JP2015138883A - カルコゲン供給装置、基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】カルコゲン元素の供給量を高い精度で調整することができるカルコゲン供給装置、基板処理装置及び基板処理方法を提供する。【解決手段】カルコゲン供給装置は、カルコゲン元素を含むカルコゲン源を収容する収容管４１と、収容管４１に収容されたカルコゲン源を加熱してカルコゲン元素を含む気体を生成する加熱装置４２と、生成された気体をキャリアガスにのせて供給する供給管４４と、を備える。【選択図】図１１

Description

本発明は、カルコゲン供給装置、基板処理装置及び基板処理方法に関する。

従来、イオウ（Ｓ）、セレン（Ｓｅ）、テルル（Ｔｅ）等のカルコゲン元素を含む気体を所定領域に供給するカルコゲン供給装置が知られている。例えば、特許文献１には、カルコゲン供給装置として、加熱炉内に配置され、カルコゲン元素を含むカルコゲン源を収容するボックスを備え、ボックスに内部から外部に連通する孔部を設けた構成が開示されている。

特開２０１２−４９３５６号公報

特許文献１によれば、ボックスに設けた孔部の大きさ、配置数、形状等を変更することで、カルコゲン元素の供給量を調整することができる。しかし、ボックスに設けた孔部のみでは、カルコゲン元素の供給量を高い精度で調整するにも限界があるという課題があった。

以上のような事情に鑑み、本発明は、カルコゲン元素の供給量を高い精度で調整することができるカルコゲン供給装置、基板処理装置及び基板処理方法を提供することを目的とする。

本発明の第一の態様に係るカルコゲン供給装置は、カルコゲン元素を含むカルコゲン源を収容する収容管と、前記収容管に収容された前記カルコゲン源を加熱して前記カルコゲン元素を含む気体を生成する加熱装置と、生成された前記気体をキャリアガスにのせて供給する供給管と、を備える。

この構成によれば、供給管によりカルコゲン元素を含む気体がキャリアガスにのせて供給されることで、カルコゲン元素を含む気体の供給量を高い精度で調整することができる。よって、カルコゲン元素の供給量を高い精度で調整することができる。

上記のカルコゲン供給装置において、前記気体と前記キャリアガスとを含む混合ガスの温度を調整する第一温度調整部を更に備えてもよい。
この構成によれば、第一温度調整部によって混合ガスの温度が調整されることで、気化物が混合ガスの供給空間に接する部分に付着するのを抑制することができる。これにより、混合ガスの供給空間を清浄な状態に維持することができる。

上記のカルコゲン供給装置において、前記第一温度調整部は、前記供給管の温度を調整してもよい。
この構成によれば、第一温度調整部によって供給管の温度が調整されることで、気化物が供給管に付着するのを抑制することができる。これにより、供給管を清浄な状態に維持することができる。

上記のカルコゲン供給装置において、前記供給管にはバルブが設けられ、前記第一温度調整部は、前記バルブの温度を調整してもよい。
この構成によれば、第一温度調整部によってバルブの温度が調整されることで、気化物がバルブに付着するのを抑制することができる。これにより、バルブを清浄な状態に維持することができる。

上記のカルコゲン供給装置において、前記供給管には、前記供給管を流れる前記キャリアガスの流量を調整する流量調整部が設けられてもよい。
この構成によれば、流量調整部によってキャリアガスの流量が調整されることで、カルコゲン元素を含む気体の供給量を高い精度で調整することができる。例えば、キャリアガスの流量を大きくしてキャリアガスにのせて運ぶことでカルコゲン元素を含む気体を多量に供給することができ、一方で、キャリアガスの流量を小さくしてキャリアガスにのせて運ぶことでカルコゲン元素を含む気体を少しずつ供給することができる。よって、カルコゲン元素の供給量を高い精度で調整することができる。

上記のカルコゲン供給装置において、前記収容管を傾動可能に支持する支持部と、前記供給管と前記収容管とを着脱自在に固定する固定部と、を更に備えてもよい。
この構成によれば、支持部及び固定部の操作により、収容管を傾動させて収容管を供給管から離脱させることで、供給管をカルコゲン供給装置から取り外すことなく、カルコゲン供給装置に取り付けたままで、収容管にカルコゲン源を収容することができる。よって、カルコゲン源の収容が容易となる。

本発明の第二の態様に係る基板処理装置は、基板を収容可能なチャンバーと、前記チャンバーに収容された前記基板に対して、金属を含む塗布膜の形成に関する所定の処理を行う処理部と、カルコゲン元素を含む気体をキャリアガスにのせて前記チャンバーに供給するカルコゲン供給装置と、を備え、前記カルコゲン供給装置は、請求項１から６のうちいずれか一項に記載のカルコゲン供給装置である。
この構成によれば、上記のカルコゲン供給装置を備えるため、チャンバーに供給するカルコゲン元素の供給量を高い精度で調整することができる。

上記の基板処理装置において、前記チャンバーの温度を調整する第二温度調整部を更に備えてもよい。
この構成によれば、第二温度調整部によってチャンバーの温度が調整されることで、気化物がチャンバーに付着するのを抑制することができる。これにより、チャンバーを清浄な状態に維持することができる。

上記の基板処理装置において、前記チャンバーには、前記チャンバーの内部の前記気体と前記キャリアガスとを含む混合ガスを排出する排気管が接続され、前記排気管には、前記カルコゲン元素を捕捉する捕捉部が設けられてもよい。
この構成によれば、捕捉部により、混合ガスを排気する過程でカルコゲン元素を捕捉することができる。

上記の基板処理装置において、前記所定の処理は、前記金属及び溶媒を含む液状体を前記基板に塗布する塗布処理、及び、前記液状体が塗布された前記基板を加熱する加熱処理のうち少なくとも一方の処理を含んでもよい。
この構成によれば、処理部が塗布処理及び加熱処理の少なくとも一方を行う構成において、チャンバーに供給するカルコゲン元素の供給量を高い精度で調整することができる。

本発明の第三の態様に係る基板処理方法は、基板をチャンバーに収容する収容ステップと、前記チャンバーに収容された前記基板に対して、金属を含む塗布膜の形成に関する所定の処理を行う処理ステップと、収容管に収容されたカルコゲン元素を含むカルコゲン源を加熱することにより生成された前記カルコゲン元素を含む気体をキャリアガスにのせて前記チャンバーに供給する供給ステップと、を含む。
この方法によれば、供給ステップにおいてカルコゲン元素を含む気体がキャリアガスにのせて供給されることで、カルコゲン元素を含む気体の供給量を高い精度で調整することができる。

上記の基板処理方法において、前記チャンバーの温度を調整する温度調整ステップを更に含んでもよい。
この方法によれば、温度調整ステップにおいてチャンバーの温度が調整されることで、気化物がチャンバーに付着するのを抑制することができる。これにより、チャンバーを清浄な状態に維持することができる。

上記の基板処理方法において、前記チャンバーの内部の前記気体と前記キャリアガスとを含む混合ガスを排出する排気ステップを更に含み、前記排気ステップは、前記カルコゲン元素を捕捉する捕捉ステップを含んでもよい。
この方法によれば、捕捉ステップにおいて、混合ガスを排気する過程でカルコゲン元素を捕捉することができる。

上記の基板処理方法において、前記所定の処理は、前記金属及び溶媒を含む液状体を前記基板に塗布する塗布処理、及び、前記液状体が塗布された前記基板を加熱する加熱処理のうち少なくとも一方の処理を含んでもよい。
この方法によれば、処理ステップが塗布処理及び加熱処理の少なくとも一方を行う方法において、チャンバーに供給するカルコゲン元素の供給量を高い精度で調整することができる。

本発明によれば、カルコゲン元素の供給量を高い精度で調整することができるカルコゲン供給装置、基板処理装置及び基板処理方法を提供することができる。

本発明の一実施形態に係る基板処理装置を示す平面図である。 本実施形態に係る基板処理装置を示す側面図である。 本実施形態に係るチャンバーを示す平面図である。 図３のＡ−Ａ断面図である。 本実施形態に係るチャンバーの上部温度調整部を示す図である。 本実施形態に係るチャンバーの側部温度調整部を示す図である。 本実施形態に係るカルコゲン供給装置を示す平面図である。 本実施形態に係るカルコゲン供給装置を示す正面図である。 本実施形態に係るカルコゲン供給装置を示す側面図である。 本実施形態に係るカルコゲン供給装置の配管図である。 本実施形態に係るカルコゲン供給装置を構成する一つのカルコゲン供給部を示す正面図である。 本実施形態に係るカルコゲン供給部の傾動動作を示す側面図である。 本実施形態に係る搬送装置を示す平面図である。 本実施形態に係る搬送装置を示す側面図である。 本実施形態に係る捕捉装置を示す側面図である。 図１５のＢ−Ｂ断面図である。

以下、図面を参照して、本発明の一実施形態を説明する。
図１は、本実施形態に係る基板処理装置１を示す平面図である。図２は、本実施形態に係る基板処理装置１を示す側面図である。
図１及び図２に示すように、基板処理装置１は、基板Ｓ（図４参照）を収容可能なチャンバー２と、チャンバー２に収容された基板Ｓに対して、金属を含む塗布膜の形成に関する所定の処理を行う処理部（図４に示す加熱部２７）と、カルコゲン元素を含む気体をキャリアガスにのせてチャンバー２に供給するカルコゲン供給装置３と、を備える。

前記所定の処理は、処理室２０ｓに設けられた加熱部２７により、処理室２０ｓに収容された基板Ｓに対して行われる加熱処理である。
尚、前記所定の処理は加熱処理に限らない。前記所定の処理は、金属及び溶媒を含む液状体を基板Ｓに塗布する塗布処理、及び、液状体が塗布された基板Ｓを加熱する加熱処理のうち少なくとも一方の処理を含んでいればよい。

基板処理装置１は、シャッター４、搬送装置５、捕捉装置６、筐体７、架台８、支持部材９及び制御装置１０をさらに備える。
シャッター４は、チャンバー２の基板導入口（図４に示す開口部２６ａ）を開閉する。搬送装置５は、基板Ｓを搬送する。捕捉装置６は、チャンバー２の内部の気体とキャリアガスとを含む混合ガスを排出する。筐体７は、チャンバー２、カルコゲン供給装置３、シャッター４、搬送装置５及び捕捉装置６の上方及び側方を覆う。筐体７を構成する上部壁部及び側部壁部のそれぞれは、開閉可能とされる。架台８は、チャンバー２、カルコゲン供給装置３、シャッター４、搬送装置５及び捕捉装置６を上部で支持する。支持部材９は、架台８の下部に取り付けられ、装置全体を支持する。制御装置１０は、チャンバー２、カルコゲン供給装置３、シャッター４、搬送装置５及び捕捉装置６を統括制御する。

基板処理装置１は、例えば工場などの床面ＦＬに載置されて用いられる。基板処理装置１の各構成要素（チャンバー２、カルコゲン供給装置３、シャッター４、搬送装置５及び捕捉装置６）は、一つの収容室（筐体７）にされる構成であってもよいし、複数の収容室（不図示）に分けて収容される構成であってもよい。基板処理装置１は、搬送装置５、シャッター４、チャンバー２及びカルコゲン供給装置３がこの順で一方向に並んで配置され、捕捉装置６がチャンバー２の側方に配置されている。

尚、各構成要素は、上記配置に限られることは無く、不図示のロボットを中心として上下に積層したり、左右に並べたりする配置であってもよい。

以下の各図において、本実施形態に係る基板処理装置１の構成を説明するにあたり、表記の簡単のため、ＸＹＺ座標系を用いて図中の方向を説明する。当該ＸＹＺ座標系においては、床面に平行な平面をＸＹ平面とする。このＸＹ平面において基板処理装置１の各構成要素（搬送装置５、シャッター４、チャンバー２及びカルコゲン供給装置３）が並べられた方向をＸ方向と表記し、ＸＹ平面上でＸ方向に直交する方向をＹ方向と表記する。ＸＹ平面に垂直な方向はＺ方向と表記する。Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向のそれぞれは、図中の矢印の方向が＋方向であり、矢印の方向とは反対の方向が−方向であるものとして説明する。

本実施形態では、基板Ｓとして、例えばガラスや樹脂などからなる板状部材を用いている。本実施形態では更に、基板Ｓ上に裏面電極としてスパッタにてモリブデンを形成している。勿論、裏面電極として、他の導電性物質を用いる構成としても構わない。基板Ｓとして、Ｚ方向視における寸法が７０ｍｍ×７０ｍｍの基板を例に挙げて説明する。尚、基板Ｓの寸法については、上記寸法の基板に限られることは無い。上記寸法よりも大きい寸法の基板や小さい寸法の基板を適宜用いることができる。

本実施形態では、液状体が塗布された基板Ｓがチャンバー２に導入される。基板Ｓに塗布する液状体としては、例えば所定の溶媒に、銅（Ｃｕ）、インジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）、セレン（Ｓｅ）または銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、スズ（Ｓｎ）、セレン（Ｓｅ）といった金属を含有する液状組成物を用いている。この液状組成物は、ＣＩＧＳまたはＣＺＴＳ型太陽電池の光吸収層（光電変換層）を構成する金属材料を含んでいる。

本実施形態では、この液状組成物は、ＣＩＧＳまたはＣＺＴＳ太陽電池の光吸収層のグレインサイズを確保するための物質を含んでいる。勿論、液状体として、他の金属、例えば金属ナノ粒子を分散させた液状体を用いる構成としても構わない。

（チャンバー）
図３は、本実施形態に係るチャンバー２を示す平面図である。図４は、図３のＡ−Ａ断面図である。
図３及び図４に示すように、チャンバー２は、チャンバー本体２０、気体供給部２０ａ、排気部２０ｂ、第一供給部２１、第一排出部２２、第二供給部２３ａ，２３ｂ、第二排出部２４ａ，２４ｂ、支持部２５ａ〜２５ｃ、接続部２６及び加熱部２７を備える。

チャンバー本体２０は、円柱状の外形を有する。チャンバー本体２０の内部には、処理室２０ｓが形成される。加熱部２７は、処理室２０ｓの下部に設けられる。加熱部２７は、処理室２０ｓに収容された基板Ｓに対して加熱処理を行う。加熱部２７としては、例えばホットプレートが用いられる。加熱部２７の温度は、例えば室温〜６００℃程度に調整可能である。加熱部２７を用いることにより、基板Ｓ上の液状体に含まれる溶媒の蒸発を促進させ、乾燥処理を行う。

加熱部２７は、昇降機構２７ａに接続される。昇降機構２７ａは、加熱部２７をＺ方向に移動させる。昇降機構２７ａとしては、例えばモーター機構やエアシリンダ機構等が用いられる。昇降機構２７ａにより加熱部２７をＺ方向に移動させることにより、加熱部２７と基板Ｓとの間隔を調整できるようになっている。昇降機構２７ａによる加熱部２７の移動量や移動のタイミング等は、制御装置１０（図１参照）によって制御される。
尚、チャンバー２には、昇降機構２７ａが設けられていなくてもよい。

気体供給部２０ａは、チャンバー本体２０の＋Ｘ方向側の側部中央に設けられる。気体供給部２０ａは、不図示の配管を介して、カルコゲン供給装置３（図１参照）に接続される。これにより、気体供給部２０ａを通じて、処理室２０ｓにカルコゲン元素を含む気体がキャリアガスと共に供給されるようになっている。

尚、気体供給部２０ａの配置位置はこれに限らず、例えば、気体供給部２０ａはチャンバー本体２０の上部に設けられていてもよい。この場合、カルコゲン元素を含む気体が、キャリアガスと共にチャンバー２の上部から供給され、基板導入方向（Ｘ方向）と直交する方向で基板Ｓの上部に向けて流れる。

排気部２０ｂは、チャンバー本体２０の底部に設けられる。排気部２０ｂは、不図示の配管を介して、捕捉装置６（図１参照）に接続される。これにより、排気部２０ｂを通じて、処理室２０ｓの気体とキャリアガスとを含む混合ガスが排出されるようになっている。

尚、排気部２０ｂの配置位置はこれに限らず、例えば、排気部２０ｂはチャンバー本体２０の上部に設けられていてもよい。この場合、排気部２０ｂが気体供給部２０ａ及び基板Ｓのそれぞれと対向した状態で、処理室２０ｓの気体とキャリアガスとを含む混合ガスが排出される。

第一供給部２１は、チャンバー本体２０の上部中央に設けられる。第一供給部２１には、不図示の配管を介して、チャンバー２の温度調整用のオイル（以下、単にオイルと称することがある。）が供給される。オイルの温度は、不図示のヒーターにより、調整可能である。例えば、オイルの温度は、２００℃〜２５０℃になるように調整される。

尚、チャンバー本体２０の上部には、チャンバー２内の前記ヒーターを冷却させるために、冷却用の窒素を供給する窒素供給部が設けられていてもよい。また、気体供給部２０ａが前記窒素供給部の機能をも有していてもよい。これにより、冷却用の窒素をチャンバー２の上部から供給すると共に排気部２０ｂから排出することにより、前記ヒーターの温度を下げることができる。

第一排出部２２は、チャンバー本体２０の上部において＋Ｘ方向側の側部寄りに設けられる。第一排出部２２からは、不図示の配管を介して、オイルが排出される。

第二供給部２３ａ，２３ｂは、それぞれチャンバー本体２０の底部において−Ｘ方向側の側部寄りに設けられる。一方の第二供給部２３ａはチャンバー本体２０の＋Ｙ方向側に設けられ、他方の第二供給部２３ｂはチャンバー本体２０の−Ｙ方向側に設けられる。第二供給部２３ａ，２３ｂには、不図示の配管を介して、オイルが供給される。

第二排出部２４ａ，２４ｂは、それぞれチャンバー本体２０の＋Ｘ方向側の側部に気体供給部２０ａを挟んで設けられる。一方の第二排出部２４ａは＋Ｙ方向側に設けられ、他方の第二排出部２４ｂは−Ｙ方向側に設けられる。第二排出部２４ａ，２４ｂからは、不図示の配管を介して、オイルが排出される。

支持部２５ａ〜２５ｃは、それぞれチャンバー本体２０の側部下部に設けられる。第一支持部２５ａはチャンバー本体２０の＋Ｘ方向側に設けられ、第二支持部２５ｂはチャンバー本体２０の＋Ｙ方向側であって−Ｘ方向寄りに設けられ、第三支持部２５ｃはチャンバー本体２０の−Ｙ方向側であって−Ｘ方向寄りに設けられる。支持部２５ａ〜２５ｃは、それぞれチャンバー本体２０の周方向に等間隔に設けられる。支持部２５ａ〜２５ｃには、それぞれ上下に開口する挿通孔が形成され、これらの挿通孔を介して、第一架台（図１参照）に支持固定されるようになっている。

接続部２６は、チャンバー本体２０の−Ｘ方向側の側部に設けられる。接続部２６は、シャッター４（図１参照）に接続される。接続部２６には、処理室２０ｓとチャンバー２の外部とを連通する開口部２６ａが形成される。開口部２６ａは、基板Ｓが通過可能な寸法に形成される。基板Ｓは、開口部２６ａを介してチャンバー２に出し入れされる。

図５は、本実施形態に係るチャンバー２の上部温度調整部２８を示す図である。図６は、本実施形態に係るチャンバー２の側部温度調整部２９を示す図である。
図５及び図６に示すように、チャンバー２は、チャンバー２の温度を調整する上部温度調整部２８及び側部温度調整部２９（いずれも第二温度調整部）をさらに備える。

上部温度調整部２８は、チャンバー本体２０の上部に設けられる。上部温度調整部２８には、チャンバー本体２０の上部内壁２０ｋを仕切る上部仕切り壁２８ａ〜２８ｃが設けられる。上部仕切り壁２８ａ〜２８ｃは、平面視円弧状である。上部仕切り壁２８ａ〜２８ｃは、チャンバー本体２０の中央から外側に向けて上記した順に設けられる。

第一上部仕切り壁２８ａは、−Ｘ方向側に開口する第一開口部２８ｈ１を有する。第一上部仕切り壁２８ａは、第一供給部２１の開口径よりも大きい内径を有する。
第二上部仕切り壁２８ｂは、＋Ｘ方向側に開口する第二開口部２８ｈ２を有する。第二上部仕切り壁２８ｂは、第一上部仕切り壁２８ａの外径よりも大きい内径を有する。
第三上部仕切り壁２８ｃは、−Ｘ方向側に開口する第三開口部２８ｈ３を有する。第三上部仕切り壁２８ｃは、第二上部仕切り壁２８ｂの外径よりも大きい内径を有すると共に、チャンバー本体２０の内径よりも小さい外径を有する。
これにより、チャンバー本体２０の上部内壁２０ｋと上部仕切り壁２８ａ〜２８ｃとによって仕切られた空間にオイルが流動可能になっている。

図５に示すように、第一供給部２１から供給されるオイルは、第一上部仕切り壁２８ａの内部を通り、第一開口部２８ｈ１を介して、第二上部仕切り壁２８ｂの内部に回り込み、第二開口部２８ｈ２を介して、第三上部仕切り壁２８ｃの内部に回り込み、第三開口部２８ｈ３を介して、チャンバー本体２０の上部内壁２０ｋの内部に回り込み、第一排出部２２から排出される。上部温度調整部２８におけるオイルの温度や流速等は、制御装置１０（図１参照）によって制御される。これにより、チャンバー本体２０の上部が所望の温度に調整される。

また、第一供給部２１が平面視でチャンバー本体２０の中央に設けられると共に第一排出部２２がチャンバー本体２０の＋Ｘ方向側の側部寄りに設けられ、さらに第一開口部２８ｈ１が−Ｘ方向側、第二開口部２８ｈ２が＋Ｘ方向側、第三開口部２８ｈ３が−Ｘ方向側にそれぞれ配置されることで、上部温度調整部２８におけるオイルの流路を長くすることができる。これにより、チャンバー本体２０の上部の温度を効率よく調整することができる。

図６に示すように、側部温度調整部２９は、チャンバー本体２０の側部に設けられる。側部温度調整部２９には、チャンバー本体２０の側部内壁２０ｍを仕切る側部仕切り壁２９ａ〜２９ｃが設けられる。側部仕切り壁２９ａ〜２９ｃは、側面視直線状である。図示はしないが、側部仕切り壁２９ａ〜２９ｃは、チャンバー本体２０の側部外周に沿う平面視円弧状である。側部仕切り壁２９ａ、２９ｂは、チャンバー本体２０の底部から上部に向けて上記した順に設けられる。側部仕切り壁２９ｃは、チャンバー本体２０と第二排出部２４ａ，２４ｂとの境界部分に設けられる。

第一側部仕切り壁２９ａは、＋Ｘ方向側に開口する第一開口部２９ｈ１を有する。第二側部仕切り壁２９ｂは、−Ｘ方向側に開口する第二開口部２９ｈ２を有する。第三側部仕切り壁２９ｃは、＋Ｚ方向側に開口する第三開口部２９ｈ３を有する。
これにより、チャンバー本体２０の側部内壁２０ｍと側部仕切り壁２９ａ〜２９ｃとによって仕切られた空間にオイルが流動可能になっている。

第二供給部２３ａ，２３ｂから供給されるオイルは、第一側部仕切り壁２９ａに沿って＋Ｘ方向に進み、第一開口部２９ｈ１を通り、第一側部仕切り壁２９ａと第二側部仕切り壁２９ｂとで挟まれた経路に沿って−Ｘ方向に進み、第二開口部２９ｈ２を通り、第二側部仕切り壁２９ｂに沿って＋Ｘ方向に進み、第三開口部２９ｈ３を通り、第三側部仕切り壁２９ｃに沿って−Ｚ方向に進み、第二排出部２４ａ，２４ｂから排出される。側部温度調整部２９におけるオイルの温度や流速等は、制御装置１０（図１参照）によって制御される。これにより、チャンバー本体２０の側部が所望の温度に調整される。

また、第二供給部２３ａ，２３ｂがそれぞれチャンバー本体２０の−Ｘ方向側の側部寄りに設けられると共に第二排出部２４ａ，２４ｂがそれぞれチャンバー本体２０の＋Ｘ方向側の側部に設けられ、さらに第一開口部２９ｈ１が＋Ｘ方向側、第二開口部２９ｈ２が−Ｘ方向側、第三開口部２９ｈ３が＋Ｘ方向側にそれぞれ配置されることで、側部温度調整部２９におけるオイルの流路を長くすることができる。これにより、チャンバー本体２０の側部の温度を効率よく調整することができる。

（カルコゲン供給装置）
図７は、本実施形態に係るカルコゲン供給装置３を示す平面図である。図８は、本実施形態に係るカルコゲン供給装置３を示す正面図である。図９は、本実施形態に係るカルコゲン供給装置３を示す側面図である。
図７〜図９に示すように、カルコゲン供給装置３は、筐体３０、気体供給部３１、第一支持フレーム３２、第二支持フレーム３３、第一配管収容部３４、第二配管収容部３５、配管温度調整部３６及び複数（例えば本実施形態では４つ）のカルコゲン供給部４０Ａ〜４０Ｄを備える。

筐体３０は、天板３０ａ、底板３０ｂ、第一側壁３０ｃ、第二側壁３０ｄ、第三側壁３０ｅ及び第四側壁３０ｆを備える。天板３０ａは、Ｙ方向中央で上方に突出すると共に、Ｘ方向において傾斜部と水平部とを有して形成される。第一側壁３０ｃは、カルコゲン供給装置３の＋Ｘ方向側の端部における天板３０ａと底板３０ｂとの間に設けられる。第二側壁３０ｄは、カルコゲン供給装置３の−Ｘ方向側の端部における天板３０ａと底板３０ｂとの間に設けられる。第三側壁３０ｅは、カルコゲン供給装置３の＋Ｙ方向側の端部における天板３０ａと底板３０ｂとの間に設けられる。第四側壁３０ｆは、カルコゲン供給装置３の−Ｙ方向側の端部における天板３０ａと底板３０ｂとの間に設けられる。

気体供給部３１は、第二側壁３０ｄのＹ方向中央から−Ｙ方向寄りであってＺ方向中央部に設けられる。気体供給部３１は、不図示の配管を介して、チャンバー２（図１参照）に接続される。これにより、気体供給部３１を通じて、カルコゲン供給装置３から処理室２０ｓ（図４参照）に、カルコゲン元素を含む気体がキャリアガスと共に供給されるようになっている。

筐体３０の内部には、収容室３０ｓが形成される。収容室３０ｓは、第一支持フレーム３２、第二支持フレーム３３、第一配管収容部３４、第二配管収容部３５、配管温度調整部３６及び４つのカルコゲン供給部４０Ａ〜４０Ｄを収容する。

第一支持フレーム３２は、収容室３０ｓの中央においてＹ方向に延びる。第一支持フレーム３２は、４つのカルコゲン供給部４０Ａ〜４０Ｄの上部を支持する。
第二支持フレーム３３は、第一支持フレーム３２の下部から下方に延びる。第二支持フレーム３３は、４つのカルコゲン供給部４０Ａ〜４０Ｄの下部を支持する。

配管温度調整部３６は、収容室３０ｓの−Ｘ方向側であってＺ方向中央部においてＹ方向に延びる。配管温度調整部３６は、４つのカルコゲン供給部４０Ａ〜４０Ｄと気体供給部３１との間で引き回される配管（図７に示す一点鎖線）の温度を調整する。配管温度調整部３６には、例えばヒーター（図示略）が設けられる。例えば、前記配管の温度は、配管温度調整部３６により、カルコゲン元素を含む気体とキャリアガスとを含む混合ガスの温度が２００℃〜２５０℃になるように調整される。

第一配管収容部３４は、第三側壁３０ｅの内壁に設けられる。第一配管収容部３４は、配管や配線等を収容すると共に、第一支持フレーム３２の＋Ｙ方向側の端部及び配管温度調整部３６の＋Ｙ方向側の端部を支持する。
第二配管収容部３５は、第四側壁３０ｆの内壁に設けられる。第二配管収容部３５は、配管や配線等を収容すると共に、第一支持フレーム３２の−Ｙ方向側の端部及び配管温度調整部３６の−Ｙ方向側の端部を支持する。

４つのカルコゲン供給部４０Ａ〜４０Ｄは、収容室３０ｓの中央部に、Ｙ方向に並んで設けられる。第一カルコゲン供給部４０Ａ、第二カルコゲン供給部４０Ｂ、第三カルコゲン供給部４０Ｃ及び第四カルコゲン供給部４０Ｄは、−Ｙ方向に向けて、上記した順に配置される。

図１０は、本実施形態に係るカルコゲン供給装置３の配管図である。
図１０に示すように、供給管４４は、キャリアガス供給ラインＬｃ、複数（例えば本実施形態では４つ）の混合ガス供給ラインＬｋ１〜Ｌｋ４、予備ラインＬｙ及び合流ラインＬｇを有する。

キャリアガス供給ラインＬｃは、供給管４４の始点Ｐｓから分岐点Ｐ１まで延びる。キャリアガス供給ラインＬｃからはキャリアガスが供給される。キャリアガスとしては、例えば不活性ガス、具体的には窒素、アルゴン等が用いられる。

キャリアガス供給ラインＬｃは、分岐点Ｐ１において複数（例えば本実施形態では５つ）のライン（第一キャリアガス供給ラインＬｃ１、第二キャリアガス供給ラインＬｃ２、第三キャリアガス供給ラインＬｃ３、第四キャリアガス供給ラインＬｃ４及び予備ラインＬｙ）に分岐する。

第一キャリアガス供給ラインＬｃ１は、分岐点Ｐ１から合流点Ｐ２ａまで延びる。第二キャリアガス供給ラインＬｃ２は、分岐点Ｐ１から合流点Ｐ２ｂまで延びる。第三キャリアガス供給ラインＬｃ３は、分岐点Ｐ１から合流点Ｐ２ｃまで延びる。第四キャリアガス供給ラインＬｃ４は、分岐点Ｐ１から合流点Ｐ２ｄまで延びる。
尚、合流点Ｐ２ａ〜Ｐ２ｄは、キャリアガス供給ラインの下流端、混合ガス供給ラインの上流端及び接続管４３（図１１参照）の下流端が合流する部分である。

