JP2015196252A - 積層造形物の製造装置及び製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】高生産性の積層造形物の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、積層造形物の製造装置は、容器部と、加振部と、エネルギー線照射部と、を含む。前記容器部は、ステージと、前記ステージの周りに設けられた壁部とを含む。前記加振部は、前記ステージの上に供給された粉体原料を振動させて前記粉体原料を平坦化する。前記エネルギー線照射部は、前記粉体原料の一部にエネルギー線を照射し前記エネルギー線が照射された前記粉体原料から前記積層造形物の一部を形成する。
【選択図】図1

Description

本発明の実施形態は、積層造形物の製造装置及び製造方法に関する。
例えば、原料を供給しつつレーザなどでその原料を加熱して、その原料を溶融させて、所望の形状の造形物を形成する積層造形物の製造装置がある。このような製造装置において造形動作の高速化が望まれる。生産性の向上が望まれる。
特開2006−200030号公報
本発明の実施形態は、高生産性の積層造形物の製造装置及び製造方法を提供する。
本発明の実施形態によれば、積層造形物の製造装置は、容器部と、加振部と、エネルギー線照射部と、を含む。前記容器部は、ステージと、前記ステージの周りに設けられた壁部とを含む。前記加振部は、前記ステージの上に供給された粉体原料を振動させて前記粉体原料を平坦化する。前記エネルギー線照射部は、前記粉体原料の一部にエネルギー線を照射し前記エネルギー線が照射された前記粉体原料から前記積層造形物の一部を形成する。
図1(a)及び図1(b)は、第1の実施形態に係る積層造形物の製造装置を例示する図である。 第1の実施形態に係る他の製造装置を例示する模式的断面図である。 図3(a)〜図3(e)は、第1の実施形態に係る積層造形物の製造方法を例示する模式的断面図である。 粉体原料が平坦化された状態を示す模式的部分図である。 図5(a)及び図5(b)は、第2の実施形態に係る積層造形物の製造装置を例示する図である。 第2の実施形態に係る他の製造装置を例示する模式的断面図である。 図7(a)及び図7(b)は、第3の実施形態に係る積層造形物の製造装置を例示する図である。 図8(a)及び図8(b)は、1組の側壁をステージに対して移動させたときの製造装置の状態を例示する図である。 製造装置における平坦化処理の様子を例示する模式的断面図である。 製造装置におけるエネルギー線照射処理の様子を例示する模式的断面図である。
以下に、本発明の各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
(第1の実施形態)
図1(a)及び図1(b)は、第1の実施形態に係る積層造形物の製造装置を例示する図である。
図1(a)は、模式的断面図である。図1(b)は、模式的上面図である。
図2は、第1の実施形態に係る他の製造装置を例示する模式的断面図である。
本実施形態に係る製造装置100には、容器部10と、エネルギー線照射部20と、原料供給部30と、加振部50と、が設けられる。なお、容器部10は、粉体槽として例示される。
容器部10は、ステージ40と、ステージ40の周りに設けられた壁部60とを含む。原料供給部30は、粉体原料31をステージ40上に供給する。エネルギー線照射部20は、ステージ40に対して矢印21を含むX軸方向やY軸方向に相対的に移動し、ステージ40の上に供給された粉体原料31の一部にエネルギー線を照射する。エネルギー線が照射された材料は溶融・固化することにより、積層造形物の一部を形成する。これにより、エネルギー線照射部20は、粉体領域70a(未硬化の粉体原料)と、硬化領域70b(積層造形物の一部)とをそれぞれ形成する。このようにして、積層造形物となる複数の層のそれぞれが、順次形成される。
