JP2015171753A - Plate glass polishing device and plate glass polishing method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plate glass polishing device which prevents deterioration of the polishing capability as much as possible and recovers polishing slurry S after polishing to reuse the polishing slurry S, and to provide a plate glass polishing method.SOLUTION: A plate glass polishing device includes: transfer means 10 which transfers plate glass G to which polishing slurry S composed of an abrasive compound and water adheres; an air nozzle 21 and a washing nozzle 22 which respectively jet compression air a and washing water w to the plate glass G transferred by the transfer means 10; and a shoot 31 which is disposed below the transfer means 10 and receives the polishing slurry S removed from the plate glass G by the compression air a and the washing water w jetted to the plate glass G. The air nozzle 21 and the washing nozzle 22 are disposed so that a compression air jetting position of the air nozzle 21 is located at the upstream side relative to a washing water jetting position of the washing nozzle 22 in a transfer direction. The shoot 31 is formed so as to recover the polishing slurry S dividing the slurry S into a regeneration polishing slurry Sa having high concentration of the abrasive compound and a waste polishing slurry Sb having low concentration of the abrasive compound.

Description

本発明は、研磨剤を含有する研磨スラリーを用いて板ガラスを研磨する板ガラス研磨装置および板ガラス研磨方法の技術に関し、より詳しくは、研磨後の研磨スラリーを回収して再利用する板ガラス研磨装置および板ガラス研磨方法の技術に関する。   The present invention relates to a technology of a plate glass polishing apparatus and a plate glass polishing method for polishing plate glass using a polishing slurry containing an abrasive, and more specifically, a plate glass polishing apparatus and a plate glass for recovering and reusing a polishing slurry after polishing. The present invention relates to a polishing method technique.

従来から、板ガラスの研磨においては、例えば、砥粒と呼ばれる粒状の研磨剤と水とを混合した研磨スラリーが用いられている。
具体的には、板ガラスの被研磨面(研磨が施される面)に研磨スラリーを供給しつつ、研磨パッドなどの研磨手段によって当該被研磨面を押圧しながら磨き上げる。
こうして、板ガラスの研磨は、研磨スラリーを用いて行われていた。
Conventionally, in the polishing of plate glass, for example, a polishing slurry obtained by mixing granular abrasives called abrasive grains and water is used.
Specifically, polishing is performed while pressing the surface to be polished by a polishing means such as a polishing pad while supplying polishing slurry to the surface to be polished (surface to be polished) of the plate glass.
Thus, the polishing of the plate glass has been performed using the polishing slurry.

ところで、板ガラスの研磨後の研磨スラリーが被加工面に残っていると、板ガラスの研磨終了後に行われる工程において、被研磨面に傷や汚れ等を発生させる要因となり得る。よって、板ガラスの研磨終了後、使用された研磨スラリーを直ちに被研磨面より除去することが好ましい。
一方、研磨スラリーに含有される研磨剤としては、酸化セリウムやパーミス等の高価なものも多く、一回のみの使用によって研磨スラリーを破棄することとすれば、研磨剤のコスト増大を招くこととなる。
このようなことから、従来から、被研磨部材(例えば、板ガラスなど)の研磨終了後、使用された研磨スラリーを被研磨部材より直ちに除去するとともに、除去した研磨スラリーを回収して再利用する研磨装置が知られている(例えば、「特許文献1」を参照)。
By the way, if the polishing slurry after the polishing of the plate glass remains on the surface to be processed, it may become a factor that causes scratches, dirt, etc. on the surface to be polished in the process performed after the polishing of the plate glass. Therefore, it is preferable to remove the used polishing slurry from the surface to be polished immediately after the polishing of the plate glass.
On the other hand, as the abrasive contained in the abrasive slurry, there are many expensive things such as cerium oxide and permis, and if the abrasive slurry is discarded only once, the cost of the abrasive is increased. Become.
Therefore, conventionally, after the polishing of the member to be polished (for example, plate glass), the used polishing slurry is immediately removed from the member to be polished, and the removed polishing slurry is recovered and reused. An apparatus is known (see, for example, “Patent Document 1”).

ここで、従来の研磨装置の一例として、板ガラス研磨装置100(以下、適宜「研磨装置100」と記載する)の構成について、図4を用いて説明する。
なお、以下の説明に関しては便宜上、図4の上下方向を研磨装置100の上下方向と規定して記述する。
また、図4においては、矢印Aの方向を板ガラスGの搬送方向と規定して記述する。
Here, as an example of a conventional polishing apparatus, a configuration of a plate glass polishing apparatus 100 (hereinafter referred to as “polishing apparatus 100” as appropriate) will be described with reference to FIG.
In the following description, for convenience, the vertical direction in FIG. 4 is described as the vertical direction of the polishing apparatus 100.
In FIG. 4, the direction of the arrow A is defined as the conveyance direction of the glass sheet G.

研磨装置100は、板ガラスGを水平方向に搬送するベルトコンベア101を備え、ベルトコンベア101の下方には、上方に開口する略矩形箱状のシュート102が配設される。また、ベルトコンベア101の上方、且つ下流側(矢印Aが示す側)端部の近傍には、洗浄ノズル103が配設される。
なお、ベルトコンベア101の上方、且つ上流側(矢印Aが示す側とは反対側)には、研磨スラリーの吐出機器や研磨パッドなどからなる研磨手段(図示せず)が配置されており、当該研磨手段によって、水平姿勢で搬送される板ガラスGの被研磨面(上面)が研磨される構成となっている。
The polishing apparatus 100 includes a belt conveyor 101 that conveys the plate glass G in the horizontal direction, and a substantially rectangular box-shaped chute 102 that opens upward is disposed below the belt conveyor 101. Further, a cleaning nozzle 103 is disposed above the belt conveyor 101 and in the vicinity of the downstream end (the side indicated by the arrow A).
A polishing means (not shown) including a polishing slurry discharging device, a polishing pad, and the like is disposed above and upstream of the belt conveyor 101 (on the side opposite to the side indicated by the arrow A). The polishing surface (upper surface) of the plate glass G conveyed in a horizontal posture is polished by the polishing means.

シュート102の底面102aは、中央部に向かって徐々に下方に傾斜する逆四角錐形状に形成され、その頂点には貫通孔102bが穿孔される。
また、貫通孔102bには、配管部材105の一端部が接続されるとともに、配管部材105の他端部は、シュート102の下方に位置する回収タンク104に接続される。
つまり、シュート102は、配管部材105を介して、回収タンク104と連通される。
The bottom surface 102a of the chute 102 is formed in an inverted quadrangular pyramid shape that gradually inclines downward toward the center, and a through hole 102b is drilled at the apex thereof.
In addition, one end of the piping member 105 is connected to the through hole 102 b, and the other end of the piping member 105 is connected to the recovery tank 104 positioned below the chute 102.
That is, the chute 102 communicates with the collection tank 104 via the piping member 105.

