JP2015217571A - 配線実装構造及びその製造方法、並びに液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 - Google Patents

Abstract

【課題】接続配線の電気抵抗値を下げて、電圧降下及び発熱を抑制した配線実装構造及びその製造方法、並びに液体噴射ヘッド及び液体噴射装置を提供する。【解決手段】第１主面３０１と、該第１主面３０１とは反対側の裏面とされる第２主面と、前記第１主面３０１と前記第２主面との間に形成された斜面３２１と、を有する第１基体３０と、前記第１基体３０の前記第２主面と接合される第３主面１０１と、前記第３主面１０１上に形成された接続端子９１と、を有する第２基体１０と、前記第１基体３０の前記第１主面３０１上と、前記第１基体３０の前記斜面３２１上と、前記第３主面１０１の前記接続端子９１上と、に連続して形成された接続配線３３と、を備え、前記接続配線３３の前記傾斜面３２１上に形成された傾斜面配線３３３は、前記接続配線３３の前記第１主面３０１上に形成された部分よりも厚さが薄く形成されていると共に、前記傾斜面配線３３３は、前記接続配線３３の前記第１主面３０１上に形成された部分よりも広い幅ｗ２で形成されている。【選択図】図６

Description

本発明は、第１基体、第２基体及び接続配線を有する配線実装構造及びその製造方法、並びに液体噴射ヘッド及び液体噴射装置に関する。

液体を噴射する液体噴射ヘッドとしては、ノズル開口に連通する圧力発生室が形成された流路形成基板（第２基体）と、流路形成基板の一方面側に形成された圧電アクチュエーターと、流路形成基板の圧電アクチュエーター側に接合された保護基板（第１基体）と、を具備し、圧電アクチュエーターによって圧力発生室内の液体に圧力変化を生じさせることで、ノズル開口から液体を噴射する。

このような液体噴射ヘッドでは、保護基板の流路形成基板に接合された面とは反対面に駆動回路（半導体素子）を設け、保護基板に開口部を形成して、開口部内に圧電アクチュエーターに接続された配線を露出させ、駆動回路と圧電アクチュエーターとを保護基板の開口部の側壁上に設けられた接続配線を介して電気的に接続するようにしたものが提案されている（例えば、特許文献１参照）。

特開２００７−２９０２３２号公報

しかしながら、高さの異なる面及び段差となるその側壁上に接続配線を形成する場合、例えば、保護基板である第１基体の水平面及び開口部の側壁である傾斜面とに亘って接続配線を成膜すると、水平面上に形成された接続配線の厚さに比べて、傾斜面上に形成された接続配線の厚さが薄くなってしまい、接続配線の電気抵抗値が高くなって電圧降下が生じることや、部分的に電気抵抗値が高くなることで、発熱が生じるなどの不具合が生じるという問題がある。

なお、このような問題は、液体噴射ヘッドだけではなく、他のデバイスに用いられる配線実装構造においても同様に存在する。

本発明はこのような事情に鑑み、接続配線の電気抵抗値を下げて、電圧降下及び発熱を抑制した配線実装構造及びその製造方法、並びに液体噴射ヘッド及び液体噴射装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決する本発明の態様は、第１主面と、該第１主面とは反対側の裏面とされる第２主面と、前記第１主面と前記第２主面との間に形成された斜面と、を有する第１基体と、前記第１基体の前記第２主面と接合される第３主面と、前記第３主面上に形成された接続端子と、を有する第２基体と、前記第１基体の前記第１主面上と、前記第１基体の前記斜面上と、前記第３主面の前記接続端子上と、に連続して形成された接続配線と、を備え、前記接続配線の前記傾斜面上に形成された傾斜面配線は、前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分よりも厚さが薄く形成されていると共に、前記傾斜面配線は、前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分よりも広い幅で形成されていることを特徴とする配線実装構造にある。
かかる態様では、比較的厚さの薄い傾斜面配線の幅を広げることで、傾斜面配線の電気抵抗値が著しく高くなるのを抑制することができる。

ここで、前記第１基体がシリコン単結晶基板からなり、前記斜面が、前記第２主面に対して３５．３度で形成されており、前記傾斜面配線の幅は、前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分の幅に対して、１．２倍以上で、前記傾斜面配線の幅を広くした場合の当該傾斜面配線の断面積と、前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分の断面積との差が、前記傾斜面配線と前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分とが同じ幅で形成された場合の両者の断面積の差よりも小さくなる幅を有することが好ましい。これによれば、傾斜面配線の電気抵抗値を第１主面上に形成された部分と近い電気抵抗値とすることができ、接続配線の延設方向に亘って略均一な電気抵抗値とすることができ、部分的な電気抵抗値のばらつきを抑制して、発熱が集中するのを抑制することができる。

また、前記第１基体がシリコン単結晶基板からなり、前記斜面が、前記第２主面に対して５４．７度で形成されており、前記傾斜面配線の幅は、前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分の幅に対して、１．７倍以上で、前記傾斜面配線の幅を広くした場合の当該傾斜面配線の断面積と、前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分の断面積との差が、前記傾斜面配線と前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分とが同じ幅で形成された場合の両者の断面積の差よりも小さくなる幅を有することが好ましい。これによれば、傾斜面配線の電気抵抗値を第１主面上に形成された部分と近い電気抵抗値とすることができ、接続配線の延設方向に亘って略均一な電気抵抗値とすることができ、部分的な電気抵抗値のばらつきを抑制して、発熱が集中するのを抑制することができる。

また、本発明の他の態様は、第１主面と、該第１主面とは反対側の裏面とされる第２主面と、前記第１主面と前記第２主面との間に形成された斜面と、を有する第１基体と、前記第１基体の前記第２主面と接合される第３主面と、前記第３主面上に形成された接続端子と、を有する第２基体と、前記第１基体の前記第１主面上と、前記第１基体の前記斜面上と、前記第３主面の前記接続端子上と、に連続して形成された接続配線と、を備える配線実装構造の製造方法であって、前記第１基体の前記第１主面上、前記第１基体の前記斜面上及び前記第３主面の前記接続端子上に亘って連続した前記接続配線を気相法によって形成すると共に、前記接続配線をパターニングして、前記接続配線の前記傾斜面上に形成された傾斜面配線を、前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分よりも広い幅で形成することを特徴とする配線実装構造の製造方法にある。
かかる態様では、比較的厚さの薄い傾斜面配線の幅を広げることで、傾斜面配線の電気抵抗値が著しく高くなるのを抑制することができる。

さらに、本発明の他の態様は、第１主面と、該第１主面とは反対側の裏面とされる第２主面と、前記第１主面と前記第２主面との間に形成された斜面と、を有する第１基体と、前記第１基体の前記第２主面と接合される第３主面と、液体を噴射するノズル開口に連通する流路と、該流路に圧力変化を生じさせる圧力発生手段と、前記第３主面上に形成されて前記圧力発生手段に電気的に接続された接続端子と、を有する第２基体と、前記第１基体の前記第１主面上と、前記第１基体の前記斜面上と、前記第３主面の前記接続端子上と、に連続して形成された接続配線と、を備え、前記接続配線の前記傾斜面上に形成された傾斜面配線は、前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分よりも厚みが薄く形成されていると共に、前記傾斜面配線は、前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分よりも広い幅で形成されていることを特徴とする液体噴射ヘッドにある。
かかる態様では、比較的厚さの薄い傾斜面配線の幅を広げることで、傾斜面配線の電気抵抗値が著しく高くなるのを抑制することができる。したがって、電圧降下による圧力発生手段の駆動ばらつきを抑制することができると共に、発熱による不具合を抑制することができる。

