JP2015161829A - グレーティングカプラ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板101上の光導波路103の表層に溝が形成されたグレーティングカプラであって、光導波路内の溝が形成された領域において光導波路を伝搬する光と外へ出射するあるいは光導波路外を伝搬する光を光導波路103に結合するグレーティングカプラにおいて、光導波路103の表層に光導波路103の長手方向に繰り返し溝を形成し、溝の幅を、光導波路の幅よりも狭くした。
【選択図】図4
Description
図4に、本発明の第一の実施形態に係るグレーティングカプラを示す。本実施形態のグレーティングカプラのグレーティング103において、溝が掘られていない部分の導波路断面は、図5(a)に示すように、広い幅のコアの上に狭い幅のコアが重なった、リブ型と呼ばれる形状になっている。上から、第1層、第2層と呼ぶことにする。なお、第1層は、導波路の表面を含む層であるので単に「表層」とも呼ぶ。一方、溝が掘られた部分の導波路断面は図5(b)に示すように、第1層のみが欠損した形状となる。
次に、図8を参照して、第二の実施形態を説明する。第二の実施形態では、グレーティング部103は2つの層を有するリブ型の導波路で構成され、溝が形成される第1層の導波路の幅w1がz軸方向に変調されている。リブ導波路においては、第1層の幅を変えることによって、前述の、モード形成に関する第1層の寄与分を変調することが可能である。これによって、一つの溝あたりの放射割合をz方向の位置毎に異ならせることができる。
102 入力導波路
103 グレーティング部
Claims (4)
- 基板上の光導波路の表層に溝が形成されたグレーティングカプラであり、前記光導波路内の前記溝が形成された領域で、前記光導波路を伝搬する光を該光導波路外へ出射する、または前記光導波路外を伝搬する光を前記光導波路に結合する、前記グレーティングカプラであって、
前記溝は、前記光導波路の表層に、前記光導波路の長手方向に繰り返し形成され、前記溝の幅は、前記光導波路の幅よりも狭い、ことを特徴とするグレーティングカプラ。 - 前記溝の幅が、前記光導波路の長手方向に対して変調されている、ことを特徴とする請求項1に記載のグレーティングカプラ。
- 前記光導波路は、異なる幅を有する複数のコア層が重ねられた光導波路である、ことを特徴とする請求項1または2に記載のグレーティングカプラ。
- 前記光導波路は、シリコン導波路であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のグレーティングカプラ。
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