JP2015185835A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】体格の増大及び放熱性の低下を抑制しつつ、固定の長期安定性が確保された樹脂封止型の半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置は、電子部品(20,20a,20b)と、モールド樹脂部(30)と、電子部品の生じた熱を放熱するヒートシンク(40,40a,40b)と、モールド樹脂部にインサートされたカラー(50,50a,50b)と、を備える。ヒートシンクは、カラーの内部空間(53,53a,53b)と連通し、雄ねじが挿通される貫通孔(48,48a,48b)を有する。ヒートシンクの放熱面(41,41a,41b)が、モールド樹脂部の一面から露出されている。カラーは、モールド樹脂部よりも剛性の高い材料を用いて形成されるとともに、開口端の一方(51,51a,51b)がヒートシンクに密着し、他方(52,52a,52b)がモールド樹脂部の一面と反対の裏面から露出されている。
【選択図】図2
【解決手段】半導体装置は、電子部品(20,20a,20b)と、モールド樹脂部(30)と、電子部品の生じた熱を放熱するヒートシンク(40,40a,40b)と、モールド樹脂部にインサートされたカラー(50,50a,50b)と、を備える。ヒートシンクは、カラーの内部空間(53,53a,53b)と連通し、雄ねじが挿通される貫通孔(48,48a,48b)を有する。ヒートシンクの放熱面(41,41a,41b)が、モールド樹脂部の一面から露出されている。カラーは、モールド樹脂部よりも剛性の高い材料を用いて形成されるとともに、開口端の一方(51,51a,51b)がヒートシンクに密着し、他方(52,52a,52b)がモールド樹脂部の一面と反対の裏面から露出されている。
【選択図】図2
Description
本発明は、樹脂封止型の半導体装置及びその製造方法に関し、特にヒートシンクとカラーを備える半導体装置及びその製造方法に関する。
従来、特許文献1に記載のように、樹脂封止型の半導体装置が知られている。半導体装置(電子回路装置)は、電子部品(半導体素子)と、電子部品を封止するモールド樹脂部と、電子部品に積層され、電子部品の生じた熱を放熱するヒートシンクと、を備えている。
上記した半導体装置は、たとえば、冷却器にねじ締めにより固定されて冷却される。モールド樹脂部に貫通孔や切り欠き部を設け、ねじを挿通させることで、半導体装置を冷却器に固定する場合、モールド樹脂部のクリープにより、半導体装置を長期にわたって安定的に冷却器に固定することが困難である。そこで、モールド樹脂部の一部として、電子部品及びヒートシンクと干渉しない位置にブラケット部を設け、このブラケット部にカラーをインサートすることで、固定の長期安定性を確保することが考えられる。しかしながら、半導体装置の体格が増大してしまう。
また、上記半導体装置として、電子部品の一面側のみにヒートシンクが配置された片面放熱構造の半導体装置と、電子部品の両面側にヒートシンクが配置された両面放熱構造の半導体装置と、が知られている。片面放熱構造の半導体装置の場合、モールド樹脂部を成形する際に、型のキャビティを構成する壁面にヒートシンクを密着させることができない。換言すれば、型によってヒートシンクを強く押すことができない。したがって、ヒートシンクの放熱面、特に外周縁部にバリが生じてしまう。両面放熱構造の半導体装置の場合も、ヒートシンクの間に、IGBTなどの電子部品を介在させているため、型によってヒートシンクを強く押すことができない。したがって、ヒートシンクの放熱面、特に外周縁部に樹脂バリが生じてしまう。
このように樹脂バリが生じると、ねじ締結構造において、樹脂バリ部分のクリープにより、固定の長期安定性を確保することが困難となる。また、放熱面積が減少すること、さらには、樹脂バリの分、放熱面と冷却器との隙間が大きくなり、熱抵抗が増大することにより、放熱性が低下する虞がある。
そこで、本発明は上記問題点に鑑み、体格の増大及び放熱性の低下を抑制しつつ、固定の長期安定性が確保された樹脂封止型の半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
ここに開示される発明は、上記目的を達成するために以下の技術的手段を採用する。なお、特許請求の範囲及びこの項に記載した括弧内の符号は、ひとつの態様として後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものであって、発明の技術的範囲を限定するものではない。
開示された発明のひとつは、冷却器(100,106,107)にねじ締めにより固定されて冷却される半導体装置であって、電子部品(20,20a,20b)と、電子部品を封止するモールド樹脂部(30)と、電子部品の厚み方向において電子部品に積層され、電子部品の生じた熱を放熱するヒートシンク(40,40a,40b)と、一方向に延設された筒状をなし、モールド樹脂部にインサートされ、ねじ締めの雄ねじ(104,109,110)が挿通されるカラー(50,50a,50b)と、を備えている。
