JP2015138898A - Lead frame, semiconductor device and electronic apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、はんだ接合される複数のリードを備えるリードフレームおよび半導体装置並びに電子装置に関するものである。 The present invention relates to a lead frame including a plurality of leads to be soldered, a semiconductor device, and an electronic device.
SOP(Small Outline Package)やQFP(Quad Flat Package)のような半導体装置は、そのリードフレームの各リード端子が回路基板上のランドにはんだ接合されることで回路基板に実装される。このように、半導体装置と回路基板との電気的接続にはんだが使用される場合、半導体装置と回路基板との熱膨脹係数の差に起因する熱疲労が蓄積されてはんだにクラックが生じるおそれがある。そこで、めっき等の表面処理を各リード端子に施してリード端子のはんだ濡れ性を向上させることで、はんだがリード端子を濡れ上がりやすくなり、リード端子とはんだとの接合面積を増加させて、はんだ接合強度を向上させている。 A semiconductor device such as a SOP (Small Outline Package) or a QFP (Quad Flat Package) is mounted on a circuit board by soldering each lead terminal of the lead frame to a land on the circuit board. As described above, when solder is used for electrical connection between the semiconductor device and the circuit board, thermal fatigue due to the difference in thermal expansion coefficient between the semiconductor device and the circuit board may accumulate, and the solder may crack. . Therefore, surface treatment such as plating is applied to each lead terminal to improve the solder wettability of the lead terminal. This makes it easier for the solder to wet the lead terminal, and increases the joint area between the lead terminal and the solder. Bonding strength is improved.
このようなはんだ接合に関する技術として、下記特許文献1に開示される半導体パッケージのリードフレームが知られている。このリードフレームには、アウターリードの導出方向の各端部における上端近傍を支持する枠状部材が設けられており、アウターリードと枠状部材との境界部分が、アウターリードの側面に沿ったラインにおいて切断される。このため、アウターリードの側面の上端部近傍に、アウターリードの下地が露出しためっきがない切断面が形成され、この切断面を除いた下方の部分は、めっきが施された状態となる。これにより、はんだは、濡れ性が悪い切断面に接触することがなくその下方の側面に沿って濡れ上がるため、はんだとアウターリードのとの接合面積が増大してその接合強度を高めている。 As a technique relating to such solder bonding, a lead frame of a semiconductor package disclosed in Patent Document 1 below is known. The lead frame is provided with a frame-like member that supports the vicinity of the upper end at each end in the lead-out direction of the outer lead, and the boundary between the outer lead and the frame-like member is a line along the side surface of the outer lead. Is disconnected. For this reason, a cut surface without plating with the base of the outer lead exposed is formed in the vicinity of the upper end portion of the side surface of the outer lead, and the lower portion excluding the cut surface is in a plated state. As a result, the solder does not come into contact with the cut surface having poor wettability and wets along the side surface below, so that the bonding area between the solder and the outer lead is increased to increase the bonding strength.
ところで、はんだ寿命を向上させるためには、ランドとこのランドに対向するリード端子の端部との距離(以下、はんだ厚ともいう)を長くする必要がある。十分なはんだ厚を確保することで、熱膨脹係数の差に起因するせん断応力をはんだにより吸収することができるからである。 Incidentally, in order to improve the solder life, it is necessary to increase the distance between the land and the end portion of the lead terminal facing the land (hereinafter also referred to as the solder thickness). This is because by securing a sufficient solder thickness, the shear stress caused by the difference in thermal expansion coefficient can be absorbed by the solder.
しかしながら、上述のように各リード端子の表面のはんだ濡れ性を高めていると、はんだがリード端子を濡れ上がり過ぎる場合があり、この場合には、ランドとリード端子の端部との間に介在するはんだの量が減ってしまうことから、はんだ厚が十分に確保されないおそれがある。 However, if the solder wettability of the surface of each lead terminal is increased as described above, the solder may overwhelm the lead terminal, and in this case, it is interposed between the land and the end of the lead terminal. Since the amount of solder to be reduced is reduced, the solder thickness may not be sufficiently secured.
また、濡れ上がったはんだにより各リード端子の大部分が覆われると、リード端子の剛性が不必要に上がる場合がある。このように剛性が上がってしまうと、リード端子に求められる応力緩和機能が低下してしまい、熱応力等に起因したクラックがはんだに生じやすくなるという問題が生じる。 In addition, if most of each lead terminal is covered with wet solder, the lead terminal rigidity may increase unnecessarily. When the rigidity is increased in this way, the stress relaxation function required for the lead terminal is lowered, and there is a problem that cracks due to thermal stress or the like are likely to occur in the solder.
本発明は、上述した課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、リード端子による応力緩和機能を損なうことなく十分なはんだ厚さを確保し得るリードフレームおよび半導体装置並びに電子装置を提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a lead frame, a semiconductor device, and a semiconductor device capable of ensuring a sufficient solder thickness without impairing the stress relaxation function of the lead terminals. It is to provide an electronic device.
上記目的を達成するため、特許請求の範囲の請求項1に記載の発明は、半導体素子(11)が封止された封止部材(13)から導出される複数のリード端子(21)を備え、前記リード端子の端部(24)が回路基板(3)のランド(4)にはんだ接合されるリードフレーム(20)において、前記リード端子には、はんだ濡れ性を高める表面処理(27)が施され、前記表面処理が施された高濡れ性領域のうち当該リード端子の長手方向中間部位は、他の領域よりもはんだ濡れ性を低めた低濡れ性部材(28)により環状に覆われることを特徴とする。
なお、特許請求の範囲および上記手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。
In order to achieve the above object, the invention described in claim 1 includes a plurality of lead terminals (21) led out from a sealing member (13) in which a semiconductor element (11) is sealed. In the lead frame (20) in which the end (24) of the lead terminal is soldered to the land (4) of the circuit board (3), the lead terminal has a surface treatment (27) for improving solder wettability. The intermediate portion of the lead terminal in the longitudinal direction of the high wettability region that has been subjected to the surface treatment is annularly covered with a low wettability member (28) having lower solder wettability than the other regions. It is characterized by.
In addition, the code | symbol in the parenthesis of a claim and the said means shows a corresponding relationship with the specific means as described in embodiment mentioned later.
請求項1の発明では、回路基板のランドにはんだ接合されるリード端子には、はんだ濡れ性を高める表面処理が施され、この表面処理が施された高濡れ性領域のうち当該リード端子の長手方向中間部位は、他の領域よりもはんだ濡れ性を低めた低濡れ性部材により環状に覆われている。 According to the first aspect of the present invention, the lead terminals soldered to the lands of the circuit board are subjected to a surface treatment for improving the solder wettability, and the length of the lead terminal in the high wettability region subjected to the surface treatment. The direction intermediate portion is annularly covered with a low wettability member having lower solder wettability than other regions.
これにより、リード端子の端部から高濡れ性領域を濡れ上がったはんだは、長手方向中間部位に配置される低濡れ性部材に到達したところで、その濡れ上がりが抑制されることとなる。すなわち、低濡れ性部材によりはんだの濡れ上がりが抑制される一方で、低濡れ性部材の位置に応じてはんだの濡れ上がり量や濡れ上がる位置を制御することができる。したがって、リード端子による応力緩和機能を損なうことなく十分なはんだ厚さを確保することができる。 As a result, the solder that has wetted the high wettability region from the end portion of the lead terminal reaches the low wettability member disposed at the intermediate portion in the longitudinal direction, and the wettability is suppressed. That is, while the low wettability member suppresses the solder wet-up, the solder wet-up amount and the wet-up position can be controlled according to the position of the low wettability member. Therefore, a sufficient solder thickness can be ensured without impairing the stress relaxation function by the lead terminal.
[第1実施形態]
以下、本発明に係るリードフレームおよび半導体装置並びに電子装置を具現化した第1実施形態について、図面を参照して説明する。
図1に示す電子装置1は、温度変化が大きな使用環境にて採用されており、例えば、車両に搭載されたエンジン等の車載機器を制御する電子制御装置(Electronic Control Unit)として構成されている。電子装置1は、筐体2内にプリント基板(回路基板)3や他の基板等を収容して構成されている。
[First Embodiment]
Hereinafter, a first embodiment embodying a lead frame, a semiconductor device, and an electronic device according to the present invention will be described with reference to the drawings.
