴とする、下記式（２）
で表される３−ブテン−２−オールの製造方法。 - 下記一般式（１’）で表される化合物。
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| JP2014100071A JP2015218109A (ja) | 2014-05-14 | 2014-05-14 | ３−ブテン−２−オールの製造方法 |
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|---|---|---|---|
| JP2014100071A JP2015218109A (ja) | 2014-05-14 | 2014-05-14 | ３−ブテン−２−オールの製造方法 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112079732A (zh) * | 2020-09-22 | 2020-12-15 | 湖南大学 | 一种4-烃基仲胺基-2-丁醇类化合物的合成路线 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6054344A (ja) * | 1983-08-05 | 1985-03-28 | レ−ム・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロリドおよび類縁化合物の精製法 |
-
2014
- 2014-05-14 JP JP2014100071A patent/JP2015218109A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6054344A (ja) * | 1983-08-05 | 1985-03-28 | レ−ム・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロリドおよび類縁化合物の精製法 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| "Chemistry of 1,3-bifunctional compounds. 2. Decomposition of the", ACTA CHIMICA ACADEMIAE SCIENTIARUM HUNGARICAE, vol. 59(1), JPN6017034369, 1969, pages 133-156 * |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112079732A (zh) * | 2020-09-22 | 2020-12-15 | 湖南大学 | 一种4-烃基仲胺基-2-丁醇类化合物的合成路线 |
| CN112079732B (zh) * | 2020-09-22 | 2021-10-08 | 湖南大学 | 一种4-烃基仲胺基-2-丁醇类化合物的合成路线 |
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