そして、ヒートシンクは、カラーの内部空間(53,53a,53b)と連通し、雄ねじが挿通される貫通孔(48,48a,48b)を有している。ヒートシンクにおいて、電子部品との対向面と反対の面がモールド樹脂部の一面から露出された放熱面(41,41a,41b)とされている。加えて、カラーは、モールド樹脂部よりも剛性の高い材料を用いて形成されるとともに、開口端の一方(51,51a,51b)がヒートシンクの対向面に密着し、他方(52,52a,52b)がモールド樹脂部の一面と反対の裏面から露出されていることを特徴とする。
これによれば、カラーの内部空間とヒートシンクの貫通孔が連通するように、カラーとヒートシンクが積層配置されている。したがって、電子部品及びヒートシンクと干渉しない位置にカラーを配置する構成に較べて、半導体装置の体格の増大を抑制することができる。
また、ヒートシンクの放熱面がモールド樹脂部の一面から露出されている。加えて、カラーの開口端の一方がヒートシンクに密着しており、開口端の他方がモールド樹脂部の裏面から露出されている。このような半導体装置は、モールド樹脂部の成形において、型によってヒートシンク及びカラーを挟んで、キャビティの相対する壁面の一方にヒートシンクの放熱面を密着させるとともに、壁面の他方にカラーにおけるヒートシンクと反対側の開口端を密着させることで、得ることができる。相対する壁面間に、カラー及びヒートシンクが介在されるため、型によって強く押すことができる。
したがって、本発明によれば、ヒートシンクの放熱面上やカラーの開口端上に、樹脂バリが生じるのを抑制することができる。樹脂バリ部分のクリープの問題が生じないため、半導体装置を長期にわたって安定的に固定することができる。また、樹脂バリによる放熱面積の減少、熱抵抗の増大が生じないため、放熱性の低下を抑制することができる。
このように、電子部品の片側にヒートシンクが配置された片面放熱構造、両側にヒートシンクが配置された両面放熱構造、いずれの半導体装置においても、体格の増大及び放熱性の低下を抑制しつつ、固定の長期安定性を確保することができる。なお、片面放熱構造の場合、カラーにより、モールド樹脂部の裏面側にも放熱することができる。すなわち、従来の片面放熱構造の半導体装置よりも、放熱性を向上することもできる。
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。なお、以下に示す各実施形態において、共通乃至関連する要素には同一の符号を付与するものとする。また、半導体チップの厚み方向、換言すれば電子部品とヒートシンクの積層方向をZ方向、Z方向に直交し、各端子の延設方向をY方向と示す。また、Z方向及びY方向の両方向に直交する方向をX方向と示す。上記したX方向及びY方向により規定されるXY面が、Z方向に直交する面であり、特に断わりのない限り、XY面に沿う形状を平面形状とする。
(第1実施形態)
先ず、図1及び図2に基づき、半導体装置の構成について説明する。図1及び図2に示すように、半導体装置10は片面放熱構造をなしており、電子部品20と、モールド樹脂部30と、ヒートシンク40と、カラー50と、を備えている。この半導体装置10は、三相インバータを構成する6つのアームのうち、1つのアームを有する所謂1in1パッケージとして構成されている。半導体装置10は、例えば車両走行用のモータを駆動させるためのインバータに組み入れられる。
先ず、図1及び図2に基づき、半導体装置の構成について説明する。図1及び図2に示すように、半導体装置10は片面放熱構造をなしており、電子部品20と、モールド樹脂部30と、ヒートシンク40と、カラー50と、を備えている。この半導体装置10は、三相インバータを構成する6つのアームのうち、1つのアームを有する所謂1in1パッケージとして構成されている。半導体装置10は、例えば車両走行用のモータを駆動させるためのインバータに組み入れられる。
半導体装置10は、電子部品20として、2つの半導体チップ20a,20bを有している。これら半導体チップ20a,20bはY方向に並んで配置されている。半導体チップ20aには、スイッチング素子としての絶縁ゲートバイポーラトランジスタ(IGBT)が形成されている。一方、半導体チップ20bには、転流ダイオード(FWD)が形成されている。これら半導体チップ20a,20bは、Z方向に電流が流れる所謂縦型構造をなしており、Z方向両面に電極を有している。半導体チップ20aは、Z方向における一方の面側にコレクタ電極を有し、反対の面側にエミッタ電極と制御用電極を有している。半導体チップ20bは、上記したコレクタ電極と同じ側の面にカソード電極を有し、エミッタ電極と同じ側の面にアノード電極を有している。
モールド樹脂部30は、電子部品20(半導体チップ20a,20b)を封止している。モールド樹脂部30は、図示しない金型内に樹脂を注入し、成形してなるものである。たとえば、エポキシ系樹脂などの熱硬化性樹脂を用いてトランスファモールド法により成形することができる。本実施形態では、平面略矩形状をなしており、Z方向における一面31及び該一面31と反対の裏面32のうち、一面31から、ヒートシンク40の放熱面41が露出されている。
ヒートシンク40は、Z方向において電子部品20に積層配置(対向配置)され、電子部品20の生じた熱を放熱するものである。本実施形態では、ヒートシンク40が、半導体チップ20aのコレクタ電極形成面側(半導体チップ20bのカソード電極形成面側)に配置されている。Z方向において、ヒートシンク40は、モールド樹脂部30の一面31から露出される放熱面41と、放熱面41と反対の対向面42と、を有している。また、ヒートシンク40は、本体部43と、端子部44と、を有しており、本体部43が上記した放熱機能を果たす。一方、端子部44は、電子部品20を外部機器と電気的に接続するための中継機能を果たす。
