JP6377513B2 - Sheet-like member - Google Patents
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本発明は、保持面で保持したウエーハのデバイスを保護するシート状部材に関する。 The present invention relates to a sheet-like member for protecting a wafer device held by a holding surface.
半導体ウエーハや光デバイスウエーハの内部に改質層を形成し、改質層を破断基点として各デバイスチップにウエーハを分割する技術が知られている。この際、改質層を形成するレーザー光線は、ウエーハに対して透過性を有するが、ウエーハの表面に形成された膜に対しては透過性を有さない場合が多いため、膜が被覆されていないウエーハの裏面側からレーザー光線を入射することがある。 A technique is known in which a modified layer is formed inside a semiconductor wafer or an optical device wafer, and the wafer is divided into device chips using the modified layer as a breakage starting point. At this time, the laser beam forming the modified layer is permeable to the wafer, but is not permeable to the film formed on the surface of the wafer in many cases. A laser beam may be incident from the back side of a non-wafer.
ウエーハは、通常、粘着テープを介して環状のフレームにデバイスが形成された表面を露出して固定されて加工される。デバイスをアライメントなどで用いるためであり、レーザー加工後も同様な理由から、デバイスを露出させて固定されている方が効率的な工程となる。 The wafer is usually processed by fixing and exposing the surface on which the device is formed on the annular frame via an adhesive tape. This is because the device is used for alignment or the like. For the same reason after laser processing, it is more efficient to expose and fix the device.
ウエーハの裏面側からレーザー光線を入射する場合には、デバイスが形成された表面をチャックテーブルの保持面で保持し、粘着テープを透過させつつウエーハの裏面からレーザー加工を実施する加工方法が提案されている。そして、デバイスが直接保持面に接触して損傷するのを防ぐために、シート状部材を介して保持する加工方法も提案され、シート状部材を固定する手段を備えたチャックテーブルも提案されている(特許文献1)。 When a laser beam is incident from the back side of the wafer, a processing method is proposed in which the surface on which the device is formed is held by the holding surface of the chuck table and laser processing is performed from the back side of the wafer while allowing the adhesive tape to pass through. Yes. In order to prevent the device from directly contacting the holding surface and being damaged, a processing method for holding the device via the sheet-like member has also been proposed, and a chuck table having means for fixing the sheet-like member has also been proposed ( Patent Document 1).
しかしながら、特許文献1に示されたチャックテーブルでは、シート状部材の薄化による可撓性の増加により、保持面(チャックテーブル)からはみ出した外周部が保持面より下に垂れ下がりやすくなり、その際保持面を覆う領域によじれが発生しやすくなるという課題があった。 However, in the chuck table shown in Patent Document 1, due to the increase in flexibility due to the thinning of the sheet-like member, the outer peripheral portion protruding from the holding surface (chuck table) tends to hang down below the holding surface. There existed a subject that it became easy to generate | occur | produce kinking in the area | region which covers a holding surface.
また、シート状部材は多少の非粘着性処理が施されていても、チャックテーブルの外縁付近で粘着テープと強く接触する(クランプによって粘着テープが引き落とされているため、粘着テープはシート状部材と部分的に強く押圧されて接触する)ため、時として粘着テープが貼着し、加工終了後に粘着テープが剥がれずに、ウエーハの搬出が不能になり、動作エラーを引き起こしてしまう。 Further, even if the sheet-like member is subjected to some non-adhesive treatment, it strongly contacts the adhesive tape near the outer edge of the chuck table (the adhesive tape is pulled down by the clamp, Therefore, the adhesive tape sometimes sticks, and the adhesive tape does not peel off after the processing is finished, and the wafer cannot be taken out, causing an operation error.
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、ウエーハの搬出を確実に行うことができるシート状部材を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above, and an object thereof is to provide a sheet-like member capable of reliably carrying out a wafer.
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明のシート状部材は、表面にデバイスが形成されたウエーハを保持する保持面を有する保持部と、該保持部を囲繞する枠体とからなるチャックテーブルの該保持面を覆い、該保持面に対面するウエーハ表面の該デバイスを保護するシート状部材であって、可撓性と通気性を備えた材質で形成され、該保持面を覆い、該枠体に至る大きさの本体部と、該枠体の周縁に沿って該本体部に断続的に形成され、該保持面と対応する本体部保持領域と該本体部保持領域の外周の外周部とに該本体部を区切る複数の断続孔部と、を備えることを特徴とする。 In order to solve the above-described problems and achieve the object, the sheet-like member of the present invention includes a holding portion having a holding surface for holding a wafer having a device formed on the surface, and a frame body surrounding the holding portion. A sheet-like member that covers the holding surface of the chuck table and that protects the device on the wafer surface facing the holding surface, and is formed of a material having flexibility and air permeability. A main body having a size that covers and reaches the frame, a main body holding area that is intermittently formed on the main body along the periphery of the frame, and that corresponds to the holding surface; and an outer periphery of the main body holding area And a plurality of intermeshing hole portions that divide the main body portion.
