JP2015204383A - tape peeling device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a tape peeling device capable of peeling a protective tape at a low cost.SOLUTION: A tape peeling device comprises: a chuck table 10 which holds a rear face WR of a wafer W, in which a protective tape TG is adhered to a front face WS thereof, with a holding surface 10a; end portion peeling means 20 that peels an outer peripheral end of the protective tape TG from the wafer W; and peeling drive means 30 that relatively moves the holding surface 10a and the end portion peeling means 20 in a direction parallel with and a direction intersecting with the holding surface 10a. The end peeling means 20 comprises: a peeling knife 22 which has a cutting edge 22a as the lower end and which is inclined at a predetermined angle with respect to the holding surface 10a; and clamp means 23 which are disposed on both sides of the cutting edge 22a and which hold the outer peripheral end of the protective tape TG peeled by the peeling knife 22. The tape peeling device moves the cutting edge 22a positioned slightly above the front face WS of the wafer W in a direction parallel to the holding surface 10a from the outside to inside of the wafer W and thereby lifts the protective tape TG from the wafer to peel.

Description

本発明は、テープ剥離装置に関する。   The present invention relates to a tape peeling apparatus.

半導体ウエーハは、デバイス面を保護する保護テープが貼られた後、裏面を研削して薄化され、裏面にダイシングテープが貼られた後、保護テープが剥離され、個々のデバイスチップに分割される。   After a protective tape that protects the device surface is applied, the semiconductor wafer is thinned by grinding the back surface. After the dicing tape is applied to the back surface, the protective tape is peeled off and divided into individual device chips. .

保護テープの剥離は、これまでヒートシールと言われる熱によって粘着性が発現するテープを保護テープに熱圧着して貼着し、ヒートシールを引っ張ることで保護テープを剥離してきた(例えば、特許文献1参照)。また、常温で粘着性を有する粘着テープで保護テープを剥離する方法もあった。この場合、粘着性により取扱が難しいため(各所に貼り付いてしまう等)、粘着テープを保護テープの全面に貼って保護テープを剥離し、そのまま粘着テープを切断せずに、次のウエーハの保護テープの剥離に連続して使用する。こうすることで、テープの端部を引っ張らずに、テープ全体を繰り出す(送り出す)ことで、保護テープを剥離していた。しかし、この方法では、粘着テープの使用量が多いという課題があった。   In the past, the protective tape has been peeled off by sticking the tape that exhibits adhesiveness by heat, which is called heat sealing, to the protective tape by thermocompression bonding, and pulling the heat seal (for example, Patent Documents). 1). There was also a method of peeling off the protective tape with an adhesive tape having adhesiveness at room temperature. In this case, because it is difficult to handle due to adhesiveness (such as sticking to various places), stick the adhesive tape on the entire surface of the protective tape, peel off the protective tape, and protect the next wafer without cutting the adhesive tape as it is Used continuously for tape peeling. By doing so, the protective tape was peeled off by feeding out (feeding out) the entire tape without pulling the end of the tape. However, this method has a problem that the amount of adhesive tape used is large.

特開2011−204860号公報JP 2011-204860 A

特許文献1に示された方法では、ヒートシールが特殊なテープであるため、コストが高騰したり、購入先が限定されてしまうと言う課題があった。粘着テープを切断せずに連続して使用する方法では、粘着テープの使用量が増加して、コストが高騰する傾向であった。   In the method disclosed in Patent Document 1, since heat sealing is a special tape, there is a problem that the cost increases or the purchase destination is limited. In the method of using the adhesive tape continuously without cutting, the amount of the adhesive tape used increased and the cost tended to increase.

本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、その目的は、保護テープを低コストで剥離することができるテープ剥離装置を提供することにある。   This invention is made | formed in view of the above, Comprising: The objective is to provide the tape peeling apparatus which can peel off a protective tape at low cost.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明のテープ剥離装置は、ウエーハの表面に貼着された該ウエーハと同等の大きさの保護テープを剥離するテープ剥離装置であって、該保護テープが表面に貼着されたウエーハの裏面を保持面で保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハから該保護テープの端部を剥離させる端部剥離手段と、該保持面と平行方向および交差する方向に該保持面と該端部剥離手段とを相対移動させる剥離駆動手段と、を備え、該端部剥離手段は、刃先を下端とし、該保持面に対し所定の角度で傾斜した剥離ナイフと、該刃先を挟んだ両脇に配設され、該剥離ナイフによってウエーハから剥離した該保護テープの端部を挟持するクランプ手段と、を備え、ウエーハの表面より僅か上方に位置付けた該刃先をウエーハの外側から内側へ該保持面と平行方向に移動させ、該保護テープを押し上げてウエーハから剥離させることを特徴とする。   In order to solve the above-described problems and achieve the object, the tape peeling apparatus of the present invention is a tape peeling apparatus for peeling a protective tape having a size equivalent to that of the wafer attached to the surface of the wafer, A chuck table that holds the back surface of the wafer having the protective tape attached to the front surface with a holding surface, end peeling means for peeling the end of the protective tape from the wafer held on the chuck table, and the holding surface And a peeling driving means for moving the holding surface and the end peeling means relative to each other in a direction parallel to and intersecting with the edge, the edge peeling means having a cutting edge as a lower end and a predetermined angle with respect to the holding surface And a clamping means that is disposed on both sides of the cutting edge and sandwiches the end of the protective tape that has been peeled off from the wafer by the peeling knife, and is slightly above the surface of the wafer. It is moved in a direction parallel with the holding plane cutting edge destination located from the outside of the wafer inward, characterized in that is peeled from the wafer push up the protective tape.

また、前記テープ剥離装置の前記端部剥離手段は、傾斜した前記剥離ナイフと平行に対面するガイド面を備え、該剥離ナイフが押し上げて剥離した前記保護テープは該剥離ナイフと該ガイド面とに案内されることが好ましい。   Further, the end peeling means of the tape peeling device includes a guide surface facing in parallel with the inclined peeling knife, and the protective tape pushed up and peeled by the peeling knife is formed on the peeling knife and the guide surface. It is preferable to be guided.

また、前記テープ剥離装置は、前記刃先の該保持面からの高さを検知する刃先位置検知手段を備えることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said tape peeling apparatus is provided with the blade edge position detection means which detects the height from this holding surface of the said blade edge.