The electronic device 1 shown in FIG. 1 is employed in an environment where the temperature change is large, and is configured as an electronic control unit (Electronic Control Unit) that controls in-vehicle equipment such as an engine mounted on the vehicle, for example. . The electronic device 1 is configured by housing a printed circuit board (circuit board) 3, another board, and the like in a
プリント基板3の実装面3aには、半導体装置10や外部コネクタ3b等が実装されている。半導体装置10は、実装面3aの所定の位置に配置されるランド4とはんだ5を介してはんだ接合されている。
A
次に、半導体装置10の構成について、図2および図3を用いて説明する。なお、図2は、図1の半導体装置10を示す上面図である。図3は、図2のX−X線相当の切断面による断面図である。
図2および図3に示すように、半導体装置10は、QFP型の半導体パッケージであり、主に、半導体素子11、ヒートシンク12およびリードフレーム20を備え、半導体素子11とヒートシンク12およびリードフレーム20の一部とがエポキシ系樹脂等をモールドして形成される封止部材13により封止されて構成されている。
Next, the configuration of the
As shown in FIGS. 2 and 3, the
半導体素子11は、シリコン基板などからなるもので、半導体プロセス技術を用いてトランジスタなどの素子が形成されたICチップ等である。ヒートシンク12は、Cu、Fe、Mo、42アロイ、コバールなどの金属など、放熱性に優れた材料からなる矩形板状の放熱部材として構成されている。このヒートシンク12の一面側に接着剤14を介して半導体素子11の裏面が固定され、ヒートシンク12の他面側12aが封止部材13から露出することで、半導体素子11の放熱性を向上させている。
The
次に、本発明の特徴的部分であるリードフレーム20の形状について、図面を用いて詳述する。図4は、図3のリード端子21近傍を拡大して示す拡大断面図である。なお、図4では、便宜上、下地めっき26、はんだめっき27および低濡れ性部材28等の厚さを誇張して図示している。
Next, the shape of the
リードフレーム20は、銅や42合金(42%Ni−Fe合金)等の金属薄板をエッチングや金型プレスによりパターニングすることで複数のリード端子21を有するように形成されている。各リード端子21は、そのアウターリード側が封止部材13の四辺から導出するように配置されている(図2および図3参照)。
The
図4に示すように、リード端子21は、第1端子部22、第2端子部23および第3端子部24を備えており、第1端子部22および第3端子部24が第2端子部23の一端側および他端側に対して屈曲部25aおよび屈曲部25bを介して連結されている。すなわち、第1端子部22と第2端子部23とが屈曲部25aを介して屈曲するように連結されており、第2端子部23と第3端子部24とが屈曲部25bを介して屈曲するように連結されている。
As shown in FIG. 4, the
第1端子部22は、封止部材13により封止されるインナーリード部分にて、ボンディングワイヤ15等を介して半導体素子11に電気的に接続されている(図3参照)。第3端子部24は、リード端子21の端部としてランド4に対して対向するように配置され、はんだ5を介してランド4に電気的に接続されている。
The
各リード端子21には、その全面に、めっき用の下地膜(以下、下地めっき26ともいう)が施された後に、はんだ濡れ性を高める表面処理として、亜鉛(Zn)や錫(Sn)等の材料によるめっき(以下、はんだめっき27ともいう)がそれぞれ施されている。このようにはんだめっき27が施された領域は、はんだ濡れ性を高められた高濡れ性領域として機能する。
Each
はんだめっき27が施された高濡れ性領域のうち第2端子部23の長手方向中間部位は、他の領域よりもはんだ濡れ性を低めた低濡れ性部材28により環状に覆われている。この低濡れ性部材28は、非導電性の材料により構成され、例えば、エポキシ樹脂からなるソルダーレジストにより形成されている。なお、低濡れ性部材28は、第1端子部22のインナーリード部分が封止部材13により封止された後に、第2端子部23に対して形成されてもよいし、封止部材13により封止される前工程での部品レベルのリードフレーム20の第2端子部23に対して形成されてもよい。
Of the high wettability region to which the solder plating 27 is applied, the intermediate portion in the longitudinal direction of the
次に、上述のように構成される半導体装置10の各リード端子21とランド4とのはんだ5を用いたはんだ接合について詳述する。
