JP2015162501A - 樹脂封止半導体装置製造用離型フィルム、樹脂封止半導体装置製造用離型フィルムの製造方法及び樹脂封止半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(1) 本発明の一側面としての樹脂封止半導体装置の製造方法は、半導体素子を含む半導体装置を供する工程と、凹部を表面に有する型を供する工程と、ポリアミド樹脂を含むクッション層と、上記クッション層の少なくとも一方の面に設けられる剥離層と、を有する離型フィルムを、少なくとも上記凹部に添うように型に固着する工程と、上記凹部内を含む上記離型フィルム上に封止樹脂または封止樹脂前駆体を供給する工程と、上記封止樹脂内または上記封止樹脂前駆体内に上記半導体素子が浸漬されるように半導体装置と型とを配置する工程と、上記半導体素子を上記封止樹脂または上記封止樹脂前駆体に浸漬させた状態で、上記封止樹脂または上記封止樹脂前駆体を硬化する工程と、を備えることを特徴とする。
(2) 本発明の他側面としての樹脂封止半導体装置の製造方法は、上記樹脂封止半導体装置の製造方法において、上記離型フィルムは、突き刺し強度が5.5N以上であることを特徴とする。
(3) 本発明の他側面としての樹脂封止半導体装置の製造方法は、上記樹脂封止半導体装置の製造方法において、上記半導体素子は、光素子であることを特徴とする。
(4) 本発明の一側面としての樹脂封止半導体装置製造用離型フィルムは、半導体装置を樹脂封止する樹脂封止半導体装置の封止樹脂成形プロセスにおいて、型と上記半導体装置との間に配される離型フィルムであって、ポリアミド樹脂を含むクッション層と、上記クッション層の少なくとも一方の面に設けられる剥離層と、を備えることを特徴とする。
(5) 本発明の他側面としての樹脂封止半導体装置製造用離型フィルムは、上記樹脂封止半導体装置製造用離型フィルムであって、上記離型フィルムは、突き刺し強度が5.5N以上であることを特徴とする。
(6) 本発明の一側面としての樹脂封止半導体装置製造用離型フィルムの製造方法は、半導体装置を樹脂封止する樹脂封止半導体装置の封止樹脂成形プロセスにおいて、型と上記半導体装置との間に配される離型フィルムの製造方法であって、ポリアミド樹脂を含むクッション層と、上記クッション層の少なくとも一方の面に設けられる剥離層と、を押出成形する工程を備えることを特徴とする。
本発明の実施形態に係る樹脂封止半導体装置の製造方法について、図1乃至図7を用いて説明する。本実施形態に係る樹脂封止半導体の製造方法は、離型フィルム設置工程、封止樹脂等供給工程、半導体素子浸漬工程および封止樹脂等硬化工程を少なくとも備える封止樹脂成形プロセスを含む。
本発明の実施の形態に係る離型フィルム200は、図8に示されるように、剥離層210およびクッション層220を備える。上記樹脂封止半導体装置の製造方法において、離型フィルム200は、剥離層210が半導体装置100側に配され、クッション層220が型300側に配されるように、型300に配置される。すなわち、離型フィルム200は、封止樹脂等400および封止樹脂層401が剥離層210上に設けられ、クッション層220が型300に接するように配置される。なお、本実施の形態において、離型フィルム200の厚みは25μm以上であって300μm以下であるのが好ましい。離型フィルム200の厚みが25μm未満であると封止樹脂成形プロセスにおいて穴が開きやすく、300μmより厚いと、型の上に離型フィルム200を置いて成形するため離型フィルム200の厚さ分だけ型が小さくなり、所望のサイズの成形品を得ることができない。
<離型フィルムの構成層>
1.剥離層
