JP2015168827A - スパッタリングカソード - Google Patents
スパッタリングカソード Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015168827A JP2015168827A JP2014042189A JP2014042189A JP2015168827A JP 2015168827 A JP2015168827 A JP 2015168827A JP 2014042189 A JP2014042189 A JP 2014042189A JP 2014042189 A JP2014042189 A JP 2014042189A JP 2015168827 A JP2015168827 A JP 2015168827A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic field
- target
- sputtering
- rotating body
- generating means
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 title claims abstract description 55
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005513 bias potential Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 238000005478 sputtering type Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】ターゲットTの上方に設けられてターゲットのスパッタ面T1下方に局所的に磁場を発生させる磁場発生手段5と、磁場が発生した領域Mfをターゲットのスパッタ面に沿って走査させる走査手段6とを備えるスパッタリングカソードSCは、走査手段が、単一のモータ61と、モータの出力軸61aに連結される第1回転体62と、第1回転体の下方で出力軸に平行な回転軸66aを回転中心として第1回転体の回転に連動して回転する第2回転体66と、第2回転体の回転中心から偏心した位置に一側が回動自在に連結され、その他側に磁場発生手段が設けられるクランク軸68と、第2回転体の回転に連動する、同一線上での磁場発生手段の往復動をガイドするスライドガイド69bとを備える。
【選択図】図2
Description
Claims (2)
- ターゲットのスパッタ面と背向する側を上とし、当該ターゲットの上方に設けられてターゲットのスパッタ面下方に局所的に磁場を発生させる磁場発生手段と、磁場が発生した領域をターゲットのスパッタ面に沿って走査させる走査手段とを備えるスパッタリングカソードにおいて、
走査手段が、単一のモータと、モータの出力軸に連結される第1回転体と、第1回転体の下方で出力軸に平行な回転軸を回転中心として第1回転体の回転に連動して回転する第2回転体と、第2回転体の回転中心から偏心した位置に一側が回動自在に連結され、その他側に磁場発生手段が設けられる軸体と、第2回転体の回転に連動する、同一線上での磁場発生手段の往復動をガイドするガイド手段とを備えることを特徴とするスパッタリングカソード。 - 前記第1回転体と前記第2回転体との間に設けた減速ギア列を有し、ギア列の出力側のギアが前記回転軸に設けた他のギアに噛合することを特徴とする請求項1記載のスパッタリングカソード。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014042189A JP6265534B2 (ja) | 2014-03-04 | 2014-03-04 | スパッタリングカソード |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014042189A JP6265534B2 (ja) | 2014-03-04 | 2014-03-04 | スパッタリングカソード |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015168827A true JP2015168827A (ja) | 2015-09-28 |
JP6265534B2 JP6265534B2 (ja) | 2018-01-24 |
Family
ID=54201855
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014042189A Active JP6265534B2 (ja) | 2014-03-04 | 2014-03-04 | スパッタリングカソード |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6265534B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016011445A (ja) * | 2014-06-30 | 2016-01-21 | 株式会社アルバック | スパッタリング方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109468598B (zh) * | 2018-11-15 | 2020-09-29 | 温州职业技术学院 | 一种旋转磁场阴极弧源 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5967369A (ja) * | 1982-09-03 | 1984-04-17 | バリアン.アソシエイツ・インコ−ポレイテッド | マグネトロン飛着装置 |
JPS6247478A (ja) * | 1985-08-26 | 1987-03-02 | バリアン・アソシエイツ・インコ−ポレイテツド | 磁場の円運動と放射状運動を組み合わせたプレ−ナ・マグネトロン・スパツタリング装置 |
JPH0920979A (ja) * | 1995-07-04 | 1997-01-21 | Anelva Corp | マグネトロンスパッタ用カソード電極 |
JPH09176852A (ja) * | 1995-12-21 | 1997-07-08 | Sony Disc Technol:Kk | マグネトロンスパッタ装置 |
JP2000282234A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-10 | Shibaura Mechatronics Corp | スパッタリング装置 |