粉体原料31としては、例えば、鉄やステンレスなどの金属が用いられる。粉体原料31として、セラミックスや樹脂を用いてもよい。粉体原料31として、金属及びセラミックスを混合したものを用いてもよい。粉体原料31の平均粒径は、例えば、1μm以上100μm以下、より好ましくは、10μm以上50μm以下が好適である。
エネルギー線照射部20は、積層造形物の形状に応じて、ステージ40の上の粉体原料31の一部にエネルギー線を照射する。エネルギー線としては、例えば、レーザ光(例えば、炭酸ガスレーザや、YAGレーザ等)などを用いることができる。本実施の形態においては、エネルギー線としてレーザ光を利用しているが、レーザ光のように材料を溶融できるものであればよい。エネルギー線としては、電子ビームや、マイクロ波、紫外線領域の電磁波などであってもよい。積層造形物に含まれる複数の層のそれぞれは、粉体原料31を供給しつつ、粉体原料31をエネルギー線で加熱して形成される。そして、これらの処理を複数回繰り返すことで、所望の積層造形物が形成される。
粉体原料を用いる参考例において、スキージと呼ばれる治具を用いた平坦化処理が実施される場合がある。スキージは動作速度が遅いため、造形処理に要する時間が長くなる。
これに対して、本実施形態によれば、スキージの代わりに、加振部を設ける。加振部により粉体原料に振動を与え、平坦化処理を高速に行うことができる。このため、造形動作を高速化できる。生産性を向上できる。
図1(a)、図1(b)及び図2に示すように、原料供給部30からステージ40に供給された粉体原料31は、平坦な状態ではない。粉体原料31は、ステージ40上で局所的に集まる部分ができ、凸状の粉体原料70cのような状態とされる。なお、粉体原料70cは、説明を分かり易くするため、強調して図示しているが、実際には複数の凹凸として形成される。従って、エネルギー線を照射する前に、粉体原料70cを平坦化する処理が必要とされる。本実施形態では、上記のスキージの代わりに、加振部50を用いて行う。加振部50は、ステージ40上の粉体原料70cを振動させ、粉体原料70cを平坦化する。
加振部50の設置箇所は特に限定されるものではない。加振部50は、容器部10と一体的に設けられていてもよい。加振部50は、容器部10の外部に設けられていてもよい。加振部50は、図1(a)に示すように、例えば、ステージ40の下側に設けられる。加振部50は、図2に示すように、壁部60に設けるようにしてもよい。加振部50は、例えば音波などを印加し、粉体原料70cを直接的あるいは間接的に振動させる。印加する音波の周波数等の条件は、使用する粉体原料の質量や密度などによって適宜設定すればよい。音波の周波数は、例えば、10〜20Hzの範囲であることが好ましい。なお、加振部50の加振方法は、音波に限らず、その他の方法を用いてもよい。
加振部50は、例えば、ステージ40を振動させ、ステージ40を介して粉体原料70cを振動させる。加振部50は、壁部60を振動させ、壁部60を介して粉体原料70cを振動させる。加振部50は、ステージ40及び壁部60を振動させ、ステージ40及び壁部60を介して粉体原料70cを振動させる。粉体原料70cの振動方向は、特に限定されるものではないが、例えば、矢印51のようにX−Y軸方向とされる。なお、粉体原料70cの振動方向は、Z軸方向の成分があっても良い。
壁部60は、ステージ40の周りに設けられる。壁部60は、容器部10の側壁を含む。壁部60としては、例えば、4つの側壁がステージ40の周囲に設けられる。本例の場合、壁部60の粉体最上層に接する部分に、例えばテーパが形成されている。このテーパにより、粉体原料70cが平坦化された際に、平坦化された粉体原料を逃がすことができる。
図3(a)〜図3(e)は、第1の実施形態に係る積層造形物の製造方法を例示する模式的断面図である。
図3(a)に示すように、原料供給部30は、容器部10内のステージ40に粉体原料31を供給する(ステップS1:第1工程に相当)。このとき、ステージ40に供給された粉体原料31は、平坦化されておらず、複数の凹凸を含んだ粉体原料70cとされる。