本体部43は、金属層45と、絶縁層46と、金属層47と、を有している。金属層45における絶縁層46と反対の面が、上記した放熱面41をなしている。本実施形態では、放熱面41が、平坦な一面31と略面一となっている。また、金属層45には、放熱フィン60がろう付けされている。なお、放熱フィン60と金属層45とを一体的に形成することもできる。
金属層45における放熱面41と反対の面には、金属層45と金属層47とを電気的に分離するための絶縁層46が介在されている。金属層47における絶縁層46と反対の面は、ヒートシンク40における電子部品20との対向面42をなしている。本実施形態では、半導体チップ20aのコレクタ電極形成面及び半導体チップ20bのカソード電極形成面が金属層47に対向配置され、コレクタ電極及びカソード電極が金属層47にはんだ付けされている。また、金属層47は、端子部44と一体的に形成されている。
端子部44は、平面矩形状をなす本体部43の一辺からY方向に延設されている。そして、モールド樹脂部30の側面33から突出している。同じ側面33から、主端子61も突出している。この主端子61もY方向に延設されている。半導体チップ20a,20bは、側面33側からY方向に、半導体チップ20b、半導体チップ20aの順に配置されており、主端子61は、半導体チップ20bを跨いで、半導体チップ20aのエミッタ電極と対向するように配置されている。そして、主端子61が、半導体チップ20bのアノード電極及び半導体チップ20aのエミッタ電極にはんだ付けされている。
また、モールド樹脂部30における側面33と反対の側面34から、制御端子62が突出している。制御端子62は、ボンディングワイヤ63を介して、半導体チップ20a(IGBT)の制御電極に電気的に接続されている。この制御端子62もY方向に延設されている。
カラー50は、ねじ締めの軸力がモールド樹脂部30に作用するのを防ぐために、モールド樹脂部30にインサートされた筒状の部材である。すなわち、モールド樹脂部30は、カラー50を配置するための孔を有している。このカラー50は、モールド樹脂部30よりも剛性の高い材料を用いて形成されており、一方向に延設されている。本実施形態では、モールド樹脂部30を構成する熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂)よりも剛性の高い金属材用を用いて、円筒状に形成されている。金属以外にも、たとえばフィラーの添加により、モールド樹脂部30よりも剛性の高い樹脂材料を採用することもできる。
カラー50は、その延設方向がZ方向にほぼ一致するように配置されている。カラー50の開口端51,52のうち、開口端51は、ヒートシンク40の対向面42に密着している。本実施形態では、金属層47に密着している。しかしながら、絶縁層46及び金属層47が、金属層45の一部の領域上のみに配置され、開口端51が金属層45に密着する構成としても良い。一方、開口端52は、モールド樹脂部30の裏面32から露出されている。本実施形態では、開口端52が、平坦な裏面32と略面一となっている。
また、カラー50は、平面矩形状をなす本体部43の四隅部にそれぞれ配置されている。すなわち、X方向及びY方向により規定される面内において、電子部品20(半導体チップ20a,20b)を取り囲むように、4つのカラー50が配置されている。また、本体部43の長手方向であるY方向において、電子部品20を挟むように、カラー50が配置されている。さらには、短手方向であるX方向においても、電子部品20を挟むように、カラー50が配置されている。
ねじ締めのために、ヒートシンク40の本体部43には貫通孔48が形成されている。そして、この貫通孔48と、筒状をなすカラー50の内部空間53とが連通している。すなわち、本体部43の四隅部において、貫通孔48と内部空間53とがそれぞれ連通している。
次に、図3に基づき、上記した半導体装置10の冷却器への取り付け構造について説明する。
図3に示す冷却器100は、内部に流路101が形成されたケーシング102を有しており、流路101に、冷却水などの冷媒が流通されるようになっている。ケーシング102には、流路101と外部雰囲気とを繋ぐ貫通孔103が形成されており、この貫通孔103を介して放熱フィン60が流路101内に配置され、冷媒によって冷やされる。
ケーシング102は、雄ねじ104と螺合するための雌ねじがきられた凹部105を有している。半導体装置10の放熱面41(又は一面31)とケーシング102との間には、貫通孔103を取り囲むように、Oリング106が介在されている。そして、ヒートシンク40の貫通孔48が、凹部105に重なるように、半導体装置10が冷却器100に固定されている。雄ねじ104は、頭部104aと、柱部104bと、を有しており、柱部104bが、カラー50の内部空間53、ヒートシンク40の本体部43の貫通孔48、及び凹部105に挿入され、ねじ締結されている。ねじ締めによる雄ねじ104の軸力の大部分は、カラー50に作用し、モールド樹脂部30に過大な力が作用することはない。
次に、図4に基づき、上記した半導体装置10の製造方法について説明する。