本発明のシート状部材は、加工後のウエーハの搬出を確実に行うことができるという効果を奏する。 The sheet-like member of the present invention has an effect that the processed wafer can be reliably carried out.
本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Embodiments (embodiments) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited by the contents described in the following embodiments. The constituent elements described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the structures described below can be combined as appropriate. Various omissions, substitutions, or changes in the configuration can be made without departing from the scope of the present invention.
〔実施形態〕
実施形態に係るシート状部材を図面に基いて説明する。図1(a)は、実施形態に係るシート状部材の平面図である。図1(b)は、図1(a)中のIB−IB線に沿う断面図である。図2は、実施形態に係るシート状部材が設置されるチャックテーブル機構を分解して示す斜視図である。図3は、図2に示されたチャックテーブル機構がウエーハなどを保持する状態を示す斜視図である。図4は、図2に示されたチャックテーブル機構に保持したウエーハにレーザー加工を施す状態を示す側断面図である。
Embodiment
A sheet-like member according to an embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 1A is a plan view of a sheet-like member according to the embodiment. FIG.1 (b) is sectional drawing which follows the IB-IB line | wire in Fig.1 (a). FIG. 2 is an exploded perspective view showing the chuck table mechanism on which the sheet-like member according to the embodiment is installed. FIG. 3 is a perspective view showing a state in which the chuck table mechanism shown in FIG. 2 holds a wafer or the like. FIG. 4 is a side sectional view showing a state in which laser processing is performed on the wafer held by the chuck table mechanism shown in FIG.
本実施形態に係るシート状部材20は、図2及び図4に示すチャックテーブル11の保持面12aを覆い、ウエーハW表面WSのデバイスDを保護するものである。デバイスDが保護されるウエーハWは、図4に示すレーザー加工装置1によりレーザー光線Lが照射される加工対象である。ウエーハWは、本実施形態ではシリコン、サファイア、ガリウムなどを母材とする円板状の半導体ウエーハや光デバイスウエーハである。
The sheet-
ウエーハWは、図3に示すように、表面WSに格子状に設けられた分割予定ラインSによって区画された各領域にデバイスDがそれぞれ形成されている。ウエーハWは、図3及び図4に示すように、外周縁が環状フレームFに貼着された粘着テープTの粘着面TaにデバイスDが複数形成されている表面WSの裏側の裏面WRが貼着されることで、環状フレームFに固定される。このために、ウエーハWは、デバイスDが複数形成された表面WSが露出した状態で環状フレームFに固定される。なお、ウエーハWの表面WSには、図示しないエピ層が形成されている。このエピ層は、レーザー光線Lを減衰又は遮断する材料で構成されている。また、粘着テープT及び粘着面Taは、レーザー光線Lを透過する材料で構成されている。 As shown in FIG. 3, the wafer W is formed with devices D in respective regions defined by the division lines S provided on the surface WS in a grid pattern. As shown in FIGS. 3 and 4, the wafer W has a back surface WR on the back side of the surface WS in which a plurality of devices D are formed on the adhesive surface Ta of the adhesive tape T whose outer peripheral edge is attached to the annular frame F. By being attached, it is fixed to the annular frame F. For this reason, the wafer W is fixed to the annular frame F in a state where the surface WS on which a plurality of devices D are formed is exposed. Note that an epi layer (not shown) is formed on the surface WS of the wafer W. The epi layer is made of a material that attenuates or blocks the laser beam L. The adhesive tape T and the adhesive surface Ta are made of a material that transmits the laser beam L.
ウエーハWにレーザー光線Lを照射するレーザー加工装置1は、ウエーハWの内部に改質層K(図4に示す)を形成する装置である。なお、改質層Kとは、密度、屈折率、機械的強度やその他の物理的特性が周囲のそれとは異なる状態になった領域のことを意味し、溶融処理領域、クラック領域、絶縁破壊領域、屈折率変化領域、及びこれらの領域が混在した領域等を例示できる。 A laser processing apparatus 1 that irradiates a wafer W with a laser beam L is an apparatus that forms a modified layer K (shown in FIG. 4) inside the wafer W. The modified layer K means a region where the density, refractive index, mechanical strength and other physical characteristics are different from those of the surroundings, and includes a melt-treated region, a crack region, and a dielectric breakdown region. , A refractive index change region, a region where these regions are mixed, and the like.