図3(b)に示すように、加振部50が動作し、ステージ40上の粉体原料70cを例えば矢印51の水平方向(X−Y軸方向)に振動させ、粉体原料70cを平坦化し、粉体原料70dとする(ステップS2:第2工程に相当)。図3(c)に示すように、エネルギー線照射部20は、ステップS2で粉体原料70cを平坦化した粉体原料70dの一部にエネルギー線22を照射する。エネルギー線照射部20は、エネルギー線22が照射された粉体原料70dから積層造形物の一部を形成する(ステップS3:第3工程に相当)。つまり、エネルギー線照射部20は、ステージ40に対して矢印21の向きを含むX−Y軸方向に相対的に移動し、粉体原料70dの一部にエネルギー線22を照射する。これにより、エネルギー線照射部20は、粉体領域70a(未硬化の粉体原料)と、硬化領域70b(積層造形物の一部)とをそれぞれ形成する。
図3(d)に示すように、ステップS3で積層造形物の一部(一層)が形成されると、ステージ40を壁部60に対して相対的に所定量降下させる(ステップS4:第4工程に相当)。上記ステップS1〜ステップS4の一連の処理で積層造形物の1つの層が形成される。積層造形物の次の層を形成する場合、図3(e)に示すように、粉体領域70aと、硬化領域70bとが形成された粉体原料70dの上に、原料供給部30が粉体原料31を供給する。以下、同様の処理を繰り返す。このようにして、所望の積層造形物を得ることができる。
図4は、粉体原料70cが平坦化された状態を示す模式的部分図である。
なお、加振部50、エネルギー線照射部20、原料供給部30、及び粉体原料70cの図示は省略している。エネルギー線照射部20によりエネルギー線を照射する前に、加振部50を動作させ、粉体原料70cに対して振動を発生させる。すなわち、加振部50によって粉体原料70cに振動を与えることで、粉体原料70cが平坦化され、粉体原料70dとされる。
図4に示すように平坦化された粉体原料70dに対して、エネルギー線照射部20は、粉体原料70dの一部にエネルギー線を照射する。これにより、図3(c)に示したように、粉体領域70a(未硬化の粉体原料)と、硬化領域70b(積層造形物の一部)とをそれぞれ形成する。ステージ40は、エネルギー線照射部20により積層造形物の一部が形成される度に降下する。原料供給部30は、ステージ40が降下する度に、ステージ40に粉体原料31を供給する。以上の処理を繰り返し、所望の積層造形物を形成する。
すなわち、加振部50は、原料供給部30がステージ40上に供給した粉体原料70cを振動させて粉体原料70cを平坦化し、図4の粉体原料70dとする。エネルギー線照射部20が粉体原料70dに積層造形物の一部を形成した後に、ステージ40が降下する。原料供給部30は、降下したステージ40の上に粉体原料31を供給する。そして、加振部50は、降下したステージ40上に供給された粉体原料70cを振動させて粉体原料70cを平坦化し、粉体原料70dとする。エネルギー線照射部20は、粉体原料70dに積層造形物の別の一部を形成する。
本実施形態によれば、スキージの代わりに、加振部を設けることで、平坦化処理を高速に行うことができる。このため、造形動作を高速化できる。スキージを用いないため、粉体原料の無駄を低減できる。生産性を向上できる。
(第2の実施形態)
図5(a)及び図5(b)は、第2の実施形態に係る積層造形物の製造装置を例示する図である。
図6は、第2の実施形態に係る他の製造装置を例示する模式的断面図である。
本実施形態の製造装置100は、容器部10に開閉可能な蓋部80を設けている。なお、蓋部80を開けた状態を図5(a)に示す。蓋部80を閉じた状態を図5(b)に示す。蓋部80は、矢印81の向きに移動し、ステージ40上の粉体原料70cを押圧する。