先ず、電子部品20としての半導体チップ20a,20b、貫通孔48を有するヒートシンク40、及びカラー50をそれぞれ準備する。そして、実装工程を実施する。この実装工程では、図示を省略するが、ヒートシンク40の対向面42に半導体チップ20a,20bをはんだ付けするとともに、半導体チップ20a,20bに対し、主端子61をはんだ付けする。また、ボンディングワイヤ63を介して、制御端子62を対応する制御電極に接続する。このようにして積層体を形成する。
次いで、成形工程を実施する。貫通孔48と内部空間53とが連通するように、カラー50がヒートシンク40の対向面42に接触配置された積層体を、図4に示すように、モールド樹脂部30を成形するための金型70内に配置する。本実施形態では、実装工程で、カラー50をヒートシンク40に接合せず、ヒートシンク40上にカラー50を配置した状態で金型70内に配置する。
金型70は、Z方向に開閉可能とされた上型70a及び下型70bを有しており、これら型70a,70bのキャビティ71内に、カラー50を含む積層体を位置決め配置する。なお、金型70が、特許請求の範囲に記載の型に相当する。そして、金型70をZ方向、すなわち積層体の積層方向に型締めし、上型70aと下型70bとによってヒートシンク40及びカラー50を挟む。このとき、ヒートシンク40は下型70bから力を受け、カラー50は上型70aから力を受ける。図4中の白抜き矢印はこの力を示している。したがって、キャビティ71を構成する壁面のうち、下型70bの壁面72にヒートシンク40の放熱面41が密着し、上型70aの壁面73にカラー50の開口端52が密着する。なお、壁面72,73はZ方向において互いに対向する壁面である。この密着状態(型締め状態)で、キャビティ71内に樹脂を注入してモールド樹脂部30を成形する。以上により、半導体装置10を得ることができる。
なお、上記した例では、カラー50をヒートシンク40に固定せずに、キャビティ71に配置する例を示した。しかしながら、実装工程において、予めカラー50をヒートシンク40に固定(接合)しておき、接合されたヒートシンク40及びカラー50を、上型70aと下型70bとによって挟んでも良い。
次に、本実施形態に係る半導体装置10の効果について説明する。
本実施形態の半導体装置10では、ヒートシンク40の貫通孔48とカラー50の内部空間53とが連通するように、カラー50がヒートシンク40に積層配置されている。したがって、電子部品及びヒートシンクと干渉しない位置にカラーを配置する構成に較べて、Z方向に直交する方向における半導体装置10の体格の増大を抑制することができる。
また、ヒートシンク40の放熱面41がモールド樹脂部30の一面31から露出されている。加えて、カラー50の開口端51がヒートシンク40の対向面42に密着し、開口端52がモールド樹脂部30の裏面32に露出されている。このような半導体装置10は、上記したように、モールド樹脂部30の成形において、金型70によりヒートシンク40及びカラー50を挟み、キャビティ71の壁面72に放熱面41を密着させ、壁面73にカラー50の開口端52を密着させ、開口端51をヒートシンク40の対向面42密着させることで、得ることができる。
カラー50は、スペーサとして機能するため、カラー50とともにヒートシンク40を金型70によって強く押すことができる。したがって、ヒートシンク40の放熱面41上やカラー50の開口端52上に、樹脂バリが生じるのを抑制することができる。これにより、樹脂バリ部分のクリープの問題が生じないため、半導体装置10を長期にわたって安定的に固定することができる。また、樹脂バリによる放熱面積の減少、熱抵抗の増大が生じないため、放熱性の低下を抑制することができる。
このように、本実施形態によれば、電子部品20に対してヒートシンク40が片側に配置された片面放熱構造の半導体装置10において、体格の増大及び放熱性の低下を抑制しつつ、固定の長期安定性を確保することができる。なお、カラー50により、モールド樹脂部30の裏面32側にも放熱することができる。すなわち、従来の片面放熱構造の半導体装置10よりも、放熱性を向上することもできる。
加えて、本実施形態では、カラー50の開口端52が、モールド樹脂部30の裏面32と略面一となっている。したがって、金型70の構造を簡素化することができる。また、座金を用いたねじ締めが可能であり、これにより、モールド樹脂部30に作用する力を抑制することができる。なお、ヒートシンク40の放熱面41も、モールド樹脂部30の一面31と略面一となっているため、これによっても、金型70の構造を簡素化することができる。
また、本実施形態では、複数のカラー50を有するとともに、ヒートシンク40がカラー50に対応して同数の貫通孔48を有し、X方向及びY方向により規定される面内において、電子部品20を間に挟むように、カラー50が配置されている。したがって、モールド樹脂部30の収縮にともない、半導体装置10に反りが生じても、反りを低減するように半導体装置10を冷却器100にねじ締結することができる。これにより、放熱性を確保することができる。
特に本実施形態では、ヒートシンク40(本体部43)の長手方向において、電子部品20を間に挟むように、カラー50が配置されている。長手方向は反りが生じやすいが、この構成により、冷却器100への組み付け時に反りを低減し、放熱性を確保することができる。さらには、本体部43の四隅にカラー50が配置されているため、いずれの方向に反っても、放熱性を確保することができる。