また、本発明の他の態様は、上記態様の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置にある。
かかる態様では、接続配線の電気抵抗値が高くなるのを抑制して、電圧降下や発熱を抑制した液体噴射装置を実現できる。

実施形態１に係る記録ヘッドの分解斜視図である。 実施形態１に係る記録ヘッドの平面図である。 実施形態１に係る記録ヘッドの断面図である。 実施形態１に係る記録ヘッドの要部を拡大した断面図である。 実施形態１に係る保護基板の平面図である。 実施形態１に係る接続配線を示す平面図である。 実施形態１に係る記録ヘッドの製造方法を示す断面図である。 実施形態１に係る記録ヘッドの製造方法を示す断面図である。 実施形態１に係る記録ヘッドの製造方法を示す断面図である。 他の実施形態に係る接続配線を示す平面図である。 他の実施形態に係る接続配線を示す平面図である。 本発明の一実施形態に係る記録装置の概略図である。

以下に本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。
（実施形態１）
図１は、本発明の実施形態１に係る液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの分解斜視図であり、図２は、インクジェット式記録ヘッドの平面図である。また、図３は図２のＡ−Ａ′線断面図であり、図４は、図３の要部を拡大した図であり、図５は、保護基板の平面図である。

図示するように、本実施形態のインクジェット式記録ヘッド１は、流路形成基板１０、連通板１５、ノズルプレート２０、保護基板３０、コンプライアンス基板４５等の複数の部材を備える。

流路形成基板１０は、ステンレス鋼やＮｉなどの金属、ＺｒＯ_２あるいはＡｌ_２Ｏ_３を代表とするセラミック材料、ガラスセラミック材料、ＭｇＯ、ＬａＡｌＯ_３のような酸化物などを用いることができる。本実施形態では、流路形成基板１０は、シリコン単結晶基板からなる。この流路形成基板１０には、一方面側から異方性エッチングすることにより、複数の隔壁によって区画された圧力発生室１２がインクを吐出する複数のノズル開口２１が並設される方向に沿って並設されている。以降、この方向を圧力発生室１２の並設方向、又は第１の方向Ｘ（基準方向）と称する。また、流路形成基板１０には、圧力発生室１２が第１の方向Ｘに並設された列が複数列、本実施形態では、２列設けられている。この圧力発生室１２が第１の方向Ｘに沿って形成された圧力発生室１２の列が複数列並べられた方向を、以降、第２の方向Ｙと称する。さらに、第１の方向Ｘ及び第２の方向Ｙの双方に交差する方向を本実施形態では、第３の方向Ｚと称する。なお、本実施形態では、説明理解を容易にするために各方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ）の関係を直交とするが、各構成の配置関係が必ずしも直交するものに限定されるべきものでない。

また、流路形成基板１０には、圧力発生室１２の第２の方向Ｙの一端部側に、当該圧力発生室１２よりも開口面積が狭く、圧力発生室１２に流入するインクの流路抵抗を付与する供給路等が設けられていてもよい。

また、流路形成基板１０の一方面側（積層方向であって−Ｚ方向）には、連通板１５とノズルプレート２０とが順次積層されている。すなわち、流路形成基板１０の一方面に設けられた連通板１５と、連通板１５の流路形成基板１０とは反対面側に設けられたノズル開口２１を有するノズルプレート２０と、を具備する。

連通板１５には、圧力発生室１２とノズル開口２１とを連通するノズル連通路１６が設けられている。連通板１５は、流路形成基板１０よりも大きな面積を有し、ノズルプレート２０は流路形成基板１０よりも小さい面積を有する。このように連通板１５を設けることによってノズルプレート２０のノズル開口２１と圧力発生室１２とを離せるため、圧力発生室１２の中にあるインクは、ノズル開口２１付近のインクで生じるインク中の水分の蒸発による増粘の影響を受け難くなる。また、ノズルプレート２０は圧力発生室１２とノズル開口２１とを連通するノズル連通路１６の開口を覆うだけで良いので、ノズルプレート２０の面積を比較的小さくすることができ、コストの削減を図ることができる。なお、本実施形態では、ノズルプレート２０のノズル開口２１が開口されて、インク滴が吐出される面を液体噴射面２０ａと称する。

また、連通板１５には、マニホールド１００の一部を構成する第１マニホールド部１７と、第２マニホールド部（絞り流路、オリフィス流路）１８とが設けられている。

第１マニホールド部１７は、連通板１５を厚さ方向（連通板１５と流路形成基板１０との積層方向）に貫通して設けられている。

また、第２マニホールド部１８は、連通板１５を厚さ方向に貫通することなく、連通板１５のノズルプレート２０側に開口して設けられている。

さらに、連通板１５には、圧力発生室１２の第２の方向Ｙの一端部に連通する供給連通路１９が、圧力発生室１２毎に独立して設けられている。この供給連通路１９は、第２マニホールド部１８と圧力発生室１２とを連通する。

このような連通板１５としては、ステンレスやＮｉなどの金属、またはジルコニウムなどのセラミックなどを用いることができる。なお、連通板１５は、流路形成基板１０と線膨張係数が同等の材料が好ましい。すなわち、連通板１５として流路形成基板１０と線膨張係数が大きく異なる材料を用いた場合、加熱や冷却されることで、流路形成基板１０と連通板１５との線膨張係数の違いにより反りが生じてしまう。本実施形態では、連通板１５として流路形成基板１０と同じ材料、すなわち、シリコン単結晶基板を用いることで、熱による反りや熱によるクラック、剥離等の発生を抑制することができる。

ノズルプレート２０には、各圧力発生室１２とノズル連通路１６を介して連通するノズル開口２１が形成されている。このようなノズル開口２１は、第１の方向Ｘに並設され、この第１の方向Ｘに並設されたノズル開口２１の列が第２の方向Ｙに２列形成されている。

このようなノズルプレート２０としては、例えば、ステンレス鋼（ＳＵＳ）等の金属、ポリイミド樹脂のような有機物、又はシリコン単結晶基板等を用いることができる。なお、ノズルプレート２０としてシリコン単結晶基板を用いることで、ノズルプレート２０と連通板１５との線膨張係数を同等として、加熱や冷却されることによる反りや熱によるクラック、剥離等の発生を抑制することができる。

一方、流路形成基板１０の連通板１５とは反対面側には、振動板５０が形成されている。本実施形態では、振動板５０として、流路形成基板１０側に設けられた酸化シリコンからなる弾性膜５１と、弾性膜５１上に設けられた酸化ジルコニウムからなる絶縁体膜５２と、を設けるようにした。なお、圧力発生室１２等の液体流路は、流路形成基板１０を一方面側（ノズルプレート２０が接合された面側）から異方性エッチングすることにより形成されており、圧力発生室１２等の液体流路の他方面は、弾性膜５１によって画成されている。