図5(b)に示すように、加振部50により粉体原料70cを矢印51の向きに振動させるときに、蓋部80は、粉体原料70cの上に位置し(蓋部80を閉じた状態)、蓋部80は、粉体原料70cを押圧する。すなわち、粉体原料70cは、加振部50による振動に加え、蓋部80により押圧される。蓋部80の材質は、特に限定されるものではない。蓋部80の材質は、比較的平滑な表面特性を有することが好ましい。蓋部80の材質としては、例えば、ガラスである。蓋部80の材質としては、例えば、樹脂である。蓋部80の材質としては、金属であってもよい。粉体原料70cは、蓋部80により押圧されることによって、第1の実施形態と比べて、より凹凸が少なくなる。粉体原料70cを平坦化させることが可能となる。
エネルギー線照射部20によりエネルギー線を照射するときに、蓋部80は、粉体原料70cの上とは異なる位置に位置する(蓋部80を開いた状態)。つまり、蓋部80は、エネルギー線の照射の妨げにならないように、所定位置に待避させる。
なお、本例では、蓋部80を、エネルギー線を照射するときに、壁部60の外側に移動させている。蓋部80の移動は、各種のパターンがあり、これに限定されない。例えば、蓋部80は、粉体原料70cの上に、少しの空間を介して配置しても良い。すなわち、蓋部80が粉体原料70cに対して若干浮いた状態で配置される。この空間は、ヒュームを逃がせる程度とすれば良い。蓋部80は、レーザ光を透過する材質(ガラスなど)とする。この場合、蓋部80の移動時間を省くことができる。
蓋部80は、エネルギー線を照射するときに、造形エリアの外側に移動させても良い。この場合、蓋部80をレーザ照射エリアから待避させるため、蓋部80を壁部60の外側に待避させる場合と同様に、ヒュームの影響を受けにくくなる。
蓋部80が粉体原料70cに接触したときに、静電気等により粉体原料70cを吸着してしまう可能性がある。そこで、蓋部80に帯電防止膜80bを設けることが好ましい。すなわち、蓋部80は、板部80aと、板部80aと粉体原料70cとの間に配置される帯電防止膜80bとを含む。帯電防止膜としては、例えば、界面活性剤、導電性ポリマー、カーボンブラックや銀などの導電性を有する粒子が分散された樹脂、シロキサン系樹脂またはシロキサン系材料などを用いることができる。例えば、イオナイザー等の静電気除去装置を用いて、蓋部80全体を除電してもよい。
図5(b)に示すように、容器部10は、壁部60と蓋部80との間に形成される空間(溝)61を有する。これにより粉体原料70dが空間61に流出可能となる。具体的には、壁部60の粉体最上層に接する部分にテーパが形成されている。このテーパにより壁部60と蓋部80との間に空間61が形成される。粉体原料70cが平坦化され、粉体原料70dとされた際に、この空間61によって粉体原料70dを逃がすことができる。
図6に示すように、加振部50を、蓋部80に設けるようにしてもよい。本例の場合、蓋部80の上側に加振部50が設けられている。すなわち、加振部50は、蓋部80をX−Y軸方向に振動させ、蓋部80を介して粉体原料70cを振動させる。なお、蓋部80はX−Y軸方向だけでなく、Z軸方向に動かしても良い。
本実施形態によれば、スキージの代わりに、加振部50及び蓋部80を設けることで、平坦化処理をより高速に行うことができる。このため、造形動作を高速化できる。スキージを用いないため、粉体原料の無駄を低減できる。生産性を向上できる。
(第3の実施形態)
図7(a)及び7(b)は、第3の実施形態に係る積層造形物の製造装置を例示する図である。
図7(a)は、模式的断面図である。図7(b)は、模式的上面図である。製造装置110は、容器部10と、エネルギー線照射部20と、原料供給部30と、加振部50と、が設けられる。容器部10は、ステージ41と、ステージ41の周りに設けられた壁部62とを含む。容器部10は、ステージ41と壁部62で囲まれた内室11を有する。
壁部62は、4つの側壁62a〜62dを含む。壁部62は、第1側壁62aと、第1側壁62aに対向する第2側壁62cとを含む。第1側壁62aと第2側壁62cとの間にステージ41の上面41bが配置される。第1側壁62aと第2側壁62cとの間の距離は変化可能である。つまり、ステージ41の上面41bに対して平行な、壁部62で囲まれた空間の断面積A1は、距離の変化に伴って変化可能である。
ステージ41は、下面41dと、上面41bの一部及び下面41dの一部と接続された第1側面41aと、上面41bの他部及び下面41dの他部と接続された第2側面41cと、をさらに含む。第1側壁62aから第2側壁62cに向かう第1方向(水平方向)に沿った上面41bの長さは、第1方向(水平方向)に沿った下面41dの長さよりも短い。
次に、図8(a)及び図8(b)、図9、並びに図10を用いて製造方法の説明をする。
図8(a)及び図8(b)は、1組の側壁をステージに対して移動させたときの製造装置の状態を例示する図である。
図8(a)は、模式的断面図であり、図8(b)は、模式的上面図である。
図7(a)及び図7(b)に示す製造装置110において、エネルギー線照射部20により積層造形物の一部(硬化領域70b)が形成されると、断面積A1が小さくなるように、第1側壁62a及び第2側壁62cが容器部10の中心に向けて移動する。つまり、第1側壁62a及び第2側壁62cが互いに近づくように移動する。
図8(a)及び図8(b)に示すように、第1側面41aは、上面41bに対して傾斜する。第2側面41cは、上面41bに対して傾斜する。第1側壁62aは、第1側面41aに接しつつ移動する。第2側壁62cは、第2側面41cに接しつつ移動する。すなわち、第1側壁62a及び第2側壁62cの移動は、ステージ41に対して相対的であればよい。第1側壁62a及び第2側壁62cは、ステージ41の降下と連動して、互いに近づくように移動する。
第1側壁62a,第2側壁62cの移動に応じて、積層造形物の一部を含む粉体原料の層(粉体領域70a及び硬化領域70b)上に、内室11の上部側に滞積した粉体原料70eが供給される。つまり、第1側壁62a,第2側壁62cが移動することで、内室11の上部側に溜まった粉体原料が上に押し出される。上に押し出された粉体原料は、内室11の中心(すなわち、硬化領域70b)に向けて流れ込んでいく。この結果、積層造形物の一部を含む粉体原料の層(粉体領域70a及び硬化領域70b)の上に、粉体原料70eが供給される。
すなわち、第1側壁62aと第2側壁62cとの間の距離が第1長さの第1期間において、加振部50は、ステージ41の上の粉体原料を振動させて粉体原料を平坦化する。エネルギー線照射部20は、積層造形物の第1部分を形成する。
第1期間の後の第2期間において、第1側壁62aと第2側壁62cとの間の距離は第1長さよりも短い第2長さである。第2期間において第2長さと第1長さとの差に応じた量の粉体原料が積層造形物の第1部分の上に配置される。
第2期間において、加振部50は、積層造形物の第1部分の粉体原料を振動させて粉体原料を平坦化する。エネルギー線照射部20は、積層造形物の第2部分を形成する。
上記のようにして第1側壁62a,第2側壁62cを移動させた結果、図8(b)に示す断面積A2は、図7(b)の断面積A1よりも小さくなる。なお、壁部62で囲まれた空間の実質的な体積は一定とすることが好ましい。このように、第1側壁62a,第2側壁62cの移動によって、積層造形物の一部を形成するための粉体原料70eを供給することができる。なお、本実施形態では、第1側壁62a及び第2側壁62cを移動させている。実施形態は、これに限らない。例えば、第3側壁62b及び第4側壁62dも、同時に移動させても良い。
前述の第1の実施形態、第2の実施形態では、エネルギー線の照射の度に、原料供給部30から粉体原料が供給された。
これに対して、本実施形態では、原料供給部30から粉体原料を一度に供給し、以後、エネルギー線の照射の度に、側壁を移動させる。側壁の移動によって、内室上部に溜まった粉体原料を上側に押し出し、この押し出した粉体原料を、積層造形物の次層の形成に利用する。
図9は、製造装置110における平坦化処理の様子を例示する模式的断面図である。