また、前記テープ剥離装置は、前記保持面の面方向において、前記チャックテーブルの該保持面に保持されたウエーハの外周端部の位置を検出する端部位置検出手段を備えることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said tape peeling apparatus is provided with the edge part position detection means which detects the position of the outer peripheral edge part of the wafer hold | maintained at this holding surface of the said chuck table in the surface direction of the said holding surface.

また、前記テープ剥離装置は、前記保護テープを挟持した前記クランプ手段がウエーハから離間して更に該保護テープを剥離する際に、該保護テープの張力を調整する駆動ローラーと、該駆動ローラーとで該保護テープを挟持する回転ローラーとを備えることが好ましい。   The tape peeling device includes a driving roller that adjusts the tension of the protective tape when the clamping means holding the protective tape is separated from the wafer and further peels off the protective tape, and the driving roller. It is preferable to include a rotating roller for sandwiching the protective tape.

そこで、本願発明のテープ剥離装置は、保護テープの端部に剥離ナイフの刃先を押し当てて剥離起点を形成し、ウエーハの表面から剥離された保護テープの外周端部をクランプ手段で挟持して剥離することで、消耗材を全く用いることなく保護テープを剥離することが可能となると言う効果を奏する。   Therefore, in the tape peeling device of the present invention, the edge of the protective knife is pressed against the edge of the protective tape to form a peeling starting point, and the outer peripheral edge of the protective tape peeled off from the surface of the wafer is clamped by the clamping means. By peeling, the protective tape can be peeled without using any consumable material.

図1は、実施形態に係るテープ剥離装置の剥離ナイフのチャックテーブルの保持面からの高さを検知した状態を示す図である。Drawing 1 is a figure showing the state where the height from the holding surface of the chuck table of the peeling knife of the tape peeling device concerning an embodiment was detected. 図2は、図1に示されたテープ剥離装置のチャックテーブルに保持されたウエーハの外周端部の位置を検出した状態を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a state in which the position of the outer peripheral end portion of the wafer held on the chuck table of the tape peeling device illustrated in FIG. 1 is detected. 図3は、図2に示されたテープ剥離装置の剥離ナイフの刃先を保護テープの粘着層に当接させた状態を示す図である。FIG. 3 is a view showing a state in which the cutting edge of the peeling knife of the tape peeling apparatus shown in FIG. 2 is in contact with the adhesive layer of the protective tape. 図4は、図3に示されたテープ剥離装置の剥離ナイフで保護テープの外周端部を剥離させた状態を示す図である。FIG. 4 is a view showing a state where the outer peripheral end of the protective tape is peeled off by the peeling knife of the tape peeling device shown in FIG. 図5は、図4に示されたテープ剥離装置の剥離ナイフの刃先を粘着層から離間させた状態を示す図である。FIG. 5 is a view showing a state in which the cutting edge of the peeling knife of the tape peeling apparatus shown in FIG. 4 is separated from the adhesive layer. 図6は、図5に示されたテープ剥離装置の剥離ナイフにより保護テープの外周端部を更に剥離させた状態を示す図である。FIG. 6 is a view showing a state in which the outer peripheral end of the protective tape is further peeled by the peeling knife of the tape peeling device shown in FIG. 図7は、図6に示されたテープ剥離装置のクランプ手段が保護テープの外周端部を挟持した状態を示す図である。FIG. 7 is a view showing a state in which the clamping means of the tape peeling device shown in FIG. 6 sandwiches the outer peripheral end of the protective tape. 図8は、図7に示されたテープ剥離装置の端部剥離手段を上昇させた状態を示す図である。FIG. 8 is a view showing a state in which the end peeling means of the tape peeling device shown in FIG. 7 is raised. 図9は、図8に示されたテープ剥離装置の駆動ローラーと回転ローラーが保護テープを挟持した状態を示す図である。FIG. 9 is a diagram illustrating a state where the driving roller and the rotating roller of the tape peeling device illustrated in FIG. 8 sandwich the protective tape. 図10は、図3に示されたテープ剥離装置の剥離ナイフの刃先とクランプ手段などを示す平面図である。FIG. 10 is a plan view showing the cutting edge of the peeling knife and the clamping means of the tape peeling apparatus shown in FIG. 図11は、図3に示されたテープ剥離装置の剥離ナイフの刃先などを拡大して示す図である。FIG. 11 is an enlarged view of the cutting edge of the peeling knife of the tape peeling apparatus shown in FIG. 図12は、図6に示されたテープ剥離装置の剥離ナイフ、クランプ手段などを拡大して示す図である。FIG. 12 is an enlarged view showing the peeling knife, the clamping means and the like of the tape peeling apparatus shown in FIG.

本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Embodiments (embodiments) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited by the contents described in the following embodiments. The constituent elements described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the structures described below can be combined as appropriate. Various omissions, substitutions, or changes in the configuration can be made without departing from the scope of the present invention.

〔実施形態〕
本発明の実施形態に係るテープ剥離装置を図面に基いて説明する。図1は、実施形態に係るテープ剥離装置の剥離ナイフのチャックテーブルの保持面からの高さを検知した状態を示す図である。図2は、図1に示されたテープ剥離装置のチャックテーブルに保持されたウエーハの外周端部の位置を検出した状態を示す図である。図3は、図2に示されたテープ剥離装置の剥離ナイフの刃先を保護テープの粘着層に当接させた状態を示す図である。図4は、図3に示されたテープ剥離装置の剥離ナイフで保護テープの外周端部を剥離させた状態を示す図である。図5は、図4に示されたテープ剥離装置の剥離ナイフの刃先を粘着層から離間させた状態を示す図である。図6は、図5に示されたテープ剥離装置の剥離ナイフにより保護テープの外周端部を更に剥離させた状態を示す図である。図7は、図6に示されたテープ剥離装置のクランプ手段が保護テープの外周端部を挟持した状態を示す図である。図8は、図7に示されたテープ剥離装置の端部剥離手段を上昇させた状態を示す図である。図9は、図8に示されたテープ剥離装置の駆動ローラーと回転ローラーが保護テープを挟持した状態を示す図である。図10は、図3に示されたテープ剥離装置の剥離ナイフの刃先とクランプ手段などを示す平面図である。図11は、図3に示されたテープ剥離装置の剥離ナイフの刃先などを拡大して示す図である。図12は、図6に示されたテープ剥離装置の剥離ナイフ、クランプ手段などを拡大して示す図である。
Embodiment
A tape peeling apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Drawing 1 is a figure showing the state where the height from the holding surface of the chuck table of the peeling knife of the tape peeling device concerning an embodiment was detected. FIG. 2 is a diagram illustrating a state in which the position of the outer peripheral end portion of the wafer held on the chuck table of the tape peeling device illustrated in FIG. 1 is detected. FIG. 3 is a view showing a state in which the cutting edge of the peeling knife of the tape peeling apparatus shown in FIG. 2 is in contact with the adhesive layer of the protective tape. FIG. 4 is a view showing a state where the outer peripheral end of the protective tape is peeled off by the peeling knife of the tape peeling device shown in FIG. FIG. 5 is a view showing a state in which the cutting edge of the peeling knife of the tape peeling apparatus shown in FIG. 4 is separated from the adhesive layer. FIG. 6 is a view showing a state in which the outer peripheral end of the protective tape is further peeled by the peeling knife of the tape peeling device shown in FIG. FIG. 7 is a view showing a state in which the clamping means of the tape peeling device shown in FIG. 6 sandwiches the outer peripheral end of the protective tape. FIG. 8 is a view showing a state in which the end peeling means of the tape peeling device shown in FIG. 7 is raised. FIG. 9 is a diagram illustrating a state where the driving roller and the rotating roller of the tape peeling device illustrated in FIG. 8 sandwich the protective tape. FIG. 10 is a plan view showing the cutting edge of the peeling knife and the clamping means of the tape peeling apparatus shown in FIG. FIG. 11 is an enlarged view of the cutting edge of the peeling knife of the tape peeling apparatus shown in FIG. FIG. 12 is an enlarged view showing the peeling knife, the clamping means and the like of the tape peeling apparatus shown in FIG.

実施形態に係るテープ剥離装置1(以下、単に剥離装置と記す)は、ウエーハW(図2等に示す)の表面WSに貼着された保護テープTGを剥離するものである。ウエーハWは、実施形態ではシリコン、サファイア、ガリウムなどを母材とする円板状の半導体ウエーハや光デバイスウエーハである。ウエーハWは、表面WSに格子状に形成される複数の分割予定ラインで区画された領域にデバイスが形成されている。ウエーハWは、表面WSに保護テープTGが貼着され、裏面WR側が図示しない研削装置により研削されて、所定の厚さまで薄化される。ウエーハWは、研削装置により研削された裏面WR側にダイシングテープTD(図2等に示す)が貼着されて環状フレームF(図2等に示す)に固定された後などに、保護テープTGが剥離される。   The tape peeling apparatus 1 (hereinafter simply referred to as a peeling apparatus) according to the embodiment is for peeling the protective tape TG attached to the surface WS of the wafer W (shown in FIG. 2 and the like). In the embodiment, the wafer W is a disk-shaped semiconductor wafer or optical device wafer having silicon, sapphire, gallium, or the like as a base material. In the wafer W, devices are formed in regions partitioned by a plurality of division lines formed in a lattice pattern on the surface WS. In the wafer W, the protective tape TG is attached to the front surface WS, and the back surface WR side is ground by a grinding device (not shown) and thinned to a predetermined thickness. The wafer W has a protective tape TG after the dicing tape TD (shown in FIG. 2 or the like) is adhered to the back surface WR side ground by the grinding apparatus and fixed to the annular frame F (shown in FIG. 2 or the like). Is peeled off.

保護テープTGは、ウエーハWと同等の大きさの円盤状に形成されている。保護テープTGは、図11に示すように、紫外線などを透過する合成樹脂などで構成された基材層BRと、基材層BRの表面に設けられかつウエーハWの表面WSに貼着する粘着層ARとを備えている。粘着層ARは、紫外線が照射されることにより粘着力が低下して非常に低い状態となる材料で構成されている。   The protective tape TG is formed in a disk shape having the same size as the wafer W. As shown in FIG. 11, the protective tape TG includes a base material layer BR made of a synthetic resin that transmits ultraviolet rays and the like, and an adhesive that is provided on the surface of the base material layer BR and is attached to the surface WS of the wafer W. And a layer AR. The adhesive layer AR is made of a material that has a very low state due to a decrease in adhesive strength when irradiated with ultraviolet rays.

剥離装置1は、図1に示すように、チャックテーブル10と、端部剥離手段20と、剥離駆動手段30と、刃先位置検知手段40と、端部位置検出手段50と、張力調整部60(図8などに示す)と、図示しない制御手段を備える。   As shown in FIG. 1, the peeling apparatus 1 includes a chuck table 10, an end peeling means 20, a peeling driving means 30, a blade edge position detecting means 40, an end position detecting means 50, and a tension adjusting section 60 ( And a control means (not shown).

チャックテーブル10は、保護テープTGが表面WSに貼着されたウエーハWの裏面WRが保持面10a上に載置されて、ウエーハWの裏面WRをダイシングテープTDを介して保持面10aで保持するものである。チャックテーブル10は、保持面10aを構成する部分がポーラスセラミック等から形成された円盤形状であり、図示しない真空吸引経路を介して図示しない真空吸引源と接続され、保持面10aに載置されたウエーハWを吸引することで保持する。チャックテーブル10の保持面10aを囲繞する外周部は、導電性を有する金属で構成されている。   The chuck table 10 has the back surface WR of the wafer W with the protective tape TG attached to the front surface WS placed on the holding surface 10a, and holds the back surface WR of the wafer W with the holding surface 10a via the dicing tape TD. Is. The chuck table 10 has a disk shape in which a portion constituting the holding surface 10a is formed of porous ceramic or the like, and is connected to a vacuum suction source (not shown) via a vacuum suction path (not shown) and placed on the holding surface 10a. The wafer W is held by suction. The outer peripheral portion surrounding the holding surface 10a of the chuck table 10 is made of a conductive metal.

端部剥離手段20は、チャックテーブル10に保持されたウエーハWから保護テープTGの外周端部を剥離させるものである。端部剥離手段20は、チャックテーブル10の保持面10aと交差する鉛直方向に昇降自在に設けられた剥離ヘッド21と、剥離ナイフ22と、一対のクランプ手段23と、を備えている。   The end peeling means 20 peels the outer peripheral edge of the protective tape TG from the wafer W held on the chuck table 10. The end peeling means 20 includes a peeling head 21, a peeling knife 22, and a pair of clamping means 23 provided so as to be movable up and down in a vertical direction intersecting the holding surface 10 a of the chuck table 10.

剥離ヘッド21は、その水平方向に平坦な下面21aに開口した切欠き24を設けている。切欠き24は、下面21aから上方に向かって剥離ヘッド21の母材を切り欠いている。   The peeling head 21 is provided with a notch 24 opened in a flat lower surface 21a in the horizontal direction. The notch 24 cuts the base material of the peeling head 21 upward from the lower surface 21a.

剥離ナイフ22は、導電性の金属で構成され、かつ鋭利な刃先22aを有しているとともに、直線状に延在している。剥離ナイフ22は、刃先22aを下端とし、保持面10aに対し所定の角度Θで傾斜している。なお、本実施形態では、剥離ナイフ22の長手方向の保持面10aとのなす角度Θは、45度程度であるが、30度程度であってもよい。剥離ナイフ22は、刃先22aが切欠き24内に突出し、かつ剥離ヘッド21の下面21aよりも下に配置された状態で、剥離ヘッド21に取り付けられている。また、剥離ナイフ22は、刃先22aに向かうにしたがって徐々にチャックテーブル10に近づくように、前述した角度Θを有して鉛直方向及び水平方向に対して傾斜している。剥離ナイフ22の刃先22aの水平方向の断面形状は、図10に示すように、チャックテーブル10側に頂点が設けられた三角形状に形成されている。剥離ナイフ22は、刃先22aがチャックテーブル10に保持されたウエーハWに貼着された保護テープTGの粘着層AR内に侵入されることで、ウエーハWの表面WSから保護テープTGを剥離させる。   The peeling knife 22 is made of a conductive metal, has a sharp cutting edge 22a, and extends linearly. The peeling knife 22 is inclined at a predetermined angle Θ with respect to the holding surface 10a with the cutting edge 22a as a lower end. In the present embodiment, the angle Θ formed with the holding surface 10a in the longitudinal direction of the peeling knife 22 is about 45 degrees, but may be about 30 degrees. The peeling knife 22 is attached to the peeling head 21 with the cutting edge 22a protruding into the notch 24 and disposed below the lower surface 21a of the peeling head 21. Further, the peeling knife 22 is inclined with respect to the vertical direction and the horizontal direction with the angle Θ described above so as to gradually approach the chuck table 10 toward the cutting edge 22a. As shown in FIG. 10, the cross-sectional shape in the horizontal direction of the cutting edge 22a of the peeling knife 22 is formed in a triangular shape having a vertex on the chuck table 10 side. The peeling knife 22 peels the protective tape TG from the surface WS of the wafer W when the cutting edge 22a enters the adhesive layer AR of the protective tape TG attached to the wafer W held on the chuck table 10.

クランプ手段23は、図10に示すように、刃先22aを水平方向に挟んだ両脇に配設され、剥離ナイフ22によってウエーハWから剥離した保護テープTGの外周端部を挟持するものである。クランプ手段23は、剥離ヘッド21に取り付けられたエアシリンダ25と、エアシリンダ25のロッド26(図7に示す)の先端に取り付けられた挟持部材27とを備えている。エアシリンダ25は、ロッド26の伸縮方向が水平方向と平行でかつ伸張したロッド26が剥離ナイフ22に近付くように剥離ヘッド21に取り付けられている。また、エアシリンダ25のロッド26は、切欠き24内に配置されている。   As shown in FIG. 10, the clamping means 23 is disposed on both sides of the cutting edge 22 a in the horizontal direction, and clamps the outer peripheral end of the protective tape TG peeled off from the wafer W by the peeling knife 22. The clamp means 23 includes an air cylinder 25 attached to the peeling head 21 and a clamping member 27 attached to the tip of a rod 26 (shown in FIG. 7) of the air cylinder 25. The air cylinder 25 is attached to the peeling head 21 so that the extending and contracting direction of the rod 26 is parallel to the horizontal direction and the extended rod 26 approaches the peeling knife 22. Further, the rod 26 of the air cylinder 25 is arranged in the notch 24.

剥離ヘッド21の切欠き24の内面には、挟持部材27と相対したガイド面24aが設けられている。即ち、端部剥離手段20は、ガイド面24aを備えている。ガイド面24aは、少なくとも剥離ナイフ22の両脇に配設されかつ傾斜した剥離ナイフ22と平行に形成されている。また、挟持部材27は、ガイド面24aと対面しかつガイド面24aと平行な挟持面27aを備えている。また、挟持部材27は、ロッド26が縮小すると、剥離ナイフ22およびガイド面24aから離れた側に配置される。クランプ手段23は、ロッド26が伸張して、ガイド面24aと挟持面27aとの間に保護テープTGの端部を挟持する。   A guide surface 24 a facing the clamping member 27 is provided on the inner surface of the notch 24 of the peeling head 21. That is, the end peeling means 20 includes a guide surface 24a. The guide surface 24a is arranged at least on both sides of the peeling knife 22 and is formed in parallel with the inclined peeling knife 22. The sandwiching member 27 includes a sandwiching surface 27a that faces the guide surface 24a and is parallel to the guide surface 24a. Further, when the rod 26 is reduced, the clamping member 27 is disposed on the side away from the peeling knife 22 and the guide surface 24a. The clamp means 23 clamps the end portion of the protective tape TG between the guide surface 24a and the clamping surface 27a as the rod 26 extends.

剥離駆動手段30は、保持面10aと平行方向および保持面10aと交差する鉛直方向に保持面10aと端部剥離手段20とを相対移動させるものである。剥離駆動手段30は、装置本体に取り付けられたモータやリードスクリューなどで構成され、保持面10aと平行方向にチャックテーブル10を移動自在に支持している。また、剥離駆動手段30は、剥離ヘッド21即ち端部剥離手段20を鉛直方向に移動自在に支持している。なお、本発明では、剥離駆動手段30は、保持面10aと交差する方向であれば、鉛直方向に限らず種々の方向に端部剥離手段20を移動自在に支持してもよい。   The peeling drive means 30 moves the holding surface 10a and the end peeling means 20 relative to each other in a direction parallel to the holding surface 10a and in a vertical direction intersecting the holding surface 10a. The peeling drive means 30 is configured by a motor, a lead screw, or the like attached to the apparatus main body, and supports the chuck table 10 so as to be movable in a direction parallel to the holding surface 10a. The peeling drive means 30 supports the peeling head 21, that is, the end peeling means 20, so as to be movable in the vertical direction. In the present invention, the peeling driving means 30 may support the end peeling means 20 movably not only in the vertical direction but also in various directions as long as it intersects the holding surface 10a.

刃先位置検知手段40は、剥離ナイフ22の刃先22aの保持面10aからの高さを検知するものである。刃先位置検知手段40は、図1に示すように、チャックテーブル10の外周部と剥離ナイフ22に印加する直流電源41と、チャックテーブル10の外周部と剥離ナイフ22との間に流れた電流を検知する電流計42とを備えている。刃先位置検知手段40は、チャックテーブル10と剥離ナイフ22の刃先22aとが接触したときに電流計42が電流を検知し、その検知結果を制御手段に出力することで、制御手段がチャックテーブル10と剥離ナイフ22の刃先22aとが接触した時の剥離ヘッド21の位置、即ち、剥離ナイフ22の刃先22aの保持面10aからの高さを検知する。また、本発明では、刃先位置検知手段40は、発光素子と発光素子からの光を受光する受光素子などを備えた、非接触式のものであってもよい。   The blade edge position detecting means 40 detects the height of the blade edge 22a of the peeling knife 22 from the holding surface 10a. As shown in FIG. 1, the blade edge position detection means 40 includes a DC power source 41 applied to the outer peripheral portion of the chuck table 10 and the peeling knife 22, and a current flowing between the outer peripheral portion of the chuck table 10 and the peeling knife 22. And an ammeter 42 for detection. The blade edge position detection means 40 is configured such that when the chuck table 10 and the blade edge 22a of the peeling knife 22 come into contact with each other, the ammeter 42 detects a current and outputs the detection result to the control means. The position of the peeling head 21 when the cutting knife 22 contacts the cutting edge 22a, that is, the height from the holding surface 10a of the cutting edge 22a of the peeling knife 22 is detected. In the present invention, the blade edge position detecting means 40 may be a non-contact type including a light emitting element and a light receiving element that receives light from the light emitting element.

端部位置検出手段50は、保持面10aの面方向において、チャックテーブル10の保持面10aに保持されたウエーハWの外周端部の位置を検出するものである。端部位置検出手段50は、剥離ヘッド21に取り付けられ、かつ鉛直方向と平行に下方に向かってレーザー光線L(図2に示す)を照射し、レーザー光線Lの反射光を受光するものである。端部位置検出手段50は、剥離ヘッド21の下方から離間したチャックテーブル10が剥離ヘッド21の下方に近づけられて、レーザー光線LのウエーハWの表面WSからの反射光を受光する。端部位置検出手段50は、レーザー光線Lの反射光を受光して、ウエーハWの外周端部の位置を検出し、その検出結果を制御手段に出力することで、制御手段がレーザー光線Lの反射光を受光したチャックテーブル10の位置、即ち、ウエーハWの外周端部の位置を検出する。   The end position detection means 50 detects the position of the outer peripheral end of the wafer W held on the holding surface 10a of the chuck table 10 in the surface direction of the holding surface 10a. The end position detection means 50 is attached to the peeling head 21 and irradiates a laser beam L (shown in FIG. 2) downward in parallel with the vertical direction and receives reflected light of the laser beam L. The end position detecting means 50 receives the reflected light from the surface WS of the wafer W of the laser beam L when the chuck table 10 separated from the lower side of the peeling head 21 is brought closer to the lower side of the peeling head 21. The end position detection means 50 receives the reflected light of the laser beam L, detects the position of the outer peripheral end of the wafer W, and outputs the detection result to the control means so that the control means reflects the reflected light of the laser beam L. Is detected, that is, the position of the outer peripheral end of the wafer W is detected.

張力調整部60は、図8に示すように、保護テープTGの張力を調整する駆動ローラー61と、駆動ローラー61とで保護テープTGを挟持する回転ローラー62と、図示しないローラ移動手段とを備えている。駆動ローラー61と回転ローラー62は、ローラ移動手段により、チャックテーブル10と剥離ヘッド21との間の位置と、これらの間から退避する位置とに亘って移動自在に設けられている。駆動ローラー61及び回転ローラー62の軸心は、一対のクランプ手段23が並べられる方向と平行に配置されている。   As shown in FIG. 8, the tension adjusting unit 60 includes a driving roller 61 that adjusts the tension of the protective tape TG, a rotating roller 62 that sandwiches the protective tape TG with the driving roller 61, and a roller moving unit (not shown). ing. The driving roller 61 and the rotating roller 62 are provided so as to be movable by a roller moving unit between a position between the chuck table 10 and the peeling head 21 and a position where the driving roller 61 and the rotating roller 62 are retracted from these positions. The shaft centers of the driving roller 61 and the rotating roller 62 are arranged in parallel to the direction in which the pair of clamping means 23 are arranged.

駆動ローラー61は、図示しないモータにより回転される。回転ローラー62は、ローラ移動手段によりチャックテーブル10と剥離ヘッド21との間の駆動ローラー61に水平方向に近づけられたり、遠ざけられる。回転ローラー62は、回転自在に設けられている。張力調整部60は、クランプ手段23が挟持した保護テープTGを駆動ローラー61と回転ローラー62との間に挟持し、駆動ローラー61が保護テープTGを巻き取る方向に回転されることで、保護テープTGに張力を付与し、保護テープTGをウエーハWの表面WSから剥離する。   The drive roller 61 is rotated by a motor (not shown). The rotating roller 62 is moved closer to or away from the driving roller 61 between the chuck table 10 and the peeling head 21 by roller moving means. The rotating roller 62 is rotatably provided. The tension adjusting unit 60 sandwiches the protective tape TG sandwiched between the clamp means 23 between the driving roller 61 and the rotating roller 62, and the driving roller 61 is rotated in a direction in which the protective tape TG is wound. A tension is applied to the TG, and the protective tape TG is peeled off from the surface WS of the wafer W.

また、剥離装置1は、チャックテーブル10に保持されたウエーハWの表面WSに紫外線を照射する紫外線照射手段を備えている。剥離装置1は、剥離ナイフ22、挟持部材27、ガイド面24a、駆動ローラー61、回転ローラー62等に粘着層ARが貼着することを規制するために、少なくともこれらの表面がフッ素系などの離型剤によりコーティングされている。   Further, the peeling apparatus 1 includes ultraviolet irradiation means for irradiating the surface WS of the wafer W held on the chuck table 10 with ultraviolet rays. The peeling apparatus 1 is configured so that at least the surface of the peeling device 1 is made of a fluorine-based material in order to restrict the adhesive layer AR from sticking to the peeling knife 22, the clamping member 27, the guide surface 24a, the driving roller 61, the rotating roller 62, and the like. Coated with mold.

