JP2015149594A - マイクロ波増幅器 - Google Patents

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明洋 里見
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Abstract

【課題】ドレインバイアス回路の線路幅を確保しつつ、ドレインバイアス回路の特性インピーダンスを高くすることが可能なマイクロ波増幅器を提供する。
【解決手段】マイクロ波増幅器は、信号を増幅する増幅素子と、入力基板の上に設けられ、増幅素子のゲート端子に信号を入力する第1のマイクロ波ストリップ線路と、第1のマイクロストリップ線路に接続し、伝送する信号の波長の1/4の長さの第1のλ/4線路を有するゲートバイアス回路と、出力基板の上に設けられ、増幅素子のドレイン端子から信号を出力する第2のマイクロストリップ線路と、第2のマイクロストリップ線路に接続し、出力基板の誘電体層の下層に空間を有し、伝送する信号の波長の1/4の長さの第2のλ/4線路を有するドレインバイアス回路と、を備える。
【選択図】図1

Description

本発明の実施形態は、マイクロ波増幅器に関する。
従来のマイクロ波増幅器は、増幅素子のゲート端子にゲートバイアス電圧を印加し、ドレイン端子にドレインバイアス電圧を印加し、ゲート端子から入力した信号を増幅してドレイン端子から出力する。
信号を伝送する伝送路は、マイクロ波の損失を抑えるためにマイクロストリップ線路によって形成され、インピーダンスを一定にしてある。
ゲートバイアス電圧とドレインバイアス電圧とはこのマイクロストリップ線路に印加する必要がある。ここで、マイクロ波の伝送に影響を与えないように、ゲートバイアス電圧を供給するゲートバイアス回路と、ドレインバイアス電圧を供給するドレインバイアス回路と、は特性インピーダンスがマイクロストリップ線路の特性インピーダンスより高くすることが望ましい。
ゲートバイアス回路は、電流を多く流さないため、線路幅を細くして特性インピーダンスを高くすることができる。
一方ドレインバイアス回路は、増幅素子に電流を多く流す必要がある。従って、流す電流に応じて線路幅が定まり、線路幅を細くすることによって特性インピーダンスを高くするという方法はとれない。
特開平5−327372号公報
従って、ドレインバイアス回路の線路幅を確保しつつ、ドレインバイアス回路の特性インピーダンスを高くすることが可能なマイクロ波増幅器が求められている。
上記の課題を解決するために、信号を増幅する増幅素子と、入力基板の上に設けられ、増幅素子のゲート端子に信号を入力する第1のマイクロ波ストリップ線路と、第1のマイクロストリップ線路に接続し、伝送する信号の波長の1/4の長さの第1のλ/4線路を有するゲートバイアス回路と、出力基板の上に設けられ、増幅素子のドレイン端子から信号を出力する第2のマイクロストリップ線路と、第2のマイクロストリップ線路に接続し、出力基板の誘電体層の下層に空間を有し、伝送する信号の波長の1/4の長さの第2のλ/4線路を有するドレインバイアス回路と、を備えるマイクロ波増幅器を提供する。
マイクロ波増幅器の構成を示す図である。 マイクロ波増幅器の図1におけるAA線断面図である。 応用例に係るマイクロ波増幅器1の図1におけるAA線断面図である。
以下、マイクロ波増幅器の一実施形態について、図面を用いて詳細に説明する。
本実施形態のマイクロ波増幅器は、信号を増幅する増幅素子と、入力基板の上に設けられ、増幅素子のゲート端子に信号を入力する第1のマイクロ波ストリップ線路と、第1のマイクロストリップ線路に接続し、伝送する信号の波長の1/4の長さの第1のλ/4線路を有するゲートバイアス回路と、出力基板の上に設けられ、増幅素子のドレイン端子から信号を出力する第2のマイクロストリップ線路と、第2のマイクロストリップ線路に接続し、出力基板の誘電体層の下層に空間を有し、伝送する信号の波長の1/4の長さの第2のλ/4線路を有するドレインバイアス回路と、を備える。
図1は、マイクロ波増幅器1の構成を示す図である。図2は、マイクロ波増幅器1の図1におけるAA線断面図である。図1及び図2に示すように、マイクロ波増幅器1は、増幅素子17と、入力基板11の上に設けられ、増幅素子17のゲート端子17Aに信号を入力する第1のマイクロストリップ線路31と、第1のマイクロストリップ線路31に接続し、伝送する信号の波長の1/4の長さの第1のλ/4線路16を有するゲートバイアス回路14と、出力基板12の上に設けられ、増幅素子17のドレイン端子17Bから信号を出力する第2のマイクロストリップ線路32と、第2のマイクロストリップ線路32に接続し、出力基板12のベース金属層201及び導体パターン202がベース金属層201を貫通しないように除去され、伝送する信号の波長の1/4の長さの第2のλ/4線路18を有するドレインバイアス回路19と、を備える。
増幅素子17はマイクロ波を増幅する素子である。増幅素子17は、例えばGaAs、GaNなどの半導体素子を用いることができる。
入力基板11及び出力基板12は、金属によって形成されるベース金属層201と、ベース金属層201の第1の面に形成される導体パターン202と、導体パターン202の表面に設けられる誘電体層203と、を備える。
増幅素子17のゲート端子17Aは、リードを介して第1のマイクロストリップ線路31に接続する。第1のマイクロストリップ線路31は直流成分を除去するコンデンサ15を備える。
ゲートバイアス回路14は、第1のマイクロストリップ線路31に接続し、伝送する信号の波長の1/4の長さの第1のλ/4線路16を有し、ゲートバイアス電圧を印加する。
第1のλ/4線路16は、特性インピーダンスを第1のマイクロストリップ線路31の特性インピーダンスより高くなるように線路幅が第1のマイクロストリップ線路31より細い。
増幅素子17のドレイン端子17Bは、リードを介して第2のマイクロストリップ線路32に接続する。第2のマイクロストリップ線路32は直流成分を除去するコンデンサ20を備える。
ドレインバイアス回路19は、第2のマイクロストリップ線路32に接続し、伝送する信号の波長の1/4の長さの第2のλ/4線路18を有し、ドレインバイアス電圧を印加する。
第2のλ/4線路18は一端が第2のマイクロストリップ線路32に接続し、他端にコンデンサを有する。このコンデンサ21は、第1の端子が第2のλ/4線路18の端部に接続し、第2の端子が接地する。このコンデンサ21は高周波信号がドレインバイアス回路19に漏れ出すのを防止する。
第2のλ/4線路18は、線路幅Wと、線路の厚さtと、誘電体層の厚さhと、誘電体層203の比誘電率εによって近似される特性インピーダンスZが、第2のマイクロストリップ線路32の特性インピーダンスより十分高くなるように線路幅Wと、線路の厚さtと、が定められる。
本実施形態においては、第2のλ/4線路18の特性インピーダンスZをさらに高くするために、第2のマイクロストリップ線路32の下層のベース金属層201に空間204を設ける。
空気の比誘電率は誘電体層の比誘電率よりを小さいために、第2のλ/4線路18特性インピーダンスZをさらに高くすることが可能である。
空間204は第2のλ/4線路18の全域L1にわたって設けられる。空間204の幅W1は線路幅Wより広いことが望ましい。
ドレインバイアス回路19は、第2のλ/4線路18に接続する線路L2の下層のベース金属層201に空間204をさらに設けてもよい。
空間204の深さDは、伝送線路が実現する範囲で深いほどよい。ここで、伝送線路が実現する範囲とは、伝送線路として機能する線路を形成することができる範囲を意味する。
図3は、応用例に係るマイクロ波増幅器1の図1におけるAA線断面図である。図1及び図3に示すように、マイクロ波増幅器1は、増幅素子17と、入力基板11の上に設けられ、増幅素子17のゲート端子17Aに信号を入力する第1のマイクロストリップ線路31と、第1のマイクロストリップ線路31に接続し、伝送する信号の波長の1/4の長さの第1のλ/4線路16を有するゲートバイアス回路14と、出力基板12の上に設けられ、増幅素子17のドレイン端子17Bから信号を出力する第2のマイクロストリップ線路32と、第2のマイクロストリップ線路32に接続し、出力基板12のベース金属層201、導体パターン202、及び誘電体層203がベース金属層201及び誘電体層203を貫通しないように除去され、伝送する信号の波長の1/4の長さの第2のλ/4線路18を有するドレインバイアス回路19と、を備える。
増幅素子17はマイクロ波を増幅する素子である。増幅素子17は、例えばGaAs、GaNなどの半導体素子を用いることができる。
入力基板11及び出力基板12は、金属によって形成されるベース金属層201と、ベース金属層201の第1の面に形成される導体パターン202と、導体パターン202の表面に設けられる誘電体層203と、を備える。
増幅素子17のゲート端子17Aは、リードを介して第1のマイクロストリップ線路31に接続する。第1のマイクロストリップ線路31は直流成分を除去するコンデンサ15を備える。
ゲートバイアス回路14は、第1のマイクロストリップ線路31に接続し、伝送する信号の波長の1/4の長さの第1のλ/4線路16を有する。
第1のλ/4線路16は、特性インピーダンスを第1のマイクロストリップ線路31の特性インピーダンスより高くなるように線路幅が第1のマイクロストリップ線路31より狭い。
増幅素子17のドレイン端子17Bは、リードを介して第2のマイクロストリップ線路32に接続する。第2のマイクロストリップ線路32は直流成分を除去するコンデンサ20を備える。
ドレインバイアス回路19は、第2のマイクロストリップ線路32に接続し、伝送する信号の波長の1/4の長さの第2のλ/4線路18を有する。
第2のλ/4線路18は一端が第2のマイクロストリップ線路32に接続し、他端にコンデンサを有する。このコンデンサ21は、第1の端子が第2のλ/4線路18の端部に接続し、第2の端子が接地する。このコンデンサ21は高周波信号がドレインバイアス回路19に漏れ出すのを防止する。
第2のλ/4線路18は、線路幅Wと、線路の厚さtと、誘電体層の厚さhと、誘電体層203の比誘電率εによって近似される特性インピーダンスZが、第2のマイクロストリップ線路32の特性インピーダンスより十分高くなるように線路幅Wと、線路の厚さtと、が定められる。
本実施形態においては、第2のλ/4線路18の特性インピーダンスZをさらに高くするために、第2のマイクロストリップ線路32の下層の誘電体層203に空間204Aと、第2のマイクロストリップ線路32の下層のベース金属層201に空間204Aと連結した空間204と、を設ける。
空気の比誘電率は誘電体層の比誘電率よりを小さいために、第2のλ/4線路18特性インピーダンスZをさらに高くすることが可能である。
空間204及び空間204Aは第2のλ/4線路18の全域L1にわたって設けられる。空間204及び空間204Aの幅W1は線路幅Wより広いことが望ましい。
ドレインバイアス回路19は、第2のλ/4線路18に接続する線路L2の下層のベース金属層201に空間204及び空間204Aをさらに設けてもよい。
空間204の深さDは、伝送線路が実現する範囲で深いほどよい。空間204Aの深さD1は、伝送線路が実現する範囲で深いほどよい。
空間204Aは誘電体層203を貫通しないため、第2のλ/4線路18は誘電体層203と全域にわたって接触している。
ドレインバイアス回路19は、第2のλ/4線路18に接続する線路L2の下層のベース金属層201及び誘電体層203に空間204及び空間204Aをさらに設けてもよい。
以上述べたように、マイクロ波増幅器1は、増幅素子17と、入力基板11の上に設けられ、増幅素子17のゲート端子17Aに信号を入力する第1のマイクロストリップ線路31と、第1のマイクロストリップ線路31に接続し、伝送する信号の波長の1/4の長さの第1のλ/4線路16を有するゲートバイアス回路14と、出力基板12の上に設けられ、増幅素子17のドレイン端子17Bから信号を出力する第2のマイクロストリップ線路32と、第2のマイクロストリップ線路32に接続し、出力基板12の誘電体層203の下層に空間204を有し、伝送する信号の波長の1/4の長さの第2のλ/4線路18を有するドレインバイアス回路19と、を備える。
従って、ドレインバイアス回路19の線路幅Wを確保しつつ、ドレインバイアス回路19の特性インピーダンスZを高くすることが可能となるという効果がある。
いくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
17:増幅器
17B:ドレイン端子
18:第2のλ/4線路
19:ドレインバイアス回路
201:ベース金属層
202:導体パターン
203:誘電体層
204:空間

Claims (4)

  1. 信号を増幅する増幅素子と、
    入力基板の上に設けられ、前記増幅素子のゲート端子に信号を入力する第1のマイクロストリップ線路と、
    前記第1のマイクロストリップ線路に接続し、伝送する信号の波長の1/4の長さの第1のλ/4線路を有するゲートバイアス回路と、
    出力基板の上に設けられ、前記増幅素子のドレイン端子から信号を出力する第2のマイクロストリップ線路と、
    前記第2のマイクロストリップ線路に接続し、前記出力基板の誘電体層の下層に空間を有し、伝送する信号の波長の1/4の長さの第2のλ/4線路を有するドレインバイアス回路と、
    を備えるマイクロ波増幅器。
  2. 前記空間は、
    前記出力基板の導体パターンを設けず、ベース金属層を貫通しないように設けないことにより形成される請求項1記載のマイクロ波増幅器。
  3. 前記空間は、
    前記出力基板の導体パターンを設けず、ベース金属層を貫通しないように設けず、前記出力基板の前記誘電体層の一部を、前記第2のマイクロストリップ線路が全域にわたって前記誘電体層に接触を維持したまま除去した形状である請求項1記載のマイクロ波増幅器。
  4. 前記ドレインバイアス回路は、
    前記第2のλ/4線路に接続する線路の下層の前記ベース金属層に前記空間をさらに有する請求項2又は請求項3に記載のマイクロ波増幅器。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2017163000A (ja) * 2016-03-09 2017-09-14 古河電気工業株式会社 高周波基板
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