一方、洗浄ノズル103は、水平方向、且つベルトコンベア101の幅方向(矢印Aに対する平面視直交方向)に延出して配設される。また、洗浄ノズル103の下端部には、複数(図4は側面図であるため、一個のみ記載)の噴出口103a・103a・・・が、洗浄ノズル103の延出方向に沿って一直線状に配置されている。
そして、これらの複数の噴出口103a・103a・・・から、洗浄水(例えば、常温水)w・w・・・が、下方に向かって噴出される。
On the other hand, the cleaning nozzle 103 is disposed so as to extend in the horizontal direction and the width direction of the belt conveyor 101 (a direction orthogonal to the arrow A in a plan view). Further, at the lower end of the cleaning nozzle 103, a plurality of jet outlets 103a, 103a,... (Only one is shown because FIG. 4 is a side view) are straight along the extending direction of the cleaning nozzle 103. Has been placed.
Then, washing water (for example, room temperature water) w · w... Is ejected downward from the plurality of jet outlets 103a, 103a.

以上のような構成からなる従来の研磨装置100において、ベルトコンベア101によって水平姿勢で搬送される板ガラスGは、ベルトコンベア101の上流側にて、前述した研磨手段(図示せず)によって、その上面を研磨される。
研磨手段による研磨が終了した板ガラスGは、ベルトコンベア101によって、引き続き水平姿勢で搬送される。この際、板ガラスGの上面には、研磨後の研磨スラリーSの一部が、板ガラスGより落下することなく付着したままの状態となっている。
その後、ベルトコンベア101の下流側端部に到達した板ガラスGの上面に向かって、洗浄水wが吹き付けられる。これにより、板ガラスGの上面に付着していた研磨後の研磨スラリーSの略全てが、板ガラスGより除去される。
In the conventional polishing apparatus 100 configured as described above, the plate glass G conveyed in a horizontal posture by the belt conveyor 101 is disposed on the upper surface thereof by the above-described polishing means (not shown) on the upstream side of the belt conveyor 101. Be polished.
The plate glass G that has been polished by the polishing means is continuously conveyed in a horizontal posture by the belt conveyor 101. At this time, a part of the polishing slurry S after polishing is attached to the upper surface of the plate glass G without dropping from the plate glass G.
Thereafter, the washing water w is sprayed toward the upper surface of the sheet glass G that has reached the downstream end of the belt conveyor 101. Thereby, substantially all of the polished polishing slurry S adhered to the upper surface of the plate glass G is removed from the plate glass G.

板ガラスGの上面より除去された、研磨後の研磨スラリーSは、洗浄水wと混ざり合ってシュート102へと落下し、配管部材105を介して、回収タンク104内に回収される。
その後、回収タンク104に回収された研磨スラリーSは、前述した研磨手段(図示せず)を構成する、研磨スラリーの吐出機器等に送られ再利用される。
The polished polishing slurry S removed from the upper surface of the plate glass G is mixed with the cleaning water w and falls onto the chute 102 and is collected in the collection tank 104 through the piping member 105.
Thereafter, the polishing slurry S recovered in the recovery tank 104 is sent to a polishing slurry discharge device or the like constituting the above-described polishing means (not shown) and reused.

特開2003−68684号公報JP 2003-68684 A

以上に示したように、従来の板ガラス研磨装置であっても、被研磨部材(例えば、板ガラスなど)の研磨終了後、研磨後の研磨スラリーを被研磨部材より直ちに除去するとともに、除去した研磨スラリーを回収して再利用することは可能である。
ここで、研磨後の研磨スラリーには、研磨によって板ガラスから除去されたガラス片が含有されており、回収された研磨スラリーを再利用するには、当該ガラス片を取り除く必要がある。
しかしながら、従来の板ガラス研磨装置においては、研磨後の研磨スラリーが被研磨部材より除去される際、当該研磨スラリーに対して多くの洗浄水が混ざり合うため、たとえガラス片を取り除くことによって、回収された研磨スラリーを再利用することが可能になったとしても、スラリー濃度(研磨スラリー中の研磨剤の割合)が低下しており、研磨スラリーの研磨能力(単位時間当たりに、単位量の研磨スラリーが被研磨部材より除去する研磨量)が短時間で低下するという問題があった。
As described above, even in a conventional plate glass polishing apparatus, after polishing of a member to be polished (for example, plate glass), the polished polishing slurry is immediately removed from the member to be polished and the removed polishing slurry is removed. Can be recovered and reused.
Here, the polished polishing slurry contains glass pieces removed from the plate glass by polishing, and in order to reuse the recovered polishing slurry, it is necessary to remove the glass pieces.
However, in the conventional plate glass polishing apparatus, when the polishing slurry after polishing is removed from the member to be polished, a large amount of cleaning water is mixed with the polishing slurry, so that it is recovered by removing the glass piece. Even if it becomes possible to recycle the polishing slurry, the slurry concentration (ratio of the abrasive in the polishing slurry) has decreased, and the polishing ability of the polishing slurry (a unit amount of polishing slurry per unit time) However, there is a problem that the amount of polishing removed from the member to be polished decreases in a short time.

本発明は、以上に示した現状の問題点を鑑みてなされたものであり、研磨能力の低下を極力防止しつつ、研磨後の研磨スラリーを回収することが可能な板ガラス研磨装置および板ガラス研磨方法を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above-described current problems, and a plate glass polishing apparatus and a plate glass polishing method capable of collecting a polishing slurry after polishing while preventing a decrease in polishing ability as much as possible. It is an issue to provide.

本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。   The problem to be solved by the present invention is as described above. Next, means for solving the problem will be described.

即ち、本発明の請求項1に係る板ガラス研磨装置は、研磨剤と水からなる研磨スラリーを用いて板ガラスを研磨するとともに、研磨後の研磨スラリーを回収して再利用する、板ガラス研磨装置であって、研磨スラリーが付着した板ガラスを搬送する搬送手段と、前記搬送手段により搬送される前記板ガラスに対して圧縮エアーを噴出するエアーノズルと、前記搬送手段により搬送される前記板ガラスに対して洗浄水を噴出する洗浄ノズルと、前記搬送手段の下方に配置され、前記圧縮エアーにより前記板ガラスから除去された研磨スラリーおよび前記板ガラスに噴出された洗浄水を受け止めて回収するシュートと、を備え、前記エアーノズルおよび前記洗浄ノズルは、前記エアーノズルの圧縮エアー噴出位置が、前記洗浄ノズルの洗浄水噴出位置よりも、前記板ガラスの搬送方向における上流側となるようにそれぞれ配置され、前記シュートは、前記研磨剤の濃度が高い再生研磨スラリーと前記研磨剤の濃度が低い廃棄スラリーとに回収可能に構成されてなることを特徴とする。   That is, the plate glass polishing apparatus according to claim 1 of the present invention is a plate glass polishing apparatus that polishes plate glass using a polishing slurry comprising an abrasive and water, and collects and reuses the polishing slurry after polishing. A conveying means for conveying the plate glass to which the polishing slurry is adhered, an air nozzle for ejecting compressed air to the plate glass conveyed by the conveying means, and a washing water for the plate glass conveyed by the conveying means. A cleaning nozzle that ejects the air, and a chute that is disposed below the conveying means and that receives and collects the polishing slurry removed from the plate glass by the compressed air and the cleaning water sprayed to the plate glass. The nozzle and the cleaning nozzle have a compressed air ejection position of the air nozzle, and a cleaning water ejection of the cleaning nozzle. The chute is arranged so as to be recovered into a regenerated polishing slurry having a high concentration of the abrasive and a waste slurry having a low concentration of the abrasive. It is characterized by being made.