剥離層210は、封止樹脂等400および封止樹脂層401に対して良好な剥離性を有する層であり、剥離層形成材料として、ポリ(4−メチル−1−ペンテン)を主成分として含むものを用いることが好ましい。剥離層210としては、クッション層220より封止樹脂等400および封止樹脂層401に対する剥離性が高いものが好ましい。ポリ(4−メチル−1−ペンテン)を主成分として含む樹脂は、三井化学(株)から商品名TPX(登録商標)として市販されており、以下「TPX樹脂」と称する。なお、本実施の形態において、剥離層210の厚みは5μm以上295μm以下であるのが好ましく、10μm以上290μm以下であるのがより好ましい。剥離層210の厚みがこの範囲であれば、クッション層の効果を損なわず剥離性が良好な離型フィルム200となる。剥離層210としては、ポリアミド樹脂を含まないもの、または、実質的に含まないものが好ましい。
クッション層220は、本実施の形態において、クッション層形成材料としてポリアミド樹脂を含む。ポリアミド樹脂としては、例えば、脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド等が挙げられる。ポリアミド樹脂を用いることで、ポリアミド内のアミド基の水素結合によりクッション層220に強靭性が付与され、離型フィルム200の突き刺し強度が5.5N以上となる。これにより、樹脂封止半導体装置の製造方法において、封止樹脂成形プロセスにおいて離型フィルム200に穴が開かずに成形することができる。クッション層220の突き刺し強度は、剥離層210の突き刺し強度よりも高いことが好ましい。
これらにより、離型フィルム200の成形性が向上するからである。
変性ポリ−4−メチル−1−ペンテンが有する官能基の種類としては、ハロゲン原子、カルボキシル基、酸無水物基、エポキシ基、水酸基、アミノ基、アミド基、イミド基、エステル基、アルコキシシラン基、酸ハライド基およびニトリル基などが挙げられる。ポリアミドの反応性官能基と反応しうる官能基として、変性ポリ−4−メチル−1−ペンテンが有する官能基には、カルボキシル基や酸無水物基またはこれらの誘導体を含むことが、ポリアミドとの反応性が高いことから好ましい。
変性ポリ−4−メチル−1−ペンテンは、ポリ−4−メチル−1−ペンテンと、エチレン性不飽和結合含有モノマーと、有機過酸化物と、を加熱条件下でグラフト変性反応させることにより製造される。
ポリアミドと、ポリ−4−メチル−1−ペンテンと、オレフィン重合体またはオレフィン共重合体と、変性ポリ−4−メチル−1−ペンテンと、の合計を100重量%として、クッション層220のポリアミドの含有量は10重量%以上であって50重量%以下が好ましく、より好ましくは20重量%以上であって40重量%以下である。上記の範囲にあれば、剥離層210とクッション層220の接着を損なわず、かつ、突き刺し強度が5.5N以上となる。
本実施の形態に係る離型フィルム200は、剥離層210とクッション層220とを、共押出法や押出ラミネート法等で押出成形する押出成形工程を含む方法で製造することができる。
先の実施の形態では、クッション層220の一方の面側にのみ剥離層210が設けられる離型フィルム200を説明したが、図9に示されるように、クッション層220の両側に剥離層210a、210bが設けられる離型フィルム200Aも本発明の一実施の形態に含まれる。なお、以下、符号210aの剥離層を「第1剥離層」と称し、符号210bの剥離層を「第2剥離層」と称する。離型フィルム200Aは、第1剥離層210aが半導体装置100側に配され、第2剥離層210bが型300側に配されるように、型300に被覆される。すなわち、離型フィルム200Aは、封止樹脂等400および封止樹脂層401が第1剥離層210a上に設けられ、第2剥離層210bが型300に接するように配置され、クッション層220は第1剥離層210aと第2剥離層210bとの間に配置される。第1剥離層210aとクッション層220との間および第2剥離層210bとクッション層220との間には、アンカー層やプライマー層(接着層)を更に有してもよい。
離型フィルム200Aの突き刺し強度がこの範囲内であれば、樹脂封止半導体装置の製造方法において、封止樹脂成形プロセスにおいて、離型フィルム200Aに穴が開かずに成形することができる。
以下、実施例を示して本発明をより詳細に説明する。
剥離層形成材料としては、TPX樹脂(三井化学株式会社製のTPX(登録商標)、DX310)を用いた。クッション層形成材料としては、以下の製造例に従い作製した樹脂組成物を用いた。ポリ−4−メチル−1−ペンテン(三井化学株式会社製)DX310を100重量%と、無水マレイン酸1重量%と、有機過酸化物として、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルペルオキシ)ヘキシン−3を0.02重量%とを、2軸押出機(株式会社池貝、PCM45、φ=45mm,L/D=30)にて、シリンダ温度:270℃で、溶融混練を3分間行い、マレイン酸変性ポリ−4−メチル−1−ペンテン(D)(MFR(測定方法/ASTM D1238、測定条件/260℃、5kg荷重)100g/10分)を得た。収率は90%であった。
オレフィン(共)重合体(C)として三井化学株式会社製BL3450(ブテン・エチレン共重合体、MFR(測定方法/ASTM D1238、測定条件/190℃、2.16kg荷重)4g/10分、融点(Tm)104℃)を使用する他は実施例1と同様にして作製した。
オレフィン(共)重合体(C)として三井化学株式会社製BL2481(ブテン・プロピレン共重合体、MFR(測定方法/ASTM D1238、測定条件/190℃、2.16kg荷重))4g/10分、融点(Tm)75℃)を使用する他は実施例1と同様にして作製した。
オレフィン(共)重合体(C)として三井化学株式会社製XM7070(プロピレン・ブテン共重合体、MFR(測定方法/ASTM D1238、測定条件/230℃、2.16kg荷重))7g/10分、融点(Tm)70℃)を使用する他は実施例1と同様にして作製した。
オレフィン(共)重合体(C)としてプライムポリマー株式会社製F327(プロピレン・エチレンランダム共重合体、MFR(測定方法/ASTM D1238、測定条件/230℃、2.16kg荷重))7g/10分、融点(Tm)138℃)を使用する他は実施例1と同様にして作製した。
ポリアミド(B)として東レ社製CM3001−N(ポリアミド6,6、MFR(測定方法/ASTM D1238、測定条件/275℃、2.16kg荷重)52g/10分)を使用する他は実施例1と同様にして作製した。
ポリアミド(B)として東レ社製CM3301(ポリアミド6−6,6共重合体、MFR(測定方法/ASTM D1238、測定条件/275℃、2.16kg荷重)60g/10分)を使用する他は実施例1と同様にして作製した。
ポリアミド(B)としてARKEMA社製Rilsan BMNOP40D(ポリアミド11、MFR(測定方法/ASTM D1238、測定条件/230℃、2.16kg荷重)42g/10分)を使用する他は実施例1と同様にして作製した。
ポリアミド(B)として宇部興産社製3020U(ポリアミド12、MFR(測定方法/ASTM D1238、測定条件/235℃、2.16kg荷重)20g/10分)を使用する他は実施例1と同様にして作製した。
剥離層厚みを裏表共に5μmとした他は実施例1と同様にして作製した。
剥離層厚みを裏表共に10μmとした他は実施例1と同様にして作製した。
剥離層厚みを裏表共に145μmとし、クッション層厚みを10μmとした他は実施例1と同様にして作製した。
クッション層厚みを5μmとした他は実施例1と同様にして作製した。
クッション層厚みを10μmとした他は実施例1と同様にして作製した。
クッション層厚みを290μmとし、剥離層厚みを裏表共に5μmとして他は実施例1と同様にして作製した。
ポリアミドの量を15重量%とし、ポリ−4−メチル−1−ペンテンを70.7重量%とした他は実施例1と同様にして作製した。
ポリアミドの量を45重量%とし、ポリ−4−メチル−1−ペンテンを40.7重量%とした他は実施例1と同様にして作製した。
(1)離型フィルムの成形品外観の評価
先ず、型温度125℃の条件下、上述のようにして得られた離型フィルムを、100個の半球状凹部(半径1.0mm)を有する型に被せ、空気吸引機を用いて700Torrで空気孔から半球状凹部中の空気を排出し、離型フィルムを半球状凹部を有する型表面に沿わせた(図2および図3参照)。