なお、本実施形態では、半導体装置10が放熱フィン60を備える例を示したが、図5に示す第1変形例のように、放熱フィン60を備えない構成としても良い。この場合、内部に冷媒が流通する冷却器と、放熱面41との間に、図示しない絶縁シートや電気絶縁性の放熱ゲルが介在され、半導体装置10の熱が冷却器側に放熱される。放熱面41上には樹脂バリが生じないので、冷却器との間の隙間を所定の間隔とすることができる。すなわち、放熱性を向上することができる。
また、カラー50の配置もヒートシンク40の本体部43の四隅に限定されるものではない。図6に示す第2変形例のように、本体部43の長手方向であるY方向において、電子部品20を間に挟むように、2箇所にカラー50を配置しても良い。さらには、図7に示す第3変形例のように、本体部43の短手方向であるX方向において、電子部品20を間に挟むように、2箇所にカラー50を配置しても良い。図6及び図7は、いずれも図1を簡素化して図示している。
また、片面放熱構造の半導体装置10としては、上記例に限定されるものではない。たとえば、ヒートシンク40の構造など、上記例に限定されない。電子部品20と、電子部品20を封止するモールド樹脂部30と、電子部品20の少なくとも一面側に配置され、電子部品20の生じた熱を放熱するヒートシンク40と、カラー50と、を備え、ヒートシンク40の放熱面41が、モールド樹脂部30から露出されるものであれば適用することができる。
(第2実施形態)
本実施形態において、第1実施形態に示した半導体装置10及びその製造方法と共通する部分についての説明は割愛する。
本実施形態において、第1実施形態に示した半導体装置10及びその製造方法と共通する部分についての説明は割愛する。
本実施形態に係る半導体装置10は、第1実施形態に示した半導体装置10と同じである。異なる点は、その製造方法にある。
本実施形態では、図8に示すように、金型70が、キャビティ71を構成する壁面のうち、上型70aの壁面73から突出する突起部74を有している。この突起部74は、Z方向に延設されている。そして、突起部74が、開口端52側からカラー50の内部空間53に挿入された状態で、モールド樹脂部30の成形がなされる。
これによれば、突起部74によって所定位置にカラー50が保持される。したがって、カラー50の内部空間53と本体部43の貫通孔48とを、位置精度良く連通させることができる。また、カラー50がヒートシンク40に固定されていなくとも、樹脂の注入圧などによって、カラー50に位置ずれが生じるのを抑制することができる。
図8に示す例では、金型70が、下型70bの壁面72から突出する突起部75を有している。この突起部75も、Z方向に延設されており、突起部75が、放熱面41側から貫通孔48に挿入された状態で、モールド樹脂部30の成形がなされる。突起部74,75は、X方向及びY方向により規定される面内において、互いに重なるように設けられている。したがって、カラー50がヒートシンク40に固定されていなくとも、キャビティ71内で、内部空間53と貫通孔48とを、位置精度良く連通させることができる。しかしながら、突起部75を有さず、突起部74を有する金型70を採用することもできる。
(第3実施形態)
本実施形態において、第1実施形態に示した半導体装置10及びその製造方法と共通する部分についての説明は割愛する。
本実施形態において、第1実施形態に示した半導体装置10及びその製造方法と共通する部分についての説明は割愛する。
本実施形態に係る半導体装置10は、両面放熱構造をなしている。それ以外の点は、第1実施形態と同じである。
先ず、図9〜図11に基づき、半導体装置10の構成について説明する。図9〜図11に示す半導体装置10も、電子部品20として、1つのアーム部を構成する半導体チップ20a,20bを有している。そして、半導体チップ20a,20bがモールド樹脂部30によって一体的に封止された1in1パッケージとなっている。半導体チップ20a,20bは、X方向に並んで配置されている。
半導体装置10は、Z方向において半導体チップ20a,20bの両面側に配置された一対のヒートシンク40a,40bを備えている。各ヒートシンク40a,40bは、本体部43a,43bと、本体部43a,43bから延設された端子部44a,44bと、有している。本体部43a,43bは、本体部43同様に放熱機能を果たし、端子部44a,44bは、端子部44同様に、電子部品20を外部機器と電気的に接続するための中継機能を果たす。
本体部43a,43bは、第1実施形態に示した本体部43のような絶縁層46を有しておらず、銅などの金属材料を用いて形成されている。ヒートシンク40aの本体部43aにおける電子部品20と反対の面が放熱面41aをなしており、モールド樹脂部30の一面31から露出されている。同じく、ヒートシンク40bの本体部43bにおける電子部品20と反対の面が放熱面41bをなしており、モールド樹脂部30の裏面32から露出されている。本実施形態では、放熱面41aが平坦な一面31と略面一とされ、放熱面41bが平坦な裏面32と略面一とされている。
