JP2015216403A - 有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法及び現像処理装置 - Google Patents
有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法及び現像処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015216403A JP2015216403A JP2015161499A JP2015161499A JP2015216403A JP 2015216403 A JP2015216403 A JP 2015216403A JP 2015161499 A JP2015161499 A JP 2015161499A JP 2015161499 A JP2015161499 A JP 2015161499A JP 2015216403 A JP2015216403 A JP 2015216403A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- developer
- substrate
- developing
- nozzle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 title claims abstract description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 83
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 81
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 81
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 26
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 95
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 13
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 205
- 239000010408 film Substances 0.000 description 64
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 33
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-pentanol Chemical compound CC(C)CC(C)O WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000002079 cooperative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
40 スピンチャック(基板保持部)
42 回転駆動機構
50 現像処理装置
52,52A,52B 現像ノズル(現像液供給ノズル)
56A 現像ノズル移動機構(現像液供給ノズル移動機構)
56B リンスノズル移動機構(リンス液供給ノズル移動機構)
58 リンスノズル(リンス液供給ノズル)
60 コントローラ(制御部)
Claims (4)
- 表面にレジストが塗布され、露光された後の基板に有機溶剤を含有する現像液を供給して現像を行う現像処理方法において、
上記基板に有機溶剤を含有する現像液を供給し、第1の回転数で上記基板を回転させ、上記基板上に液膜を形成して現像を行う現像工程と、
その後、リンス処理を行わずに、上記第1の回転数よりも高い回転数で上記基板を回転させ、上記基板表面の現像液を振り切って、上記基板の表面を乾燥させる乾燥工程と、を備える、ことを特徴とする有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法。 - 請求項1記載の有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法において、
上記第1の回転数は、100rpm〜1500rpmである、ことを特徴とする有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法。 - 表面にレジストが塗布され、露光された後の基板に有機溶剤を含有する現像液を供給して現像を行う現像処理装置において、
上記基板を水平に保持する基板保持部と、
上記基板保持部を鉛直軸回りに回転させる回転駆動機構と、
上記基板保持部に保持された基板の表面に対して上記現像液を供給する現像液供給ノズルと、
上記現像液供給ノズルから上記基板への上記現像液の供給及び上記回転駆動機構を制御する制御部と、を具備し、
上記制御部からの制御信号に基づいて、上記基板に有機溶剤を含有する現像液を供給し、第1の回転数で上記基板を回転させ、上記基板上に液膜を形成して現像を行う現像処理と、 その後、リンス処理を行わずに、上記第1の回転数よりも高い回転数で上記基板を回転させ、上記基板表面の現像液を振り切って、上記基板の表面を乾燥させる乾燥処理と、を行うことを特徴とする有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理装置。 - 請求項3記載の有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理装置において、
上記第1の回転数は、100rpm〜1500rpmである、ことを特徴とする有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015161499A JP6049825B2 (ja) | 2011-02-24 | 2015-08-19 | 有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法及び現像処理装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011037760 | 2011-02-24 | ||
JP2011037760 | 2011-02-24 | ||
JP2015161499A JP6049825B2 (ja) | 2011-02-24 | 2015-08-19 | 有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法及び現像処理装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011252571A Division JP5797532B2 (ja) | 2011-02-24 | 2011-11-18 | 有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法及び現像処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015216403A true JP2015216403A (ja) | 2015-12-03 |
JP6049825B2 JP6049825B2 (ja) | 2016-12-21 |
Family
ID=54752952
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015161499A Active JP6049825B2 (ja) | 2011-02-24 | 2015-08-19 | 有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法及び現像処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6049825B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018061944A1 (ja) | 2016-09-29 | 2018-04-05 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法 |
WO2021065450A1 (ja) | 2019-09-30 | 2021-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 |
WO2021200056A1 (ja) | 2020-03-30 | 2021-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、フォトマスク製造用感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びフォトマスクの製造方法 |
WO2021200179A1 (ja) | 2020-03-31 | 2021-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03184050A (ja) * | 1989-09-20 | 1991-08-12 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPH07135136A (ja) * | 1993-06-21 | 1995-05-23 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPH09251953A (ja) * | 1996-01-12 | 1997-09-22 | Sony Corp | レジスト現像方法 |
-
2015
- 2015-08-19 JP JP2015161499A patent/JP6049825B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03184050A (ja) * | 1989-09-20 | 1991-08-12 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPH07135136A (ja) * | 1993-06-21 | 1995-05-23 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPH09251953A (ja) * | 1996-01-12 | 1997-09-22 | Sony Corp | レジスト現像方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018061944A1 (ja) | 2016-09-29 | 2018-04-05 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法 |
WO2021065450A1 (ja) | 2019-09-30 | 2021-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 |
WO2021200056A1 (ja) | 2020-03-30 | 2021-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、フォトマスク製造用感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びフォトマスクの製造方法 |
WO2021200179A1 (ja) | 2020-03-31 | 2021-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6049825B2 (ja) | 2016-12-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5797532B2 (ja) | 有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法及び現像処理装置 | |
JP5305331B2 (ja) | 現像処理方法及び現像処理装置 | |
JP2007318087A (ja) | 現像装置、現像処理方法、現像処理プログラム、及びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
JP6049825B2 (ja) | 有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法及び現像処理装置 | |
TW201629640A (zh) | 顯影處理方法、電腦記錄媒體及顯影處理裝置 | |
JP5084656B2 (ja) | 現像処理方法及び現像処理装置 | |
KR101977752B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 방법 | |
KR101689619B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 이를 가지는 기판 처리 설비 | |
JP2022046444A (ja) | 洗浄ジグ、これを含む基板処理装置、そして基板処理装置の洗浄方法 | |
JP3730829B2 (ja) | 現像処理方法及び現像処理装置 | |
KR101198496B1 (ko) | 현상 처리 방법 및 현상 처리 장치 | |
JP2019047131A (ja) | 塗布、現像方法、記憶媒体及び塗布、現像装置 | |
JPH11207250A (ja) | 膜形成方法 | |
KR20160149351A (ko) | 기판 처리 방법 및 장치 | |
KR101927696B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 방법 | |
KR20200017027A (ko) | 기판 처리 장치 및 방법 | |
JP2011035186A (ja) | 塗布処理装置、塗布処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP6395673B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5622282B2 (ja) | 基板裏面洗浄装置 | |
JP2002367899A (ja) | 現像処理方法 | |
JP2001044100A (ja) | 基板の現像処理方法 | |
JP2001319870A (ja) | 液処理方法 | |
KR20190008458A (ko) | 기판 처리 장치 및 방법 | |
KR101914479B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 방법 | |
KR101884856B1 (ko) | 기판 처리 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160513 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160603 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161118 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161122 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6049825 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |