JP2015212775A - 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
前記ベースプレートに生じる振動を検出する検出部と、前記ベースプレートに振動が生じることによる前記ミラーの変形量が許容範囲に収まるように、前記検出部による検出結果に基づいて各アクチュエータを制御する制御部と、を含むことを特徴とする。
[装置構成について]
第1実施形態の光学装置10について、図1を参照しながら説明する。図1は、第1実施形態の光学装置10の構成例を示す概略図である。第1実施形態の光学装置10は、例えば、露光装置の投影光学系に含まれるミラー1の反射面1aを変形させることによって投影光学系の光学収差や、投影像の倍率や歪みやフォーカスを補正する。光学装置10は、ミラー1と、ベースプレート3と、複数のアクチュエータ2と、計測部4と、制御部8とを含みうる。制御部8は、CPUやメモリなどを有し、複数のアクチュエータ2を制御する。
補償器8bの伝達関数Hの決定方法について説明する。補償器8bの伝達関数Hは、式(1)に示すように、伝達関数U(第1伝達関数)の逆数と伝達関数G(第2伝達関数)とを乗ずることによって決定されうる。伝達関数Uは、指令値v(もしくは指令値vに比例する駆動力fでもよい)を入力としてミラー1の変形を出力とする伝達関数である。指令値vは、複数のアクチュエータを制御するための複数の指令値を含み、ミラー1の変形は、ミラー1における複数の箇所の変位を含みうる。そのため、伝達関数Uは、各アクチュエータ2を制御するための指令値vとミラー1における各箇所の変位との行列によって表されうる。この場合、式(1)における「U−1」は伝達関数Uの逆行列となる。また、伝達関数Gは、ベースプレート3の振動を入力としてミラー1の変形を出力とする伝達関数である。ベースプレート3の振動は、例えばZ方向、X方向およびY方向などの複数(3つ)の方向成分を含みうる。そのため、伝達関数Gは、ベースプレート3の振動における各方向成分とミラー1における各箇所の変位との行列によって表されうる。ここで、各伝達関数における入力数と出力数とが異なる場合では、補償器8bの伝達関数Hを、逆行列の代わりに疑似逆行列を用いた式(2)によって求めることができる。式(2)において、Tは転置を示す。また、第1実施形態では、制御部8が補償器8bの伝達関数Hを決定する方法について説明するが、それに限られるものではない。例えば、光学装置10もしくは露光装置の外部におけるコンピュータを用いた計算やシミュレーションなどによって伝達関数Uや伝達関数Gを求め、補償器8bの伝達関数Hを決定してもよい。
H=U−1・G ・・・(1)
H=(UT・U)−1・UT・G ・・・(2)
図4は、第1実施形態の光学装置10において、ベースプレート3のZ方向における振動(加速度a)がミラー1の各箇所(箇所1、箇所2・・・)に伝わるまでの伝達関数を示す図である。図4において、実線はフィードフォワード制御系を動作させた場合を示し、破線はフィードフォワード制御系を動作させない場合を示している。また、フィルタ8fには遮断周波数が1Hzのハイパスフィルタを用い、フィルタ8gには遮断周波数200Hzのローパスフィルタを用いた。図4に示すように、フィードフォワード制御系を動作させた場合では、動作させない場合と比べて、1〜100Hzの周波数範囲においてベースプレート3からミラー1の各箇所に伝わる振動が20〜40dBで低減している。即ち、第1実施形態の光学装置10は、ベースプレート3の振動に基づいて各アクチュエータ2をフィードフォワード制御することにより、ベースプレート3の振動によるミラー1の意図しない変形を低減することができる。
本発明の第2実施形態の光学装置20について、図5を参照しながら説明する。図5は、第2実施形態の光学装置20を示す断面図である。第2実施形態の光学装置20は、ベースプレート3とは別に基準体5を含み、その基準体5に検出部6と計測部4とが設けられている。基準体5に設けられた検出部6はベースプレート3に生じる振動として基準体5の加速度を検出し、計測部4はミラー1における各箇所の位置を計測する。基準体5は、例えば、ミラー1に入射する光、およびミラー1で反射された光を通過させることができるように開口を有していることが好ましい。また、第2実施形態の光学装置20における制御系は、第1実施形態の光学装置における制御系と同様の構成であるため、ここでは制御系の構成についての説明を省略する。
