JP2015134476A - Mold release film, method for producing green sheet and method for producing multilayer ceramic electronic component - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、離型フィルム、グリーンシートの製造方法、及び積層セラミック電子部品の製造方法に関し、詳しくは、巻き取り時の巻きズレ及び保管時のブロッキングの発生を防ぐことが可能な離型フィルム、グリーンシートの製造方法、及び積層セラミック電子部品の製造方法に関する。 The present invention relates to a release film, a method for producing a green sheet, and a method for producing a multilayer ceramic electronic component, and more specifically, a release film capable of preventing the occurrence of blocking during winding and blocking during storage, The present invention relates to a green sheet manufacturing method and a multilayer ceramic electronic component manufacturing method.
従来、積層セラミックコンデンサの製造に用いられる剥離フィルムが提案されている(例えば、特許文献1参照)。この剥離フィルムは、基材フィルム及びこの基材フィルム上に設けられた剥離剤層を有し、ロール状に巻き取られて輸送及び保管される。 Conventionally, a release film used for manufacturing a multilayer ceramic capacitor has been proposed (see, for example, Patent Document 1). This release film has a base film and a release agent layer provided on the base film, and is wound up in a roll shape and transported and stored.
ところで、近年、積層セラミックコンデンサなどの電子部品の更なる小型化及び薄型化が求められており、グリーンシートの更なる薄膜化の要求が高まっている。従来のグリーンシートの製造工程においては、表面にグリーンシートを形成した離型フィルムを巻き取って輸送及び保管されている。このため、グリーンシートの更なる薄膜化のためには、グリーンシートの表面と当接する離型フィルムの表裏面の平滑性を高めることが有効である。 Incidentally, in recent years, there has been a demand for further miniaturization and thinning of electronic components such as multilayer ceramic capacitors, and there is an increasing demand for further thinning of green sheets. In a conventional green sheet manufacturing process, a release film having a green sheet formed on the surface is wound and transported and stored. For this reason, in order to further reduce the thickness of the green sheet, it is effective to increase the smoothness of the front and back surfaces of the release film in contact with the surface of the green sheet.
しかしながら、離型フィルムの表裏面の平滑性を高めると、離型フィルムをロール状に巻き取る際に巻きズレが発生すると共に、ロール状に巻き取った離型フィルムの表裏面が保管時に密着してブロッキングが発生する可能性がある。 However, when the smoothness of the front and back surfaces of the release film is increased, winding deviation occurs when the release film is wound into a roll shape, and the front and back surfaces of the release film wound into a roll shape are in close contact during storage. Blocking may occur.
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、薄膜のグリーンシートの製造が可能であり、しかも、巻き取り時の巻きズレ及び保管時のブロッキングの発生を防ぐことができる離型フィルム、グリーンシートの製造方法、及び積層セラミック電子部品の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such a situation, and it is possible to produce a thin film green sheet, and further, release that can prevent winding deviation during winding and blocking during storage. It aims at providing the manufacturing method of a film, a green sheet, and the manufacturing method of a multilayer ceramic electronic component.
本発明の離型フィルムは、芯材にロール状に巻き取って保管可能な離型フィルムであって、第1面及び第2面を有する基材と、前記基材の前記第1面上に設けられた離型層と、前記基材の前記第2面上に剥離可能に固定された保護層と、を具備し、前記保護層の外表面の少なくとも1部の領域が粗面であることを特徴とする。 The release film of the present invention is a release film that can be wound and stored on a core material in a roll shape, and has a base material having a first surface and a second surface, and the first surface of the base material. A release layer provided, and a protective layer fixed to the second surface of the base material in a peelable manner, and at least a portion of the outer surface of the protective layer is a rough surface. It is characterized by.
この離型フィルムによれば、離型フィルムの一方の表面が粗面であるので、離型フィルムの巻き取り時に保護層の粗面と離型層の外表面との間に適度な隙間ができ、離型フィルムの巻き取り時の空気の巻き込みを防ぐことが可能となる。この結果、離型フィルムを芯材にロール状に巻取る際の巻きズレ及び保管時のブロッキングの発生を防ぐことができる。 According to this release film, since one surface of the release film is a rough surface, an appropriate gap is formed between the rough surface of the protective layer and the outer surface of the release layer when the release film is wound. It becomes possible to prevent air from being involved when winding the release film. As a result, it is possible to prevent the occurrence of winding deviation when the release film is wound around the core material in a roll shape and blocking during storage.
本発明の離型フィルムにおいては、前記保護層は、外表面の算術平均粗さRaが10nm以上、200nm以下であって、最大突起高さRpが60nm以上、2000nm以下であることが好ましい。この構成により、離型フィルムの一方の表面が適度な粗面となるので、離型フィルムを巻取る際の巻きズレ及び保管時のブロッキングの発生を防ぐことができる。 In the release film of the present invention, the protective layer preferably has an arithmetic average roughness Ra of the outer surface of 10 nm or more and 200 nm or less, and a maximum protrusion height Rp of 60 nm or more and 2000 nm or less. With this configuration, since one surface of the release film becomes an appropriate rough surface, it is possible to prevent winding deviation when winding the release film and blocking during storage.
本発明の離型フィルムにおいては、前記離型層は、外表面の算術平均粗さRaが15nm未満であり、かつ最大突起高さRpが100nm未満であることが好ましい。この構成により、離型層の外表面の平滑性が十分に得られるので、例えばグリーンシートの製造に用いられる場合、離型層上に形成されるグリーンシートの薄膜化が容易となる。 In the release film of the present invention, the release layer preferably has an arithmetic average roughness Ra of the outer surface of less than 15 nm and a maximum protrusion height Rp of less than 100 nm. With this configuration, the smoothness of the outer surface of the release layer can be sufficiently obtained. Therefore, for example, when used in the manufacture of a green sheet, it is easy to reduce the thickness of the green sheet formed on the release layer.
本発明の離型フィルムにおいては、前記基材は、前記第2面の算術平均粗さRaが20nm未満であり、かつ最大突起高さRpが150nm未満であることが好ましい。この構成により、基材の第2面の平滑性が十分に得られるので、例えばグリーンシートの製造に用いられる場合、グリーンシートが形成された基材及び離型層を巻き取り、基材の第2面とグリーンシートとが当接した状態で保管する場合であっても、基材の第2面に存在する凹凸の凸部によるグリーンシートの破損を防ぐことができる。 In the release film of the present invention, it is preferable that the base material has an arithmetic average roughness Ra of the second surface of less than 20 nm and a maximum protrusion height Rp of less than 150 nm. With this configuration, the smoothness of the second surface of the base material is sufficiently obtained. For example, when used in the manufacture of a green sheet, the base material on which the green sheet is formed and the release layer are wound up, Even when storing in a state where the two surfaces and the green sheet are in contact with each other, the green sheet can be prevented from being damaged by the uneven protrusions present on the second surface of the substrate.
本発明の離型フィルムにおいては、前記保護層は、支持体と、前記支持体上に設けられ前記基材の前記第2面上に剥離可能に固定された剥離層と、を含むことが好ましい。この構成により、剥離層を介して支持体を基材の第2面上に固定するので、基材からの保護層の剥離性が向上する。 In the release film of the present invention, the protective layer preferably includes a support and a release layer provided on the support and releasably fixed on the second surface of the substrate. . With this configuration, the support is fixed on the second surface of the base material via the release layer, so that the peelability of the protective layer from the base material is improved.
本発明のグリーンシートの製造方法は、上記離型フィルムの前記離型層上にグリーンシートを設けて第1積層体を得る第1工程と、前記第1積層体から前記保護層を剥離して第2積層体を得る第2工程と、前記第2積層体をロール状に巻き取る第3工程とを含むことを特徴とする。 The green sheet manufacturing method of the present invention includes a first step of obtaining a first laminate by providing a green sheet on the release layer of the release film, and peeling the protective layer from the first laminate. It includes a second step of obtaining a second laminate, and a third step of winding the second laminate in a roll shape.