なお、表1に示すように、本実施例に係る離型フィルムを用いて得られた硬化物(成形品)の外観はAおよびB評価であった。
脱型した後に、「離型フィルムに穴が開いていないもの」をA評価とし、「離型フィルムに1〜2個の穴が開いているもの」をB評価とし、「離型フィルムに2個以上穴が開いているもの」をC評価とした。なお、表1に示すように、本実施例に係る離型フィルムはAおよびB評価であった。
離型フィルムの突き刺し強度は、「島津製作所(株)製オートグラフAG−2000B」を用いて測定した。具体的には、離型フィルムを幅70mm、長さ500mmに切りだして試験片を作製した後、φ1mm、先端の曲率半径が0.5mmの針を用い、試験速度500mm/minとした以外は、JIS Z1707 7.4に記載されている方法に準拠して測定を行った。そして、「突き刺し強度が5.7N以上、20N以下の離型フィルム」をA評価とし、「突き刺し強度が5.5N以上、5.7N以下の離型フィルム」をB評価とし、「突き刺し強度が5.5N未満の離型フィルム」をC評価とした。なお、表1に示すように、本実施例に係る離型フィルムはAおよびB評価であった。
押出法を利用して、TPX樹脂の単層型離型フィルムを作製した。なお、この単層型離型フィルムの厚みは50μmであった。そして、実施例1と同様にしてこの単層型離型フィルムの評価を行った。
押出法を利用して、実施例1〜5で使用したクッション層樹脂の単層型フィルムを作製した。なお、この単層型離型フィルムの厚みは50μmであった。そして、実施例1と同様にしてこの単層型離型フィルムの評価を行った。
101 成形体
110 支持体
120 半導体素子
130 ボンディングワイヤ
200 離型フィルム
200A 離型フィルム
210 剥離層
210a 第1剥離層
210b 第2剥離層
220 クッション層
300 型
310 凹部
311 離型凹部
320 空気孔
330 平面部
340 段差平面部
400 封止樹脂等(封止樹脂または封止樹脂前駆体)
401 封止樹脂層
510 ダイス
520 タッチロール
530 第1ロール
540 第2ロール
Claims (6)
- 半導体素子を含む半導体装置を供する工程と、
凹部を表面に有する型を供する工程と、
ポリアミド樹脂を含むクッション層と、前記クッション層の少なくとも一方の面に設けられる剥離層と、を有する離型フィルムを、少なくとも前記凹部に添うように型に固着する工程と、
前記凹部内を含む前記離型フィルム上に封止樹脂または封止樹脂前駆体を供給する工程と、
前記封止樹脂内または前記封止樹脂前駆体内に前記半導体素子が浸漬されるように半導体装置と型とを配置する工程と、
前記半導体素子を前記封止樹脂または前記封止樹脂前駆体に浸漬させた状態で、前記封止樹脂または前記封止樹脂前駆体を硬化する工程と、
を備えることを特徴とする樹脂封止半導体装置の製造方法。 - 前記離型フィルムは、突き刺し強度が5.5N以上であることを特徴とする請求項1に記載の樹脂封止半導体装置の製造方法。
- 前記半導体素子は、光素子であることを特徴とする請求項1または2に記載の樹脂封止半導体装置の製造方法。
- 半導体装置を樹脂封止する樹脂封止半導体装置の封止樹脂成形プロセスにおいて、型と前記半導体装置との間に配される離型フィルムであって、ポリアミド樹脂を含むクッション層と、前記クッション層の少なくとも一方の面に設けられる剥離層と、を備えることを特徴とする樹脂封止半導体装置製造用離型フィルム。
- 前記離型フィルムは、突き刺し強度が5.5N以上であることを特徴とする請求項4に記載の樹脂封止半導体装置製造用離型フィルム。
- 半導体装置を樹脂封止する樹脂封止半導体装置の封止樹脂成形プロセスにおいて、型と前記半導体装置との間に配される離型フィルムの製造方法であって、ポリアミド樹脂を含むクッション層と、前記クッション層の少なくとも一方の面に設けられる剥離層と、を押出成形する工程を備えることを特徴とする樹脂封止半導体装置製造用離型フィルムの製造方法。
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