レーザー加工装置1は、図4に示すように、ウエーハWを保持するチャックテーブル機構10と、チャックテーブル機構10に保持されたウエーハWに該ウエーハWを透過する例えば波長が1064nmのレーザー光線Lを照射するレーザー光線照射手段30と、チャックテーブル機構10とレーザー光線照射手段30とを互いに直交する水平方向と平行なX、Y軸方向に相対的に移動させるX軸移動手段及びY軸移動手段(図示しない)などを少なくとも含んで構成されている。
As shown in FIG. 4, the laser processing apparatus 1 irradiates the wafer W held by the
チャックテーブル機構10は、ウエーハWを保持面12aで吸引保持するものである。チャックテーブル機構10は、図2及び図3に示すように、ウエーハWの表面WS側を保持面12aで吸引保持するチャックテーブル11と、チャックテーブル11に着脱自在に締結される環状固定部15とを含んで構成されている。
The
チャックテーブル11は、レーザー加工前のウエーハWが保持面12a上に載置されて、環状フレームFの開口に貼着されたウエーハWを保持するものである。チャックテーブル11は、ウエーハWを吸引保持する保持面12aを有する保持部12と、保持部12を囲繞する枠体13とからなる。即ち、チャックテーブル11は、保持面12aを有する。保持部12は、ポーラスセラミック等の多孔質材から形成された円盤形状であり、図示しない真空吸引経路を介して図示しない真空吸引源と接続され、保持面12aに載置されたウエーハWを吸引することで保持する。枠体13は、ステンレス鋼などの金属で構成され、円環状に形成されている。
The chuck table 11 holds the wafer W that has been bonded to the opening of the annular frame F by placing the wafer W before laser processing on the
チャックテーブル11は、X軸移動手段によりX軸方向に加工送りされ、かつ回転駆動源(図示せず)により中心軸線回りに回転されるとともに、Y軸移動手段によりY軸方向に割り出し送りされる。また、チャックテーブル11の周囲には、エアーアクチュエータにより駆動してウエーハWの周囲の環状フレームFを挟持するクランプ部14が複数設けられている。
The chuck table 11 is processed and fed in the X-axis direction by the X-axis moving means, rotated around the central axis by a rotation drive source (not shown), and indexed and fed in the Y-axis direction by the Y-axis moving means. . Further, around the chuck table 11, there are provided a plurality of
環状固定部15は、ステンレス鋼などの金属で構成され、円環状に形成されている。環状固定部15は、チャックテーブル11の枠体13の外周に嵌合し、保持面12aを覆ったシート状部材20のチャックテーブル11の枠体13の外縁からはみ出した外周部24を枠体13の外周面との間に挟んで保持面12aより下方に押し下げて固定するものである。
The
チャックテーブル11の保持面12aを覆ってチャックテーブル機構10に取り付けられるシート状部材20は、保持面12aに対面するウエーハW表面WSのデバイスDを保護するものである。シート状部材20は、超高分子量ポリエチレンなどの合成樹脂からなる多孔質フィルムであって、可撓性と通気性と離型性を備えた材質で形成されている。シート状部材20は、保持部12の保持面12aよりも直径の大きな円形である。なお、本実施形態では、シート状部材20の直径は、340mmに形成され、厚さが0.1mm〜0.4mm程度、例えば、0.2mm程度に形成されている。
The sheet-
シート状部材20は、図1(a)及び図1(b)に示すように、保持部12の保持面12aを覆い、枠体13に至る大きさの本体部21と、複数の断続孔部22とを備える。本体部21の直径は、枠体13の外径即ちチャックテーブル11の外径よりも大きく形成されている。断続孔部22は、枠体13の周縁(外縁)に沿って、本体部21に断続して形成され、保持面12aと対応する本体部保持領域23と、本体部保持領域23の外周の外周部24とに本体部21を区切るものである。断続孔部22は、本体部21に開口した孔であり、平面形状が本体部21の中心を曲率の中心とする円弧状に形成され、本体部21の周方向に間隔をあけて等間隔に配置されている。
As shown in FIGS. 1A and 1B, the sheet-
断続孔部22により区切られる本体部21の本体部保持領域23は、シート状部材20がチャックテーブル機構10のチャックテーブル11を覆うと、保持面12a及び枠体13の上面に重なる。本体部21の外周部24は、シート状部材20がチャックテーブル機構10のチャックテーブル11を覆うと、枠体13の外周面に重なり、外周に環状固定部15が嵌合して、枠体13の外周面と環状固定部15との間に挟まれる。このために、断続孔部22は、シート状部材20がチャックテーブル機構10のチャックテーブル11を覆うと、枠体13の角部13aに重なる。なお、本実施形態では、シート状部材20の外周部24の幅は、20mm程度に形成されている。
When the sheet-