このグリーンシートの製造方法によれば、一方の面が粗面な離型フィルムを用いるので、ロール状に巻き取った離型フィルムをグリーンシートの製造に用いる場合であっても、離型フィルムのブロッキングによる不具合を防ぐことができる。そして、離型層上にグリーンシートを形成してから保護層を剥離するので、第2積層体をロール状に巻き取る場合であっても、巻き取り時の保護層の第2面とグリーンシートとの接触によるグリーンシートの破損などを防ぐことができる。 According to this method for producing a green sheet, since a release film having one rough surface is used, even when a release film wound up in a roll shape is used for producing a green sheet, The trouble by blocking can be prevented. And since a protective layer is peeled after forming a green sheet on a mold release layer, even if it is a case where the 2nd layered product is rolled up, the 2nd surface of the protective layer at the time of winding and a green sheet It is possible to prevent the green sheet from being damaged due to contact with the.
本発明の積層セラミック電子部品の製造方法は、上記グリーンシートの製造方法によって製造されたグリーンシート上に内部電極を設けると共に、内部電極を設けた前記グリーンシートを積層して中間積層体を得る積層工程と、前記中間積層体を所望の形状に成形する成形工程と、前記中間積層体に外部電極を形成する外部電極形成工程と、を含むことを特徴とする。 The method for producing a multilayer ceramic electronic component of the present invention is a lamination in which an internal electrode is provided on a green sheet produced by the green sheet production method, and the green sheet provided with the internal electrode is laminated to obtain an intermediate laminate. The method includes a step, a forming step of forming the intermediate laminate into a desired shape, and an external electrode forming step of forming an external electrode on the intermediate laminate.
この積層セラミック電子部品の製造方法によれば、上記グリーンシートの製造方法によって製造されたグリーンシートを用いるので、グリーンシートの薄膜化による積層セラミック電子部品の小型化及び薄型化が可能になる。そして、グリーンシートの破損などの不具合を防止できるので、積層セラミック電子部品の信頼性を向上することができる。 According to the method for manufacturing a multilayer ceramic electronic component, since the green sheet manufactured by the green sheet manufacturing method is used, the multilayer ceramic electronic component can be reduced in size and thickness by reducing the thickness of the green sheet. And since malfunctions, such as breakage of a green sheet, can be prevented, the reliability of a multilayer ceramic electronic component can be improved.
本発明によれば、薄膜のグリーンシートの製造が可能であり、しかも、巻き取り時の巻きズレ及び保管時のブロッキングの発生を防ぐことができる離型フィルム、グリーンシートの製造方法、及び積層セラミック電子部品の製造方法を実現できる。 According to the present invention, a thin film green sheet can be produced, and a release film that can prevent winding deviation during winding and blocking during storage, a method for producing a green sheet, and a multilayer ceramic An electronic component manufacturing method can be realized.
本発明者は、薄膜のグリーンシートを製造するためには、離型フィルムの表裏面の平滑性の向上が必要である一方、離型フィルムの表裏面の平滑性を十分に高めると、離型フィルムを巻き取る際の巻きズレ及び保管時のブロッキングによる不具合が生じうることに着目した。そして、本発明者は、離型フィルムの離型層とは反対側の面に適度な粗面を有する保護層を剥離可能な状態で設けることにより、離型フィルムの表裏面の平滑性が高い場合であっても、離型フィルムを巻き取る際の巻きズレ及び保管時のブロッキングによる不具合を解消できることを見出し、本発明を完成させるに至った。 In order to produce a thin green sheet, the inventor needs to improve the smoothness of the front and back surfaces of the release film, while sufficiently improving the smoothness of the front and back surfaces of the release film. It was noticed that defects due to winding deviation when winding the film and blocking during storage may occur. And this inventor provides the smoothness of the front and back of a release film by providing in a state which can peel the protective layer which has a moderate rough surface in the surface on the opposite side to the release layer of a release film. Even in such a case, it was found that problems due to winding deviation when winding the release film and blocking during storage can be eliminated, and the present invention has been completed.
以下、本発明の一実施の形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の各実施の形態に限定されるものではなく、適宜変更して実施可能である。また、以下においては、共通する構成要素には同一の符号を付し、説明の重複を避ける。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In addition, it is not limited to each following embodiment, It can implement by changing suitably. Further, in the following, common constituent elements are denoted by the same reference numerals to avoid duplication of explanation.
図1は、本実施の形態に係る離型フィルム1の断面模式図である。図1に示すように、本実施の形態に係る離型フィルム1は、例えば、ロール状に巻き取った状態で輸送及び保管可能であり、フィルムロールから巻出しされて一方の表面上にセラミックスラリーを塗布及び乾燥してグリーンシートを製造した後、製造したグリーンシートと共に巻き取った状態で輸送及び保管可能な離型フィルムである。この離型フィルム1は、キャリアフィルム10と、このキャリアフィルム10の一方の主面上に設けられたアプリケーションフィルム(保護層)20とを備える。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a release film 1 according to this embodiment. As shown in FIG. 1, the release film 1 according to the present embodiment can be transported and stored in a state of being wound in a roll shape, for example, and is unwound from a film roll and ceramic slurry on one surface. Is a release film that can be transported and stored in a state of being wound together with the manufactured green sheet after the green sheet is coated and dried. The release film 1 includes a
キャリアフィルム10は、第1面11a及び第2面11bを有する基材フィルム(基材)11と、この基材フィルム11の第1面11aに設けられた離型層12とを備える。離型層12の外表面12a上には、例えばグリーンシートの製造に用いられる場合、セラミックスラリーの塗布及び乾燥によりグリーンシートが設けられる。この離型層12を設けることにより、グリーンシートからキャリアフィルム10を剥離することが容易になる。
The
基材フィルム11の第2面11b上には、アプリケーションフィルム20が設けられている。アプリケーションフィルム20は、支持体21と、この支持体21上に設けられた剥離層22とを備えており、剥離層22によって基材フィルム11の第2面11b上に剥離可能に接着して固定されている。このアプリケーションフィルム20は、外表面20aが離型フィルム1の巻取り時に離型層12の表面との間に適度な隙間ができる程度の粗面となっている。例えばグリーンシートの製造に用いられる場合、離型層12上にセラミックスラリーを塗布及び乾燥させた後、基材フィルム11から剥離される。剥離層22は、再剥離型粘着剤、疑似接着剤などの基材フィルム11から剥離可能な材料を含有する。なお、剥離層22は、アプリケーションフィルム20の支持体21を基材フィルム11の第2面11bに剥離可能に固定できれば必ずしも設ける必要はない。
On the
本実施の形態に係る離型フィルム1においては、アプリケーションフィルム20の外表面20aの算術平均粗さRaが10nm以上200nm以下であって、最大突起高さRpが60nm以上2000nm以下であることが好ましい。アプリケーションフィルム20の外表面20aの算術平均粗さRaが10nm以上200nm以下であれば、アプリケーションフィルム20の外表面20aが適度に粗面となる。これにより、離型フィルム1を紙製、プラスチック製、又は金属製などの芯材にロール状に巻き取る際に、アプリケーションフィルム20の外表面20aと離型層12の外表面12aとが当接した場合であっても、アプリケーションフィルム20の外表面20aと離型層12の外表面12aとの間に適度な隙間ができるので、巻き取り時の空気抜けが良好になり離型フィルム1の巻きズレを防ぐことができる。また、アプリケーションフィルム20の外表面20aと離型層12の外表面12aとの間の適度な隙間により、ロール状に巻かれた離型フィルム1の表裏面におけるブロッキングの発生を防ぐことができる。