また、本発明の請求項2に係る板ガラスの研磨装置は、前記搬送方向における前記エアーノズルの配置位置と洗浄ノズルの配置位置との間の下方、かつ、前記シュート内には、止水板が設けられ、前記シュート内は、前記止水板により、前記止水板よりも前記搬送方向における上流側の空間と、前記止水板よりも前記搬送方向における下流側の空間とに区画されることを特徴とする。   Moreover, the polishing apparatus of the plate glass which concerns on Claim 2 of this invention is a downward direction between the arrangement position of the said air nozzle in the said conveyance direction and the arrangement position of a washing nozzle, and a water stop board is in the said chute | shoot. The chute is partitioned by the water stop plate into an upstream space in the transport direction from the water stop plate and a downstream space in the transport direction from the water stop plate. It is characterized by.

また、本発明の請求項3に係る板ガラス研磨装置は、前記搬送手段は、ベルトコンベアであって、前記洗浄ノズルは、前記搬送手段の下流側端部の近傍に配置されることを特徴とする。   In the plate glass polishing apparatus according to claim 3 of the present invention, the transport unit is a belt conveyor, and the cleaning nozzle is disposed in the vicinity of the downstream end of the transport unit. .

一方、本発明の請求項4に係る板ガラス研磨方法は、研磨剤と水からなる研磨スラリーを用いて板ガラスを研磨するとともに、研磨後の研磨スラリーを回収して再利用する、板ガラス研磨方法であって、研磨スラリーが付着した板ガラスを搬送する搬送工程と、前記搬送工程により搬送されている前記板ガラスに対して圧縮エアー及び洗浄水を噴出して前記板ガラスから前記研磨スラリーを除去する除去工程と、前記除去工程で除去した研磨スラリーを前記研磨剤の濃度が高い再生研磨スラリーと前記研磨剤の濃度が低い廃棄研磨スラリーとの分別して回収する回収工程と、を備え、前記除去工程において、圧縮エアーは、前記洗浄水よりも、前記搬送工程における上流側で噴出されることを特徴とする。   On the other hand, the plate glass polishing method according to claim 4 of the present invention is a plate glass polishing method in which a plate glass is polished using a polishing slurry comprising an abrasive and water, and the polished polishing slurry is recovered and reused. A removing step of removing the polishing slurry from the plate glass by ejecting compressed air and washing water to the plate glass being conveyed by the conveying step; A recovery step of separating and recovering the polishing slurry removed in the removal step into a recycled polishing slurry having a high concentration of the abrasive and a waste polishing slurry having a low concentration of the abrasive, and in the removal step, compressed air Is ejected upstream of the cleaning water in the transport process.

本発明の効果として、以下に示すような効果を奏する。   As effects of the present invention, the following effects can be obtained.

即ち、本発明の請求項1に係る板ガラス研磨装置によれば、圧縮エアーによって吹き飛ばされた研磨後の研磨スラリーは、受け止められたシュート内において再生研磨スラリーと廃棄研磨スラリーとに分けて回収される。そのため、回収した再生研磨スラリーを再度用いても、研磨能力の低下を防止することができる。
また、圧縮エアーによって、研磨後の大部分の研磨スラリーが搬送方向の上流側にて吹き飛ばされることにより、エアーノズルに対して搬送方向の下流側に噴出する洗浄ノズルが、残りの研磨スラリーを吹き飛ばすために、必要な洗浄水の使用量および排水量を大幅に削減することができ、環境保全を図ることができる。
That is, according to the plate glass polishing apparatus according to claim 1 of the present invention, the polished polishing slurry blown off by the compressed air is recovered in the received chute by separating it into a recycled polishing slurry and a discarded polishing slurry. . Therefore, even if the recovered recycled polishing slurry is used again, it is possible to prevent the polishing ability from being lowered.
In addition, most of the polished slurry after polishing is blown off by the compressed air on the upstream side in the transport direction, so that the cleaning nozzle that is jetted downstream in the transport direction with respect to the air nozzle blows off the remaining polishing slurry. Therefore, it is possible to greatly reduce the amount of used cleaning water and the amount of drainage, and to protect the environment.

本発明の請求項2に係る板ガラスの研磨装置によれば、シュートは、シュート内の、搬送方向におけるエアーノズルの配置位置と洗浄ノズルの配置位置の間に設けられた止水板により隔離されており、止水板の上流側で再生研磨スラリーを、止水板の下流側で廃棄研磨スラリー回収できる。   According to the flat glass polishing apparatus of the second aspect of the present invention, the chute is isolated by the water stop plate provided between the air nozzle arrangement position and the cleaning nozzle arrangement position in the conveyance direction in the chute. Thus, the recovered polishing slurry can be recovered upstream of the water stop plate, and the waste polishing slurry can be recovered downstream of the water stop plate.

本発明の請求項3に係る板ガラス研磨装置によれば、例えば、止水板によって堰き止められた、洗浄水が混合する使用後の研磨スラリーに、研磨除去された板ガラスの一部が混在していたとしても、フィルターを介して板ガラスの一部を確実に除去し、使用後の研磨スラリーのみを排出口へと導くことができる。   According to the plate glass polishing apparatus of the third aspect of the present invention, for example, a part of the plate glass removed by polishing is mixed in the used polishing slurry mixed with the washing water, which is blocked by the water stop plate. Even so, a part of the plate glass can be reliably removed through the filter, and only the used polishing slurry can be guided to the discharge port.

本発明の請求項4に係る板ガラスの研磨方法によれば、研磨後の研磨スラリーは、再生研磨スラリーと廃棄研磨スラリーとに分けて回収される。そのため、回収した再生研磨スラリーを再度用いても、研磨能力の低下を防止することができる。   According to the method for polishing plate glass according to claim 4 of the present invention, the polished polishing slurry is recovered by being divided into a regenerated polishing slurry and a discarded polishing slurry. Therefore, even if the recovered recycled polishing slurry is used again, it is possible to prevent the polishing ability from being lowered.

本発明の一実施形態に係る板ガラス研磨装置の全体的な構成を示した一部断面側面図。The partial cross section side view which showed the whole structure of the plate glass grinding | polishing apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る板ガラス研磨装置の全体的な構成を示した平面図。The top view which showed the whole structure of the plate glass grinding | polishing apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る板ガラス研磨装置の全体的な構成を示した図であって、図1中の矢印Xの方向から見た平面図。It is the figure which showed the whole structure of the plate glass grinding | polishing apparatus which concerns on one Embodiment of this invention, Comprising: The top view seen from the direction of the arrow X in FIG. 従来の板ガラス研磨装置の全体的な構成を示した一部断面側面図。The partial cross section side view which showed the whole structure of the conventional plate glass grinding | polishing apparatus.

[板ガラス研磨装置1]
次に、本発明を具現化する板ガラス研磨装置1(以下、単に「研磨装置1」と記載する)の全体構成について、図1乃至図3を用いて説明する。
なお、以下の説明に関しては便宜上、図1の上下方向を研磨装置1の上下方向と規定して記述する。
また、図1乃至図3においては、矢印Aの方向を板ガラスGの搬送方向と規定して記述する。
[Plate glass polishing apparatus 1]
Next, the overall configuration of a plate glass polishing apparatus 1 (hereinafter simply referred to as “polishing apparatus 1”) that embodies the present invention will be described with reference to FIGS.
In the following description, for convenience, the vertical direction in FIG. 1 is described as the vertical direction of the polishing apparatus 1.
Moreover, in FIG. 1 thru | or FIG. 3, the direction of the arrow A is prescribed | regulated and described as the conveyance direction of the plate glass G. FIG.

本実施形態における研磨装置1は、例えば、酸化セリウムなどの研磨剤と水とを混合した研磨スラリーSを用いて、板ガラスGの板面を研磨するための装置である。また、研磨装置1は、研磨能力低下の防止を図りつつ研磨後の研磨スラリーSを回収し、回収した研磨スラリーSを再利用することを可能とする装置である。
研磨装置1は、図1に示すように、主に、搬送手段10、除去手段20、および回収手段30などにより構成される。
The polishing apparatus 1 in this embodiment is an apparatus for polishing the plate surface of the plate glass G using, for example, a polishing slurry S in which an abrasive such as cerium oxide and water are mixed. Further, the polishing apparatus 1 is an apparatus that collects the polished polishing slurry S while preventing a reduction in polishing ability, and can reuse the recovered polishing slurry S.
As shown in FIG. 1, the polishing apparatus 1 is mainly composed of a conveying means 10, a removing means 20, a collecting means 30, and the like.

搬送手段10は、板ガラスGを連続的に搬送するためのものであり、板ガラスGの搬送工程を実行するものである。
搬送手段10は、例えば、本実施形態においては、板ガラスGを水平方向に搬送可能なベルトコンベア11によって構成される。
The conveyance means 10 is for conveying the plate glass G continuously, and performs the conveyance process of the plate glass G.
For example, in the present embodiment, the transport unit 10 is configured by a belt conveyor 11 that can transport the glass sheet G in the horizontal direction.

ベルトコンベア11の上方において、板ガラスGの搬送方向の上流側(矢印Aが示す側とは反対側)には、研磨スラリーSの吐出機器や研磨パッドなどからなる図示せぬ研磨手段が配置されており、板ガラスGの研磨を行う研磨手段が構成されている。
また、ベルトコンベア11の上方において、前記搬送方向の下流側(矢印A示す側)には、後述する除去手段20が配置されており、板ガラスGの被研磨面(本実施形態においては、上面)に付着した、研磨後の研磨スラリーSを除去するように構成されている。
Above the belt conveyor 11, on the upstream side in the conveying direction of the plate glass G (on the side opposite to the side indicated by the arrow A), a polishing means (not shown) including a polishing slurry S discharging device, a polishing pad, and the like is arranged. And the grinding | polishing means which grind | polishes the plate glass G is comprised.
In addition, above the belt conveyor 11, a removing means 20 described later is disposed on the downstream side in the transport direction (the side indicated by the arrow A), and the surface to be polished of the plate glass G (the upper surface in the present embodiment). It is comprised so that the polishing slurry S after grinding | polishing adhering to may be removed.

そして、ベルトコンベア11は、研磨手段により研磨された板ガラスGを、上流側から、除去手段20が配置された下流側に向かって(より具体的には、矢印Aの方向)連続的に搬送する。   And the belt conveyor 11 conveys continuously the plate glass G grind | polished by the grinding | polishing means from the upstream side toward the downstream side where the removal means 20 is arrange | positioned (more specifically, the direction of arrow A). .

なお、搬送手段10の構成については、本実施形態のようなベルトコンベア11に限定されるものではなく、例えば、ローラーコンベアやフィーダーのような押込み装置などのように、水平姿勢の板ガラスGを、水平方向に搬送することが可能であれば、何れの構成であってもよい。   In addition, about the structure of the conveyance means 10, it is not limited to the belt conveyor 11 like this embodiment, For example, the plate glass G of a horizontal attitude | position like a pushing device like a roller conveyor or a feeder, Any configuration may be used as long as it can be conveyed in the horizontal direction.

次に、除去手段20について説明する。
除去手段20は、板ガラスGの表面に付着した研磨後の研磨スラリーSを、板ガラスGより除去する、除去工程を実行するためのものである。
除去手段20は、エアーノズル21および洗浄ノズル22などにより構成される。
Next, the removing unit 20 will be described.
The removal means 20 is for performing the removal process which removes the grinding | polishing polishing slurry S adhering to the surface of the plate glass G from the plate glass G. As shown in FIG.
The removing unit 20 includes an air nozzle 21 and a cleaning nozzle 22.

エアーノズル21は、べルトコンベア11によって搬送される板ガラスGに対して、圧縮エアーaを噴出し、研磨後の研磨スラリーSを、板ガラスGより吹き飛ばすためのものである。
エアーノズル21は、ベルトコンベア11の上方、且つ平面視にて前記搬送方向との直交方向に延出して配設される。
The air nozzle 21 is for ejecting compressed air a to the glass sheet G conveyed by the belt conveyor 11 and blowing off the polished polishing slurry S from the glass sheet G.
The air nozzle 21 extends above the belt conveyor 11 and extends in a direction perpendicular to the transport direction in plan view.

そして、エアーノズル21の下端部には、複数(図1は側面図であるため、一個のみ記載)の噴出口21a・21a・・・が、エアーノズル21の延出方向に沿って一直線状に配置されている。
また、エアーノズル21には、図示せぬコンプレッサーやソレノイドバルブなどが、配管部材を介して連結されている。
At the lower end of the air nozzle 21, a plurality (only one is shown because FIG. 1 is a side view) is formed in a straight line along the extending direction of the air nozzle 21. Has been placed.
The air nozzle 21 is connected with a compressor, a solenoid valve, and the like (not shown) through a piping member.

このような構成を有することで、図2に示すように、例えば、コンプレッサー(図示せず)よりエアーノズル21に供給された圧縮エアーa・a・・・は、複数の噴出口21a・21a・・・(図1を参照)を介して、下方(より具体的には、下方、且つやや上流側方向)に向かって噴出し、ベルトコンベア11の幅方向の全領域に渡って吹き付けられる。
換言すると、ベルトコンベア11によって搬送される板ガラスGは、被研磨面(上面)に対して均一に、エアーノズル21より噴出される圧縮エアーaを吹き付けられる。
By having such a configuration, as shown in FIG. 2, for example, compressed air aa supplied from the compressor (not shown) to the air nozzle 21 is made up of a plurality of outlets 21a, 21a,. ... (Refer to FIG. 1), sprayed downward (more specifically, downward and slightly upstream) and sprayed over the entire width of the belt conveyor 11.
In other words, the plate glass G conveyed by the belt conveyor 11 is sprayed with the compressed air a ejected from the air nozzle 21 uniformly against the surface to be polished (upper surface).

洗浄ノズル22は、図1に示すように、べルトコンベア11によって搬送される板ガラスGに対して、洗浄水(例えば、常温水)wを噴出し、圧縮エアーaによって吹き飛ばすことができなかった研磨後の研磨スラリーSを、板ガラスGより除去するためのものである。
洗浄ノズル22は、ベルトコンベア11の上方、且つ板ガラスGの搬送方向の下流側(より具体的には、エアーノズル21の下流側)において、平面視にて前記搬送方向との直交方向に延出して配設される。
As shown in FIG. 1, the cleaning nozzle 22 ejects cleaning water (for example, room temperature water) w onto the glass sheet G conveyed by the belt conveyor 11 and has not been able to be blown away by the compressed air a. The polishing slurry S is removed from the plate glass G.
The cleaning nozzle 22 extends in a direction perpendicular to the transport direction in plan view above the belt conveyor 11 and downstream of the sheet glass G in the transport direction (more specifically, downstream of the air nozzle 21). Arranged.

そして、洗浄ノズル22の下端部には、複数(図1は側面図であるため、一個のみ記載)の噴出口22a・22a・・・が、洗浄ノズル22の延出方向に沿って一直線状に配置されている。
また、洗浄ノズル22には、図示せぬポンプや洗浄水の貯溜タンクなどが、配管部材を介して連結されている。
At the lower end of the cleaning nozzle 22, a plurality (only one is shown because FIG. 1 is a side view) is formed in a straight line along the extending direction of the cleaning nozzle 22. Has been placed.
The cleaning nozzle 22 is connected to a pump (not shown), a cleaning water storage tank, and the like via a piping member.

このような構成を有することで、図2に示すように、例えば、ポンプ(図示せず)より洗浄ノズル22に供給された洗浄水w・w・・・は、複数の噴出口22a・22a・・・(図1を参照)を介して、下方(より具体的には、下方、且つやや上流側方向)に向かって噴出し、ベルトコンベア11の幅方向の全領域に渡って吹き付けられる。
換言すると、ベルトコンベア11によって搬送される板ガラスGは、被研磨面(上面)に対して均一に圧縮エアーaを吹き付けられた後、当該被研磨面(上面)に対してさらに均一に、洗浄ノズル22より噴出される洗浄水wを吹き付けられる。
With such a configuration, as shown in FIG. 2, for example, the cleaning water w · w... Supplied from the pump (not shown) to the cleaning nozzle 22 is made up of a plurality of outlets 22a, 22a,. ... (Refer to FIG. 1), sprayed downward (more specifically, downward and slightly upstream) and sprayed over the entire width of the belt conveyor 11.
In other words, the plate glass G conveyed by the belt conveyor 11 is sprayed with compressed air a uniformly on the surface to be polished (upper surface), and then more uniformly on the surface to be polished (upper surface). The washing water w ejected from 22 is sprayed.

次に、回収手段30について説明する。
回収手段30は、除去手段20によって板ガラスGより除去された研磨後の研磨スラリーSを、研磨能力の低下を極力防止しつつ回収する、回収工程を実行するためのものである。
回収手段30は、図1に示すように、シュート31、回収タンク32、および廃棄タンク33などにより構成される。
Next, the collection means 30 will be described.
The recovery means 30 is for executing a recovery process for recovering the polished polishing slurry S removed from the glass sheet G by the removing means 20 while preventing a reduction in polishing ability as much as possible.
As shown in FIG. 1, the collection unit 30 includes a chute 31, a collection tank 32, a waste tank 33, and the like.

シュート31は、除去手段20による圧縮エアーaおよび洗浄水wによって吹き飛ばされた、研磨スラリーSを受け止めて回収し、回収した研磨スラリーSの内、洗浄水wを殆ど含まない高濃度の研磨スラリーSを回収タンク32に導く一方、洗浄水wを多く含んだ低濃度の研磨スラリーSを廃棄タンク33へ導くためのものである。
つまり、シュート31は、圧縮エアーaによって吹き飛ばされた研磨能力の低下を殆ど伴わない研磨スラリーS(以下、適宜「再生研磨スラリーSa」と記載する)を回収タンク32に導く一方、洗浄水wによって除去された研磨能力が低下した研磨スラリーS(以下、適宜「廃棄研磨スラリーSb」と記載する)を廃棄タンク33へ導くためのものである。
The chute 31 receives and recovers the polishing slurry S blown off by the compressed air a and the cleaning water w by the removing means 20, and the high concentration polishing slurry S that hardly contains the cleaning water w among the recovered polishing slurry S. Is guided to the recovery tank 32, while the low-concentration polishing slurry S containing a large amount of washing water w is guided to the waste tank 33.
In other words, the chute 31 guides the polishing slurry S (hereinafter referred to as “regenerated polishing slurry Sa” as appropriate) that is blown off by the compressed air “a” with almost no decrease in polishing ability to the recovery tank 32, while the cleaning water w The removed polishing slurry S having a reduced polishing ability (hereinafter referred to as “discarded polishing slurry Sb” as appropriate) is guided to the waste tank 33.

シュート31は、上方に開口する略矩形箱状に形成され、ベルトコンベア11の直下に配設される。
具体的には、図2に示すように、平面視において、シュート31の幅方向(矢印Aに対する平面視直交方向)の寸法は、板ガラスGおよびベルトコンベア11の幅方向の寸法と比較しても、大きくなるように設定されている。
また、シュート31の上流側端部の位置は、ベルトコンベア11の上流側端部の位置と同等である一方、シュート31の下流側端部の位置は、ベルトコンベア11の下流側端部の位置に比べて、さらに下流側となるように設定されている。
なお、シュート31の下流側端部の位置は、除去手段20の洗浄ノズル22の配置位置と略同等となるように設定されている。
The chute 31 is formed in a substantially rectangular box shape that opens upward, and is disposed immediately below the belt conveyor 11.
Specifically, as shown in FIG. 2, the size of the chute 31 in the width direction (perpendicular to the arrow A) in the plan view is compared with the size in the width direction of the plate glass G and the belt conveyor 11. , Is set to be larger.
The position of the upstream end of the chute 31 is equivalent to the position of the upstream end of the belt conveyor 11, while the position of the downstream end of the chute 31 is the position of the downstream end of the belt conveyor 11. Is set to be further downstream.
Note that the position of the downstream end of the chute 31 is set to be substantially the same as the position of the cleaning nozzle 22 of the removing means 20.

このように、平面視において、ベルトコンベア11の下流側端部は、シュート31の開口部の内部に位置するように配置されている。
これにより、除去手段20による圧縮エアーaや洗浄水wによって吹き飛ばされた研磨スラリーSは、ベルトコンベア11の幅方向の両側、および下流側端部より、シュート31の開口部内に落下し、確実に回収されることとなる。
Thus, in plan view, the downstream end of the belt conveyor 11 is disposed so as to be located inside the opening of the chute 31.
As a result, the polishing slurry S blown off by the compressed air a or the cleaning water w by the removing means 20 falls into the opening of the chute 31 from both sides in the width direction of the belt conveyor 11 and the downstream end, and reliably It will be collected.

シュート31の底面31aは、図1に示すように、中央部に向かって徐々に下方に傾斜する逆四角錐形状に形成され、その頂点には第一排出口31bが穿孔される。
また、第一排出口31bには、第一配管部材34の一端部が接続されるとともに、第一配管部材34の他端部は、回収タンク32に接続される。つまり、シュート31は、第一配管部材34を介して、回収タンク32と連通される。
As shown in FIG. 1, the bottom surface 31a of the chute 31 is formed in an inverted quadrangular pyramid shape that gradually inclines downward toward the central portion, and a first discharge port 31b is perforated at the apex thereof.
In addition, one end of the first piping member 34 is connected to the first discharge port 31 b, and the other end of the first piping member 34 is connected to the recovery tank 32. That is, the chute 31 is communicated with the recovery tank 32 via the first piping member 34.

一方、シュート31の底面31aにおいて、第一排出口31bの下流側、且つシュート31の幅方向中央部には、第二排出口31cが穿孔される。
また、第二排出口31cには、第二配管部材36の一端部が接続されるとともに、第二配管部材36の他端部は、廃棄タンク33に接続される。つまり、シュート31は、第二配管部材36を介して、廃棄タンク33と連通されている。
On the other hand, on the bottom surface 31 a of the chute 31, a second discharge port 31 c is perforated at the downstream side of the first discharge port 31 b and at the center in the width direction of the chute 31.
In addition, one end of the second piping member 36 is connected to the second discharge port 31 c, and the other end of the second piping member 36 is connected to the waste tank 33. That is, the chute 31 is in communication with the waste tank 33 via the second piping member 36.

そして、図3に示すように、シュート31の底面31aにおいて、第一排出口31bおよび第二排出口31cの間には、矩形帯状の平板部材からなる止水板35が、シュート31の幅方向全体に渡り配設される。
このように、シュート31内において、第一排出口31bは、止水板35の、板ガラスGの搬送方向における上流側に設けられ、第二排出口31cは、止水板35の、板ガラスGの搬送方向における下流側の近傍に、それぞれ設けられる。
このような構成を有することで、後述するように、除去手段20による圧縮エアーaによって吹き飛ばされた再生研磨スラリーSaは、第一排出口31bを介して回収タンク32に導かれる一方、洗浄水wによって吹き飛ばされた廃棄研磨スラリーSbは、第二排出口31cを介して廃棄タンク33に導かれることとなる。
As shown in FIG. 3, on the bottom surface 31 a of the chute 31, a water stop plate 35 made of a rectangular flat plate member is disposed between the first outlet 31 b and the second outlet 31 c in the width direction of the chute 31. Arranged throughout.
Thus, in the chute 31, the first discharge port 31b is provided on the upstream side of the water stop plate 35 in the conveying direction of the plate glass G, and the second discharge port 31c is the plate glass G of the water stop plate 35. Provided in the vicinity of the downstream side in the transport direction.
By having such a configuration, as will be described later, the regenerated polishing slurry Sa blown off by the compressed air a by the removing means 20 is guided to the recovery tank 32 through the first discharge port 31b, while the washing water w The waste polishing slurry Sb blown off by is guided to the waste tank 33 through the second discharge port 31c.

なお、第二排出口31cは、フィルター37によって覆われており、例えば、止水板35によって堰き止められた廃棄研磨スラリーSbに、研磨除去された板ガラスGの一部が混在していたとしても、板ガラスGの一部を確実に除去し、研磨後の廃棄研磨スラリーSbのみを廃棄タンク33へと導く構成となっている。   The second discharge port 31c is covered with the filter 37. For example, even if a part of the plate glass G polished and removed is mixed in the waste polishing slurry Sb dammed by the water stop plate 35. A part of the plate glass G is reliably removed, and only the ground polishing slurry Sb after polishing is guided to the waste tank 33.

回収タンク32は、主に除去手段20によって噴出される圧縮エアーaにより吹き飛ばされ、板ガラスGより除去された研磨後の研磨スラリーS(より具体的には、再生研磨スラリーSa)を、一時的に貯溜するためのものである。
回収タンク32は、シュート31の下方に配置され、前述したように、第一配管部材34を介して、シュート31と連通される。
The recovery tank 32 is temporarily blown away by the compressed air a ejected by the removing means 20 and temporarily removes the polished polishing slurry S (more specifically, the regenerated polishing slurry Sa) removed from the plate glass G. It is for storing.
The collection tank 32 is disposed below the chute 31 and communicates with the chute 31 via the first piping member 34 as described above.

そして、回収タンク32は、例えばポンプやソレノイドバルブなどからなる図示せぬ配管機器群を介して、前述した、ベルトコンベア11の上流側に配設される研磨スラリーの吐出機器(図示せず)と連通されており、回収タンク32に貯溜された再生研磨スラリーSaが再使用可能な構成となっている。   The recovery tank 32 is a polishing slurry discharge device (not shown) disposed on the upstream side of the belt conveyor 11 described above via a piping device group (not shown) including, for example, a pump and a solenoid valve. The regenerated polishing slurry Sa stored in the recovery tank 32 can be reused.

廃棄タンク33は、主に除去手段20によって噴出される洗浄水wにより吹き飛ばされ、板ガラスGより除去された研磨後の研磨スラリーS(より具体的には、廃棄研磨スラリーSb)を、一時的に貯溜するためのものである。
廃棄タンク33は、シュート31の下方に配置され、前述したように、第二配管部材36を介して、シュート31と連通される。
The waste tank 33 is temporarily blown away by the washing water w ejected by the removing means 20 and temporarily removes the polished polishing slurry S (more specifically, the discarded polishing slurry Sb) removed from the plate glass G. It is for storing.
The waste tank 33 is disposed below the chute 31 and communicates with the chute 31 via the second piping member 36 as described above.

そして、廃棄タンク33には、図示せぬソレノイドバルブなどが設けられており、ソレノイドバルブを介して、一時的に貯溜されていた、洗浄水wを多く含む廃棄研磨スラリーSbを、研磨装置1の外部に適宜排出可能な構成となっている。   The waste tank 33 is provided with a solenoid valve (not shown) and the like, and the waste polishing slurry Sb containing a large amount of the cleaning water w temporarily stored is removed from the polishing apparatus 1 through the solenoid valve. It has a configuration that can be appropriately discharged to the outside.

[板ガラス研磨方法]
次に、本発明に係る板ガラス研磨方法について、図1を用いて説明する。
本実施形態によって具現化される板ガラス研磨方法は、研磨装置1によって実施される。
[Plate glass polishing method]
Next, the plate glass grinding | polishing method which concerns on this invention is demonstrated using FIG.
The plate glass polishing method embodied by the present embodiment is performed by the polishing apparatus 1.

具体的には、研磨装置1において、研磨手段により研磨された矩形状の板ガラスGが、搬送工程たるベルトコンベア11によって水平姿勢に載置され、上流側から下流側の除去工程たる除去手段20に向かって、水平方向(より具体的には、矢印Aの方向)に連続的に搬送され、除去工程で除去された研磨スラリーSが、回収工程たるシュート31により回収される。   Specifically, in the polishing apparatus 1, the rectangular plate glass G polished by the polishing unit is placed in a horizontal posture by the belt conveyor 11 that is a conveying process, and is removed from the upstream side to the removing unit 20 that is a downstream removing process. The polishing slurry S that is continuously conveyed in the horizontal direction (more specifically, in the direction of arrow A) and removed in the removing step is collected by the chute 31 that is a collecting step.

ここで、研磨手段において、板ガラスGの被研磨面(上面)には研磨スラリーSが供給されるとともに、研磨スラリーSが付着した被研磨面(上面)は、研磨パッド(図示せず)を用いて押圧しながら研磨される。   Here, in the polishing means, the polishing slurry S is supplied to the surface to be polished (upper surface) of the plate glass G, and a polishing pad (not shown) is used for the surface to be polished (upper surface) to which the polishing slurry S adheres. It is polished while pressing.

その後、研磨後の研磨スラリーSが被研磨面(上面)に付着した水平姿勢の板ガラスGが、搬送工程であるベルトコンベア11によって、水平方向に搬送される。   Thereafter, the flat glass sheet G with the polished polishing slurry S attached to the surface to be polished (upper surface) is conveyed in the horizontal direction by the belt conveyor 11 which is a conveying process.

除去工程においては、板ガラスGの被研磨面(上面)に残った研磨後の研磨スラリーSが、除去手段20から噴出される圧縮エアーaや洗浄水wによって、板ガラスGより除去され、回収工程たる回収手段30によって回収される。   In the removing step, the polished polishing slurry S remaining on the surface to be polished (upper surface) of the plate glass G is removed from the plate glass G by the compressed air a and the washing water w ejected from the removing means 20, and this is a recovery step. It is collected by the collecting means 30.

ここで、回収手段30において、シュート31の底面31aには、前述したように、止水板35が立設している。
止水板35は、平面視において、シュート31の、板ガラスGの搬送方向におけるエアーノズル21の配置位置と、洗浄ノズル22の配置位置との間に位置するようになっており、シュート31の内部は、止水板35によって、止水板35よりも上流側の空間(以降、「上流側空間」と記載する)と、止水板35よりも下流側の空間(以降、「下流側空間」と記載する)とに区画されている。
Here, in the recovery means 30, the water stop plate 35 is erected on the bottom surface 31 a of the chute 31 as described above.
The water stop plate 35 is located between the arrangement position of the air nozzle 21 and the arrangement position of the cleaning nozzle 22 in the conveyance direction of the glass sheet G of the chute 31 in plan view. Is a space upstream of the water stop plate 35 (hereinafter referred to as “upstream space”) and a space downstream of the water stop plate 35 (hereinafter “downstream space”). To be described).

そして、除去手段20による圧縮エアーaによって吹き飛ばされて、シュート31の上流側空間内に落下した研磨スラリーS(より具体的には、再生研磨スラリーSa)は、底面31aの傾斜に沿って中央部の第一排出口31bへと集められ、第一配管部材34を通って回収タンク32へと導かれるように構成されている。   Then, the polishing slurry S (more specifically, the regenerated polishing slurry Sa) blown off by the compressed air a by the removing means 20 and falling into the upstream space of the chute 31 is centered along the inclination of the bottom surface 31a. Are collected to the first discharge port 31b and led to the recovery tank 32 through the first piping member 34.

また、除去手段20による洗浄水wによって除去されて、シュート31の下流側空間内に落下した研磨スラリーS(より具体的には、廃棄研磨スラリーSb)は、第一排出口31bへと導かれるのを、止水板35によって効果的に堰き止められる構成となっている。
即ち、洗浄水wによって除去された廃棄研磨スラリーSbには多くの洗浄水wが混入しているが、多くの洗浄水wが混じり合ってスラリー濃度(研磨スラリーS全体に対する研磨剤の割合)が低下し、研磨能力が低下した研磨スラリーSが、第一排出口31bを介して回収タンク32へと導かれるのを、止水板35によって効果的に堰き止められる構成となっている。
Further, the polishing slurry S (more specifically, the discarded polishing slurry Sb) that has been removed by the washing water w by the removing means 20 and dropped into the downstream space of the chute 31 is guided to the first discharge port 31b. This is configured to be effectively dammed by the water stop plate 35.
That is, a large amount of cleaning water w is mixed in the waste polishing slurry Sb removed by the cleaning water w, but a lot of cleaning water w is mixed and the slurry concentration (ratio of the abrasive to the entire polishing slurry S) is increased. The structure is such that the polishing slurry S, which has been reduced and has reduced polishing ability, is effectively dammed by the water stop plate 35 from being guided to the recovery tank 32 through the first discharge port 31b.

そして、止水板35によって堰き止められた、洗浄水wを含む研磨スラリーSは、第二配管部材36を通って廃棄タンク33へと一旦集められ、研磨装置1の外部へと排出される。   Then, the polishing slurry S containing the washing water w blocked by the water stop plate 35 is once collected to the waste tank 33 through the second piping member 36 and discharged to the outside of the polishing apparatus 1.

以上のように、本実施形態にける板ガラス研磨方法においては、板ガラスGの研磨が行われ、研磨された板ガラスGは搬送工程により搬送され、下流側に位置する除去工程にて、研磨が完了した板ガラスGの上面に付着した、研磨後の研磨スラリーSが、除去手段20による圧縮エアーaおよび洗浄水wによって各々吹き飛ばされ、回収工程たる回収手段30によって回収される構成となっている。
また、回収手段30によって、再生研磨スラリーSaはシュート31の上流側空間内に案内され、廃棄研磨スラリーSbは下流側空間内に案内される構成となっている。
As described above, in the plate glass polishing method according to the present embodiment, the plate glass G is polished, the polished plate glass G is transferred by the transfer step, and the polishing is completed in the removal step located on the downstream side. The polished polishing slurry S that adheres to the upper surface of the plate glass G is blown off by the compressed air a and the cleaning water w by the removing means 20 and is recovered by the recovering means 30 that is a recovery process.
Further, the recovery means 30 guides the regenerated polishing slurry Sa into the upstream space of the chute 31, and the waste polishing slurry Sb is guided into the downstream space.