前述した構成のチャックテーブル機構10へのシート状部材20の設置方法について説明する。環状固定部15が嵌合していない状態で、チャックテーブル11の保持面12aにシート状部材20の本体部保持領域23を重ね、断続孔部22をチャックテーブル11の枠体13の角部13aに重ねる。そして、シート状部材20の外周部24をチャックテーブル11の枠体13の外周面に押し付けながら、環状固定部15をチャックテーブル11の枠体13の外周に嵌合させる。シート状部材20の断続孔部22がチャックテーブル11の枠体13の角部13aに重なっているので、シート状部材20がチャックテーブル11の枠体13の角部13aにおいて確実に屈曲して、保持面12aに本体部保持領域23を密着させることができる。
A method for installing the sheet-
前述した構成のチャックテーブル機構10を備えたレーザー加工装置1は、チャックテーブル11の保持部12の保持面12a上にシート状部材20を介して、ウエーハWの表面WSを吸引保持し、かつ、クランプ部14により環状フレームFを挟持する。すると、粘着テープTの粘着面Taが主に枠体13の角部13a上でシート状部材20に対面する。そして、レーザー加工装置1は、X軸移動手段、Y軸移動手段、回転駆動源によりチャックテーブル機構10に保持したウエーハWとレーザー光線照射手段30とを分割予定ラインSに沿って相対的に移動させながらレーザー光線照射手段30からウエーハWの裏面WRに向けてレーザー光線Lを照射して、分割予定ラインSに改質層Kを形成する。全ての分割予定ラインSに改質層Kを形成すると、レーザー光線照射手段30からのレーザー光線Lの照射を停止する。そして、改質層Kが形成されたウエーハWは、次工程などに搬送された後、改質層Kを基点としてデバイスチップに分割される。
The laser processing apparatus 1 including the
以上のように、本実施形態に係るシート状部材20によれば、枠体13の周縁に沿って本体部21に断続的に開口した断続孔部22が枠体13の角部13aに重なる。このために、シート状部材20は、断続孔部22が粘着テープTとの接触面積を削減することとなる。したがって、シート状部材20は、粘着テープTが貼着する恐れを低減させることができ、レーザー加工終了時に粘着テープTが剥がれなくなることを抑制でき、レーザー加工後のウエーハWの搬出を確実に行うことができる。
As described above, according to the sheet-
また、シート状部材20によれば、本体部21に断続的に開口した断続孔部22が枠体13の角部13aに重なるので、枠体13の角部13aで確実に屈曲させることができ、本体部保持領域23を保持面12aに密に接触させて沿わせることができ、外周部24を枠体13の外周面に密に接触させて沿わせることができる。したがって、シート状部材20は、外周部24が保持面12aより垂れ下がって枠体13の外周面に沿わされる際に、保持面12aを覆う本体部保持領域23への影響を最小限に抑え、保持面12aを覆う本体部保持領域23がうねることなく、平らな状態を維持することができる。したがって、シート状部材20は、チャックテーブル機構10に固定する事が容易になった。
Further, according to the sheet-
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。 The present invention is not limited to the above embodiment. That is, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.
11 チャックテーブル
12 保持部
12a 保持面
13 枠体
20 シート状部材
21 本体部
22 断続孔部
23 本体部保持領域
24 外周部
W ウエーハ
WS 表面
D デバイス
DESCRIPTION OF
Claims (1)
可撓性と通気性を備えた材質で形成され、該保持面を覆い、該枠体に至る大きさの本体部と、
該枠体の周縁に沿って該本体部に断続的に形成され、該保持面と対応する本体部保持領域と該本体部保持領域の外周の外周部とに該本体部を区切る複数の断続孔部と、
を備えることを特徴とするシート状部材。 The device on the wafer surface that covers the holding surface of the chuck table including a holding portion having a holding surface for holding the wafer on which the device is formed, and a frame body surrounding the holding portion, and faces the holding surface A sheet-like member for protecting
A main body portion formed of a material having flexibility and air permeability, covering the holding surface, and sized to reach the frame;
A plurality of intermittent holes that are intermittently formed in the main body along the periphery of the frame, and divide the main body into a main body holding area corresponding to the holding surface and an outer peripheral portion of the outer periphery of the main body holding area. And
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