In the release film 1 according to the present embodiment, the arithmetic average roughness Ra of the
上述した作用効果が一層向上する観点から、アプリケーションフィルム20の外表面20aの算術平均粗さRaとしては、11nm以上がより好ましく、12nm以上が更に好ましく、13nm以上がより更に好ましく、また150nm以下がより好ましく、100nm以下が更に好ましく、50nm以下がより更に好ましい。以上を考慮すると、アプリケーションフィルム20の外表面20aの算術平均粗さRaとしては、11nm以上150nm以下がより好ましく、12nm以上100nm以下が更に好ましく、13nm以上50nm以下がより更に好ましい。
From the viewpoint of further improving the above-described effects, the arithmetic average roughness Ra of the
また、アプリケーションフィルム20の外表面20aの最大突起高さRpが60nm以上2000nm以下であれば、アプリケーションフィルム20の外表面20aが適度に粗面となる。これにより、離型フィルム1を紙製、プラスチック製、又は金属製などの芯材にロール状に巻き取る際に、アプリケーションフィルム20の外表面20aと離型層12の外表面12aとが当接した場合であっても、アプリケーションフィルム20の外表面20aと離型層12の外表面12aとの間に適度な隙間ができるので、巻き取り時の空気抜けが良好になり離型フィルム1の巻きズレを防ぐことができる。また、アプリケーションフィルム20の外表面20aと離型層12の外表面12aとの間の適度な隙間により、ロール状に巻かれた離型フィルム1の表裏面におけるブロッキングの発生を防ぐことができる。
Moreover, if the maximum protrusion height Rp of the
上述した作用効果が一層向上する観点から、アプリケーションフィルム20の外表面20aの最大突起高さRpとしては、70nm以上がより好ましく、80nm以上が更に好ましく、85nm以上がより更に好ましく、また1500nm以下がより好ましく、1000nm以下が更に好ましく、750nm以下がより更に好ましい。以上を考慮すると、アプリケーションフィルム20の外表面20aの最大突起高さRpとしては、70nm以上1500nm以下がより好ましく、75nm以上1000nm以下が更に好ましく、80nm以上750nm以下がより更に好ましい。
From the viewpoint of further improving the above-described effects, the maximum protrusion height Rp of the
また、本実施の形態に係る離型フィルム1においては、離型層12は、外表面12aの算術平均粗さRaが15nm未満であり、かつ最大突起高さRpが100nm未満であることが好ましい。離型層12の外表面12aの算術平均粗さRaが15nm未満であれば、離型層12の外表面12aの平滑性が十分に得られるので、離型層12上に形成されるグリーンシートの部分的な厚みのばらつきの発生などを防ぐことが可能となり、グリーンシートの薄膜化が容易となる。
In the release film 1 according to the present embodiment, the
上述した作用効果が一層向上する観点から、離型層12の外表面12aの算術平均粗さRaとしては、10nm以下がより好ましく、7.5nm以下が更に好ましく、5nm以下がより更に好ましい。なお、離型層12の外表面12aの算術平均粗さRaの下限値については特に制限はなく、0nmを超えていればよい。
From the viewpoint of further improving the above-described effects, the arithmetic average roughness Ra of the
また、離型層12の外表面12aの最大突起高さRpが100nm未満であれば、離型層12の外表面12aの平滑性が十分に得られると共に外表面12aの突起を低減できるので、例えばグリーンシートの製造に用いられる場合、離型層12上に形成されるグリーンシートの厚みのバラツキやピンホールの発生などを抑制することが可能となり、グリーンシートの信頼性が向上する。
Further, if the maximum protrusion height Rp of the
上述した作用効果が一層向上する観点から、離型層12の外表面12aの最大突起高さRpとしては、75nm以下がより好ましく、50nm以下が更に好ましく、25nm以下がより更に好ましい。なお、離型層12の外表面12aの最大突起高さRpの下限値については特に制限はなく、0nmを超えていればよい。
From the viewpoint of further improving the operational effects described above, the maximum protrusion height Rp of the
本実施の形態の離型フィルム1においては、基材フィルム11は、第2面11bの算術平均粗さRaが20nm未満であり、かつ最大突起高さRpが150nm未満であることが好ましい。この構成により、基材フィルム11の第2面11bの平滑性が十分に得られるので、例えばグリーンシートの製造に用いられる場合、グリーンシートが形成された基材フィルム11及び離型層12をロール状に巻き取り、基材フィルム11の第2面11bとグリーンシートとが当接した状態で保管する場合であっても、基材フィルム11の第2面11bに存在する凹凸の凸部によるグリーンシートの破損を防ぐことができる。
In the release film 1 of the present embodiment, the base film 11 preferably has an arithmetic average roughness Ra of the
上述した作用効果が一層向上する観点から、基材フィルム11の第2面11bの算術平均粗さRaとしては、18nm以下がより好ましく、15nm以下が更に好ましい。なお、基材フィルム11の第2面11bの算術平均粗さRaの下限値については特に制限はなく、0nm超えであればよい。
From the viewpoint of further improving the above-described effects, the arithmetic average roughness Ra of the
また、基材フィルム11の第2面11bの最大突起高さRpが150nm未満であれば、基材フィルム11の第2面11bの平滑性が十分に得られると共に第2面11bの突起を低減できるので、例えばグリーンシートの製造に用いられる場合、グリーンシートが形成された基材フィルム11及び離型層12をロール状に巻き取り、基材フィルム11の第2面11bとグリーンシートとが当接した状態で保管する場合であっても、基材フィルム11の第2面11bに存在する凹凸の凸部によるグリーンシートの破損を防ぐことができる。
Moreover, if the maximum protrusion height Rp of the
上述した作用効果が一層向上する観点から、基材フィルム11の第2面11bの最大突起高さRpとしては、125nm以下がより好ましく、100nm以下が更に好ましい。なお、離型層12の外表面12aの最大突起高さRpの下限値については特に制限はなく、0nm超えであればよい。以下、本実施の形態に係る離型フィルム1の各種構成要素について詳細に説明する。
From the viewpoint of further improving the above-described effects, the maximum protrusion height Rp of the
(基材フィルム11)
基材フィルム11としては、本発明の効果を奏する範囲であれば特に制限はない。基材フィルム11としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートなどのポリエステル、ポリプロピレン及びポリメチルペンテンなどのポリオレフィン、ポリカーボネート及びポリ酢酸ビニルなどを用いることができる。基材フィルム11は、単層であってもよく、同種又は異種の2層以上の多層としてもよい。基材フィルム11としては、これらの中でもポリエステルフィルムが好ましく、ポリエチレンテレフタレートフィルムがより好ましく、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが更に好ましい。ポリエチレンテレフタレートフィルムは、加工時及び使用時などに埃などが発生しにくく、例えば、埃などによるセラミックスラリー塗工不良などを効果的に防止することができる。
(Base film 11)
The base film 11 is not particularly limited as long as the effect of the present invention is achieved. As the base film 11, for example, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyolefins such as polypropylene and polymethylpentene, polycarbonate, polyvinyl acetate, and the like can be used. The base film 11 may be a single layer, or may be a multilayer of two or more layers of the same type or different types. Among these, the base film 11 is preferably a polyester film, more preferably a polyethylene terephthalate film, and still more preferably a biaxially stretched polyethylene terephthalate film. The polyethylene terephthalate film is less likely to generate dust during processing and use, and can effectively prevent, for example, defective coating of ceramic slurry due to dust or the like.
また、基材フィルム11には、上述した材料に加え、フィラーなどを含有させてもよい。フィラーとしては、シリカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、カオリン、及び酸化アルミニウムなどが挙げられる。これらのフィラーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。このようなフィラーを含むことにより、基材フィルム11の機械的強度を付与できると共に、表裏面の滑り性が向上し、ブロッキングを抑制することができる。 The base film 11 may contain a filler in addition to the materials described above. Examples of the filler include silica, titanium oxide, calcium carbonate, kaolin, and aluminum oxide. These fillers may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. By including such a filler, the mechanical strength of the base film 11 can be imparted, the slipperiness of the front and back surfaces can be improved, and blocking can be suppressed.
基材フィルム11の厚さとしては、10μm以上300μm以下が好ましく、15μm以上200μm以下がより好ましく、20μm以上125μm以下が更に好ましい。
As thickness of the
(離型層12)
離型層12としては、本発明の効果を奏する範囲であれば特に制限はない。離型層12の形成に用いられる離型層形成用材料としては、シリコーン系化合物、フッ素化合物、アクリル系化合物、アルキド系化合物、アルキル基の炭素数が12以上40以下の長鎖アルキル基含有化合物や、オレフィン系樹脂、ジエン系樹脂などの熱可塑性樹脂材料などを用いることができる。また、これらの離型層形成用材料は、熱硬化型及び活性エネルギー線硬化型の材料であることが好ましい。活性エネルギー線としては、例えば、赤外線、可視光線、紫外線、X線のような電磁波、電子線、イオンビーム、中性子線、及びα線のような粒子線が挙げられる。これらの中でも活性エネルギー線としては、離型層12を容易かつ確実に形成できる観点から、紫外線が好ましい。
(Release layer 12)
The
上述したシリコーン系化合物としては、基本骨格としてオルガノポリシロキサンを有するシリコーン系化合物が挙げられる。また、シリコーン系化合物としては、付加反応型及び縮合反応型などの熱硬化型シリコーン系化合物、紫外線硬化型、及び電子線硬化型などの活性エネルギー線硬化型シリコーン系化合物などが挙げられる。 Examples of the silicone compound described above include silicone compounds having organopolysiloxane as a basic skeleton. Examples of the silicone compound include thermosetting silicone compounds such as addition reaction type and condensation reaction type, and active energy ray curable silicone compounds such as ultraviolet ray curable type and electron beam curable type.
上述した付加反応型シリコーン系化合物の具体例としては、分子の末端及び/又は側鎖に、ビニル基、アリル基、プロペニル基、及びヘキセニル基などの炭素数2以上10以下のアルケニル基を2個以上備えたオルガノポリシロキサンが挙げられる。このような付加反応型シリコーン系化合物を用いる際には、架橋剤及び触媒を併用することが好ましい。 Specific examples of the addition reaction type silicone compound described above include two alkenyl groups having 2 to 10 carbon atoms such as vinyl group, allyl group, propenyl group, and hexenyl group at the end and / or side chain of the molecule. The organopolysiloxane provided above is mentioned. When such an addition reaction type silicone compound is used, it is preferable to use a crosslinking agent and a catalyst in combination.
上述した架橋剤としては、例えば、1分子中に少なくとも2個のケイ素原子に結合した水素原子を有するオルガノポリシロキサン、具体的には、ジメチルハイドロジェンシロキシ基末端封鎖ジメチルシロキサン−メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、トリメチルシロキシ基末端封鎖ジメチルシロキサン−メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、トリメチルシロキシ基末端封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、ポリ(ハイドロジェンシルセスキオキサン)などが挙げられる。 Examples of the crosslinking agent described above include, for example, an organopolysiloxane having hydrogen atoms bonded to at least two silicon atoms in one molecule, specifically, a dimethylhydrogensiloxy group end-capped dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer. Examples thereof include a polymer, a trimethylsiloxy group end-capped dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer, a trimethylsiloxy group end-capped methylhydrogenpolysiloxane, and poly (hydrogensilsesquioxane).
また、上述した触媒としては、微粒子状白金、炭素粉末担体上に吸着された微粒子状白金、塩化白金酸、アルコール変性塩化白金酸、塩化白金酸のオレフィン錯体、パラジウム、及びロジウムなどの白金属金属系化合物などが挙げられる。このような触媒を用いることにより、剥離剤層形成用組成物の硬化反応をより効率よく進行させることができる。 Further, the above-mentioned catalyst includes fine platinum, fine platinum adsorbed on a carbon powder carrier, chloroplatinic acid, alcohol-modified chloroplatinic acid, olefin complexes of chloroplatinic acid, palladium, rhodium and other white metal metals System compounds and the like. By using such a catalyst, the curing reaction of the composition for forming a release agent layer can be advanced more efficiently.
フッ素化合物としては、フッ素シリコーン化合物、フッ素ボロン化合物、ポリ(パーフルオロアルキレンエーテル)鎖含有化合物などが挙げられる。 Examples of the fluorine compound include a fluorine silicone compound, a fluorine boron compound, and a poly (perfluoroalkylene ether) chain-containing compound.
アクリル系化合物としては、一般に架橋構造を有するアクリル系化合物が用いられる。また、アクリル系化合物は、アルキル基の炭素数が12以上40以下の長鎖アルキル変性アクリル化合物、シリコーン変性アクリル化合物などの変性物であってもよい。 As the acrylic compound, an acrylic compound having a crosslinked structure is generally used. The acrylic compound may be a modified product such as a long-chain alkyl-modified acrylic compound or a silicone-modified acrylic compound having an alkyl group having 12 to 40 carbon atoms.
アルキド系化合物としては、一般に架橋構造を有するアルキド系化合物が用いられる。架橋構造を有するアルキド化合物層の形成には、例えば、アルキド系化合物、架橋剤及び所望により硬化触媒を含む組成物を加熱硬化させる方法を用いることができる。また、アルキド系化合物は、アルキル基の炭素数が12以上40以下の長鎖アルキル変性アルキド化合物、シリコーン変性アルキド化合物などの変性物であってもよい。 As the alkyd compound, an alkyd compound having a crosslinked structure is generally used. For the formation of the alkyd compound layer having a crosslinked structure, for example, a method of heat-curing a composition containing an alkyd compound, a crosslinking agent, and optionally a curing catalyst can be used. The alkyd compound may be a modified product such as a long-chain alkyl-modified alkyd compound or a silicone-modified alkyd compound having an alkyl group having 12 to 40 carbon atoms.
長鎖アルキル基含有化合物としては、例えば、ポリビニルアルコール系重合体に、アルキル基の炭素数が炭素数12以上40以下の長鎖アルキルイソシアネートを反応させて得られたポリビニルカーバメートや、ポリエチレンイミンに、アルキル基の炭素数が炭素数12以上40以下の長鎖アルキルイソシアネートを反応させて得られたアルキル尿素誘導体などが用いられる。 As the long chain alkyl group-containing compound, for example, polyvinyl carbamate obtained by reacting a polyvinyl alcohol polymer with a long chain alkyl isocyanate having 12 to 40 carbon atoms in the alkyl group, polyethyleneimine, An alkylurea derivative obtained by reacting a long-chain alkyl isocyanate whose alkyl group has 12 to 40 carbon atoms is used.
活性エネルギー線硬化型の離型層形成用材料としては、例えば、(メタ)アクリロイル基、アルケニル基及びマレイミド基から選択される反応性官能基を有する活性エネルギー線硬化性化合物(A)と、ポリオルガノシロキサン(B)とを含むものが好ましい。この離型層形成用材料により形成された離型層12においては、相互に分子構造、極性、分子量が異なる活性エネルギー線硬化性化合物(A)及びポリオルガノシロキサン(B)を用いているので、塗布後の離型層形成用材料の硬化前にポリオルガノシロキサン(B)が離型層12の外表面12a付近に押し上げられてポリオルガノシロキサン(B)に由来する成分が偏析した状態となる。これにより、離型層12の離型性を向上することができる。
Examples of the active energy ray-curable release layer forming material include an active energy ray-curable compound (A) having a reactive functional group selected from a (meth) acryloyl group, an alkenyl group and a maleimide group, Those containing organosiloxane (B) are preferred. In the
<活性エネルギー線硬化性化合物(A)>
活性エネルギー線硬化性化合物(A)は、離型層12に硬化性を付与する成分である。
活性エネルギー線硬化性化合物(A)としては、(メタ)アクリロイル基、アルケニル基及びマレイミド基から選択される反応性官能基を有するものが好ましい。アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基及びヘキセニル基などの炭素数2以上10以下のアルケニル基が挙げられる。
<Active energy ray-curable compound (A)>
The active energy ray-curable compound (A) is a component that imparts curability to the
The active energy ray-curable compound (A) preferably has a reactive functional group selected from a (meth) acryloyl group, an alkenyl group and a maleimide group. Examples of the alkenyl group include alkenyl groups having 2 to 10 carbon atoms such as vinyl group, allyl group, propenyl group, and hexenyl group.
また、活性エネルギー線硬化性化合物(A)としては、硬化性の観点から、上記反応性官能基を分子内に3つ以上有するものが好ましい。反応性官能基を分子内に3つ以上有する活性エネルギー線硬化性化合物(A)を用いることにより、酸素阻害により硬化が難しい厚さの離型層12であっても、優れた硬化性、耐溶剤性、及び剥離性を得ることができる
The active energy ray-curable compound (A) preferably has three or more reactive functional groups in the molecule from the viewpoint of curability. By using the active energy ray-curable compound (A) having three or more reactive functional groups in the molecule, even with the
活性エネルギー線硬化性化合物(A)における反応性官能基の含有量としては、活性エネルギー線硬化性化合物(A)1kg当たり10当量以上であることが好ましい。これにより、離型層形成用材料が基材フィルム11の第1面11a上に薄膜で塗布された場合であっても、活性エネルギー線硬化性化合物(A)の硬化性が良好となる。
The reactive functional group content in the active energy ray-curable compound (A) is preferably 10 equivalents or more per kg of the active energy ray-curable compound (A). Thereby, even if it is a case where the mold release layer forming material is apply | coated with the thin film on the
活性エネルギー線硬化性化合物(A)としては、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートなどの多官能(メタ)アクリレートが挙げられる。これらの中でも、活性エネルギー線硬化性化合物(A)としては、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートからなる群から選択された少なくとも1種を用いることが好ましい。これにより、離型層形成用材料が基材フィルム11の第1面11a上に薄膜で塗布された場合であっても、活性エネルギー線硬化性化合物(A)の硬化性が良好となる。
Examples of the active energy ray-curable compound (A) include dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and pentaerythritol. Polyfunctional (meth) acrylates such as tri (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate are exemplified. Among these, the active energy ray-curable compound (A) includes dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (meth). It is preferable to use at least one selected from the group consisting of acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and pentaerythritol tetra (meth) acrylate. Thereby, even if it is a case where the mold release layer forming material is apply | coated with the thin film on the
離型層形成用材料における活性エネルギー線硬化性化合物(A)の固形分含有量(溶剤を除いた全固形分中における含有割合)としては、65質量%以上98.5質量%以下が好ましく、71質量%以上94質量%以下がより好ましい。 The solid content of the active energy ray-curable compound (A) in the release layer forming material (content in the total solid content excluding the solvent) is preferably 65% by mass or more and 98.5% by mass or less. 71 mass% or more and 94 mass% or less are more preferable.
<ポリオルガノシロキサン(B)>
ポリオルガノシロキサン(B)は、離型層12に離型性を付与する成分である。ポリオルガノシロキサン(B)としては、例えば、直鎖状又は分岐状の分子鎖を有するものが挙げられる。また、ポリオルガノシロキサン(B)としては、分子鎖の末端及び側鎖の少なくとも一方に、直接又は2価の連結基を介して(メタ)アクリロイル基、アルケニル基及びマレイミド基から選択される反応性官能基が分子鎖のケイ素原子と結合した変性ポリオルガノシロキサンを用いることが好ましい。アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、及びヘキセニル基などの炭素数2以上10以下のアルケニル基が挙げられる。また、2価の連結基としては、例えば、アルキレン基、アルキレンオキシ基、オキシ基、イミノ基、カルボニル基及びこれらを組み合わせた2価の連結基が挙げられる。2価の連結基の炭素数としては、1以上30以下が好ましく、1以上10以下がより好ましい。ポリオルガノシロキサン(B)は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Polyorganosiloxane (B)>
The polyorganosiloxane (B) is a component that imparts releasability to the
上記変性オルガノポリシロキサンによれば、活性エネルギー線照射により活性エネルギー線硬化性化合物(A)が硬化する際に、変性オルガノポリシロキサンが活性エネルギー線硬化性化合物(A)の硬化物の架橋構造に組み込まれて固定される。これにより、例えばグリーンシートの製造に用いられる場合、離型層12の外表面12a上に設けられるグリーンシートに離型層12に含まれるポリオルガノシロキサンが移行することを抑制することができる。
According to the modified organopolysiloxane, when the active energy ray-curable compound (A) is cured by irradiation with active energy rays, the modified organopolysiloxane has a crosslinked structure of the cured product of the active energy ray-curable compound (A). Built-in and fixed. Thereby, when using for manufacture of a green sheet, for example, it can control that polyorganosiloxane contained in
ポリオルガノシロキサン(B)の反応性官能基以外の有機基としては、脂肪族不飽和結合を有しない一価の炭化水素基が挙げられる。この有機基としては、同種又は異種のものを複数有していてもよい。炭化水素基としては、炭素数1以上12以下のものが好ましく、炭素数1以上10以下のものがより好ましい。炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などのアルキル基、フェニル基、トリル基などのアリール基などが挙げられる。 Examples of the organic group other than the reactive functional group of the polyorganosiloxane (B) include a monovalent hydrocarbon group having no aliphatic unsaturated bond. As this organic group, you may have two or more same type or different types. As a hydrocarbon group, a C1-C12 thing is preferable and a C1-C10 thing is more preferable. Examples of the hydrocarbon group include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, and aryl groups such as a phenyl group and a tolyl group.
ポリオルガノシロキサン(B)としては、離型層12の離型性を向上する観点から、ポリオルガノシロキサン(B)の分子中の反応性官能基以外の有機基の80モル%以上がメチル基であるものが好ましい。
As the polyorganosiloxane (B), 80 mol% or more of organic groups other than reactive functional groups in the molecule of the polyorganosiloxane (B) is a methyl group from the viewpoint of improving the releasability of the
離型層形成用材料におけるポリオルガノシロキサン(B)の固形分含有量としては、0.5質量%以上5質量%以下が好ましく、0.7質量%以上4質量%以下がより好ましい。これにより、例えばグリーンシートの製造に用いられる場合、セラミックスラリーをはじくことなく基材フィルム11上に塗布することが容易となり、離型フィルム1の離型性が向上する。 The solid content of the polyorganosiloxane (B) in the release layer forming material is preferably 0.5% by mass or more and 5% by mass or less, and more preferably 0.7% by mass or more and 4% by mass or less. Thereby, for example, when used for the production of a green sheet, it becomes easy to apply on the base film 11 without repelling the ceramic slurry, and the releasability of the release film 1 is improved.
また、活性エネルギー線硬化性化合物(A)とポリオルガノシロキサン(B)との配合量としては、(B)成分/(A)成分=0.7/99.3以上5/95以下であることが好ましく、(B)成分/(A)成分=1/99以上4.5/95.5以下であることがより好ましい。これにより、例えばグリーンシートの製造に用いられる場合、セラミックスラリーをはじくことなく基材フィルム11上に塗布することが容易となり、離型フィルム1の離型性が向上する。 Further, the blending amount of the active energy ray-curable compound (A) and the polyorganosiloxane (B) is (B) component / (A) component = 0.7 / 99.3 or more and 5/95 or less. It is preferable that (B) component / (A) component = 1/99 or more and 4.5 / 95.5 or less. Thereby, for example, when used for the production of a green sheet, it becomes easy to apply on the base film 11 without repelling the ceramic slurry, and the releasability of the release film 1 is improved.
<光重合開始剤(C)>
光重合開始剤(C)は、活性エネルギー線として紫外線を用いて離型層形成用材料を硬化させる場合に硬化性を向上させる成分である。
<Photopolymerization initiator (C)>
The photopolymerization initiator (C) is a component that improves curability when the release layer forming material is cured using ultraviolet rays as active energy rays.
光重合開始剤(C)としては、本発明の効果を奏する範囲であれば特に制限はない。光重合開始剤(C)としては、大気雰囲気下における離型層形成用材料の硬化性に優れ、離型フィルム1を容易に製造できる観点から、α−アミノアルキルフェノン系の光重合開始剤が好ましい。
α−アミノアルキルフェノン系の光重合開始剤としては、優れた硬化性、耐溶剤性及び離型性の観点から、例えば、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノンが好ましい。
The photopolymerization initiator (C) is not particularly limited as long as the effects of the present invention are achieved. As the photopolymerization initiator (C), an α-aminoalkylphenone-based photopolymerization initiator is used from the viewpoint that the release layer forming material is excellent in curability in an air atmosphere and the release film 1 can be easily produced. preferable.