また、流路形成基板１０の振動板５０上には、本実施形態の圧力発生手段である、第１電極６０と圧電体層７０と第２電極８０とを有する圧電アクチュエーター３００が設けられている。なお、本実施形態の圧力発生手段である圧電アクチュエーター３００が駆動素子に相当する。ここで、圧電アクチュエーター３００は、第１電極６０、圧電体層７０及び第２電極８０を含む部分をいう。一般的には、圧電アクチュエーター３００の何れか一方の電極を共通電極とし、他方の電極を圧力発生室１２毎にパターニングして構成する。本実施形態では、第１電極６０を複数の圧電アクチュエーター３００に亘って連続して設けることで共通電極とし、第２電極８０を圧電アクチュエーター３００毎に独立して設けることで個別電極としている。もちろん、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障はない。なお、上述した例では、振動板５０が弾性膜５１及び絶縁体膜５２で構成されたものを例示したが、勿論これに限定されるものではなく、例えば、振動板５０として弾性膜５１及び絶縁体膜５２の何れか一方を設けたものであってもよく、また、振動板５０として弾性膜５１及び絶縁体膜５２を設けず に、第１電極６０のみが振動板として作用するようにしてもよい。また、圧電アクチュエーター３００自体が実質的に振動板を兼ねるようにしてもよい。

圧電体層７０は、第１電極６０上に形成される分極構造を有する酸化物の圧電材料からなり、例えば、一般式ＡＢＯ_３で示されるペロブスカイト型酸化物からなることができ、鉛を含む鉛系圧電材料や鉛を含まない非鉛系圧電材料などを用いることができる。

また、圧電アクチュエーター３００の第２電極８０の各々には、引き出し配線であるリード電極９０の一端部が接続されている。リード電極９０は、第２電極８０の端部から振動板５０上に引き出されており、他端部が第２の方向Ｙで隣り合う圧電アクチュエーター３００の列の間に延設されている。ここで、引き出されたリード電極９０の他端部が、詳しくは後述する半導体素子である駆動回路に接続される接続端子９１となっている。本実施形態では、圧電アクチュエーター３００の列毎に接続端子９１が本実施形態の基準方向である第１の方向Ｘに並設された接続端子列９１Ａが形成されている。すなわち、接続端子９１が第１の方向Ｘに並設されて構成された接続端子列９１Ａは、第２の方向Ｙに２列並設されている。本実施形態では、接続端子９１は、圧電アクチュエーター３００のピッチと同じ第２のピッチｄ２（図６参照）で第１の方向Ｘに並設されている。なお、本実施形態の第２のピッチとは、第１の方向Ｘで隣り合う２つの接続端子９１の中心線間の距離である。すなわち、本実施形態では、リード電極９０は、圧電アクチュエーター３００の端部から第１の方向Ｘに直線上に沿って延設されている。また、このように接続端子９１が設けられた流路形成基板１０が第２基体に相当し、流路形成基板１０の保護基板３０側の面、すなわち振動板５０の保護基板３０側の面を第３主面１０１と称する。

また、流路形成基板１０の圧電アクチュエーター３００側の面には、流路形成基板１０と略同じ大きさを有する保護基板３０が接合されている。本実施形態では、保護基板３０が第１基体に相当し、保護基板３０の流路形成基板１０と接合された面とは反対側の面を第１主面３０１と称し、流路形成基板１０に接合される面を第２主面３０２と称する。すなわち、第２基体である流路形成基板１０の第３主面１０１は、第１基体である保護基板３０の第２主面３０２と接合されている。

このような保護基板３０としては、流路形成基板１０の熱膨張率と略同一の材料、例えば、ガラス、セラミック材料等を用いることが好ましく、本実施形態では、流路形成基板１０と同一材料のシリコン単結晶基板を用いて形成した。また、流路形成基板１０と保護基板３０との接合方法は特に限定されず、例えば、本実施形態では、流路形成基板１０と保護基板３０とを接着剤３５を介して接合されている。

また、保護基板３０は、第２主面３０２の側に圧電アクチュエーター３００を保護して収容するための空間である保持部３１を有する。保持部３１は、保護基板３０を厚さ方向である第３の方向Ｚに貫通することなく、流路形成基板１０側に開口する凹形状を有する。また、保持部３１は、本実施形態では、第１の方向Ｘに並設された圧電アクチュエーター３００の列毎に独立して設けられている。すなわち、保持部３１は、圧電アクチュエーター３００の第１の方向Ｘに並設された列に亘って連続して設けられており、圧電アクチュエーター３００の列毎、すなわち２つが第２の方向Ｙに並設されている。このような保持部３１は、圧電アクチュエーター３００の運動を阻害しない程度の空間を有していればよく、当該空間は密封されていても、密封されていなくてもよい。

また、保護基板３０は、厚さ方向である第３の方向Ｚに貫通した本実施形態の開口部である貫通孔３２を有する。貫通孔３２は、第２の方向Ｙに並設された２つの保持部３１の間に複数の圧電アクチュエーター３００の並設方向である第１の方向Ｘに亘って連続して設けられている。すなわち、貫通孔３２は、第１の方向Ｘに沿って溝状に形成されている。つまり、貫通孔３２は、複数の圧電アクチュエーター３００の並設方向に長辺を有した開口とされている。

このような貫通孔３２の第２の方向Ｙの両側の壁面である第１側壁部３２１は、図４に示すように、第１主面３０１と第２主面３０２との間で傾斜して設けられた斜面となっている。すなわち、斜面である第１側壁部３２１は、基準方向である第１の方向Ｘに延在している。ここで、第１側壁部３２１が斜面になっているとは、第１主面３０１及び第２主面３０２に対して傾斜して設けられていることを言う。すなわち、第１側壁部３２１が第１主面３０１及び第２主面３０２と同じ面方向で形成されておらず、また、第１側壁部３２１が第１主面３０１及び第２主面３０２に直交する第３の方向Ｚと同じ面方向に設けられていないことを言う。つまり、第１側壁部３２１は、第３の方向Ｚに対しても傾斜して設けられている。このような第１側壁部３２１の傾斜角度θａは特に限定されないが、例えば、保護基板３０をシリコン単結晶基板で形成して、貫通孔３２を異方性エッチングで設けた場合、シリコン単結晶基板の面方位にもよるが、例えば、第１側壁部３２１の傾斜角度θａは、第２主面３０２に対して３５．３度、又は５４．７度度となる。また、第２の方向Ｙで相対向する２つの第１側壁部３２１の間隔は、第３の方向Ｚにおいて流路形成基板１０とは離れる方向に向かって漸大して設けられている。

なお、本実施形態では、貫通孔３２の第１の方向Ｘの両側の壁面である２つの第２側壁部３２２についても第１側壁部３２１と同様に第１主面３０１及び第２主面３０２に対して傾斜して設けられている。このように第１側壁部３２１と第２側壁部３２２とを傾斜して設けることにより、貫通孔３２を例えば異方性エッチングによって容易に高精度に形成することができる。

このような保護基板３０の貫通孔３２内には、流路形成基板（第２基体）１０の第３主面１０１の一部（振動板５０の一部）が露出され、その領域の中に圧電アクチュエーター３００から引き出されたリード電極９０の端部である接続端子９１が露出して設けられている。

具体的には、リード電極９０の貫通孔３２の内側の領域に導出されて露出した部分が接続端子９１となっている。流路形成基板１０の第３主面１０１上に、第１の方向Ｘに並設された複数の接続端子９１からなる群を接続端子列９１Ａと称する。本実施形態では、第３主面１０１の貫通孔３２によって露出された部分（貫通孔３２の内側の領域）において、２つの接続端子列９１Ａが第２の方向Ｙに並設されている。

また、本実施形態では、貫通孔３２内には、圧電アクチュエーター３００の第１電極６０が露出して設けられている。ここで、第１電極６０は、圧電アクチュエーター３００の並設方向である第１の方向Ｘの両端部において、２列の圧電アクチュエーター３００に共通して連続して設けられている。