制御手段は、剥離装置1を構成する上述した構成要素をそれぞれ制御するものである。制御手段は、ウエーハWの保護テープTGの剥離動作を剥離装置1に行わせるものである。なお、制御手段は、例えばCPU等で構成された演算処理装置やROM、RAM等を備える図示しないマイクロプロセッサを主体として構成されており、加工動作の状態を表示する表示手段や、オペレータが加工内容情報などを登録する際に用いる操作手段と接続されている。   The control means controls the above-described components constituting the peeling device 1. The control means causes the peeling device 1 to perform the peeling operation of the protective tape TG of the wafer W. The control means is composed mainly of a microprocessor (not shown) provided with an arithmetic processing unit constituted by, for example, a CPU or the like, ROM, RAM, etc. It is connected to operation means used when registering information and the like.

次に、本実施形態に係る剥離装置1の保護テープTGの剥離動作を図面を参照して説明する。   Next, the peeling operation | movement of the protective tape TG of the peeling apparatus 1 which concerns on this embodiment is demonstrated with reference to drawings.

まず、剥離動作では、オペレータが加工内容情報を制御手段に登録し、剥離動作の開始指示があった場合に、剥離装置1が剥離動作を開始する。剥離動作では、制御手段は、チャックテーブル10を剥離ヘッド21の下方に位置付けて、剥離ヘッド21を下降させる。制御手段は、図1に示すように、剥離ナイフ22の刃先22aをチャックテーブル10の外周部に接触させて、刃先22aの保持面10aからの高さを検知する。なお、制御手段は、刃先22aの保持面10aからの高さを検知する前に、張力調整部60の駆動ローラー61及び回転ローラー62をチャックテーブル10と剥離ヘッド21との間から退避させておく。   First, in the peeling operation, the operator registers the processing content information in the control means, and the peeling device 1 starts the peeling operation when there is an instruction to start the peeling operation. In the peeling operation, the control unit positions the chuck table 10 below the peeling head 21 and lowers the peeling head 21. As shown in FIG. 1, the control means brings the cutting edge 22a of the peeling knife 22 into contact with the outer periphery of the chuck table 10 and detects the height of the cutting edge 22a from the holding surface 10a. The control means retracts the driving roller 61 and the rotating roller 62 of the tension adjusting unit 60 from between the chuck table 10 and the peeling head 21 before detecting the height of the cutting edge 22a from the holding surface 10a. .

そして、オペレータがチャックテーブル10の保持面10a上にウエーハWを載置し、制御手段は、チャックテーブル10の保持面10aにウエーハWを吸引保持する。ウエーハWの表面WSには紫外線が照射されており、保護テープTGの粘着層ARの粘着力が弱められている。   The operator places the wafer W on the holding surface 10 a of the chuck table 10, and the control unit sucks and holds the wafer W on the holding surface 10 a of the chuck table 10. The surface WS of the wafer W is irradiated with ultraviolet rays, and the adhesive strength of the adhesive layer AR of the protective tape TG is weakened.

制御手段は、チャックテーブル10を剥離ヘッド21の下方から一旦離間させ、端部位置検出手段50からレーザー光線Lを照射しながらチャックテーブル10を剥離ヘッド21の下方に近づけて、図2に示すように、チャックテーブル10の保持面10aに保持されたウエーハWの外周端部の位置を検出する。そして、制御手段は、図3、図10に示すように、刃先22aの保持面10aからの高さ、ウエーハWの外周端部の位置に基づいて、刃先22aを保護テープTGの外周端部に接触させる。このとき、制御手段は、ウエーハWの表面WSより僅か上方に刃先22aを位置付け、刃先22aを図11に示すように、保護テープTGの粘着層ARに接触させる。本実施形態では、刃先22aの保持面10aからの高さを10μmとする。   The control means once separates the chuck table 10 from the lower side of the peeling head 21, and moves the chuck table 10 closer to the lower side of the peeling head 21 while irradiating the laser beam L from the end position detecting means 50, as shown in FIG. Then, the position of the outer peripheral end of the wafer W held on the holding surface 10a of the chuck table 10 is detected. Then, as shown in FIGS. 3 and 10, the control means places the cutting edge 22a on the outer peripheral end of the protective tape TG based on the height of the cutting edge 22a from the holding surface 10a and the position of the outer peripheral end of the wafer W. Make contact. At this time, the control means positions the blade edge 22a slightly above the surface WS of the wafer W, and brings the blade edge 22a into contact with the adhesive layer AR of the protective tape TG as shown in FIG. In the present embodiment, the height of the cutting edge 22a from the holding surface 10a is 10 μm.

制御手段は、図4に示すように、刃先22aをウエーハWの外側から内側へ保持面10aと平行方向に移動させるように、チャックテーブル10を移動させる。すると、刃先22aが保護テープTGの外周端部で露出する粘着層AR内に切り込んで、粘着層ARに剥離起点を形成するとともに、チャックテーブル10の移動に伴って剥離起点から保護テープTGを剥離させて、剥離された保護テープTGの外周端部を剥離ナイフ22が押し上げる。なお、本実施形態では、チャックテーブル10の移動速度を1mm/secとし、約5mm程度チャックテーブル10を移動させる。   As shown in FIG. 4, the control means moves the chuck table 10 so as to move the blade edge 22a from the outside of the wafer W to the inside in a direction parallel to the holding surface 10a. Then, the cutting edge 22a is cut into the adhesive layer AR exposed at the outer peripheral end of the protective tape TG to form a peeling start point in the adhesive layer AR, and the protective tape TG is peeled from the peeling start point as the chuck table 10 moves. Then, the peeling knife 22 pushes up the outer peripheral end of the peeled protective tape TG. In the present embodiment, the moving speed of the chuck table 10 is 1 mm / sec, and the chuck table 10 is moved by about 5 mm.

制御手段は、図5に示すように、チャックテーブル10を刃先22aから一旦遠ざけた後、図6に示すように、刃先22aをウエーハWの外側から内側へ保持面10aと平行方向に移動させるように、チャックテーブル10を移動させる。すると、外周端部から剥離された保護テープTGの外周端部を、剥離ナイフ22が押し上げて更にウエーハWから剥離させる。剥離ナイフ22が押し上げて剥離した保護テープTGは、ガイド面24aにも当接して、図6及び図12に示すように、剥離ナイフ22とガイド面24aとに案内される。このときのチャックテーブル10の移動速度を1mm/secとし、約20mm程度チャックテーブル10を移動させる。また、図4及び図6に示すように、刃先22aをウエーハWの外側から内側へ保持面10aと平行方向に移動させるように、チャックテーブル10を移動させる際には、チャックテーブル10の移動とともに剥離ヘッド21即ち剥離ナイフ22を数mm程度上下動させてもよい。   As shown in FIG. 5, the control means once moves the chuck table 10 away from the blade edge 22a, and then moves the blade edge 22a from the outside to the inside of the wafer W in a direction parallel to the holding surface 10a as shown in FIG. Then, the chuck table 10 is moved. Then, the outer peripheral end portion of the protective tape TG peeled from the outer peripheral end portion is pushed up by the peeling knife 22 and further peeled from the wafer W. The protective tape TG pushed up and peeled off by the peeling knife 22 also comes into contact with the guide surface 24a and is guided to the peeling knife 22 and the guide surface 24a as shown in FIGS. At this time, the moving speed of the chuck table 10 is 1 mm / sec, and the chuck table 10 is moved about 20 mm. 4 and 6, when the chuck table 10 is moved so as to move the blade edge 22a from the outside to the inside of the wafer W in the direction parallel to the holding surface 10a, the chuck table 10 is moved along with the movement of the chuck table 10. The peeling head 21, that is, the peeling knife 22, may be moved up and down about several mm.

そして、制御手段は、クランプ手段23のエアシリンダ25のロッド26を伸張させて、図7に示すように、挟持部材27の挟持面27aとガイド面24aとの間に保護テープTGの外周端部を挟持する。制御手段は、剥離ヘッド21を上昇させて、保護テープTGを挟持したクランプ手段23がウエーハWから上方に離間する。制御手段が、図8に示すように、駆動ローラ―61をチャックテーブル10と剥離ヘッド21との間でかつ保護テープTGの外周端部よりも外側に位置させ、回転ローラー62をチャックテーブル10と剥離ヘッド21との間でかつ保護テープTGの外周端部よりも内側に位置させてから駆動ローラー61に近づける。   Then, the control means extends the rod 26 of the air cylinder 25 of the clamping means 23, and as shown in FIG. 7, the outer peripheral end of the protective tape TG is interposed between the clamping surface 27a of the clamping member 27 and the guide surface 24a. Pinch. The control means raises the peeling head 21 so that the clamping means 23 holding the protective tape TG is separated upward from the wafer W. As shown in FIG. 8, the control means positions the driving roller 61 between the chuck table 10 and the peeling head 21 and outside the outer peripheral end of the protective tape TG, and rotates the rotating roller 62 with the chuck table 10. After being positioned between the peeling head 21 and inside the outer peripheral end of the protective tape TG, it is brought close to the drive roller 61.

制御手段は、保護テープTGを挟持したクランプ手段23がウエーハWから上方に離間して更に保護テープTGをウエーハWの表面WSから剥離する。制御手段は、保護テープTGをウエーハWの表面WSから剥離する際に、図9に示すように、駆動ローラ―61と回転ローラー62とで保護テープTGの外周端部を挟持する。そして、駆動ローラー61を保護テープTGを巻き取る方向に回転させながら剥離ヘッド21を水平方向に移動させて、保護テープTGをウエーハWの表面WSから完全に剥離する。その後、制御手段は、ウエーハWの表面WSから剥離した保護テープTGを図示しないダストボックス等に捨てる。   In the control means, the clamping means 23 holding the protective tape TG is spaced upward from the wafer W, and the protective tape TG is further peeled from the surface WS of the wafer W. When the protective tape TG is peeled from the surface WS of the wafer W, the control means holds the outer peripheral end of the protective tape TG between the drive roller 61 and the rotating roller 62 as shown in FIG. Then, the peeling head 21 is moved in the horizontal direction while rotating the driving roller 61 in the direction of winding the protective tape TG, so that the protective tape TG is completely peeled from the surface WS of the wafer W. Thereafter, the control unit discards the protective tape TG peeled off from the surface WS of the wafer W in a dust box (not shown).

以上のように、実施形態に係る剥離装置1によれば、保護テープTGの外周端部で露出する粘着層ARに剥離ナイフ22の刃先22aを押し当てて、刃先22aをウエーハWの外側から内側に向かうようにチャックテーブル10を保持面10aと平行に移動させるので、外周端部で露出する粘着層ARに剥離起点を形成することができる。また、剥離ナイフ22が刃先22aに向かうにしたがって徐々にチャックテーブル10に近づくように保持面10aに対して所定の角度Θで傾斜している。このために、チャックテーブル10を保持面10aと平行に移動させるので、剥離起点から剥離した保護テープTGを剥離ナイフ22上に押し上げるとともに、押し上げられた外周端部をクランプ手段23でクランプする。したがって、剥離装置1は、消耗材を全く用いることなく、保護テープTGを外周端部からウエーハWの表面WSから剥離することができ、保護テープTGを低コストでウエーハWから剥離することができる。   As described above, according to the peeling device 1 according to the embodiment, the cutting edge 22a of the peeling knife 22 is pressed against the adhesive layer AR exposed at the outer peripheral end of the protective tape TG, and the cutting edge 22a is moved from the outside of the wafer W to the inside. Since the chuck table 10 is moved in parallel with the holding surface 10a so as to face toward the surface, a peeling start point can be formed in the adhesive layer AR exposed at the outer peripheral end. Further, the peeling knife 22 is inclined at a predetermined angle Θ with respect to the holding surface 10a so as to gradually approach the chuck table 10 toward the cutting edge 22a. For this purpose, since the chuck table 10 is moved in parallel with the holding surface 10 a, the protective tape TG peeled off from the peeling starting point is pushed up onto the peeling knife 22 and the pushed outer peripheral end is clamped by the clamping means 23. Therefore, the peeling apparatus 1 can peel the protective tape TG from the outer peripheral end from the surface WS of the wafer W without using any consumable material, and can peel the protective tape TG from the wafer W at a low cost. .

また、端部剥離手段20が、剥離ヘッド21の切欠き24に剥離ナイフ22と平行に対面するガイド面24aを備えているので、外周端部から剥離させた保護テープTGを剥離ナイフ22に加えてガイド面24aで案内することができる。よって、剥離装置1は、消耗材を用いることなく、保護テープTGを外周端部から剥離させることができる。   Moreover, since the edge part peeling means 20 is provided with the guide surface 24a which faces the notch 24 of the peeling head 21 in parallel with the peeling knife 22, the protective tape TG peeled off from the outer peripheral edge is added to the peeling knife 22. Can be guided by the guide surface 24a. Therefore, the peeling apparatus 1 can peel the protective tape TG from the outer peripheral end without using a consumable material.