第一混合ガス供給ラインＬｋ１は、合流点Ｐ２ａから合流点Ｐｅまで延びる。第二混合ガス供給ラインＬｋ２は、合流点Ｐ２ｂから合流点Ｐｅまで延びる。第三混合ガス供給ラインＬｋ３は、合流点Ｐ２ｃから合流点Ｐｅまで延びる。第四混合ガス供給ラインＬｋ４は、合流点Ｐ２ｄから合流点Ｐｅまで延びる。予備ラインＬｙは、分岐点Ｐ１から合流点Ｐｅまで延びる。
尚、合流点Ｐｅは、混合ガス供給ラインの下流端及び予備ラインの下流端が合流する部分である。

第一キャリアガス供給ラインＬｃ１、第二キャリアガス供給ラインＬｃ２、第三キャリアガス供給ラインＬｃ３、第四キャリアガス供給ラインＬｃ４及び予備ラインＬｙのそれぞれには、流量調整部４６ａ〜４６ｅ及び逆止弁３８ａ〜３８ｅがそれぞれ設けられる。流量調整部４６ａ〜４６ｅ及び逆止弁３８ａ〜３８ｅは、第一キャリアガス供給ラインＬｃ１、第二キャリアガス供給ラインＬｃ２、第三キャリアガス供給ラインＬｃ３、第四キャリアガス供給ラインＬｃ４及び予備ラインＬｙのそれぞれの下流側に向けて上記した順に設けられる。流量調整部４６ａ〜４６ｅは、供給管４４を流れるキャリアガスの流量を調整する。逆止弁３８ａ〜３８ｅは、供給管４４の下流側に流れるキャリアガス等の気体が上流側に逆流するのを止める。

混合ガス供給ラインＬｋ１〜Ｌｋ４は、カルコゲン元素を含む気体をキャリアガスにのせて混合ガスとして供給する。キャリアガス供給ラインＬｃ１〜Ｌｃ４と混合ガス供給ラインＬｋ１〜Ｌｋ４との境界部分には、カルコゲン供給部４０Ａ〜４０Ｄがそれぞれ設けられる。
予備ラインＬｙには、カルコゲン供給部が設けられていない。予備ラインＬｙは、必要に応じて適宜カルコゲン供給部が設けられるラインである。

合流ラインＬｇは、合流点Ｐｅからチャンバー２の気体供給部２０ａ（図３参照）まで延びる。合流ラインＬｇは、４つの混合ガス供給ラインＬｋ１〜Ｌｋ４から供給される混合ガスをチャンバー２に供給する。

４つのキャリアガス供給ラインＬｃ１〜Ｌｃ４にそれぞれ流量調整部４６ａ〜４６ｄが設けられることにより、各キャリアガス供給ラインＬｃ１〜Ｌｃ４においてそれぞれカルコゲン供給部４０Ａ〜４０Ｄに供給されるキャリアガスの流量を調整すると共に、合流ラインＬｇにおいて供給される混合ガスの流量を高い精度で調整することができる。

（カルコゲン供給部）
図１１は、本実施形態に係るカルコゲン供給装置３を構成する一つのカルコゲン供給部を示す正面図である。図１２は、本実施形態に係るカルコゲン供給部の傾動動作を示す側面図である。尚、図１１及び図１２においては、便宜上、４つのカルコゲン供給部４０Ａ〜４０Ｄのうち第一カルコゲン供給部４０Ａを挙げて説明する。他のカルコゲン供給部４０Ｂ〜４０Ｄについては、第一カルコゲン供給部４０Ａと同様の構成であるため、詳細な説明は省略する。

図１１及び図１２に示すように、第一カルコゲン供給部４０Ａは、収容管４１、加熱装置４２、接続管４３、供給管４４、キャリアガス温度調整部４５ａ、混合ガス温度調整部４５ｂ（第一温度調整部）、接続部温度調整部４５ｃ、バルブ４７ａ，４７ｂ、支持部４８及び固定部４９を備える。

収容管４１は、カルコゲン元素を含むカルコゲン源４１ｋを収容する。カルコゲン源４１ｋとしては、例えば硫黄、セレン等の単体を含む固体が用いられる。収容管４１は、上部に開口が形成された円筒状の容器である。収容管４１としては、例えば石英ガラス管が用いられる。収容管４１の内径は、カルコゲン源４１ｋを収容可能な大きさとなっている。

加熱装置４２は、収容管４１に収容されたカルコゲン源４１ｋを加熱してカルコゲン元素を含む気体を生成する。加熱装置４２は、収容管４１の下部側方を囲むように設けられる。加熱装置４２の温度は、例えば室温〜６００℃程度に調整可能である。加熱装置４２としては、例えば電熱線等が用いられる。

接続管４３は、収容管４１の上部と供給管４４とを接続する。具体的に、接続管４３は、収容管４１の上部と、第一キャリアガス供給ラインＬｃ１の下流端と、第一混合ガス供給ラインＬｋ１の上流端と、を接続する。収容管４１の上部は、接続管４３に取り外し可能に接続される。収容管４１の上部と接続管４３の下部とは、固定部４９により気密性よく接続固定される。
第一混合ガス供給ラインＬｋ１は、収容管４１の内部で生成されたカルコゲン元素を含む気体を、第一キャリアガス供給ラインＬｃ１から供給されるキャリアガスにのせて供給する。

バルブ４７ａ，４７ｂは、それぞれ供給管４４に設けられる。
第一バルブ４７ａは、第一キャリアガス供給ラインＬｃ１において接続管４３との接続部寄りに設けられる。第一バルブ４７ａは、第一キャリアガス供給ラインＬｃ１を流れるキャリアガスの流量を調整する。
第二バルブ４７ｂは、第一混合ガス供給ラインＬｋ１において接続管４３との接続部寄りに設けられる。第二バルブ４７ｂは、第一混合ガス供給ラインＬｋ１を流れる混合ガスの流量を調整する。
バルブ４７ａ，４７ｂの開度や開閉タイミング等は、制御装置１０（図１参照）によって制御される。

キャリアガス温度調整部４５ａは、第一バルブ４７ａと第一キャリアガス供給ラインＬｃ１との接続部を囲むように設けられる。キャリアガス温度調整部４５ａは、第一キャリアガス供給ラインＬｃ１を流れるキャリアガスの温度を調整すると共に、第一バルブ４７ａの温度を調整する。キャリアガス温度調整部４５ａには、例えば電熱線等の加熱装置（図示略）が設けられる。例えば、第一キャリアガス供給ラインＬｃ１及び第一バルブ４７ａの温度は、キャリアガス温度調整部４５ａにより、キャリアガスの温度が２００℃〜２５０℃になるように調整される。

混合ガス温度調整部４５ｂは、第二バルブ４７ｂと第一混合ガス供給ラインＬｋ１との接続部を囲むように設けられる。混合ガス温度調整部４５ｂは、第一混合ガス供給ラインＬｋ１を流れる混合ガスの温度を調整すると共に、第二バルブ４７ｂの温度を調整する。混合ガス温度調整部４５ｂには、例えば電熱線等の加熱装置（図示略）が設けられる。例えば、第一混合ガス供給ラインＬｋ１及び第二バルブ４７ｂの温度は、混合ガス温度調整部４５ｂにより、混合ガスの温度が２００℃〜２５０℃になるように調整される。