Examples of the α-aminoalkylphenone photopolymerization initiator include 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopro from the viewpoint of excellent curability, solvent resistance, and releasability. Pan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone is preferred.
離型層形成用材料における光重合開始剤(C)の固形分含有量としては、1質量%以上20質量%以下が好ましく、3質量%以上15質量%以下がより好ましい。これにより、離型層12の厚さが酸素阻害により硬化性が得られ難い範囲の厚さであっても、優れた硬化性、耐溶剤性及び離型性を得ることができる。
The solid content of the photopolymerization initiator (C) in the release layer forming material is preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less, and more preferably 3% by mass or more and 15% by mass or less. Thereby, even if the thickness of the
また、離型層形成用材料としては、本発明の効果を奏する範囲で増感剤、帯電防止剤、硬化剤、反応性モノマーなどの他の成分を含むものを用いることもできる。増感剤としては、離型層形成用材料の硬化性が向上する観点から、2,4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントンが好ましい。他の成分の固形分含有量としては、0質量%以上10質量%以下が好ましい。 In addition, as the release layer forming material, a material containing other components such as a sensitizer, an antistatic agent, a curing agent, and a reactive monomer can be used as long as the effects of the present invention are exhibited. As the sensitizer, 2,4-diethylthioxanthone and isopropylthioxanthone are preferable from the viewpoint of improving the curability of the release layer forming material. As solid content of another component, 0 mass% or more and 10 mass% or less are preferable.
離型層12の厚さは、0.3μm以上2μm以下が好ましい。離型層12の厚さが0.3μm以上であれば、離型層12表面の平滑性が十分に得られ、例えばグリーンシートの製造に用いられる場合、グリーンシートのピンホール及び部分的な厚みのばらつきを防ぐことができる。また、離型層12の厚さが2μm以下であれば、離型層12の硬化時の収縮を防ぐことができ、離型フィルム1のカールの発生を防ぐことができる。また、離型フィルム1のブロッキングの発生を防ぐことができ、離型フィルム1の巻き出し性が向上すると共に、巻き出し時の帯電量を低減できる。
The thickness of the
(剥離層22)
剥離層22としては、本発明の効果を奏する範囲であれば特に制限はない。剥離層22の形成に用いられる剥離層形成用材料としては、再剥離型粘着剤、疑似接着剤などを用いることができる。
(Peeling layer 22)
The
剥離層形成用材料が再剥離型粘着剤を含む場合、シリコーン系粘着剤、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤、及びポリエステル系粘着剤などの粘着剤を用いることが好ましい。また、粘着剤と硬化剤とを含有させ、熱若しくは活性エネルギー線などによって硬化させるか、粘着剤の分子量などを最適化させることにより、粘着力を調整することが好ましい。粘着剤としては、これらの中でも、汎用性及び耐久性に優れる観点から、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤及びアクリル系粘着剤が好ましい。 When the release layer forming material contains a re-peelable adhesive, adhesives such as silicone adhesives, acrylic adhesives, rubber adhesives, urethane adhesives, polyether adhesives, and polyester adhesives Is preferably used. Moreover, it is preferable to adjust adhesive force by containing an adhesive and a hardening | curing agent and making it harden | cure by a heat | fever or an active energy ray, or optimizing the molecular weight of an adhesive. Among these, urethane-based adhesives, silicone-based adhesives, and acrylic-based adhesives are preferable from the viewpoints of versatility and durability.
また、剥離層形成用材料が疑似接着剤を含む場合、例えば、熱可塑性樹脂を、単独、又は複数混合して得られる疑似接着剤を用いることが好ましい。熱可塑性樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリメチルペンテンなどの単独重合体もしくは共重合体からなるポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂及びポリ酢酸ビニル系樹脂などが挙げられる。また、必要に応じてこれらの剥離層形成用材料に帯電防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、消泡剤、濡れ剤、滑剤及び増粘剤などの各種添加剤を添加することもできる。 Moreover, when the peeling layer forming material contains a pseudo adhesive, it is preferable to use, for example, a pseudo adhesive obtained by mixing a plurality of thermoplastic resins alone or in combination. Examples of the thermoplastic resin include polyolefin resins, polyester resins, acrylic resins, and polyvinyl acetate resins made of homopolymers or copolymers such as polyethylene, polypropylene, and polymethylpentene. In addition, various additives such as an antistatic agent, an ultraviolet absorber, a dye, a pigment, an antifoaming agent, a wetting agent, a lubricant, and a thickening agent can be added to the release layer forming material as necessary.
アクリル系粘着剤としては、アルキル基の炭素数が1以上20以下の(メタ)アクリル酸エステルモノマー由来の構成単位を含むポリマーが好ましく、アルキル基の炭素数が1以上20以下の(メタ)アクリル酸エステルモノマーと必要に応じて配合される共重合性のモノマーとの共重合によって得られるコポリマーと、硬化剤とが配合されたものが好ましい。アクリル系粘着剤は、ガラス転移温度(Tg)が−70℃以上5℃以下であることが好ましい。 The acrylic pressure-sensitive adhesive is preferably a polymer containing a structural unit derived from a (meth) acrylic acid ester monomer having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a (meth) acrylic having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. A blend of a copolymer obtained by copolymerization of an acid ester monomer with a copolymerizable monomer blended as necessary and a curing agent is preferred. The acrylic pressure-sensitive adhesive preferably has a glass transition temperature (Tg) of −70 ° C. or higher and 5 ° C. or lower.
アルキル基の炭素数が1以上20以下の(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチルアクリル酸ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸シクロヘキシルなどのアクリル酸アルキルエステルや、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシルなどのメタクリル酸アルキルエステルが用いられる。また、アクリル系粘着剤としては、市販品のアクリル系粘着型粘着剤(商品名「オリバインBPS5227−1」、トーヨーケム社製)などを用いることもできる。 Examples of the (meth) acrylic acid ester monomer having an alkyl group with 1 to 20 carbon atoms include acrylics such as methyl acrylate, ethyl butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, and cyclohexyl acrylate. Acid alkyl esters and methacrylic acid alkyl esters such as butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate and cyclohexyl methacrylate are used. In addition, as the acrylic pressure-sensitive adhesive, a commercially available acrylic pressure-sensitive adhesive (trade name “Olivein BPS5227-1”, manufactured by Toyochem Co., Ltd.) can be used.
共重合性のモノマーとしては、例えば、官能基を有しないモノマーとして、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ビニルエーテル、スチレン、アクリロニトリルが好適に用いられる。また、官能基を有する共重合性のモノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などのカルボキシル基含有モノマー、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、N−メチロールアクリルアミド、アリルアルコールなどのヒドロキシル基含有モノマー、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレートなどの3級アミノ基含有モノマー、アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−オクチルアクリルアミドなどのN−置換アミド基含有モノマー、グリシジルメタクリレートなどのエポキシ基含有モノマーが好適に用いられる。 As the copolymerizable monomer, for example, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl ether, styrene, acrylonitrile are preferably used as monomers having no functional group. Moreover, examples of the copolymerizable monomer having a functional group include carboxyl group-containing monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid and itaconic acid, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2 -Hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, N-methylolacrylamide, hydroxyl group-containing monomers such as allyl alcohol, tertiary amino group-containing monomers such as dimethylaminopropyl (meth) acrylate, acrylamide, N N-substituted amide group-containing monomers such as methyl (meth) acrylamide, N-methoxymethyl (meth) acrylamide, and N-octylacrylamide, and epoxy group-containing monomers such as glycidyl methacrylate are preferably used.