JP2003013219A (ja) * | 2001-06-27 | 2003-01-15 | Anelva Corp | マグネトロンスパッタリング装置 |
JP2005526916A (ja) * | 2002-05-21 | 2005-09-08 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 小型遊星マグネトロン |
JP2011505496A (ja) * | 2007-11-30 | 2011-02-24 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 回転マグネトロンの任意走査経路の制御 |
-
2014
- 2014-03-04 JP JP2014042189A patent/JP6265534B2/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5967369A (ja) * | 1982-09-03 | 1984-04-17 | バリアン.アソシエイツ・インコ−ポレイテッド | マグネトロン飛着装置 |
JPS6247478A (ja) * | 1985-08-26 | 1987-03-02 | バリアン・アソシエイツ・インコ−ポレイテツド | 磁場の円運動と放射状運動を組み合わせたプレ−ナ・マグネトロン・スパツタリング装置 |
JPH0920979A (ja) * | 1995-07-04 | 1997-01-21 | Anelva Corp | マグネトロンスパッタ用カソード電極 |
JPH09176852A (ja) * | 1995-12-21 | 1997-07-08 | Sony Disc Technol:Kk | マグネトロンスパッタ装置 |
JP2000282234A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-10 | Shibaura Mechatronics Corp | スパッタリング装置 |
JP2003013219A (ja) * | 2001-06-27 | 2003-01-15 | Anelva Corp | マグネトロンスパッタリング装置 |
JP2005526916A (ja) * | 2002-05-21 | 2005-09-08 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 小型遊星マグネトロン |
JP2011505496A (ja) * | 2007-11-30 | 2011-02-24 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 回転マグネトロンの任意走査経路の制御 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016011445A (ja) * | 2014-06-30 | 2016-01-21 | 株式会社アルバック | スパッタリング方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6265534B2 (ja) | 2018-01-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6205520B2 (ja) | マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット | |
CN110777337B (zh) | 成膜装置以及电子器件的制造方法 | |
JP5166531B2 (ja) | 磁場発生装置及びプラズマ処理装置 | |
TWI496927B (zh) | 物理氣相沉積系統、用於一物理氣相沉積系統之磁電管及用於使一磁電管運作以提供一可調整對稱磁軌之方法 | |
EP3327172B1 (en) | Powder coating apparatus | |
JP7462370B2 (ja) | イオンビームエッチング機及びその昇降回転テーブル装置 | |
CN108950499B (zh) | 磁控管旋转结构、磁控管组件及反应腔室 | |
JP6265534B2 (ja) | スパッタリングカソード | |
KR20130112057A (ko) | 마그네트론 소스, 마그네트론 스퍼터링 장치 및 마그네트론 스퍼터링 방법 | |
JP6425431B2 (ja) | スパッタリング方法 | |
JP2000282234A (ja) | スパッタリング装置 | |
JP2020501015A (ja) | ユニバーサルマウント式端部ブロック | |
CN103866250A (zh) | 磁控溅射源驱动装置及磁控溅射加工设备 | |
JP2006037127A (ja) | スパッタ電極構造 | |
JP2009287046A (ja) | スパッタリング方法及びスパッタリング装置 | |
JP2005232554A (ja) | スパッタ装置 | |
KR20170012719A (ko) | 스퍼터링 타켓 구동장치 및 이를 포함하는 스퍼터링 장치 | |
CN101994092B (zh) | 磁控管装置 | |
WO2020044872A1 (ja) | スパッタリング装置及び成膜方法 | |
JPWO2020066247A1 (ja) | マグネトロンスパッタリング装置用の磁石ユニット | |
JP7158065B2 (ja) | 成膜装置 | |
JP6641382B2 (ja) | カーボン膜の成膜方法 | |
CN110777339A (zh) | 成膜装置以及电子器件的制造方法 | |
JP2013185254A (ja) | 磁石ユニット及びスパッタ装置 | |
CN116830239A (zh) | 阴极驱动单元、沉积系统、操作沉积系统的方法和制造涂覆基板的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170725 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170915 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171205 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171218 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6265534 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |