JP2015145317A - カーボンナノチューブの製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】表面に触媒を担持した複数の基板X上に炭素源を含む原料ガスを供給し、化学気相成長法により前記基板X上にカーボンナノチューブを成長させるカーボンナノチューブの製造装置1であって、一端側から前記原料ガスを供給し、他端側から化学気相成長法による反応後ガスを排出する筒状の反応炉2と、前記反応炉2内に軸方向に沿って装填され、前記基板Xの一半側外縁部と係合可能な機構を有し、前記複数の基板Xを軸方向に沿って並列するよう保持する基板ホルダー5とを備え、前記基板ホルダー5の係合機構が、複数の基板Xを反応炉2内の原料ガスの流れ方向と垂直面に対して傾斜させるよう構成されるカーボンナノチューブの製造装置。
【選択図】図1
Description
図1のCNT製造装置1は、表面に触媒を担持した1又は複数の基板X上に原料ガスを供給することで、CVD法により前記基板X上にカーボンナノチューブを生成するものである。図1のCNTの製造装置1は、具体的には反応炉2、原料ガス供給手段3、排気手段4及び基板ホルダー5を主に備えている。
前記基板Xは、平板形状を有し、表面に触媒を担持している。この触媒に原料ガスが接触することで、基板Xの表面に垂直に配向したCNTが成長する。
反応炉2は、その内部に複数の基板を装填し、CVD法によりCNTを成長させる容器であり、チャンバー2a及びヒーター2bを備える。
原料ガス供給手段3は、CNTの成長に必要な原料ガスを反応炉2に供給する。前記原料ガスとしては、例えば炭素源を含む化合物が挙げられる。前記炭素源を含む化合物としては、例えばアセチレン(C2H2)、メタン(C2H4)等の有機化合物が挙げられ、アセチレンが好ましい。アセチレンを用いることで、酸素等の支燃性ガスを用いなくても熱分解反応が自発的に継続することができる。
排気手段4は、排気管7を介してチャンバー2aの他端側に接続され、反応炉2内のガスの排気を行うことができる。排気手段4は、例えばロータリーポンプ等の真空ポンプを有してもよい。排気手段4により反応炉2からの排気量を調整することで、反応炉2内の圧力を制御することができる。
基板ホルダー5は、反応炉2のチャンバー2a内に軸方向に沿って配設され、複数の基板Xを軸方向に沿って並列するよう保持するものである。基板ホルダー5は、具体的には支持枠体9と、この支持枠体9に形成される係合機構8を有する。
当該カーボンナノチューブの製造装置1は、反応炉2の中心軸と垂直面mを基準とし、複数の基板Xの他半側外縁部(上方)が原料ガスの流れ方向側に傾斜していることから、反応炉2内での原料ガスの一端側から他端側へのスムーズな流れが向上し、下流側の基板Xへの原料ガスの供給が促進される。そのため、当該カーボンナノチューブの製造装置1は、反応炉2内の軸方向に並列する複数の基板Xへの原料ガスの供給量の均一化が促進され、生成するCNTの長さの各基板間の均一性を向上することができる。また、当該カーボンナノチューブの製造装置1は、基板Xの他半側外縁部を反応炉2内の原料ガスの流れ方向側に傾斜させることで、基板Xの一半側外縁部に比べて他半側外縁部周辺における原料ガスの流速がより速くなり、このような基板Xの一半側の原料ガスの流速と他半側の原料ガスの流速との差に起因して圧力差が生じ、この一半側と他半側の圧力差により基板間に原料ガスが流れ込みやすくなる。従って、当該カーボンナノチューブの製造装置1は、CNTの長さの基板間均一性及び基板内均一性をさらに向上することができる。さらに、当該カーボンナノチューブの製造装置1は、複数の基板Xが上述のように傾斜していることから、基板Xが基板ホルダー5に保持された状態における基板Xの起立高さ(基板の最上部と最下部との鉛直方向の距離)が減少する。これにより、反応炉2内における壁面近くと中心軸との温度差に起因する同一基板内の外縁部と中心部との温度差を低減でき、その結果、同一基板内におけるCNTの長さの均一性も向上することができる。従って、当該カーボンナノチューブの製造装置1は、1回のプロセスで所定長さのCNTを生成可能な基板の枚数を増やすことができ、CNTの量産性が飛躍的に高められる。
図3のCNTの製造装置11は、反応炉2、原料ガス供給手段3、排気手段4及び基板ホルダー12を主に備えている。基板ホルダー12は、支持枠体9、係合機構8及び阻害機構13を備えている。この反応炉2、原料ガス供給手段3、排気手段4、基板ホルダー12の支持枠体9及び係合機構8は、前記第一実施形態のCNTの製造装置1と同様であるので同一番号を付して説明を省略する。
図4のCNTの製造装置21は、反応炉2、原料ガス供給手段3、排気手段4及び基板ホルダー22を主に備えている。基板ホルダー22は、支持枠体9、係合機構8及びフィン23を備えている。この反応炉2、原料ガス供給手段3、排気手段4、基板ホルダー22の支持枠体9及び係合機構8は、前記第一実施形態のCNTの製造装置1と同様であるので同一番号を付して説明を省略する。
図5のCNTの製造装置31は、反応炉2、原料ガス供給手段3、排気手段4及び基板ホルダー5を主に備えている。基板ホルダー5は、支持枠体9及び係合機構8を備えている。この反応炉2、原料ガス供給手段3、排気手段4及び基板ホルダー5は、前記第一実施形態のCNTの製造装置1と同様であるので同一番号を付して説明を省略する。
図6のCNTの製造装置41は、反応炉2、原料ガス供給手段3、排気手段4及び基板ホルダー5を主に備えている。基板ホルダー5は、支持枠体9及び係合機構8を備えている。この反応炉2、原料ガス供給手段3、排気手段4及び基板ホルダー5は、前記第一実施形態のCNTの製造装置1と同様であるので同一番号を付して説明を省略する。
当該カーボンナノチューブの製造装置は、上記実施形態に限定されるものではない。つまり、上記実施形態では基板ホルダーが反応炉の下部に装填され、基板の下側の外縁部を保持するものについて説明したが、基板ホルダーが反応炉の上部等に装填され、基板の上側等の外縁部を保持するものでもよい。この場合、基板の下側等(つまり、保持箇所の対向位置)を原料ガスの流れ方向側に傾斜させるとよい。この場合、阻害機構又はフィンは基板ホルダーの上側等に配設される。加えて、基板ホルダーは、基板の一半側外縁部を保持するものを説明したが、同時に他半側外縁部も保持してもよい。この場合でも、他半側外縁部の保持はサポート的なもののため、傾斜方向は一半側外縁部を保持する場合と変わらない。
2 反応炉
2a チャンバー
2b ヒーター
3 原料ガス供給手段
4 排気手段
5 基板ホルダー
6 原料ガス導入管
7 排気管
8 係合機構
9 支持枠体
11 カーボンナノチューブの製造装置
12 基板ホルダー
13 阻害機構
21 カーボンナノチューブの製造装置
22 基板ホルダー
23 フィン
31 カーボンナノチューブの製造装置
41 カーボンナノチューブの製造装置
Claims (4)
- 表面に触媒を担持した複数の基板上に炭素源を含む原料ガスを供給し、化学気相成長法により前記基板上にカーボンナノチューブを成長させるカーボンナノチューブの製造装置であって、
一端側から前記原料ガスを供給し、他端側から化学気相成長法による反応後のガスを排出する筒状の反応炉と、
前記反応炉内に軸方向に沿って装填され、前記基板の一半側外縁部と係合可能な機構を有し、前記複数の基板を軸方向に沿って並列するよう保持する基板ホルダーとを備え、
前記基板ホルダーの係合機構が、複数の基板を反応炉内の原料ガスの流れ方向と垂直面に対して傾斜させるよう構成されていることを特徴とするカーボンナノチューブの製造装置。 - 前記基板ホルダーが、係合機構周辺に原料ガスの流れを阻害する機構を有している請求項1に記載のカーボンナノチューブの製造装置。
- 前記基板ホルダーが、係合機構周辺に原料ガスの流れを前記複数の基板間に向けるよう基板と同様に傾斜した複数のフィンを有している請求項1に記載のカーボンナノチューブの製造装置。
- 前記基板ホルダーの係合機構が、前記複数の基板の間隔を原料ガスの流れ方向上流側から下流側に向かって漸次大きくするよう構成されている請求項1、請求項2又は請求項3に記載のカーボンナノチューブの製造装置。
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