ウレタン系粘着剤としては、ポリウレタン樹脂及びポリウレタンウレア樹脂などを用いることができる。ポリウレタン樹脂としては、例えば、ポリオールとポリイソシアネートを反応させて得られるウレタンプレポリマーにアミン化合物などを付加反応させたものが挙げられる。ポリオールとしては、ポリエステルポリオール及びポリエーテルポリオールが好ましく、また官能基が2以上のものを用いることが好ましい。ポリイソシアネートとしては、例えば、芳香族ポリイソシアネート、脂肪族ポリイソシアネート、芳香脂肪族ポリイソシアネート、及び脂環族ポリイソシアネートなどが挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。また、ウレタン系粘着剤としては、市販品のウレタン系粘着型粘着剤(商品名「サイアバインSH−101」、トーヨーケム社製)を用いることもできる。 As the urethane pressure-sensitive adhesive, a polyurethane resin, a polyurethane urea resin, or the like can be used. Examples of the polyurethane resin include those obtained by adding an amine compound or the like to a urethane prepolymer obtained by reacting a polyol and a polyisocyanate. As the polyol, polyester polyol and polyether polyol are preferable, and those having two or more functional groups are preferably used. Examples of the polyisocyanate include aromatic polyisocyanate, aliphatic polyisocyanate, araliphatic polyisocyanate, and alicyclic polyisocyanate. These may be used alone or in combination of two or more. Moreover, as a urethane type adhesive, a commercially available urethane type adhesive type adhesive (Brand name "Siavine SH-101", the Toyochem company make) can also be used.
硬化剤としては、イソシアナート系、エポキシ系、金属キレート化合物系、アミン化合物系、ヒドラジン化合物系、アルデヒド化合物系、金属アルコキシド系及び金属塩系などが挙げられる。これらの中でもイソシアナート系、エポキシ系が好ましい。硬化剤としては、市販品の硬化剤BXX8134(トーヨーケム社製)及びヘキサメチレンジイソシアネートの三量体(商品名「コロネート2030」、日本ポリウレタン工業社製)を用いることもできる。 Examples of the curing agent include isocyanate, epoxy, metal chelate compound, amine compound, hydrazine compound, aldehyde compound, metal alkoxide, and metal salt. Among these, isocyanate type and epoxy type are preferable. As the curing agent, a commercially available curing agent BXX8134 (manufactured by Toyochem) and a trimer of hexamethylene diisocyanate (trade name “Coronate 2030”, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) can also be used.
剥離層形成用材料における硬化剤の配合量としては、粘着剤100質量部に対して、硬化剤0.01質量部以上20質量部以下が好ましく、0.05質量部以上10質量部以下がより好ましい。 As a compounding quantity of the hardening | curing agent in the peeling layer forming material, 0.01 mass part or more and 20 mass parts or less are preferable with respect to 100 mass parts of adhesives, and 0.05 mass part or more and 10 mass parts or less are more. preferable.
剥離層22の厚さとしては、1μm以上200μm以下が好ましく、2μm以上100μm以下がより好ましく、3μm以上50μm以下が更に好ましい。
The thickness of the
(支持体21)
支持体21としては、本発明の効果を奏する範囲であれば特に制限はなく、上述した基材フィルム11と同様のものを用いることができる。また、支持体21の厚さとしては、10μm以上300μm以下が好ましく、15μm以上200μm以下がより好ましく、20μm以上125μm以下が更に好ましい。
(Support 21)
The
次に、本実施の形態に係る離型フィルム1の製造方法について説明する。本実施の形態に係る離型フィルム1の製造方法は、支持体21上に剥離層22を設けてアプリケーションフィルム20を作製する第1工程と、アプリケーションフィルム20の剥離層22上に基材フィルム11の第2面11bを固定して中間積層体を得る第2工程と、積層体の基材フィルム11上に離型層12を設ける第3工程とを含む。
Next, the manufacturing method of the release film 1 which concerns on this Embodiment is demonstrated. In the manufacturing method of the release film 1 according to the present embodiment, the base film 11 is formed on the
(第1工程)
第1工程では、剥離層形成用材料を支持体21の一方の表面上に塗布し、必要により乾燥・硬化させる。この結果、支持体21上に剥離層22が形成されてアプリケーションフィルム20が作製される。
(First step)
In the first step, the release layer forming material is applied on one surface of the
剥離層形成用材料が熱硬化型の場合には、例えば、50℃以上150℃以下にて0.5分以上10分以下で加熱、硬化されることにより、剥離層22が形成される。剥離層形成用材料が活性エネルギー線硬化型の場合には、剥離層形成用材料の塗布層に対して、活性エネルギー線を照射して硬化させることにより、剥離層22が形成される。活性エネルギー線が紫外線である場合、紫外線の照射量は、積算光量が50〜1000mJ/cm2であるのが好ましく、100〜500mJ/cm2であるのがより好ましい。また、活性エネルギー線が電子線である場合には、電子線の照射量は、0.1〜50kGy程度が好ましい。
In the case where the release layer forming material is a thermosetting type, for example, the
剥離層形成用材料が熱溶融型の場合には、例えば、剥離層形成用材料の融点以上の温度で溶融し、塗布後、冷却されることにより、剥離層22が形成される。剥離層形成用材料の塗布方法としては、例えば、グラビアコート法、バーコート法、スプレーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ダイコート法などが使用できる。
In the case where the release layer forming material is a heat melting type, for example, the
(第2工程)
第2工程では、得られたアプリケーションフィルム20の剥離層22と基材フィルム11の第2面11bとをラミネートなどにより積層して中間積層体を作製する。
(Second step)
In the second step, an intermediate laminate is produced by laminating the
(第3工程)
第3工程では、離型層形成用材料を中間積層体の基材フィルム11の第1面11a上に塗布し、必要により乾燥・硬化させる。この結果、中間積層体の基材フィルム11の第1面11a上に離型層12が形成されて離型フィルム1が作製される。
(Third step)
In the third step, the release layer forming material is applied onto the
離型層形成用材料が熱硬化型の場合には、例えば、50℃以上150℃以下にて0.5分以上10分以下で加熱、硬化されることにより、離型層12が形成される。離型層形成用材料が活性エネルギー線硬化型の場合には、離型層形成用材料の塗布層に対して、活性エネルギー線を照射して硬化させることにより、離型層12が形成される。活性エネルギー線が紫外線である場合、その照射量は、積算光量が50〜1000mJ/cm2であるのが好ましく、100〜500mJ/cm2であるのがより好ましい。また、活性エネルギー線が電子線である場合には、電子線の照射量は、0.1〜50kGy程度が好ましい。
In the case where the release layer forming material is a thermosetting type, for example, the
離型層形成用材料が熱溶融型の場合には、例えば、離型層形成用材料の融点以上の温度で溶融し、塗布後、冷却されることにより、離型層12が形成される。離型層形成用材料は、基材フィルム11の第1面11aの凹凸を埋めて平滑化された離型層12を形成する。離型層形成用材料の塗布方法としては、例えば、グラビアコート法、バーコート法、スプレーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ダイコート法などが使用できる。
In the case where the release layer forming material is a heat melting type, for example, the
なお、上述した実施の形態においては、アプリケーションフィルム20が支持体21及び剥離層22によって構成される例について説明したが、この構成に限定されない。アプリケーションフィルム20は、基材フィルム11からアプリケーションフィルム20をスムーズに剥離可能であれば、支持体21のみによって構成してもよい。また、基材フィルム11側に剥離性を向上する機能を有する層を設けることによりアプリケーションフィルム20の剥離性を向上することもできる。
In addition, in embodiment mentioned above, although the
また、上述した実施の形態においては、基材フィルム11及び支持体21が単層で構成される例について説明したが、この構成に限定されない。基材フィルム11及び支持体21は、複数のフィルムが積層された積層体として構成してもよい。基材フィルム11及び支持体21が積層体によって構成される場合には、少なくとも1層が帯電を防止する帯電防止層としてもよい。また、基材フィルム11が積層体によって構成される場合には、離型層12側の表層に離型層12と基材フィルム11との密着性を向上させる層を有していてもよい。また、基材フィルム11は、離型層12側の表層及びアプリケーションフィルム20側の表層の少なくとも一方に平滑性を付与する平滑層を有していてもよい。
Moreover, in embodiment mentioned above, although the base film 11 and the
<グリーンシートの製造方法>