また、保護基板３０には、配線である接続配線３３が形成されている。接続配線３３について、さらに図６を参照して詳細に説明する。なお、図６は、接続配線を示す平面図である。

接続配線３３は、第１主面３０１上から第１側壁部３２１上を介して第３主面１０１に設けられたリード電極９０の接続端子９１上にまで延設されている。具体的には、接続配線３３は、リード電極９０毎に設けられており、第１主面３０１に設けられた第１接続配線３３１と、第３主面１０１側に設けられて、リード電極９０上に形成された第２接続配線３３２と、第１側壁部３２１及び接着剤３５上に跨がって形成されて第１接続配線３３１と第２接続配線３３２とを接続する傾斜面配線３３３と、を具備する。

接続配線３３は、リード電極９０の接続端子９１列毎に第１の方向Ｘに複数並設されている。本実施形態では、リード電極９０の接続端子列９１Ａが第２の方向Ｙに２列設けられているため、接続配線３３は、貫通孔３２の第２の方向Ｙの両側に、接続端子列９１Ａに対応してそれぞれ設けられている。

ここで、第１接続配線３３１は、貫通孔３２の第２の方向Ｙの両側の第１主面３０１上に第１の方向Ｘに並設されて設けられている。また、第１接続配線３３１は、第２の方向Ｙに直線上に延設されている。このような第１接続配線３３１の第１主面３０１上の一端部が、半導体素子である駆動回路２００の端子２０１に電気的に接続される第１配線端子３３４となっている。第１配線端子３３４を有する第１接続配線３３１は、リード電極９０の隣り合う接続端子９１の第１のピッチｄ１よりも狭い第２のピッチｄ２で第１の方向Ｘに沿って並設されている。言い換えると、接続端子９１の第１のピッチｄ１は、第１配線端子３３４の第２のピッチｄ２よりも広い。このような第１接続配線３３１は、幅が第２の方向Ｙに沿って略同じ幅ｗ１で形成された第１接続配線直線部３３１ａと、第１側壁部３２１側に設けられて、第１側壁部３２１に向かって幅が徐々に漸大するテーパー部３３１ｂと、を具備する。なお、テーパー部３３１ｂの幅は、第１接続配線直線部３３１ａの幅ｗ１から、詳しくは後述する傾斜面配線３３３の幅ｗ２となるまで徐々に漸大して設けられている。

第２接続配線３３２は、リード電極９０のうち、貫通孔３２内に導出されて露出した部分である接続端子９１の上面に設けられている。接続端子９１の上面とは、接続端子９１の流路形成基板１０とは反対側の面のことである。すなわち、第２接続配線３３２は、第２の方向Ｙに直線上に延設されており、リード電極９０の接続端子９１と第３の方向Ｚで対向配置されている。このような第２接続配線３３２は、リード電極９０と同じ第２のピッチｄ２で第１の方向Ｘに並設されている。この第２接続配線３３２が、リード電極９０の接続端子９１と電気的に接続される第２配線端子となっている。第２接続配線３３２は、第２の方向Ｙに沿って、第１の方向Ｘの幅が、第１接続配線３３１の第１接続配線直線部３３１ａと同じ幅ｗ１で形成されている。

傾斜面配線３３３は、第１接続配線３３１と第２接続配線３３２とを繋ぐように形成されている。傾斜面配線３３３は、第２接続配線３３２側に設けられた傾斜面配線直線部３３３ａと、傾斜面配線直線部３３３ａに連続して第１接続配線３３１側に設けられた傾斜部３３３ｂと、を具備する。このような傾斜面配線直線部３３３ａは、第２の方向Ｙに沿った直線上に延設されている。また、傾斜部３３３ｂは傾斜面配線直線部３３３ａに対して傾斜した、すなわち、第２の方向Ｙに対して角度θｂで傾斜した方向に直線上に延設されている。ここで、傾斜面配線直線部３３３ａは、第２のピッチｄ２で形成されており、傾斜部３３３ｂの第１接続配線３３１側の端部は、第１のピッチｄ１で形成されている。本実施形態では、全ての傾斜面配線３３３の傾斜部３３３ｂは、同じ傾斜角度θｂで形成されており、傾斜面配線直線部３３３ａの第２の方向Ｙの長さを調整することで、傾斜面配線直線部３３３ａの第２のピッチｄ２を傾斜部３３３ｂの第１接続配線３３１側の端部、すなわち第１配線端子３３４の第１のピッチｄ１にピッチ変換している。

このような第１側壁部３２１上に形成された傾斜面配線３３３は、その厚さｔ２が、第１接続配線３３１及び第２接続配線３３２の厚さｔ１に比べて薄い。これは、スパッタリング法や蒸着法などによって成膜する際に、水平面には鉛直方向にｔ１の厚さで成膜されるのに対し、水平面に対して傾斜した傾斜面にも鉛直方向にｔ１の厚さで形成されるためである。すなわち、図４（ｃ）に示すように、第２主面３０２に対して傾斜角度θａで傾斜した第１側壁部３２１上に鉛直方向である第３の方向Ｚにｔ１の厚さで形成された接続配線３３の実際の厚さｔ２、すなわち、第１側壁部３２１に直交する方向の厚さｔ２は、ｔ１×ｃｏｓθａで表される。例えば、上述のように、保護基板３０をシリコン単結晶基板で形成し、保護基板３０の第１側壁部３２１を異方性エッチングで形成した場合の第１側壁部３２１の角度θａは３５．３度、又は５４．７度となる。したがって、θａが３５．３度の場合には、傾斜面配線３３３の厚さｔ２＝０．８１６１×ｔ１となり、θａが５４．７度の場合には、傾斜面配線３３３の厚さｔ２＝０．５７７８×ｔ１となる。つまり、傾斜面配線３３３は、何れの角度θａで形成しても、第１接続配線３３１及び第２接続配線３３２の厚さｔ１よりもその厚さｔ２は薄くなる。

このように、傾斜面配線３３３の厚さｔ２が、第１接続配線３３１及び第２接続配線３３２の厚さｔ２よりも薄いと、傾斜面配線３３３の電気抵抗値が高くなってしまう。このように傾斜面配線３３３の電気抵抗値が高くなると、電圧降下によって所望の駆動を圧電アクチュエーター３００に行わせることができなくなることや、傾斜面配線３３３が発熱するなどの不具合が生じる。

このため、本実施形態では、傾斜面配線３３３の幅ｗ２を、第１接続配線３３１の第１接続配線直線部３３１ａ及び第２接続配線３３２の幅ｗ１よりも広くすることで、傾斜面配線３３３の電気抵抗値が高くなるのを抑制している。すなわち、傾斜面配線３３３の幅ｗ２は、第１接続配線直線部３３１ａ及び第２接続配線３３２の第１の方向Ｘの幅ｗ１よりも広い。ここで傾斜面配線３３３の幅ｗ２とは、延設方向に直交する方向の幅であり、傾斜面配線直線部３３３ａについては第１の方向Ｘの幅であり、傾斜部３３３ｂについては、延設方向、すなわち、傾斜角度θｂで傾斜した方向に直交する方向の幅である。このように傾斜面配線３３３の幅ｗ２を第１接続配線３３１及び第２接続配線３３２の幅ｗ１よりも広くすることで、第１接続配線３３１及び第２接続配線３３２に比べて傾斜面配線３３３の電気抵抗値が著しく高くなるのを抑制することができる。すなわち、傾斜面配線３３３の厚さｔ２は、製造上、第１接続配線３３１及び第２接続配線３３２の厚さｔ１よりも薄くなってしまうため、傾斜面配線３３３を第１接続配線３３１及び第２接続配線３３２と同じ幅ｗ１で形成すると、傾斜面配線３３３の電気抵抗値が高くなってしまう。このように傾斜面配線３３３の電気抵抗値が高くなると、電圧降下によって所望の駆動を圧電アクチュエーター３００に行わせることができなくなることや、傾斜面配線３３３が発熱するなどの不具合が生じる。本実施形態では、傾斜面配線３３３の幅ｗ２を比較的厚さの厚い第１接続配線３３１及び第２接続配線３３２の幅ｗ１よりも広くすることで、傾斜面配線３３３の電気抵抗値が比較的高くなるのを抑制して、電圧降下による圧電アクチュエーター３００の駆動不良や、発熱を抑制することができる。