本体部43a,43bにおける放熱面41a,41bと反対の面は、電子部品20との対向面42a,42bをなしている。本実施形態では、半導体チップ20aのコレクタ電極形成面及び半導体チップ20bのカソード電極形成面が対向面42aに対向配置され、コレクタ電極及びカソード電極が本体部43aにはんだ付けされている。また、半導体チップ20aのエミッタ電極形成面及び半導体チップ20bのアノード電極形成面が対向面42bに対向配置され、エミッタ電極及びアノード電極が本体部43bにはんだ付けされている。
本体部43a,43bには、本体部43に形成された貫通孔48同様、貫通孔48a,48bが形成されている。本体部43a,43bは、X方向を長手とする平面略矩形状をなすとともに、ほとんどの部分が互いに対向している。また、互いに重ならない部分(対向しない部分)として延設部49a,49bを有している。本体部43aは、長手辺それぞれの中央付近からY方向に延設された延設部49aを有している。本体部43bは、短手辺それぞれの中央付近からY方向に延設された延設部49bを有している。これら延設部49a,49bは、対応するカラー50a,50bが密着する部分である。
なお、半導体チップ20aのエミッタ電極形成面及び半導体チップ20bのアノード電極形成面と、ヒートシンク40bの対向面42bとの間に、電気的な中継部材(金属ターミナル)がそれぞれ介在されることで、各電極形成面と対向面42bとの間に所定の間隔が確保される構成としても良い。
端子部44a,44bは、平面略矩形状をなす本体部43a,43bの長手辺のひとつからY方向にそれぞれ延設されている。そして、モールド樹脂部30の側面33から突出している。
また、半導体装置10は、ヒートシンク40aに密着するカラー50aと、ヒートシンク40bに密着するカラー50bと、を有している。カラー50aの開口端51aは、対向面42a側において、ヒートシンク40aの延設部49aに密着し、反対の開口端52aは、モールド樹脂部30の裏面32から露出されている。同じく、カラー50bの開口端51bは、対向面42b側において、ヒートシンク40bの延設部49bに密着し、反対の開口端52bは、モールド樹脂部30の一面31から露出されている。
カラー50aは、短手方向であるY方向において、電子部品20を挟むように配置されている。カラー50bは、本体部43a,43bの長手方向であるX方向において、電子部品20を挟むように配置されている。すなわち、X方向及びY方向により規定される面内において、電子部品20(半導体チップ20a,20b)を取り囲むように、4つのカラー50a,50bが配置されている。
また、カラー50aの内部空間53aは、ヒートシンク40aの貫通孔48aに連通し、カラー50bの内部空間53bは、ヒートシンク40bの貫通孔48bに連通している。
次に、図12に基づき、冷却器への取り付け構造について説明する。図12では、便宜上、端子部44a,44b、制御端子62などを省略して図示している。
図12に示す例では、Z方向において、半導体装置10の両面側に冷却器107,108が配置されている。この冷却器107,108の内部には、冷媒が流通している。そして、放熱面41aと冷却器107との間に、図示しない絶縁シートや電気絶縁性の放熱ゲルが介在され、半導体装置10の熱が冷却器107側に放熱されるようになっている。また、放熱面41bと冷却器108との間に、図示しない絶縁シートや電気絶縁性の放熱ゲルが介在され、半導体装置10の熱が冷却器108側に放熱されるようになっている。なお、符号109は、半導体装置10を冷却器107に固定するための雄ねじを示し、符号110は、半導体装置10を冷却器108に固定するための雄ねじを示している。雄ねじ109は、カラー50a及び貫通孔48aに挿入され、雄ねじ110は、カラー50b及び貫通孔48bに挿入されている。
次に、図13に基づき、上記した半導体装置10の製造方法について説明する。図13では、図10に対応する断面について例示している。
先ず、電子部品20としての半導体チップ20a,20b、ヒートシンク40a,40b、及びカラー50a,50bをそれぞれ準備する。そして、実装工程を実施する。この実装工程では、図示を省略するが、ヒートシンク40a,50aの間に電子部品20を介在させるとともに、電子部品20を各ヒートシンクにはんだ付けして積層体を形成する。また、はんだ付けする際に、貫通孔48aと内部空間53aとが連通するように、ヒートシンク40aの対向面42aにカラー50aを固定し、貫通孔48bと内部空間53bとが連通するように、ヒートシンク40bの対向面42bにカラー50bを固定する。このように、カラー50a,50bが固定(接合)された積層体を形成する。
次いで、成形工程を実施する。この成形工程では、図13に示すように、カラー50a,50bを含む積層体を、モールド樹脂部30を成形するための金型70のキャビティ71内に位置決め配置する。そして、金型70をZ方向、すなわち積層体の積層方向に型締めし、上型70aと下型70bとによって、ヒートシンク40aとカラー50a、及び、ヒートシンク40bとカラー50bを挟む。
このとき、ヒートシンク40aは下型70bから力を受け、カラー50aは上型70aから力を受ける。図13中の白抜き矢印はこの力を示している。したがって、キャビティ71を構成する壁面のうち、下型70bの壁面72にヒートシンク40aの放熱面41aが密着し、上型70aの壁面73にカラー50aの開口端52aが密着する。さらに、カラー50aの開口端51aがヒートシンク40aの対向面42aに密着する。図示しないが、カラー50bは下型70bから力を受け、ヒートシンク40bは上型70aから力を受ける。したがって、キャビティ71を構成する壁面のうち、下型70bの壁面72にカラー50bの開口端52bが密着し、上型70aの壁面73にヒートシンク40bの放熱面41bが密着する。さらに、カラー50bの開口端51bがヒートシンク40bの対向面42bに密着する。このように、カラー50a,50bを介在させるため、カラー50a,50bがスペーサとして機能し、カラーがヒートシンクに積層されない構成に較べて、一対のヒートシンク40a,40bを金型70によって強く押すことができる。
この密着状態(型締め状態)で、キャビティ71内に樹脂を注入してモールド樹脂部30を成形する。以上により、半導体装置10を得ることができる。
次に、本実施形態に係る半導体装置10の効果について説明する。
本実施形態の半導体装置10では、カラー50aの内部空間53aとヒートシンク40aの貫通孔48aが連通し、カラー50bの内部空間53bとヒートシンク40bの貫通孔48bが連通するように、カラー50a,50bが配置されている。したがって、電子部品及びヒートシンクと干渉しない位置にカラーを配置する構成に較べて、Z方向に直交する方向において、半導体装置10の体格の増大を抑制することができる。
また、カラー50aの開口端51aがヒートシンク40aの対向面42aに密着しており、開口端52aがモールド樹脂部30の裏面32から露出され、放熱面41aが一面31から露出されている。同じく、カラー50bの開口端51bがヒートシンク40bの対向面42bに密着しており、開口端52bがモールド樹脂部30の一面31から露出され、放熱面41bが裏面32から露出されている。このような半導体装置10は、ヒートシンク40a上にカラー50aを配置し、ヒートシンク40b上にカラー50bを配置した状態で型締めをする。すなわち、キャビティ71の壁面72にヒートシンク40aの放熱面41aを密着させるとともに、壁面73にカラー50aの開口端52aを密着させる。また、キャビティ71の壁面72にカラー50bの開口端52bを密着させるとともに、壁面73にヒートシンク40bの放熱面41bを密着させることで、得ることができる。本実施形態では、カラー50a,50bがスペーサとして機能するため、カラーがヒートシンクに積層されない構成に較べて、一対のヒートシンク40a,40bを金型70によって強く押すことができる。
したがって、ヒートシンク40a,40bの放熱面41a,41b上、カラー50a,50bの開口端52a,52b上に樹脂バリが生じるのを抑制することができる。これにより、樹脂バリ部分のクリープの問題が生じないため、半導体装置10を長期にわたって安定的に固定することができる。また、樹脂バリによる放熱面積の減少、熱抵抗の増大が生じないため、放熱性の低下を抑制することができる。
このように、本実施形態によれば、両面放熱構造の半導体装置10において、体格の増大及び放熱性の低下を抑制しつつ、固定の長期安定性を確保することができる。
加えて、本実施形態では、ヒートシンク40aの放熱面41a及びカラー50bの開口端52bが、モールド樹脂部30の一面31と略面一とされ、ヒートシンク40bの放熱面41b及びカラー50aの開口端52aが裏面32と略面一とされている。したがって、金型70の構造を簡素化することができる。また、座金を用いたねじ締めが可能であり、これにより、モールド樹脂部30に作用する力を抑制することができる。
また、本実施形態でも、第1実施形態のカラー50同様、カラー50a,50bをそれぞれ複数有するとともに、ヒートシンク40a,40bがカラー50a,50bに対応して同数の貫通孔48a,48bを有し、X方向及びY方向により規定される面内において、電子部品20を間に挟むように、カラー50a,50bが配置されている。さらには、本体部43a,43bの長手方向において、電子部品20を間に挟むように、カラー50a,50bが配置されている。したがって、第1実施形態同様の効果を奏することができる。
なお、本実施形態では、半導体装置10が放熱フィンを備えない例を示したが、たとえば、ヒートシンク40aに放熱フィンが固定された構成を採用することもできる。カラー50a,50bの配置も上記例に限定されるものではない。
また、第2実施形態に示した突起部74,75を有する金型70を用いても良い。たとえば、突起部74が、内部空間53aに挿入されることで、突起部74によって所定位置にカラー50aが保持される。同じく、突起部75が、内部空間53bに挿入されることで、突起部75によって所定位置にカラー50bが保持される。したがって、カラー50a,50bの内部空間53a,53bと本体部43a,43bの貫通孔48a,48bとを、位置精度良く連通させることができる。また、カラー50a,50bがヒートシンク40a,40bに固定されていなくとも、樹脂の注入圧などによって、カラー50a,50bに位置ずれが生じるのを抑制することができる。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は上記した実施形態になんら制限されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々変形して実施することが可能である。