その結果、再生研磨スラリーSaは、回収タンク32に一旦回収されて再利用される一方、廃棄研磨スラリーSbは、廃棄タンク33に一旦回収されて研磨装置1の外部に排出される。
つまり、本実施形態における板ガラス研磨方法においては、研磨能力の低下を伴う破棄研磨スラリーSbを極力除いた、再生研磨スラリーSaを優先的に回収することによって、研磨能力の低下を極力防止しつつ研磨後の研磨スラリーSを回収し、研磨スラリーSを再利用する構成となっている。
As a result, the regenerated polishing slurry Sa is once recovered in the recovery tank 32 and reused, while the discarded polishing slurry Sb is once recovered in the waste tank 33 and discharged outside the polishing apparatus 1.
That is, in the plate glass polishing method according to the present embodiment, the reclaimed polishing slurry Sa is preferentially collected by removing the discarded polishing slurry Sb accompanied by a decrease in the polishing capability as much as possible, thereby polishing while preventing the decrease in the polishing capability as much as possible. The subsequent polishing slurry S is collected, and the polishing slurry S is reused.

1 研磨装置(板ガラス研磨装置)
10 搬送手段
11 ベルトコンベア
21 エアーノズル
22 洗浄ノズル
31 シュート
31a 底面(傾斜面)
31b 第一排出口
31c 第二排出口
35 止水板
37 フィルター
a 圧縮エアー
G 板ガラス
S 研磨スラリー
Sa 再生研磨スラリー
Sb 廃棄研磨スラリー
w 洗浄水
1 Polishing device (plate glass polishing device)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Conveying means 11 Belt conveyor 21 Air nozzle 22 Cleaning nozzle 31 Chute 31a Bottom surface (inclined surface)
31b First outlet 31c Second outlet 35 Water stop plate 37 Filter a Compressed air G Sheet glass S Polishing slurry Sa Regenerated polishing slurry Sb Waste polishing slurry w Washing water

Claims (4)

研磨剤と水からなる研磨スラリーを用いて板ガラスを研磨するとともに、研磨後の研磨スラリーを回収して再利用する、板ガラス研磨装置であって、
研磨スラリーが付着した板ガラスを搬送する搬送手段と、
前記搬送手段により搬送される前記板ガラスに対して圧縮エアーを噴出するエアーノズルと、
前記搬送手段により搬送される前記板ガラスに対して洗浄水を噴出する洗浄ノズルと、
前記搬送手段の下方に配置され、前記圧縮エアーにより前記板ガラスから除去された研磨スラリーおよび前記板ガラスに噴出された洗浄水を受け止めて回収するシュートと、を備え、
前記エアーノズルおよび前記洗浄ノズルは、前記エアーノズルの圧縮エアー噴出位置が、前記洗浄ノズルの洗浄水噴出位置よりも、前記板ガラスの搬送方向における上流側となるようにそれぞれ配置され、
前記シュートは、前記研磨剤の濃度が高い再生研磨スラリーと前記研磨剤の濃度が低い廃棄スラリーとに回収可能に構成されてなる、
ことを特徴とする板ガラス研磨装置。
A plate glass polishing apparatus that polishes a sheet glass using a polishing slurry composed of an abrasive and water, collects and reuses the polishing slurry after polishing,
A conveying means for conveying the plate glass to which the polishing slurry is attached;
An air nozzle that ejects compressed air to the plate glass conveyed by the conveying means;
A cleaning nozzle that ejects cleaning water to the plate glass transported by the transporting means;
A polishing slurry that is disposed below the conveying means and receives and collects the polishing slurry removed from the plate glass by the compressed air and the washing water jetted to the plate glass, and
The air nozzle and the cleaning nozzle are respectively arranged so that the compressed air ejection position of the air nozzle is upstream of the cleaning water ejection position of the cleaning nozzle in the conveying direction of the plate glass,
The chute is configured to be recoverable into a regenerated polishing slurry having a high concentration of the abrasive and a waste slurry having a low concentration of the abrasive.
A flat glass polishing apparatus characterized by that.
前記搬送方向における前記エアーノズルの配置位置と洗浄ノズルの配置位置との間の下方、かつ、前記シュート内には、止水板が設けられ、
前記シュート内は、前記止水板により、前記止水板よりも前記搬送方向における上流側の空間と、前記止水板よりも前記搬送方向における下流側の空間とに区画される、
ことを特徴とする、請求項1に記載の板ガラス研磨装置。
Below the position of the air nozzle and the position of the cleaning nozzle in the transport direction, and in the chute, a water stop plate is provided,
The chute is partitioned by the water stop plate into a space on the upstream side in the transport direction from the water stop plate and a space on the downstream side in the transport direction from the water stop plate.
The plate glass polishing apparatus according to claim 1, wherein:
前記搬送手段は、ベルトコンベアであって、
前記洗浄ノズルは、前記搬送手段の下流側端部の近傍に配置される、
ことを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の板ガラス研磨装置。
The conveying means is a belt conveyor,
The cleaning nozzle is disposed in the vicinity of the downstream end portion of the transport means.
The plate glass grinding | polishing apparatus of Claim 1 or Claim 2 characterized by the above-mentioned.
研磨剤と水からなる研磨スラリーを用いて板ガラスを研磨するとともに、使用後の研磨スラリーを回収して再利用する、板ガラス研磨方法であって、
研磨スラリーが付着した板ガラスを搬送する搬送工程と、
前記搬送工程により搬送されている前記板ガラスに対して圧縮エアーおよび洗浄水を噴出して前記板ガラスから前記研磨スラリーを除去する除去工程と、
前記除去工程で除去した研磨スラリーを前記研磨剤の濃度が高い再生研磨スラリーと前記研磨剤の濃度が低い廃棄研磨スラリーとの分別して回収する回収工程と、を備え、
前記除去工程において、圧縮エアーは、前記洗浄水よりも、前記搬送工程における上流側で噴出される、
ことを特徴とする板ガラス研磨方法。
A plate glass polishing method for polishing a plate glass using a polishing slurry consisting of an abrasive and water, and recovering and reusing the used polishing slurry,
A transporting process for transporting the glass sheet to which the polishing slurry is attached;
A removal step of removing the polishing slurry from the plate glass by ejecting compressed air and washing water to the plate glass being conveyed by the conveyance step;
A recovery step of separating and collecting the polishing slurry removed in the removal step into a recycled polishing slurry having a high concentration of the abrasive and a waste polishing slurry having a low concentration of the abrasive, and
In the removing step, the compressed air is ejected on the upstream side in the conveying step rather than the washing water.
A method for polishing plate glass.
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