ここで、一般的に電気抵抗値Ｒは、Ｒ=ρ・Ｌ／Ｓ （ρ：抵抗率［Ω・ｍ］、Ｌ：長さ［ｍ］、Ｓ：断面積［ｍ^２］）で表される。したがって、第１接続配線３３１及び第２接続配線３３２と傾斜面配線３３３とを略同じ電気抵抗値とするには、傾斜面配線３３３の断面積Ｓと第１接続配線３３１及び第２接続配線３３２の断面積Ｓとを略同じ断面積とすればよい。すなわち、傾斜面配線３３３の断面積Ｓを規定する厚さｔ２×幅ｗ２が、第１接続配線３３１及び第２接続配線３３２の断面積Ｓを規定する厚さｔ１×幅ｗ１と略同じ値となるように幅ｗ２を調整すればよい。

なお、上述のように、第１側壁部３２１の角度θａが３５．３度の場合には、傾斜面配線３３３の厚さｔ２は、０．８１６１×ｔ１となる。したがって、傾斜角度θａが３５．３度の場合には、傾斜面配線３３３の幅ｗ２は、ｗ１の１／０．８１６１倍、すなわち、１．２２５×ｗ１とすればよい。つまり、角度θａが３５．３度の場合には、傾斜面配線３３３の幅ｗ２は、ｗ１の約１．２倍以上とすれば、第１接続配線３３１と第２接続配線３３２との電気抵抗値の差を減少させることができる。ただし、傾斜面配線３３３の幅ｗ２が第１接続配線３３１の幅ｗ１に比べて広くなりすぎると、傾斜面配線３３３の電気抵抗値は下がるものの、第１接続配線３３１の電気抵抗値との差が大きくなってしまう。このため、傾斜面配線３３３の幅ｗ２は、第１接続配線３３１の断面積Ｓ１と、傾斜面配線３３３の幅ｗ２を第１接続配線３３１の幅ｗ１よりも広くした場合の断面積Ｓ２との差ΔＳａが、第１接続配線３３１の断面積Ｓ１と、傾斜面配線３３３を第１接続配線３３１と同じ幅ｗ１で形成した場合の断面積Ｓ２′との差ΔＳｂよりも小さくなる、すなわち、ΔＳａ＜ΔＳｂとなる幅ｗ２で形成するのが好ましい。これにより、傾斜面配線３３３の幅ｗ２を第１接続配線３３１の幅ｗ１よりも広げた場合の傾斜面配線３３３と第１接続配線３３１との電気抵抗値の差は、傾斜面配線３３３の幅を第１接続配線３３１と同じ幅で形成した際の傾斜面配線３３３と第１接続配線３３１との電気抵抗値の差よりも小さくすることができる。したがって、接続配線３３の延設方向に亘って電気抵抗値のばらつきを抑制して、発熱が集中するのを抑制することができる。もちろん、傾斜面配線３３３と第１接続配線３３１との電気抵抗値の差が最も小さくなるのは、傾斜面配線３３３の幅ｗ２は、１．２２５×ｗ１の場合であるため、傾斜面配線３３３の幅ｗ２は、１．２２５×ｗ１が好適である。

同様に、第１側壁部３２１の角度θａが５４．７度の場合には、傾斜面配線３３３の厚さｔ２は、０．５７７８×ｔ１となる。したがって、傾斜角度θａが５４．７度の場合には、傾斜面配線３３３の幅ｗ２は、ｗ１の１／０．５７７８倍、すなわち、１．７３１×ｗ１とすればよい。つまり、角度θａが５４．７度の場合には、傾斜面配線３３３の幅ｗ２は、ｗ１の約１．７倍以上とすれば、第１接続配線３３１と第２接続配線３３２との電気抵抗値の差を減少させることができる。ただし、傾斜面配線３３３の幅ｗ２が第１接続配線３３１の幅ｗ１に比べて広くなりすぎると、傾斜面配線３３３の電気抵抗値は下がるものの、第１接続配線３３１の電気抵抗値との差が大きくなってしまう。このため、傾斜面配線３３３の幅ｗ２は、第１接続配線３３１の断面積Ｓ１と、傾斜面配線３３３の幅ｗ２を第１接続配線３３１の幅ｗ１よりも広くした場合の断面積Ｓ２との差ΔＳａが、第１接続配線３３１の断面積Ｓ１と、傾斜面配線３３３を第１接続配線３３１と同じ幅ｗ１で形成した場合の断面積Ｓ２′との差ΔＳｂよりも小さくなる、すなわち、ΔＳａ＜ΔＳｂとなる幅ｗ２で形成するのが好ましい。これにより、傾斜面配線３３３の幅ｗ２を第１接続配線３３１の幅ｗ１よりも広げた場合の傾斜面配線３３３と第１接続配線３３１との電気抵抗値の差は、傾斜面配線３３３の幅を第１接続配線３３１と同じ幅で形成した際の傾斜面配線３３３と第１接続配線３３１との電気抵抗値の差よりも小さくすることができる。したがって、接続配線３３の延設方向に亘って電気抵抗値のばらつきを抑制して、発熱が集中するのを抑制することができる。もちろん、傾斜面配線３３３と第１接続配線３３１との電気抵抗値の差が最も小さくなるのは、傾斜面配線３３３の幅ｗ２は、１．７３１×ｗ１の場合であるため、傾斜面配線３３３の幅ｗ２は、１．７３１×ｗ１が好適である。

また、本実施形態では、傾斜面配線３３３を幅ｗ２で形成し、第１接続配線３３１の傾斜面配線３３３側に幅が徐々に漸大するテーパー部３３１ｂを設けるようにした。このため、第１接続配線３３１と傾斜面配線３３３との接続部分において、幅が急激に広くなるのを抑制して、第１接続配線３３１と傾斜面配線３３３との接続部分において、電気抵抗値が急激に変化することによる不具合を抑制することができる。なお、本実施形態では、第２接続配線３３２は、第２の方向Ｙに沿って同じ幅ｗ１で形成されるようにしたが、特にこれに限定されず、第２接続配線３３２の傾斜面配線３３３との接続部分においても第１接続配線３３１と同様にテーパー部を設けるようにしてもよい。

なお、このような接続配線３３は、複数層を積層して形成してもよい。例えば、流路形成基板１０及び保護基板３０側に設けた密着層と、密着層の流路形成基板１０及び保護基板３０とは反対面側に設けられた導電層とを積層してもよい。ここで、密着層としては、例えば、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケルクロム（ＮｉＣｒ）、パラジウム（Ｐｄ）、チタン（Ｔｉ）、タングステン（Ｗ）、チタンタングステン（ＴｉＷ）等が挙げられる。また、導電層としては、例えば、金（Ａｕ）や銅（Ｃｕ）等が挙げられる。もちろん、密着層及び導電層の間に他の層を介在させてもよく、また、上述した材料が混在する１つの層として形成してもよい。