各リード端子21の第2端子部23に低濡れ性部材28がそれぞれ形成された半導体装置10を用意する。そして、各リード端子21の第3端子部24がペースト状のはんだ5を介してプリント基板3の各ランド4に乗るように、半導体装置10をプリント基板3の実装面3aに載置する。
Next, the solder joint using the
The
続いて、プリント基板3に載置された半導体装置10をリフロー工程へ搬送し、炉内ではんだ5をリフローさせる。このとき、第3端子部24とランド4との間に介在されたはんだ5は、溶融すると、第2端子部23を濡れ上がり低濡れ性部材28まで到達するが、この低濡れ性部材28によりさらに第1端子部22側への濡れ上がりが抑制される。これにより、図4に示すように、低濡れ性部材28により濡れ上がりが妨げられ、十分な厚さのはんだ厚tが確保された状態ではんだフィレットが良好に形成されて、各リード端子21とランド4とのはんだ5を用いたはんだ接合が完了する。
Subsequently, the
第1端子部22および第2端子部23が屈曲して連結されるリード端子21では、第2端子部23を濡れ上がるはんだ5が屈曲部25aまで達すると、硬化したはんだ5により屈曲部25aが弾性変形しにくくなり、リードフレーム20による応力緩和機能が低下しやすくなる。
In the
本実施形態では、上述したように、低濡れ性部材28が第2端子部23に形成されているので、第2端子部23におけるはんだ5の濡れ上がりが低濡れ性部材28により抑制され、上記屈曲部25aまではんだ5が濡れ上がることもない。
In the present embodiment, as described above, since the
以上説明したように、本実施形態に係るリードフレーム20では、ランド4にはんだ接合されるリード端子21には、はんだ濡れ性を高めるはんだめっき27が施され、このはんだめっき27が施された高濡れ性領域のうち当該リード端子21の長手方向中間部位は、他の領域よりもはんだ濡れ性を低めた低濡れ性部材28により環状に覆われている。
As described above, in the
これにより、第3端子部24から高濡れ性領域を濡れ上がったはんだ5は、第2端子部23の長手方向中間部位に配置される低濡れ性部材28に到達したところで、その濡れ上がりが抑制されることとなる。すなわち、低濡れ性部材28によりはんだ5の濡れ上がりが抑制される一方で、低濡れ性部材28の位置に応じてはんだ5の濡れ上がり量や濡れ上がる位置を制御することができる。したがって、リード端子21による応力緩和機能を損なうことなく十分なはんだ厚さtを確保することができる。
As a result, the
そして、上述のように構成されるリードフレーム20と半導体素子11および封止部材13とを備えるように半導体装置10を構成することで、リード端子21による応力緩和機能を損なうことなく十分なはんだ厚さtを確保し得る効果を奏する半導体装置10を実現することができる。そして、上述のように構成される半導体装置10と、リード端子21の端部がそれぞれはんだ5を介してはんだ接合されるランド4を有するプリント基板3とを備えるように電子装置1を構成することで、リード端子21による応力緩和機能を損なうことなく十分なはんだ厚さtを確保し得る効果を奏する電子装置1を実現することができる。
Then, by configuring the
特に、第2端子部23の長手方向中間部位が、低濡れ性部材28により環状に覆われているため、第2端子部23の内側(図4の左側)におけるはんだ5の濡れ上がりを抑制することができるだけでなく、外側(図4の右側)等におけるはんだ5の濡れ上がりをも抑制することができる。これにより、屈曲部25aまではんだ5が濡れ上がることもないので、リードフレーム20による応力緩和機能の低下を確実に抑制することができる。
In particular, since the intermediate portion in the longitudinal direction of the
図5は、第1実施形態の第1変形例に係るリードフレームを拡大して示す拡大断面図である。図6は、第1実施形態の第2変形例に係る半導体装置を示す上面図である。
第1実施形態の第1変形例として、低濡れ性部材28は、第2端子部23の長手方向中間部位を環状に覆うように形成されることに限らず、異なる面を複数箇所覆うように形成されてもよい。例えば、図5に例示する低濡れ性部材28a,28bのように、第2端子部23の内側(図5の左側)に形成されるとともに第3端子部24の反ランド側(図5の上側)に形成されてもよい。このようにしても、低濡れ性部材28a,28bによりはんだ5の濡れ上がりを抑制することができる。
FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view showing a lead frame according to a first modification of the first embodiment. FIG. 6 is a top view showing a semiconductor device according to a second modification of the first embodiment.
As a first modified example of the first embodiment, the
また、第1実施形態の第2変形例として、低濡れ性部材28は、非導電性であることから、図6に例示するように、隣り合うリード端子21を覆う他の低濡れ性部材28と連結するように形成されてもよい。これにより、第1端子部22のインナーリード部分が封止部材13により封止された後に各第2端子部23の長手方向中間部位に対してまとめて低濡れ性部材28を形成するための表面処理等を施すことで、各低濡れ性部材28を容易に形成することができる。
As a second modification of the first embodiment, since the
なお、本実施形態および変形例において、低濡れ性部材28,28a,28bは、エポキシ樹脂からなるソルダーレジストにより形成されることに限らず、例えば、他の樹脂材料により形成されてもよいし、金属酸化物、フッ素やシリコンにより形成されてもよい。また、低濡れ性部材28,28a,28bは、隣り合うリード端子を覆う他の低濡れ性部材28と接触しない構成であれば、例えば、はんだと合金をつくらない金属めっきにより形成されてもよい。
In the present embodiment and the modification, the
[第2実施形態]
次に、本発明の第2実施形態に係るリードフレームおよび半導体装置並びに電子装置について、図7を用いて説明する。なお、図7は、第2実施形態に係るリードフレーム30の要部を示す拡大断面図である。
本第2実施形態では、上述したリードフレーム20に代えてリードフレーム30を採用する点が主に上記第1実施形態と異なる。このため、第1実施形態と実質的に同様の構成部分には同一符号を付して説明を省略する。
[Second Embodiment]
Next, a lead frame, a semiconductor device, and an electronic device according to a second embodiment of the invention will be described with reference to FIG. FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view showing a main part of the
The second embodiment is mainly different from the first embodiment in that a
本実施形態に係る半導体装置10のリードフレーム30のリード端子31は、図7に示すように、上述したリードフレーム20に対して、低濡れ性部材28が廃止されるとともに、はんだめっき27が第2端子部23の内側(図7の左側)のランド側および第3端子部24のランド側(図7の下側)のみに形成されるように構成されている。
As shown in FIG. 7, the
このはんだめっき27は、例えば、全面に下地めっき26が施された各リード端子31のうちはんだめっき27を施す領域と異なる領域にマスキングしてめっき処理を施すことで形成される。
The solder plating 27 is formed, for example, by performing a plating process by masking an area different from the area where the solder plating 27 is applied, of each
このため、はんだめっき27が施される領域は、高濡れ性領域として機能し、はんだめっき27が施されずに下地めっき26が露出する領域は、低濡れ性領域として機能する。すなわち、各リード端子31は、ランド側にはんだ濡れ性を高める表面処理が施されることで、半導体素子側がランド側よりもはんだ濡れ性が低くなるように形成される。
For this reason, the region where the solder plating 27 is applied functions as a high wettability region, and the region where the base plating 26 is exposed without being subjected to the solder plating 27 functions as a low wettability region. That is, each
このように構成することで、第3端子部24とランド4との間に介在されたはんだ5は、溶融すると、第2端子部23のうちはんだめっき27が施される高濡れ性領域を濡れ上がるが、下地めっき26が露出する低濡れ性領域によりその濡れ上がりが抑制される。
With this configuration, when the
これにより、はんだめっき27が施される高濡れ性領域によりはんだ5の濡れ上がりが抑制される一方で、下地めっき26が露出する低濡れ性領域の位置に応じてはんだ5の濡れ上がり量や濡れ上がる位置を制御することができる。したがって、リード端子31による応力緩和機能を損なうことなく十分なはんだ厚さtを確保することができる。
As a result, the wettability of the
そして、上述のように構成されるリードフレーム30と半導体素子11および封止部材13とを備えるように半導体装置10を構成することで、リード端子31による応力緩和機能を損なうことなく十分なはんだ厚さtを確保し得る効果を奏する半導体装置10を実現することができる。そして、上述のように構成される半導体装置10と、リード端子31の端部がそれぞれはんだ5を介してはんだ接合されるランド4を有するプリント基板3とを備えるように電子装置1を構成することで、リード端子31による応力緩和機能を損なうことなく十分なはんだ厚さtを確保し得る効果を奏する電子装置1を実現することができる。
By configuring the
特に、第2端子部23は、ランド側にはんだ濡れ性を高める表面処理としてはんだめっき27が施されることで、第1端子部側がランド側よりもはんだ濡れ性が低くなるように形成されている。このため、屈曲部25aまではんだ5が濡れ上がることもないので、リードフレーム30による応力緩和機能の低下を確実に抑制することができる。
In particular, the
また、はんだめっき27が施される領域が、リード端子全面に施される従来の構成と比較して狭くなるため、必要なめっき量が削減されるので、はんだめっき27から針状等の金属突起部分が成長するウィスカ発生を好適に抑制することができる。 In addition, since the area where the solder plating 27 is applied becomes narrower than the conventional structure applied to the entire lead terminal, the necessary plating amount is reduced, so that the metal protrusions such as needles are formed from the solder plating 27. The generation of whiskers in which the portion grows can be suitably suppressed.
なお、はんだめっき27は、第2端子部23の内側(図7の左側)のランド側および第3端子部24のランド側(図7の下側)のみに形成されることに限らず、例えば、第2端子部23の長手方向中間部位より下方にのみに形成されてもよい。このようにしても、はんだめっき27が施される高濡れ性領域によりはんだ5の濡れ上がりが抑制される一方で、下地めっき26が露出する低濡れ性領域の位置に応じてはんだ5の濡れ上がり量や濡れ上がる位置を制御することができる。
The solder plating 27 is not limited to being formed only on the land side inside the second terminal portion 23 (left side in FIG. 7) and on the land side (lower side in FIG. 7) of the third
なお、本発明は上記各実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下のように具体化してもよい。
(1)はんだめっき27は、亜鉛(Zn)や錫(Sn)の材料による表面処理により形成されることに限らず、例えば、錫、金、銀、パラジウム、ニッケル等の材料によるめっきなどの表面処理により形成されてもよい。また、高濡れ性領域は、はんだめっき27が施されることで形成されることに限らず、他の表面処理等によりはんだ濡れ性を高めることで形成されてもよい。
In addition, this invention is not limited to said each embodiment, For example, you may actualize as follows.
(1) The solder plating 27 is not limited to being formed by a surface treatment using a material such as zinc (Zn) or tin (Sn). For example, the surface such as plating using a material such as tin, gold, silver, palladium, nickel, etc. It may be formed by processing. Further, the high wettability region is not limited to being formed by applying the solder plating 27, but may be formed by increasing the solder wettability by other surface treatment or the like.
(2)半導体装置10は、半導体素子11の発熱量に応じてヒートシンク12を採用しないように構成されてもよい。
(2) The
(3)本発明の特徴的構成は、QFPのリードフレームに適用されることに限らず、例えば、リード端子が封止部材13の2側面からガルウィング状(略L字状)またはストレート状に取り出される半導体パッケージ(例えば、SOP)のリードフレームや、リード端子が封止部材13の4側面からガルウィング状またはストレート状に取り出される半導体パッケージのリードフレームなど、半導体素子が封止された封止部材から導出される複数のリード端子を備えるリードフレームに適用することができる。
(3) The characteristic configuration of the present invention is not limited to being applied to a QFP lead frame. For example, the lead terminals are taken out from two side surfaces of the sealing
1…電子装置 3…プリント基板(回路基板) 4…ランド 5…はんだ
10…半導体装置 11…半導体素子 13…封止部材
20,30…リードフレーム
21,31…リード端子
22…第1端子部
23…第2端子部
24…第3端子部
25a,25b…屈曲部
27…はんだめっき
28…低濡れ性部材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ...
Claims (7)
前記リード端子の端部(24)が回路基板(3)のランド(4)にはんだ接合されるリードフレーム(20)において、
前記リード端子には、はんだ濡れ性を高める表面処理(27)が施され、
前記表面処理が施された高濡れ性領域のうち当該リード端子の長手方向中間部位は、他の領域よりもはんだ濡れ性を低めた低濡れ性部材(28)により環状に覆われることを特徴とするリードフレーム。 A plurality of lead terminals (21) led out from a sealing member (13) in which a semiconductor element (11) is sealed;
In the lead frame (20) in which the end (24) of the lead terminal is soldered to the land (4) of the circuit board (3),
The lead terminal is subjected to a surface treatment (27) for improving solder wettability,
Of the high wettability region subjected to the surface treatment, an intermediate portion in the longitudinal direction of the lead terminal is annularly covered with a low wettability member (28) having lower solder wettability than other regions. Lead frame.
前記第2端子部の長手方向中間部位が、前記低濡れ性部材により環状に覆われることを特徴とする請求項1に記載のリードフレーム。 The lead terminal is formed such that the first terminal portion (22) on the semiconductor element side and the second terminal portion (23) on the land side are bent and connected,
2. The lead frame according to claim 1, wherein an intermediate portion in the longitudinal direction of the second terminal portion is annularly covered with the low wettability member.
前記リード端子の端部(24)が回路基板(3)のランド(4)にはんだ接合されるリードフレーム(30)において、
前記リード端子は、ランド側にはんだ濡れ性を高める表面処理(27)が施されることで、半導体素子側が前記ランド側よりもはんだ濡れ性が低くなるように形成されることを特徴とするリードフレーム。 A plurality of lead terminals (31) led out from a sealing member (13) in which a semiconductor element (11) is sealed;
In the lead frame (30) in which the end (24) of the lead terminal is soldered to the land (4) of the circuit board (3),
The lead terminal is formed so that a solder treatment on the semiconductor element side is lower than that on the land side by performing a surface treatment (27) for improving the solder wettability on the land side. flame.
前記第2端子部は、ランド側にはんだ濡れ性を高める表面処理が施されることで、第1端子部側が前記ランド側よりもはんだ濡れ性が低くなるように形成されることを特徴とする請求項4に記載のリードフレーム。 The lead terminal is formed such that the first terminal portion (22) on the semiconductor element side and the second terminal portion (23) on the land side are bent and connected,
The second terminal portion is formed so that the solderability on the land side is lower than that on the land side by performing a surface treatment for improving solder wettability on the land side. The lead frame according to claim 4.
前記リードフレームに電気的に接続される半導体素子(11)と、
半導体素子と前記リードフレームの一部とを封止する封止部材(13)と、
を備えることを特徴とする半導体装置(10)。 A lead frame according to any one of claims 1 to 5;
A semiconductor element (11) electrically connected to the lead frame;
A sealing member (13) for sealing the semiconductor element and a part of the lead frame;
A semiconductor device (10) comprising:
前記リード端子の端部(24)がそれぞれはんだ(5)を介してはんだ接合されるランド(4)を有する回路基板(3)と、
を備えることを特徴とする電子装置(1)。 A semiconductor device according to claim 6;
A circuit board (3) having lands (4) to which the end portions (24) of the lead terminals are respectively soldered via solder (5);
An electronic device (1) comprising:
Priority Applications (1)
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JP2014010099A JP2015138898A (en) | 2014-01-23 | 2014-01-23 | Lead frame, semiconductor device and electronic apparatus |
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