半導体装置10の構成は上記例に限定されるものではない。アームを1つのみ有する1in1パッケージの例を示したが、上下アームを一相分有する2in1パッケージ、三相分の上下アームを有する6in1パッケージにも適用することができる。
10・・・半導体装置、20・・・電子部品、20a,20b・・・半導体チップ、30・・・モールド樹脂部、31・・・一面、32・・・裏面、33,34・・・側面、40,40a,40b・・・ヒートシンク、41,41a,41b・・・放熱面、42,42a,42b・・・対向面、43,43a,43b・・・本体部、44,44a,44b・・・端子部、45・・・金属層、46・・・絶縁層、47・・・金属層、48,48a,48b・・・貫通孔、49a,49b・・・延設部、50,50a,50b・・・カラー、51,51a,51b・・・開口端、52,52a,52b・・・開口端、53,53a,53b・・・内部空間、60・・・放熱フィン、61・・・主端子、62・・・制御端子、63・・・ボンディングワイヤ、70・・・金型、70a・・・上型、70b・・・下型、71・・・キャビティ、72,73・・・壁面、74,75・・・突起部、100,107,108・・・冷却器、101・・・流路、102・・・ケーシング、103・・・貫通孔、104,109,110・・・雄ねじ、104a・・・頭部、104b・・・柱部、105・・・凹部、106・・・Oリング
Claims (6)
- 冷却器(100,106,107)にねじ締めにより固定されて冷却される半導体装置であって、
電子部品(20,20a,20b)と、
前記電子部品を封止するモールド樹脂部(30)と、
前記電子部品の厚み方向において前記電子部品に積層され、前記電子部品の生じた熱を放熱するヒートシンク(40,40a,40b)と、
一方向に延設された筒状をなし、前記モールド樹脂部にインサートされ、前記ねじ締めの雄ねじ(104,109,110)が挿通されるカラー(50,50a,50b)と、
を備え、
前記ヒートシンクは、前記カラーの内部空間(53,53a,53b)と連通し、前記雄ねじが挿通される貫通孔(48,48a,48b)を有するとともに、前記ヒートシンクにおいて、前記電子部品との対向面と反対の面が前記モールド樹脂部の一面から露出された放熱面(41,41a,41b)とされ、
前記カラーは、前記モールド樹脂部よりも剛性の高い材料を用いて形成されるとともに、開口端の一方(51,51a,51b)が前記ヒートシンクの前記対向面に密着し、他方(52,52a,52b)が前記モールド樹脂部の前記一面と反対の裏面から露出されていることを特徴とする半導体装置。 - 前記カラーにおいて、前記ヒートシンクに対して遠い側の開口端(52,52a,52b)が、前記モールド樹脂部と面一となっていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 複数の前記カラーを有するとともに、該カラーに対応して同数の前記貫通孔を有し、
前記厚み方向に直交する方向において、前記電子部品を間に挟むように、複数の前記カラーが配置されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体装置。 - 前記ヒートシンクの長手方向において、前記電子部品を間に挟むように、複数の前記カラーが配置されていることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。
- 請求項1に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記電子部品と前記貫通孔を有する前記ヒートシンクとを積層し、前記ヒートシンクに前記電子部品を実装して積層体を形成する実装工程と、
前記貫通孔に前記内部空間が連通するように、前記カラーが前記ヒートシンクに接触配置された前記積層体を、型(70)のキャビティ(71)内に配置して前記積層体の積層方向に型締めをし、前記型によって前記ヒートシンク及び前記カラーを積層方向に挟んで、前記キャビティの壁面の一方に前記ヒートシンクの放熱面(41,41a,41b)を密着させるとともに、前記壁面の他方に前記カラーにおける前記ヒートシンクと反対側の開口端(52,52a,52b)を密着させた状態で、前記キャビティ内に樹脂を注入して前記モールド樹脂部を成形する成形工程と、
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記成形工程では、
前記キャビティの壁面から突出する突起部を備えた前記型を用い、
前記カラーの内部空間に前記突起部を挿入した状態で、樹脂を注入することを特徴とする請求項5に記載の半導体装置の製造方法。
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---|---|---|---|
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Country Status (1)
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161129 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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