このような保護基板３０の第１主面３０１には、本実施形態の半導体素子である駆動回路２００が実装されている。駆動回路２００は、保護基板３０の第１主面３０１に、少なくとも貫通孔３２の一部を覆って塞ぐように配置されている。すなわち、駆動回路２００は、第３の方向Ｚにおいて貫通孔３２に相対向する位置に設けられている。このような駆動回路２００は、第２の方向Ｙの幅が貫通孔３２の第１主面３０１の開口幅よりも大きく、貫通孔３２を第２の方向Ｙに跨がって配置されている。また、本実施形態では、駆動回路２００は、第１の方向Ｘの長さが貫通孔３２の第１主面３０１の開口長さよりも短い。そして、駆動回路２００は、第１の方向Ｘの両側に貫通孔３２の一部が露出するように、貫通孔３２の略中央に配置されている。

この駆動回路２００には、接続配線３３の第１配線端子３３４に電気的に接続される端子２０１が設けられている。端子２０１は、駆動回路２００の保護基板３０側の面に設けられている。そして、端子２０１は、駆動回路２００の第２の方向Ｙの両側に、第１の方向Ｘに並設されている。これにより、駆動回路２００の端子２０１と第１配線端子３３４とは第３の方向Ｚにおいて相対向して接続されている。なお、駆動回路２００の端子２０１には、金属バンプである接続部２１１が備えられており、接続部２１１と第１配線端子３３４との接続は、半田接続などの溶接、異方性導電性接着剤（ＡＣＰ、ＡＣＦ）、非導電性接着剤（ＮＣＰ、ＮＣＦ）を介在させて圧着することで確実に電気的な接続が図られる。

このように、本実施形態では、駆動回路２００が、貫通孔３２を第２の方向Ｙに跨がって配置されているため、保護基板３０の第１主面３０１において、駆動回路２００を配置するスペースをできる限り抑えることができる。これによりインクジェット式記録ヘッド１の小型化を図ることができる。

特に、本実施形態では、接続配線３３によってピッチ変換を行っているため、駆動回路２００を小型化することができる。したがって、保護基板３０上の駆動回路２００を配置するスペースをさらに減少させることができ、インクジェット式記録ヘッド１のさらなる小型化を図ることができる。

また、駆動回路２００は、貫通孔３２を第２の方向Ｙに跨がって設けられているため、貫通孔３２によって剛性が低下した保護基板３０を駆動回路２００によって補強することができる。

さらに、駆動回路２００は、第１の方向Ｘにおいて、貫通孔３２よりも短いため、第１の方向Ｘにおいて、駆動回路２００の両側において貫通孔３２が外部と連通して貫通孔３２内の放熱を行うことができる。したがって、駆動回路２００や接続配線３３からの発熱が貫通孔３２内にこもるのを抑制することができる。

なお、本実施形態では、駆動回路２００を保護基板３０上に直接実装するようにしたが、特にこれに限定されず、例えば、保護基板３０の接続配線３３の第１配線端子３３４に駆動回路２００が実装されたフレキシブル基板、例えば、ＦＰＣ等やリジット基板等を接続するようにしてもよい。ただし、本実施形態のように保護基板３０上に駆動回路２００を直接実装することで、フレキシブル基板やリジット基板等が不要となり、コストを低減することができる。

また、本実施形態では、駆動回路２００を保護基板３０上に貫通孔３２を跨いで実装するようにしたが、特にこれに限定されず、駆動回路２００を保護基板３０の貫通孔３２の第２の方向Ｙの両側の何れか一方又は両側に実装するようにしてもよい。

さらに、このような流路形成基板１０、保護基板３０、連通板１５及びノズルプレート２０の接合体には、複数の圧力発生室１２に連通するマニホールド１００を形成するケース部材４０が固定されている。ケース部材４０は、平面視において上述した連通板１５と略同一形状を有し、保護基板３０に接合されると共に、上述した連通板１５にも接合されている。具体的には、ケース部材４０は、保護基板３０側に流路形成基板１０及び保護基板３０が収容される深さの凹部４１を有する。この凹部４１は、保護基板３０の流路形成基板１０に接合された面よりも広い開口面積を有する。そして、凹部４１に流路形成基板１０等が収容された状態で凹部４１のノズルプレート２０側の開口面が連通板１５によって封止されている。これにより、流路形成基板１０及び保護基板３０とケース部材４０との間には第３マニホールド部４２が画成されている。そして、連通板１５に設けられた第１マニホールド部１７及び第２マニホールド部１８と、ケース部材４０によって画成された第３マニホールド部４２と、によって本実施形態のマニホールド１００が構成されている。

なお、ケース部材４０の材料としては、例えば、樹脂や金属等を用いることができる。ちなみに、ケース部材４０として、樹脂材料を成形することにより、低コストで量産することができる。

また、連通板１５の第１マニホールド部１７及び第２マニホールド部１８が開口する面には、コンプライアンス基板４５が設けられている。このコンプライアンス基板４５が、第１マニホールド部１７と第２マニホールド部１８の液体噴射面２０ａ側の開口を封止している。このようなコンプライアンス基板４５は、本実施形態では、封止膜４６と、固定基板４７と、を具備する。封止膜４６は、可撓性を有する薄膜（例えば、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）やステンレス鋼（ＳＵＳ）等により形成された厚さが２０μｍ以下の薄膜）からなり、固定基板４７は、ステンレス鋼（ＳＵＳ）等の金属等の硬質の材料で形成される。この固定基板４７のマニホールド１００に対向する領域は、厚さ方向に完全に除去された開口部４８となっているため、マニホールド１００の一方面は可撓性を有する封止膜４６のみで封止された可撓部であるコンプライアンス部４９となっている。

なお、ケース部材４０には、マニホールド１００に連通して各マニホールド１００にインクを供給するための導入路４４が設けられている。また、ケース部材４０には、保護基板３０の第１主面３０１を露出させて駆動回路２００を内部に収容する接続口４３が設けられている。駆動回路２００を駆動させる信号及び電源の外部からの供給は、可撓性基板等を接続口４３内に挿入して実装し、接続口４３内で駆動回路２００と電気的に接続する、又は保護基板３０上に形成された図示しない配線等を介して接続される。

このような構成のインクジェット式記録ヘッド１では、インクを噴射する際に、インクが貯留された液体貯留手段から導入路４４を介してインクを取り込み、マニホールド１００からノズル開口２１に至るまで流路内部をインクで満たす。その後、駆動回路２００からの信号に従い、圧力発生室１２に対応する各圧電アクチュエーター３００に電圧を印加することにより、圧電アクチュエーター３００と共に振動板５０をたわみ変形させる。これにより、圧力発生室１２内の圧力が高まり所定のノズル開口２１からインク滴が噴射される。

ここで、このような本実施形態のインクジェット式記録ヘッドの製造方法について、図７〜図９を参照して説明する。なお、図７〜図９は、本発明の実施形態１に係るインクジェット式記録ヘッドの製造方法を示す断面図である。

まず、図７（ａ）に示すように、予め保持部３１及び貫通孔３２が形成された保護基板３０を予め圧電アクチュエーター３００及びリード電極９０等が形成された流路形成基板１０に接着剤３５を介して接合する。