接続部温度調整部４５ｃは、第一キャリアガス供給ラインＬｃ１の下流端と、第一混合ガス供給ラインＬｋ１の上流端と、接続管４３と、の接続部を囲むように設けられる。接続部温度調整部４５ｃは、第一キャリアガス供給ラインＬｃ１において接続管４３との接続部寄りを流れるキャリアガスの温度を調整すると共に、第一混合ガス供給ラインＬｋ１において接続管４３との接続部寄りを流れる混合ガスの温度を調整し、さらに接続管４３の上部を流れるカルコゲン元素を含む気体の温度を調整する。接続部温度調整部４５ｃには、例えばヒーター（図示略）が設けられる。例えば、前記接続部の温度は、接続部温度調整部４５ｃにより、第一キャリアガス供給ラインＬｃ１において接続管４３との接続部寄りを流れるキャリアガス、第一混合ガス供給ラインＬｋ１において接続管４３との接続部寄りを流れる混合ガス及び接続管４３の上部を流れるカルコゲン元素を含む気体のそれぞれの温度が２００℃〜２５０℃になるように調整される。

キャリアガス温度調整部４５ａ、混合ガス温度調整部４５ｂ及び接続部温度調整部４５ｃがそれぞれ供給管４４に配置され、且つ、加熱装置４２が収容管４１の下部側方に配置されるため、収容管４１又は接続管４３の長さを長くすることにより、キャリアガス温度調整部４５ａ、混合ガス温度調整部４５ｂ及び接続部温度調整部４５ｃのそれぞれを加熱装置４２から遠ざけることができる。これにより、加熱装置４２の温度を高温（例えば５００℃程度）に設定しても、加熱装置４２の温度の影響をほとんど受けることなく、キャリアガス温度調整部４５ａ、混合ガス温度調整部４５ｂ及び接続部温度調整部４５ｃのそれぞれによる温度調整を高精度で行うことができる。

支持部４８は、収容管４１を傾動可能に支持する。支持部４８は、容器４８ａ、接続部材４８ｂ、支持部材４８ｃ及び支持軸４８ｄを備える。
容器４８ａは、上部に開口が形成された円筒状の容器である。容器４８ａには、収容管４１の下部及び加熱装置４２が収容される。

接続部材４８ｂは、収容管４１の上部と容器４８ａとを接続する。収容管４１の上部は、接続部材４８ｂに取り外し可能に接続される。収容管４１の上部と容器４８ａとは、接続部材４８ｂにより気密性よく接続固定される。
支持部材４８ｃの上部は、第二支持フレーム３３の下部に支持固定される。支持部材４８ｃのＹ方向側部には、Ｙ方向に貫通する挿通孔４８ｈが形成される。

支持軸４８ｄは、収容管４１を挟んでＹ方向に一対設けられる。支持軸４８ｄの収容管４１側の端部は容器４８ａに固定される。支持軸４８ｄの収容管４１とは反対側の端部は挿通孔４８ｈに挿通される。これにより、容器４８ａは、支持軸４８ｄを中心として、収容管４１及び加熱装置４２を収容した状態で傾動可能とされる。

固定部４９は、供給管４４に接続された接続管４３と収容管４１とを着脱自在に固定する。固定部４９は、第一クランプ４９ａ、第二クランプ４９ｂ及びクランプロック４９ｃを備える。

第一クランプ４９ａは、収容管４１の上部にクランプされる。第一クランプ４９ａの上部外側部分は上方に突出する形状を有する。
第二クランプ４９ｂは、接続管４３の下部にクランプされる。第二クランプ４９ｂの下部外側部分は上方に凹む形状を有する。これにより、第一クランプ４９ａの上部と第二クランプ４９ｂの下部とが嵌合可能とされる。

クランプロック４９ｃは、第一クランプ４９ａ及び第二クランプ４９ｂのうち少なくとも一方のクランプをロック可能である。言い換えると、クランプロック４９ｃは、第一クランプ４９ａ及び第二クランプ４９ｂのうち少なくとも一方のクランプのロックを解除可能である。

クランプロック４９ｃは、第一レバー４９ｃ１及び第二レバー４９ｃ２を備える。例えば、第一レバー４９ｃ１のみを操作することにより、第一クランプ４９ａのロックのみを解除可能とされる。第二レバー４９ｃ２のみを操作することにより、第二クランプ４９ｂのロックのみを解除可能とされる。第一レバー４９ｃ１及び第二レバー４９ｃ２の双方を操作することにより、第一クランプ４９ａ及び第二クランプ４９ｂの双方のロックを解除可能とされる。

例えば、第二レバー４９ｃ２のみを操作することにより、第二クランプ４９ｂのロックのみを解除すると、図１２に示すように、第一クランプ４９ａが収容管４１の上部にクランプされた状態で、容器４８ａが、支持軸４８ｄを中心として、収容管４１及び加熱装置４２を収容した状態で傾動可能とされる。

尚、図１２では、容器４８ａが、支持軸４８ｄを中心として、＋Ｘ方向側に傾いた状態を示している。容器４８ａが斜めに傾いた状態で、収容管４１を接続部材４８ｂから取り外すことにより、収容管４１の内部にカルコゲン源４１ｋを投入可能とされている。

（搬送装置）
図１３は、本実施形態に係る搬送装置５を示す平面図である。図１４は、本実施形態に係る搬送装置５を示す側面図である。
図１３及び図１４に示すように、搬送装置５は、搬送架台５０、昇降機構５１、スライダ機構５２及び搬送ハンド５３と、を備える。

架台５０は、Ｘ方向に長手を有する長方形状である。架台５０の上部の−Ｘ方向側の端部には、昇降機構５１が配置される。昇降機構５１は、架台５０の上部にＸ方向に沿って移動可能に支持される。

昇降機構５１は、昇降架台５１ａ、昇降ハンドル５１ｂ、昇降ロックノブ５１ｃ及び昇降板５１ｄを備える。昇降架台５１ａは、平面視矩形状の台である。昇降架台５１ａの側部の−Ｙ方向側の端部には、昇降ハンドル５１ｂ及び昇降ロックノブ５１ｃが取り付けられる。昇降架台５１ａの側部の−Ｘ方向側の端部には、昇降板５１ｄが昇降可能に支持される。

昇降ハンドル５１ｂを操作することにより、昇降板５１ｄを昇降可能である。例えば、昇降ハンドル５１ｂを右回りに回転させることにより、昇降板５１ｄを上昇可能とされる。一方、昇降ハンドル５１ｂを左回りに回転させることにより、昇降板５１ｄを下降可能とされる。昇降ロックノブ５１ｃを操作することにより、昇降板５１ｄをロック可能である。例えば、昇降ロックノブ５１ｃを押すことにより、昇降板５１ｄがロックされる。一方、昇降ロックノブ５１ｃを引くことにより、昇降板５１ｄのロックが解除される。

スライダ機構５２は、ガイドレール５２ａ、スライダ５２ｂ及び接続板５２ｃを備える。ガイドレール５２ａは、Ｘ方向に長手を有する。ガイドレール５２ａの−Ｘ方向側の端部は、接続板５２ｃと共に昇降板５１ｄの上部に接続固定される。ガイドレール５２ａの−Ｙ方向側の部分には、スライダ５２ｂがガイドレール５２ａに沿って移動可能に支持される。

搬送ハンド５３は、一対の把持部５３ａ，５３ｂを備える。第一把持部５３ａは、基板Ｓの−Ｙ方向側の端部を把持可能である。第二把持部５３ｂは、基板Ｓの＋Ｙ方向側の端部を把持可能である。第二把持部５３ｂの＋Ｙ方向側の端部は、スライダ５２ｂの＋Ｙ方向側の端部に支持固定される。これにより、スライダ５２ｂは、基板Ｓを把持する搬送ハンド５３をＸ方向に沿って移動可能とされる。