第3実施形態の光学装置について説明する。第3実施形態の光学装置は、第1実施形態の光学装置10に比べて、ミラー1の形状が目標形状に近づくように各アクチュエータ2を制御するための制御系の構成が異なる。第1実施形態の光学装置で10は、ミラー1の形状と目標形状との偏差に基づいて各アクチュエータ2をフィードバック制御していたが、第3実施形態の光学装置は、ミラー1の目標形状r’に基づいて各アクチュエータ2をフィードフォワード制御する。ここで、第3実施形態の光学装置は、第1実施形態の光学装置10または第2実施形態の光学装置20と装置構成が同じであるため、ここでは装置構成についての説明を省略する。
本実施形態の露光装置について、図7を参照しながら説明する。本実施形態の露光装置50は、照明光学系ILと、投影光学系POと、マスク55を保持して移動可能なマスクステージMSと、基板56を保持して移動可能な基板ステージWSとを含みうる。また、露光装置50は、基板56を露光する処理を制御する制御部51を含みうる。
本発明の実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (13)
- ミラーの反射面を変形させる光学装置であって、
ベースプレートと、
前記ベースプレートと前記ミラーとの間に配置され、前記ミラーに力を加える複数のアクチュエータと、
前記ベースプレートに生じる振動を検出する検出部と、
前記ベースプレートに振動が生じることによる前記ミラーの変形量が許容範囲に収まるように、前記検出部による検出結果に基づいて各アクチュエータを制御する制御部と、
を含むことを特徴とする光学装置。 - 前記制御部は、
前記検出部による検出結果に基づいて各アクチュエータを制御するための指令値を決定する補償器を含み、
前記指令値を入力として前記ミラーの変形を出力とする第1伝達関数の逆数と、前記ベースプレートの振動を入力として前記ミラーの変形を出力とする第2伝達関数とを乗ずることで前記補償器の伝達関数を決定する、ことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。 - 前記制御部は、1つのアクチュエータが前記ミラーに単位量の力を加えたときに前記ミラーにおける複数の箇所の各々が変位する量を、各アクチュエータについて取得することにより前記第1伝達関数を決定する、ことを特徴とする請求項2に記載の光学装置。
- 前記ベースプレートに振動を加える加振部を含み、
前記制御部は、前記加振部によって前記ベースプレートに振動を加えたときに前記ミラーにおける複数の箇所の各々が変位する量を取得することにより前記第2伝達関数を決定する、ことを特徴とする請求項2又は3に記載の光学装置。 - 前記ベースプレートに設けられ、前記ミラーにおける各箇所の位置を計測する計測部を更に含み、
前記制御部は、前記計測部による計測結果に基づいて前記ミラーにおける各箇所が変位する量を取得する、ことを特徴とする請求項3又は4に記載の光学装置。 - 前記検出部は、前記ベースプレートに設けられ、前記ベースプレートに生じる振動として前記ベースプレートの加速度を検出する、ことを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の光学装置。
- 基準体と、前記基準体に設けられ、前記ミラーにおける各箇所の位置を計測する計測部とを更に含み、
前記制御部は、前記計測部による計測結果に基づいて前記ミラーにおける各箇所が変位する量を取得する、ことを特徴とする請求項3又は4に記載の光学装置。 - 前記検出部は、前記基準体に設けられ、前記ベースプレートに生じる振動として前記基準体の加速度を検出する、ことを特徴とする請求項7に記載の光学装置。
- 前記制御部は、前記ミラーの形状と目標形状との偏差に基づいて各アクチュエータを制御するための第2指令値を決定する第2補償器を含む、ことを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の光学装置。
- 前記ミラーの中心を含む前記ミラーの一部を前記ベースプレートに固定する固定部材を更に含む、ことを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の光学装置。
- マスクのパターンを基板に投影する投影光学系であって、
請求項1乃至10のうちいずれか1項に記載の光学装置を含む、ことを特徴とする投影光学系。 - 基板を露光する露光装置であって、
請求項11に記載の投影光学系を含む、ことを特徴とする露光装置。 - 請求項12に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
前記ステップで露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
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