次に、図７（ｂ）に示すように、保護基板３０の第１主面３０１、第１側壁部３２１及び保護基板３０の貫通孔３２内に露出された第３主面１０１の全面に亘って接続配線３３を形成する。接続配線３３の形成方法は特に限定されず、スパッタリング法、蒸着法等の気相法が挙げられる。このように、接続配線３３を形成することで、上述したように、第１側壁部３２１上の接続配線３３の厚さは、第１主面３０１及び第３主面１０１上の接続配線３３に比べて薄く形成される。

次に、図８（ａ）に示すように、流路形成基板１０と保護基板３０との接続配線３３上に亘ってレジスト４００を形成すると共にパターニングする。具体的には、図示しない露光マスクを介してレジストを露光し、現像することで露光された領域を除去してパターニングする。すなわち、本実施形態のレジストはポジ型であり、露光されると現像液に対して溶解性が増大し、露光された領域が除去されてパターニングされる。もちろん、レジスト４００は、ポジ型に限定されず、ネガ型を用いるようにしてもよい。

次に、図８（ｂ）に示すように、パターニングされたレジスト４００を用いて接続配線３３をエッチングによりパターニングする。接続配線３３のパターニングは、例えば、ウェットエッチング等が挙げられる。このように接続配線３３をパターニングする際に、上述のように、傾斜面配線３３３の幅ｗ２を第１接続配線３３１及び第２接続配線３３２の幅ｗ１よりも広くする。

次に、図８（ｃ）に示すように、流路形成基板１０に圧力発生室１２を形成する。本実施形態では、流路形成基板１０の第３主面１０１とは反対面側から異方性エッチング（ウェットエッチング）することで、圧力発生室１２を形成した。

次に、図９（ａ）に示すように、流路形成基板１０の第３主面１０１とは反対面側に、ノズル連通路１６、第１マニホールド部１７、第２マニホールド部１８等が形成された連通板１５と、ノズル開口２１が形成されたノズルプレート２０とを接合する。

次に、図９（ｂ）に示すように、保護基板３０の第１主面３０１上に駆動回路２００を実装する。本実施形態では、駆動回路２００を接続部２１１を介して接続配線３３に接続する。なお、接続配線３３の導電層３３Ｂの表面は粗面化されているため、駆動回路２００の端子２０１と接続配線３３の第１配線端子３３４との接続をアンカー効果によって強固に行うことができる。したがって、駆動回路２００の剥離等を抑制することができる。

なお、本実施形態では、保護基板３０及び流路形成基板１０として説明したが、特にこれに限定されず、１枚のウェハーに保護基板３０を複数一体的に形成すると共に、１枚のウェハーに流路形成基板１０を複数一体的に形成し、これらを接合した後で、図１に示すチップサイズに分割するようにしてもよい。このような分割は、例えば、図８（ｃ）に示す圧力発生室１２等を形成した後に行うようにすれば、同時に複数の流路形成基板１０及び保護基板３０を形成することができる。

（他の実施形態）
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明の基本的な構成は上述したものに限定されるものではない。

例えば、上述した実施形態１では、傾斜面配線３３３によって、ピッチ変換、すなわち、第１接続配線３３１の第１のピッチｄ１と第２接続配線３３２の第２のピッチｄ２との変換を行っているため、傾斜面配線３３３は、第１の方向Ｘ及び第２の方向Ｙに対して傾斜して設けられた部分、つまり傾斜部３３３ｂを有する。このため、第１の方向Ｘで隣り合う傾斜面配線３３３の間隔、特に傾斜部３３３ｂの間隔は、第１接続配線３３１の間隔よりも狭くなる。したがって、傾斜面配線３３３、特に傾斜部３３３ｂの幅ｗ２を広くし過ぎると、隣り合う接続配線３３の間隔が狭くなり、隣り合う接続配線３３の短絡やマイグレーションが発生する虞がある。また、傾斜部３３３ｂの幅ｗ２を広くすると共に、傾斜部３３３ｂの間隔を広くすると、第１側壁部３２１を第１の方向Ｘに広くしなくてはならず、部品の大型化を招く虞がある。したがって、例えば、図１０に示すように、傾斜面配線３３３のうち、傾斜面配線直線部３３３ａのみを幅ｗ２で形成し、傾斜部３３３ｂを第１接続配線直線部３３１ａ及び第２接続配線３３２の幅ｗ１と同じ幅ｗ１で形成すれば、第１の方向Ｘで隣り合う傾斜部３３３ｂの間隔が狭くなることによる短絡等の不具合を抑制することができる。もちろん、傾斜部３３３ｂは、第１接続配線直線部３３１ａ及び第２接続配線３３２の幅ｗ１よりも広い幅、且つ傾斜面配線直線部３３３ａの幅ｗ２よりも狭い幅で形成するようにしてもよい。

また、上述した実施形態１では、第１側壁部３２１上において、傾斜面配線３３３に傾斜部３３３ｂを設けることで、ピッチ変換を行うようにしたが、特にこれに限定されず、ピッチ変換を行わないようにしてもよい。また、第１接続配線３３１によってピッチ変換を行うようにしてもよい。このような構成を図１１に示す。なお、図１１は、本発明の他の実施形態に係る接続配線を示す平面図である。

図１１に示すように、接続配線３３は、第１接続配線３３１、第２接続配線３３２及び傾斜面配線３３３を具備する。

傾斜面配線３３３は、幅ｗ２を有する傾斜面配線直線部３３３ａのみで構成されている。

また、第１接続配線３３１は、第１接続配線直線部３３１ａと、テーパー部３３１ｂと、傾斜部３３１ｃと、延設部３３１ｄと、を具備する。

そして、第１接続配線３３１は、傾斜部３３１ｃを第２の方向Ｙに対して角度θｂだけ傾斜して設けることで、第２接続配線３３２の第１のピッチｄ１を第２のピッチｄ２にピッチ変換している。

このように、接続配線３３のピッチ変換を行う傾斜部３３１ｃを第１主面３０１上に設けることで、傾斜面配線３３３を傾斜面配線直線部３３３ａのみで構成することができる。したがって、傾斜面配線３３３の幅ｗ２を第１接続配線３３１及び第２接続配線３３２の幅ｗ１よりも広くしても、隣り合う傾斜面配線３３３同士が短絡するのを抑制することができる。また、幅が比較的狭い第１接続配線３３１に傾斜部３３１ｃを設けることで、隣り合う傾斜部３３１ｃの間隔が著しく狭くなるのを抑制することができる。

また、例えば、上述した実施形態１では、保護基板３０に貫通孔３２を設け、貫通孔３２内に斜面である第１側壁部３２１を設けるようにしたが、特にこれに限定されず、１つの流路形成基板１０に対して、２つの保護基板３０を離して設け、２つの保護基板３０の相対向する端面を斜面としてもよい。

さらに、上述した実施形態１では、圧力発生室１２に圧力変化を生じさせる圧力発生手段として、薄膜型の圧電アクチュエーター３００を用いて説明したが、特にこれに限定されず、例えば、グリーンシートを貼付する等の方法により形成される厚膜型の圧電アクチュエーターや、圧電材料と電極形成材料とを交互に積層させて軸方向に伸縮させる縦振動型の圧電アクチュエーターなどを使用することができる。また、圧力発生手段として、圧力発生室内に発熱素子を配置して、発熱素子の発熱で発生するバブルによってノズル開口から液滴を吐出するものや、振動板と電極との間に静電気を発生させて、静電気力によって振動板を変形させてノズル開口から液滴を吐出させるいわゆる静電式アクチュエーターなどを使用することができる。

また、これら各実施形態のインクジェット式記録ヘッド１は、インクカートリッジ等と連通するインク流路を具備するインクジェット式記録ヘッドユニットの一部を構成して、インクジェット式記録装置に搭載される。図１２は、そのインクジェット式記録装置の一例を示す概略図である。

図１２に示すインクジェット式記録装置Ｉにおいて、インクジェット式記録ヘッド１は、液体貯留手段であるインクカートリッジ２が着脱可能に設けられ、インクジェット式記録ヘッド１を搭載したキャリッジ３は、装置本体４に取り付けられたキャリッジ軸５に軸方向移動自在に設けられている。

そして、駆動モーター６の駆動力が図示しない複数の歯車およびタイミングベルト７を介してキャリッジ３に伝達されることで、インクジェット式記録ヘッド１を搭載したキャリッジ３はキャリッジ軸５に沿って移動される。一方、装置本体４には搬送手段としての搬送ローラー８が設けられており、紙等の記録媒体である記録シートＳが搬送ローラー８により搬送されるようになっている。なお、記録シートＳを搬送する搬送手段は、搬送ローラーに限られずベルトやドラム等であってもよい。

なお、上述したインクジェット式記録装置Ｉでは、インクジェット式記録ヘッド１がキャリッジ３に搭載されて主走査方向に移動するものを例示したが、特にこれに限定されず、例えば、インクジェット式記録ヘッド１が固定されて、紙等の記録シートＳを副走査方向に移動させるだけで印刷を行う、所謂ライン式記録装置にも本発明を適用することができる。

また、上述した例では、インクジェット式記録装置Ｉは、液体貯留手段であるインクカートリッジ２がキャリッジ３に搭載された構成であるが、特にこれに限定されず、例えば、インクタンク等の液体貯留手段を装置本体４に固定して、貯留手段とインクジェット式記録ヘッド１とをチューブ等の供給管を介して接続してもよい。また、液体貯留手段がインクジェット式記録装置に搭載されていなくてもよい。

さらに、本発明は、広く液体噴射ヘッド全般を対象としたものであり、例えば、プリンター等の画像記録装置に用いられる各種のインクジェット式記録ヘッド等の記録ヘッド、液晶ディスプレイ等のカラーフィルターの製造に用いられる色材噴射ヘッド、有機ＥＬディスプレイ、ＦＥＤ（電界放出ディスプレイ）等の電極形成に用いられる電極材料噴射ヘッド、バイオｃｈｉｐ製造に用いられる生体有機物噴射ヘッド等にも適用することができる。

また、本発明は、広く配線実装構造及びその製造方法全般を対象としたものであり、液体噴射ヘッド以外の他のデバイスに適用することができる。

Ｉ インクジェット式記録装置（液体噴射装置）、 １ インクジェット式記録ヘッド（液体噴射ヘッド）、 １０ 流路形成基板（第２基体）、 １０１ 第３主面、 １５ 連通板、 ２０ ノズルプレート、 ２０ａ 液体噴射面、 ２１ ノズル開口、 ３０ 保護基板（第１基体）、 ３０１ 第１主面、 ３０２ 第２主面、 ３１ 保持部、 ３２ 貫通孔、 ３２１ 第１側壁部（斜面）、３２２ 第２側壁部、 ３３ 接続配線、 ３３１ 第１接続配線、 ３３２ 第２接続配線（第２配線端子；配線端子）、 ３３３ 傾斜面配線、 ３３３ａ 直線部、 ３３３ｂ傾斜部、 ３３４ 第１配線端子、 ４０ ケース部材、 ４５ コンプライアンス基板、 ５０ 振動板、 ６０ 第１電極、 ７０ 圧電体層、 ８０ 第２電極、 ９０ リード電極、 ９１ 接続端子、 ９１Ａ 接続端子列、 １００ マニホールド、 ２００ 駆動回路（半導体素子）、 ２０１ 端子、 ２１１ 接続部、 ３００ 圧電アクチュエーター、 ｔ１、ｔ２ 厚さ、 ｗ１、ｗ２ 幅、 θａ、θｂ 角度

Claims (6)

1. 第１主面と、該第１主面とは反対側の裏面とされる第２主面と、前記第１主面と前記第２主面との間に形成された斜面と、を有する第１基体と、
   前記第１基体の前記第２主面と接合される第３主面と、前記第３主面上に形成された接続端子と、を有する第２基体と、
   前記第１基体の前記第１主面上と、前記第１基体の前記斜面上と、前記第３主面の前記接続端子上と、に連続して形成された接続配線と、
   を備え、
   前記接続配線の前記傾斜面上に形成された傾斜面配線は、前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分よりも厚さが薄く形成されていると共に、
   前記傾斜面配線は、前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分よりも広い幅で形成されている
   ことを特徴とする配線実装構造。
2. 前記第１基体がシリコン単結晶基板からなり、
   前記斜面が、前記第２主面に対して３５．３度で形成されており、
   前記傾斜面配線の幅は、前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分の幅に対して、１．２倍以上で、
   前記傾斜面配線の幅を広くした場合の当該傾斜面配線の断面積と、前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分の断面積との差が、前記傾斜面配線と前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分とが同じ幅で形成された場合の両者の断面積の差よりも小さくなる幅を有することを特徴とする請求項１記載の配線実装構造。
3. 前記第１基体がシリコン単結晶基板からなり、
   前記斜面が、前記第２主面に対して５４．７度で形成されており、
   前記傾斜面配線の幅は、前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分の幅に対して、１．７倍以上で、
   前記傾斜面配線の幅を広くした場合の当該傾斜面配線の断面積と、前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分の断面積との差が、前記傾斜面配線と前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分とが同じ幅で形成された場合の両者の断面積の差よりも小さくなる幅を有することを特徴とする請求項１記載の配線実装構造。
4. 第１主面と、該第１主面とは反対側の裏面とされる第２主面と、前記第１主面と前記第２主面との間に形成された斜面と、を有する第１基体と、
   前記第１基体の前記第２主面と接合される第３主面と、前記第３主面上に形成された接続端子と、を有する第２基体と、
   前記第１基体の前記第１主面上と、前記第１基体の前記斜面上と、前記第３主面の前記接続端子上と、に連続して形成された接続配線と、
   を備える配線実装構造の製造方法であって、
   前記第１基体の前記第１主面上、前記第１基体の前記斜面上及び前記第３主面の前記接続端子上に亘って連続した前記接続配線を気相法によって形成すると共に、前記接続配線をパターニングして、前記接続配線の前記傾斜面上に形成された傾斜面配線を、前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分よりも広い幅で形成する
   ことを特徴とする配線実装構造の製造方法。
5. 第１主面と、該第１主面とは反対側の裏面とされる第２主面と、前記第１主面と前記第２主面との間に形成された斜面と、を有する第１基体と、
   前記第１基体の前記第２主面と接合される第３主面と、液体を噴射するノズル開口に連通する流路と、該流路に圧力変化を生じさせる圧力発生手段と、前記第３主面上に形成されて前記圧力発生手段に電気的に接続された接続端子と、を有する第２基体と、
   前記第１基体の前記第１主面上と、前記第１基体の前記斜面上と、前記第３主面の前記接続端子上と、に連続して形成された接続配線と、
   を備え、
   前記接続配線の前記傾斜面上に形成された傾斜面配線は、前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分よりも厚みが薄く形成されていると共に、
   前記傾斜面配線は、前記接続配線の前記第１主面上に形成された部分よりも広い幅で形成されている
   ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
6. 請求項５記載の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置。

Images