（捕捉装置）
図１５は、本実施形態に係る捕捉装置６を示す側面図である。図１６は、図１５のＢ−Ｂ断面図である。
図１５及び図１６に示すように、捕捉装置６は、排気管６０、吸引部６１、排気部６２、流通部６３、温度調整部６４、接続部６５ａ〜６５ｃ及び捕捉部６６を備える。

排気管６０は、Ｚ方向に延びる円筒状の管である。吸引部６１は、排気管６０の下部における＋Ｘ方向側の側部に設けられる。吸引部６１は、吸引管６１ａ及び吸引源６１ｂを備える。吸引管６１ａは、Ｘ方向に延びる。吸引源６１ｂは、吸引管６１ａに接続される。吸引源６１ｂとしては、例えばドライポンプが用いられる。

排気部６２は、排気管６０の上部における＋Ｙ方向側の側部に設けられる。排気部６２は、不図示の配管を介して、チャンバー２の排気部２０ｂ（図４参照）に接続される。吸引源６１ｂによる吸引により、排気部６２を通じて、処理室２０ｓ（図４参照）の気体とキャリアガスとを含む混合ガスが排出されるようになっている。

接続部６５ａは、排気部６２を通じて排出された混合ガスが流通するように排気管６０の上部と流通部６３との間を接続する。

流通部６３は、排気管６０の上下中央部に設けられる。流通部６３は、直管状である。流通部６３は、排気部６２を通じて排出された混合ガスを通過させる。流通部６３は、直線状に延びる複数（例えば本実施形態では３つ）の配管６３ａ〜６３ｃを備える。第一配管６３ａ、第二配管６３ｂ及び第三配管６３ｃは、それぞれ排気部６２を通じて排出された混合ガスを通過させる。第一配管６３ａ、第二配管６３ｂ及び第三配管６３ｃは、互いに等しい間隔を空けて配置される（図１６参照）。

流通部６３が直管状に形成されることで、吸引部６１によって吸引された処理室２０ｓ（図４参照）の気体とキャリアガスとを含む混合ガスが流通部６３をスムーズに流れるため、気化したカルコゲン元素を効率的に捕捉することができる。

温度調整部６４は、処理室２０ｓ（図４参照）の気体とキャリアガスとを含む混合ガスに含まれる気化したカルコゲン元素を効率的に捕捉するために流通部６３を流通する混合ガスの温度を調整する。すなわち、流通部６３及び温度調整部６４により、処理室２０ｓ（図４参照）の気体とキャリアガスとを含む混合ガスに含まれる気化したカルコゲン元素を捕捉するためのトラップが構成される。尚、温度調整部６４により、流通部６３を流通する混合ガスの温度を急激に変化させることで、カルコゲン元素は、トラップに液体としてではなく固体として付着する。

温度調整部６４は、冷媒流通管６４ａ及び冷媒駆動部６４ｂを備える。冷媒流通管６４ａは、流通部６３に沿って配置される。冷媒流通管６４ａは、例えば冷却水等の冷媒を流通可能である。冷媒流通管６４ａの内部には、流通部６３を構成する第一配管６３ａ、第二配管６３ｂ及び第三配管６３ｃが収容される。冷媒流通管６４ａは、第一配管６３ａ、第二配管６３ｂ及び第三配管６３ｃのそれぞれと互いに等しい間隔を空けて配置される（図１６参照）。これにより、冷媒流通管６４ａは、第一配管６３ａ、第二配管６３ｂ及び第三配管６３ｃの周りが冷媒で満たされるように構成される。

冷媒駆動部６４ｂは、冷媒流通管６４ａに冷媒を流通させる。冷媒駆動部６４ｂは、流通部６３を流れる混合ガスの流通方向（−Ｚ方向）とは反対方向（＋Ｚ方向）に冷媒を流すように構成される。これにより、流通部６３を流れる気体を効率的に冷却することができるため、吸引部６１によって吸引された処理室２０ｓ（図４参照）の気体とキャリアガスとを含む混合ガスに含まれる気化した液状体が液化され易くなる。よって、気化したカルコゲン元素を効率的に捕捉することができる。
尚、冷媒駆動部６４ｂは、冷媒流通管６４ａを通過した媒体を冷媒として冷媒流通管６４ａに戻す冷媒循環部としての機能をも有する。

接続部６５ｂは、流通部６３を通過した気体及び温度調整部６４によって液化された液状体が流通するように液化トラップ（流通部６３及び温度調整部６４）と排気管６０の下部との間を接続する。排気管６０の下部を通過した気体は、吸引管６１ａを通じて外部に排出される。

接続部６５ｃは、排気管６０の下部を通過したカルコゲン元素が流通するように排気管６０の下部と捕捉部６６との間を接続する。これにより、捕捉部６６において気化したカルコゲン元素が捕捉される。
尚、排気管６０の下部において捕捉部６６よりも上流側には、温度調整部６４によって液化された液状体をろ過して塵等の異物を除去するフィルタが設けられていてもよい。

（基板処理方法）
次に、本実施形態に係る基板処理方法を説明する。本実施形態では、上記のように構成された基板処理装置１を用いて基板Ｓ上に、塗布膜を形成する。基板処理装置１の各部で行われる動作は、制御装置１０によって制御される。

本実施形態に係る基板処理方法は、基板Ｓをチャンバー２に収容する収容ステップと、チャンバー２に収容された基板Ｓに対して、金属を含む塗布膜の形成に関する所定の処理を行う処理ステップと、収容管４１に収容されたカルコゲン元素を含むカルコゲン源４１ｋを加熱することにより生成されたカルコゲン元素を含む気体をキャリアガスにのせてチャンバー２に供給する供給ステップと、を含む（図４及び図１１参照）。

前記所定の処理は、処理室２０ｓに加熱部２７を設け、加熱部２７により、処理室２０ｓに収容された基板Ｓに対して行われる加熱処理である。
尚、前記所定の処理は加熱処理に限らない。前記所定の処理は、金属及び溶媒を含む液状体を基板Ｓに塗布する塗布処理、及び、液状体が塗布された基板Ｓを加熱する加熱処理のうち少なくとも一方の処理を含んでいればよい。

また、本実施形態に係る基板処理方法は、チャンバー２の温度を調整する温度調整ステップを更に含む。
温度調整ステップでは、図５及び図６に示すように、チャンバー２の上部に上部温度調整部２８を設けると共に、チャンバー２の側部に側部温度調整部２９を設け、上部温度調整部２８及び側部温度調整部２９におけるオイルの温度や流速等が制御装置１０（図１参照）によって制御されることにより、チャンバー２が所望の温度に調整される。

また、本実施形態に係る基板処理方法は、チャンバー２の内部の気体とキャリアガスとを含む混合ガスを排出する排気ステップを更に含み、排気ステップは、カルコゲン元素を捕捉する捕捉ステップを含む。

排気ステップでは、図１５及び図１６に示すように、排気管６０の上部に設けられた排気部６２を、不図示の配管を介して、チャンバー２の排気部２０ｂ（図４参照）に接続し、吸引源６１ｂによる吸引により、排気部６２を通じて、処理室２０ｓ（図４参照）の気体とキャリアガスとを含む混合ガスを排出する。

捕捉ステップでは、排気管６０の上下中央部に設けられた流通部６３及び温度調整部６４により、処理室２０ｓ（図４参照）の気体とキャリアガスとを含む混合ガスに含まれる気化した液状体を液化させ、排気管６０の下部に設けられた捕捉部６６により、気化したカルコゲン元素を捕捉する。