本例の場合、平坦化処理を、加振部50及び蓋部80を両方を用いて実施している。実施形態において、加振部50で平坦化処理を実施してもよい。粉体原料70eは、外側にいくほど、凸状に盛り上がっている傾向がある(図8(a)を参照)。このため、第1側壁62a,第2側壁62cを容器部10の外側に向けて所定量移動させ、外側部分の凸状の盛り上がりをある程度平坦化させる。そして、この際、加振部50を動作させ、粉体原料70eに振動を与え、蓋部80により粉体原料70eを押圧する。これにより、粉体原料70eは平坦化される。
図10は、製造装置110におけるエネルギー線照射処理の様子を例示する模式的断面図である。図9の平坦化処理により平坦化された粉体原料70eに対して、エネルギー線照射部20を矢印21の向きに移動させながら、エネルギー線22を照射する。これにより、粉体原料70eに対して硬化領域70bが形成される。以上の図8(a)、図8(b)、図9及び図10で説明した処理を繰り返すことで、所望の積層造形物を得ることができる。
本実施形態によれば、粉体原料は最初に必要な量が供給され、以後は供給されない。このため、粉体原料の無駄を低減することが可能となる。
第3の実施形態では、加振部(及び蓋部)により平坦化処理を行う。図7(a)、図7(b)、図8(a)、図8(b)、図9及び図10に示した例において、加振部を省略してもよい。これらの例において、蓋部を省略してもよい。
第1〜第3の実施形態において、スキージなどの他の平坦化処理部をさらに設けてもよい。
実施形態によれば、高生産性の積層造形物の製造装置及び製造方法が提供できる。
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、製造装置に含まれる容器部、加振部、エネルギー線照射部などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。
また、各具体例のいずれか2つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。
その他、本発明の実施の形態として上述した積層造形物の製造装置及び製造方法を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての積層造形物の製造装置及び製造方法も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
10・・・容器部、 11…内室、 20…エネルギー線照射部、 21,51,81…矢印、 22…エネルギー線、 30…原料供給部、 31…粉体原料、 40,41…ステージ、 41a…第1側面、 41b…下面、 41c…第2側面、 41d…上面、 50…加振部、 60,62…壁部、 61…空間、 62a…第1側壁、 62c…第2側壁、 62b、62d…側壁、 70a…粉体領域、 70b…硬化領域、 70c〜70e…粉体原料、 80…蓋部、 100,110…製造装置

Claims (20)

  1. ステージと、前記ステージの周りに設けられた壁部と、を含む容器部と、
    前記ステージの上に供給された粉体原料を振動させて前記粉体原料を平坦化する加振部と、
    前記粉体原料の一部にエネルギー線を照射し前記エネルギー線が照射された前記粉体原料から積層造形物の一部を形成するエネルギー線照射部と、
    を備えた積層造形物の製造装置。
  2. 前記容器部は、蓋部を含み、
    前記加振部により前記粉体原料を振動させるときに、前記蓋部は、前記粉体原料の上に位置し、前記蓋部は、前記粉体原料を押圧する請求項1記載の積層造形物の製造装置。
  3. 前記蓋部は、板部と、
    前記板部と前記粉体原料の間に配置される帯電防止膜と、
    を含む請求項2記載の積層造形物の製造装置。
  4. 前記エネルギー線を照射するときに、前記蓋部は、前記粉体原料の上とは異なる位置に位置する請求項2または3に記載の積層造形物の製造装置。
  5. 前記エネルギー線を照射するときに、前記蓋部は、前記粉体原料の上に位置する請求項2または3に記載の積層造形物の製造装置。
  6. 前記加振部は、前記蓋部を振動させる請求項2に記載の積層造形物の製造装置。
  7. 前記加振部は、前記ステージ又は前記壁部を振動させる請求項1または2に記載の積層造形物の製造装置。
  8. 前記容器部は、前記壁部と前記蓋部との間に形成される空間を有し、
    前記粉体原料が前記空間に流出可能とした請求項2〜7のいずれか1つに記載の積層造形物の製造装置。
  9. 前記粉体原料を前記ステージの上に供給する原料供給部をさらに備え、
    前記加振部は、前記原料供給部が前記ステージ上に供給した前記粉体原料を振動させて前記粉体原料を平坦化し、
    前記エネルギー線照射部が前記積層造形物の前記一部を形成した後に、前記ステージが降下し、
    前記原料供給部は、前記降下したステージの上に前記粉体原料を供給する請求項1〜8のいずれか1つに記載の積層造形物の製造装置。
  10. 前記壁部は、第1側壁と、第2側壁と、を含み、
    前記第1側壁と前記第2側壁との間に前記ステージの上面が配置され、
    前記第1側壁と前記第2側壁との間の距離は変化可能である請求項1〜8のいずれか1つに記載の積層造形物の製造装置。
  11. 前記ステージの前記上面に対して平行な、前記壁部で囲まれた空間の断面積は、前記距離の変化に伴って変化可能である請求項10に記載の積層造形物の製造装置。
  12. 前記壁部で囲まれた空間の実質的な体積が一定である請求項11に記載の積層造形物の製造装置。
  13. 前記ステージは、下面と、前記上面の一部及び前記下面の一部と接続された第1側面と、前記上面の他部及び前記下面の他部と接続された第2側面と、をさらに含み、
    前記第1側壁から前記第2側壁に向かう第1方向に沿った前記上面の長さは、前記第1方向に沿った前記下面の長さよりも短く、
    前記第1側面は、前記上面に対して傾斜し、
    前記第2側面は、前記上面に対して傾斜し、
    前記第1側壁は、前記第1側面に接しつつ移動し、
    前記第2側壁は、前記第2側面に接しつつ移動する請求項10〜12のいずれか1つに記載の積層造形物の製造装置。
  14. 容器部内のステージに粉体原料を供給する第1工程と、
    前記粉体原料を振動させ前記粉体原料を平坦化する第2工程と、
    前記粉体原料の一部にエネルギー線を照射し前記エネルギー線が照射された前記粉体原料から積層造形物の一部を形成する第3工程と、
    前記ステージを降下させる第4工程と、
    を複数回繰り返す積層造形物の製造方法。
  15. 前記容器部は、蓋部を含み、
    前記第2工程は、前記粉体原料を振動させるときに、前記蓋部が前記粉体原料の上に位置し、前記蓋部が前記粉体原料を押圧する請求項14記載の積層造形物の製造方法。
  16. 前記第3工程は、前記エネルギー線を照射するときに、前記蓋部が前記粉体原料の上とは異なる位置に位置する請求項15記載の積層造形物の製造方法。
  17. 前記第3工程は、前記エネルギー線を照射するときに、前記蓋部が前記粉体原料の上に位置する請求項15記載の積層造形物の製造方法。
  18. 前記第2工程は、前記蓋部を振動させる請求項15記載の積層造形物の製造方法。
  19. 前記容器部は、前記ステージの周りに設けられた壁部を含み、
    前記第2工程は、前記ステージ又は前記壁部を振動させる請求項14または15に記載の積層造形物の製造方法。
  20. 前記壁部は、第1側壁と、第2側壁と、を含み、
    前記第1側壁と前記第2側壁との間に前記ステージの上面が配置され、
    前記第1側壁と前記第2側壁との間の距離は変化可能である請求項19記載の積層造形物の製造方法。
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