さらに、剥離装置1は、刃先22aの保持面10aからの高さを検知する刃先位置検知手段40を備えているので、剥離ナイフ22の刃先22aを保護テープTGの外周端部で露出する粘着層ARに確実に押し当てることができ、ウエーハWを傷つけることがない。   Furthermore, since the peeling apparatus 1 includes the blade edge position detecting means 40 that detects the height of the blade edge 22a from the holding surface 10a, the adhesive layer that exposes the blade edge 22a of the peeling knife 22 at the outer peripheral end of the protective tape TG. It can be reliably pressed against the AR, and the wafer W is not damaged.

また、剥離装置1は、保持面10aに保持されたウエーハWの外周端部の位置を検出する端部位置検出手段50を備えているので、剥離ナイフ22の刃先22aを保護テープTGの外周端部で露出する粘着層ARに確実に押し当てることができる。さらに、剥離装置1は、剥離ヘッド21を上昇させて、保護テープTGの外周端部を挟持したクランプ手段23をウエーハWから離間させる際に、張力調整部60の駆動ローラー61と回転ローラー62との間に保護テープTGを挟持する。剥離装置1は、駆動ローラー61を保護テープTGを巻き取る方向に回転させて、保護テープTGに張力を付与(調整)するので、保護テープTGに対して曲面で引張力を作用させるため、保護テープTGが引きちぎられる恐れがない。   Moreover, since the peeling apparatus 1 is provided with the edge part position detection means 50 which detects the position of the outer peripheral edge part of the wafer W hold | maintained at the holding surface 10a, the blade edge 22a of the peeling knife 22 is used for the outer peripheral edge of protective tape TG. Can be reliably pressed against the adhesive layer AR exposed at the portion. Furthermore, when the peeling device 1 raises the peeling head 21 and separates the clamp means 23 holding the outer peripheral end of the protective tape TG from the wafer W, the driving roller 61 and the rotating roller 62 of the tension adjusting unit 60 A protective tape TG is sandwiched between them. Since the peeling device 1 rotates the driving roller 61 in the winding direction of the protective tape TG to apply (adjust) the tension to the protective tape TG, the tensile force acts on the protective tape TG with a curved surface. There is no risk of the tape TG being torn off.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。   The present invention is not limited to the above embodiment. That is, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

1 テープ剥離装置
10 チャックテーブル
10a 保持面
20 端部剥離手段
22 剥離ナイフ
22a 刃先
23 クランプ手段
24a ガイド面
30 剥離駆動手段
40 刃先位置検知手段
50 端部位置検出手段
61 駆動ローラー
62 回転ローラー
TG 保護テープ
W ウエーハ
WS 表面
WR 裏面
Θ 角度
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Tape peeling apparatus 10 Chuck table 10a Holding surface 20 End part peeling means 22 Peeling knife 22a Blade edge 23 Clamp means 24a Guide surface 30 Peeling drive means 40 Blade edge position detection means 50 End position detection means 61 Drive roller 62 Rotating roller TG Protection tape W Wafer WS Front WR Back Θ Angle

Claims (5)

ウエーハの表面に貼着された該ウエーハと同等の大きさの保護テープを剥離するテープ剥離装置であって、
該保護テープが表面に貼着されたウエーハの裏面を保持面で保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハから該保護テープの端部を剥離させる端部剥離手段と、該保持面と平行方向および交差する方向に該保持面と該端部剥離手段とを相対移動させる剥離駆動手段と、を備え、
該端部剥離手段は、
刃先を下端とし、該保持面に対し所定の角度で傾斜した剥離ナイフと、
該刃先を挟んだ両脇に配設され、該剥離ナイフによってウエーハから剥離した該保護テープの端部を挟持するクランプ手段と、を備え、
ウエーハの表面より僅か上方に位置付けた該刃先をウエーハの外側から内側へ該保持面と平行方向に移動させ、該保護テープを押し上げてウエーハから剥離させることを特徴とするテープ剥離装置。
A tape peeling device for peeling off a protective tape having the same size as the wafer attached to the surface of a wafer,
A chuck table that holds the back surface of the wafer having the protective tape attached to the front surface with a holding surface, end peeling means for peeling the end of the protective tape from the wafer held on the chuck table, and the holding surface A peeling drive means for relatively moving the holding surface and the end peeling means in a direction parallel to and intersecting with
The end peeling means is
A peeling knife inclined at a predetermined angle with respect to the holding surface, with the cutting edge as a lower end,
Clamping means that is disposed on both sides of the blade edge and clamps the end of the protective tape peeled off from the wafer by the peeling knife;
A tape peeling apparatus, wherein the cutting edge positioned slightly above the surface of the wafer is moved from the outside to the inside of the wafer in a direction parallel to the holding surface, and the protective tape is pushed up and peeled off from the wafer.
前記端部剥離手段は、傾斜した前記剥離ナイフと平行に対面するガイド面を備え、
該剥離ナイフが押し上げて剥離した前記保護テープは該剥離ナイフと該ガイド面とに案内される請求項1記載のテープ剥離装置。
The end peeling means includes a guide surface facing in parallel with the inclined peeling knife,
The tape peeling apparatus according to claim 1, wherein the protective tape peeled off by the peeling knife is guided by the peeling knife and the guide surface.
前記刃先の該保持面からの高さを検知する刃先位置検知手段を備える請求項1又は2記載のテープ剥離装置。   The tape peeling apparatus according to claim 1, further comprising a blade edge position detecting unit that detects a height of the blade edge from the holding surface. 前記保持面の面方向において、前記チャックテーブルの該保持面に保持されたウエーハの外周端部の位置を検出する端部位置検出手段を備える請求項1〜3のうちいずれか一項に記載のテープ剥離装置。   The edge part position detection means which detects the position of the outer peripheral edge part of the wafer hold | maintained at this holding surface of the said chuck table in the surface direction of the said holding surface is provided as described in any one of Claims 1-3. Tape peeling device. 前記保護テープを挟持した前記クランプ手段がウエーハから離間して更に該保護テープを剥離する際に、該保護テープの張力を調整する駆動ローラーと、該駆動ローラーとで該保護テープを挟持する回転ローラーとを備える請求項1〜4のうちいずれか一項に記載のテープ剥離装置。   A driving roller that adjusts the tension of the protective tape when the clamping means holding the protective tape is separated from the wafer and further peels the protective tape, and a rotating roller that holds the protective tape between the driving roller and the driving roller The tape peeling apparatus as described in any one of Claims 1-4 provided with these.
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