以上のように、本実施形態に係るカルコゲン供給装置３によれば、供給管４４によりカルコゲン元素を含む気体がキャリアガスにのせて供給されることで、カルコゲン元素を含む気体の供給量を高い精度で調整することができる。よって、カルコゲン元素の供給量を高い精度で調整することができる。

また、混合ガス温度調整部４５ｂ及び接続部温度調整部４５ｃによって混合ガスの温度が調整されることで、気化物が混合ガスの供給空間に接する部分に付着するのを抑制することができる。これにより、混合ガスの供給空間を清浄な状態に維持することができる。

また、キャリアガス温度調整部４５ａ及び混合ガス温度調整部４５ｂによって供給管４４の温度が調整されることで、気化物が供給管４４に付着するのを抑制することができる。これにより、供給管４４を清浄な状態に維持することができる。

また、キャリアガス温度調整部４５ａによって第一バルブ４７ａの温度が調整されると共に、混合ガス温度調整部４５ｂによって第二バルブ４７ｂの温度が調整されることで、気化物が第一バルブ４７ａ及び第二バルブ４７ｂのそれぞれに付着するのを抑制することができる。これにより、第一バルブ４７ａ及び第二バルブ４７ｂのそれぞれを清浄な状態に維持することができる。

また、流量調整部４６ａ〜４６ｄによってキャリアガスの流量が調整されることで、カルコゲン元素を含む気体の供給量を高い精度で調整することができる。例えば、キャリアガスの流量を大きくしてキャリアガスにのせて運ぶことでカルコゲン元素を含む気体を多量に供給することができ、一方で、キャリアガスの流量を小さくしてキャリアガスにのせて運ぶことでカルコゲン元素を含む気体を少しずつ供給することができる。よって、カルコゲン元素の供給量を高い精度で調整することができる。

また、支持部４８及び固定部４９の操作により、収容管４１を傾動させて収容管４１を供給管４４から離脱させることで、供給管４４をカルコゲン供給装置３から取り外すことなく、カルコゲン供給装置３に取り付けたままで、収容管４１にカルコゲン源４１ｋを収容することができる。よって、カルコゲン源４１ｋの収容が容易となる。

また、本実施形態に係る基板処理装置１によれば、上記のカルコゲン供給装置３を備えるため、チャンバー２に供給するカルコゲン元素の供給量を高い精度で調整することができる。

また、上部温度調整部２８及び側部温度調整部２９によってチャンバー２の温度が調整されることで、気化物がチャンバー２に付着するのを抑制することができる。これにより、チャンバー２を清浄な状態に維持することができる。
また、捕捉部６６により、混合ガスを排気する過程でカルコゲン元素を捕捉することができる。
また、加熱部２７が加熱処理を行う構成において、チャンバー２に供給するカルコゲン元素の供給量を高い精度で調整することができる。

また、本実施形態に係る基板処理方法によれば、供給ステップにおいてカルコゲン元素を含む気体がキャリアガスにのせて供給されることで、カルコゲン元素を含む気体の供給量を高い精度で調整することができる。

また、温度調整ステップにおいてチャンバー２の温度が調整されることで、気化物がチャンバー２に付着するのを抑制することができる。これにより、チャンバー２を清浄な状態に維持することができる。
また、捕捉ステップにおいて、混合ガスを排気する過程でカルコゲン元素を捕捉することができる。
また、処理ステップが加熱処理を行う方法において、チャンバー２に供給するカルコゲン元素の供給量を高い精度で調整することができる。

尚、上記において実施形態として記載した各構成要素は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜組み合わせることができるし、また、組み合わされた複数の構成要素のうち一部の構成要素を適宜用いないようにすることもできる。

１…基板処理装置 ２…チャンバー ３…カルコゲン供給装置 ２７…加熱部（処理部） ２８…上部温度調整部（第二温度調整部） ２９…側部温度調整部（第二温度調整部） ４１…収容管 ４１ｋ…カルコゲン源 ４２…加熱装置 ４４…供給管 ４５ｂ…混合ガス温度調整部（第一温度調整部） ４５ｃ…接続部温度調整部（第一温度調整部） ４６ａ〜４６ｅ…流量調整部 ４７ａ，４７ｂ…バルブ ４８…支持部 ４９…固定部 ６０…排気管 ６６…捕捉部 Ｓ…基板

Claims (14)

1. カルコゲン元素を含むカルコゲン源を収容する収容管と、
   前記収容管に収容された前記カルコゲン源を加熱して前記カルコゲン元素を含む気体を生成する加熱装置と、
   生成された前記気体をキャリアガスにのせて供給する供給管と、
   を備えるカルコゲン供給装置。
2. 前記気体と前記キャリアガスとを含む混合ガスの温度を調整する第一温度調整部を更に備える請求項１に記載のカルコゲン供給装置。
3. 前記第一温度調整部は、前記供給管の温度を調整する請求項２に記載のカルコゲン供給装置。
4. 前記供給管にはバルブが設けられ、
   前記第一温度調整部は、前記バルブの温度を調整する請求項２又は３に記載のカルコゲン供給装置。
5. 前記供給管には、前記供給管を流れる前記キャリアガスの流量を調整する流量調整部が設けられる請求項１から４までのいずれか一項に記載のカルコゲン供給装置。
6. 前記収容管を傾動可能に支持する支持部と、
   前記供給管と前記収容管とを着脱自在に固定する固定部と、
   を更に備える請求項１から５までのいずれか一項に記載のカルコゲン供給装置。
7. 基板を収容可能なチャンバーと、
   前記チャンバーに収容された前記基板に対して、金属を含む塗布膜の形成に関する所定の処理を行う処理部と、
   カルコゲン元素を含む気体をキャリアガスにのせて前記チャンバーに供給するカルコゲン供給装置と、を備え、
   前記カルコゲン供給装置は、請求項１から６のうちいずれか一項に記載のカルコゲン供給装置である基板処理装置。
8. 前記チャンバーの温度を調整する第二温度調整部を更に備える請求項７に記載の基板処理装置。
9. 前記チャンバーには、前記チャンバーの内部の前記気体と前記キャリアガスとを含む混合ガスを排出する排気管が接続され、
   前記排気管には、前記カルコゲン元素を捕捉する捕捉部が設けられる請求項７又は８に記載の基板処理装置。
10. 前記所定の処理は、前記金属及び溶媒を含む液状体を前記基板に塗布する塗布処理、及び、前記液状体が塗布された前記基板を加熱する加熱処理のうち少なくとも一方の処理を含む請求項７から９のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。
11. 基板をチャンバーに収容する収容ステップと、
    前記チャンバーに収容された前記基板に対して、金属を含む塗布膜の形成に関する所定の処理を行う処理ステップと、
    収容管に収容されたカルコゲン元素を含むカルコゲン源を加熱することにより生成された前記カルコゲン元素を含む気体をキャリアガスにのせて前記チャンバーに供給する供給ステップと、
    を含む基板処理方法。
12. 前記チャンバーの温度を調整する温度調整ステップを更に含む請求項１１に記載の基板処理方法。
13. 前記チャンバーの内部の前記気体と前記キャリアガスとを含む混合ガスを排出する排気ステップを更に含み、
    前記排気ステップは、前記カルコゲン元素を捕捉する捕捉ステップを含む請求項１１又は１２に記載の基板処理方法。
14. 前記所定の処理は、前記金属及び溶媒を含む液状体を前記基板に塗布する塗布処理、及び、前記液状体が塗布された前記基板を加熱する加熱処理のうち少なくとも一方の処理を含む請求項１１から１３のうちいずれか一項に記載の基板処理方法。

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