次に、図2A及び図2Bを参照して、本実施の形態に係るグリーンシートの製造方法について説明する。図2A及び図2Bは、本実施の形態に係るグリーンシートの製造方法の説明図である。本実施の形態に係るグリーンシートの製造方法は、上記実施の形態に係る離型フィルム1の離型層12上にグリーンシート31を設けて第1積層体2を得る第1工程と、第1積層体2から保護層20を剥離して第2積層体3を得る第2工程と、第2積層体3をロール状に巻き取る第3工程とを含む。
<Green sheet manufacturing method>
Next, with reference to FIG. 2A and FIG. 2B, the manufacturing method of the green sheet which concerns on this Embodiment is demonstrated. 2A and 2B are explanatory diagrams of the green sheet manufacturing method according to the present embodiment. The manufacturing method of the green sheet which concerns on this Embodiment provides the 1st process of providing the 1st
(第1工程)
図2Aに示すように、第1工程では、上記実施の形態に係る離型フィルム1の離型層12の外表面12a上にセラミックスラリーを塗工及び乾燥してグリーンシート31を設けて第1積層体2を得る。セラミックスラリーとしては、例えば、セラミック粉末、分散媒(溶媒)、分散剤、バインダー、及び可塑剤などを所望の割合で配合し、ビーズミル、ボールミル、アトライタ、ペイントシェーカー、又はサンドミルなどの媒体型分散機を用いて混合・解砕したものを用いることができる。また、セラミックスラリーの塗工方法としては、特に制限はなく、例えば、ドクターブレード法などの塗工方法により離型層12に塗工することが可能である。グリーンシート31の厚さは、特に限定されないが、5μm以下が好ましく、0.05μm以上3μm以下がより好ましく、0.1μm以上3μm以下がさらに好ましい。
(First step)
As shown in FIG. 2A, in the first step, a ceramic slurry is applied and dried on the
(第2工程)
第2工程では、第1積層体2から保護層20を剥離して第2積層体3を得る。保護層20の剥離方法としては、第1積層体2から保護層20を剥離可能な方法であれば特に制限はない。
(Second step)
In the second step, the
(第3工程)
第3工程では、グリーンシート31が形成された第2積層体3を紙製、プラスチック製、又は金属製などの芯材(コア材)にロール状に巻き取る。基材フィルム11の第2面11bが平滑面であることから、第2積層体3がロール状に巻き取られてグリーンシート31の外表面と基材フィルム11の第2面11bとが当接する場合であっても、グリーンシート31の表面におけるピンホールの発生などを抑制することができる。
(Third step)
In a 3rd process, the 2nd laminated body 3 in which the
<積層セラミック電子部品の製造方法>
次に、図3〜図4Dを参照して、本実施の形態に係る積層セラミック電子部品の製造方法について説明する。図3は、本実施の形態に係る積層セラミックコンデンサの断面模式図であり、図4A〜図4Dは、本実施の形態に係る積層セラミックコンデンサの製造方法の工程図である。なお、以下においては、積層セラミック電子部品として積層セラミックコンデンサを製造する例について説明するが、本発明は、積層セラミックコンデンサ以外の各種電子部品の製造に適用可能である。
<Method for producing multilayer ceramic electronic component>
Next, with reference to FIGS. 3-4D, the manufacturing method of the multilayer ceramic electronic component which concerns on this Embodiment is demonstrated. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the multilayer ceramic capacitor according to the present embodiment, and FIGS. 4A to 4D are process diagrams of the method for manufacturing the multilayer ceramic capacitor according to the present embodiment. In the following, an example in which a multilayer ceramic capacitor is manufactured as a multilayer ceramic electronic component will be described. However, the present invention is applicable to manufacturing various electronic components other than the multilayer ceramic capacitor.
図3に示すように、本実施の形態に係る積層セラミックコンデンサ6は、グリーンシート31と、このグリーンシート31上に設けられた内部電極32とが複数積層されてなる。この積層セラミックコンデンサ6においては、両端部に設けられた外部電極33によって複数の内部電極32が電気的に接続されている。また、複数の内部電極32は、グリーンシート31及び内部電極32内に設けられたビアホール(不図示)によって電気的に接続されている。
As shown in FIG. 3, the multilayer ceramic capacitor 6 according to the present embodiment is formed by laminating a plurality of
本実施の形態に係る積層セラミック電子部品の製造方法は、上記実施の形態に係るグリーンシート31の製造方法によって製造されたグリーンシート31上に内部電極32を設けると共に、内部電極32を設けたグリーンシート31を積層して中間積層体を得る積層工程と、中間積層体を所望の形状に成形する成形工程と、中間積層体に外部電極を形成する外部電極形成工程と、を含む。
The manufacturing method of the multilayer ceramic electronic component according to the present embodiment includes the
(積層工程)
まず、図4Aに示すように、上記実施の形態に係るグリーンシートの製造方法によって製造されたグリーンシート31からキャリアフィルム10を除去する。次に、グリーンシート31の一方の主面上に導電性ペーストなどを塗布して内部電極32を設けて内部電極積層体4を作製する。次に、図4Bに示すように、グリーンシート31の内部電極32上に別途作製した内部電極積層体4を順次積層する。そして、内部電極32の上下両面に電極の配設されていないグリーンシート31を積層及び圧着することにより、中間積層体5を作製する。
(Lamination process)
First, as shown to FIG. 4A, the
(成形工程)
成形工程では、図4Cの点線に示すように、所望の形状となるように、中間積層体を切断した後(図4D参照)、脱バインダー及び焼成を行う。脱バインダーは、窒素雰囲気中で熱処理することにより行う。また、焼成は、弱還元性雰囲気で所定の温度に加熱することにより行う。
(Molding process)
In the molding step, as shown by the dotted line in FIG. 4C, the intermediate laminate is cut so as to have a desired shape (see FIG. 4D), and then the binder is removed and fired. The binder removal is performed by heat treatment in a nitrogen atmosphere. Firing is performed by heating to a predetermined temperature in a weakly reducing atmosphere.
(外部電極形成工程)
次に、外部電極形成工程では、焼成後の中間積層体5の両端部に銀などの導電性ペーストを塗布、焼付けして、内部電極32と電気的に接続された導通する外部電極33を形成することにより、図3に示すような積層セラミックコンデンサ6が得られる。なお、積層セラミック多層基板などの他の積層セラミック電子部品も、上述の積層セラミックコンデンサ6の場合と同様に、グリーンシートを積層して積層体を形成する工程を経て製造することができる。
(External electrode formation process)
Next, in the external electrode forming step, a conductive paste such as silver is applied and baked on both ends of the fired
以下、本発明の効果を明確にするために行った実施例に基づいて本発明をより詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施例によって何ら限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples made to clarify the effects of the present invention. In addition, this invention is not limited at all by the following examples.
本発明者らは、上記実施の形態に係る離型フィルム及び比較例に係るフィルムを作製して以下の項目について評価した。 The present inventors produced a release film according to the above embodiment and a film according to a comparative example, and evaluated the following items.
(実施例1)
支持体21としては、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み:23μm、第1面(内表面)の算術平均粗さRa:40nm、第1面の最大突起高さRp:580nm、第2面の算術平均粗さRa:40nm、第2面(外表面20a)の最大突起高さRp:580nm)を用いた。
Example 1
As the
この支持体21の上に、アクリル系粘着型粘着剤(商品名「オリバインBPS5227−1」、トーヨーケム社製)100質量部(固形分換算)と、硬化剤BXX8134(トーヨーケム社製)2質量部(固形分換算)とを混合した剥離層形成用材料を、ダイコーターで上記支持体21の第1の面上に塗布し、120℃にて1分間の条件で乾燥・硬化させて、厚さ10μmの剥離層22(粘着剤層)を形成してアプリケーションフィルム20を作製した。
On this
基材フィルム11としては、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み:38μm、第1面11aの算術平均粗さRa:15nm、第1面11aの最大突起高さRp:105nm、第2面11bの算術平均粗さRa:3nm、第2面11bの最大突起高さRp:15nm)を用いた。
As the base film 11, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness: 38 μm, arithmetic average roughness Ra of the
次に、得られたアプリケーションフィルム20の剥離層22と基材フィルム11の第2面11bとをラミネートすることにより中間積層体を作製した。
Next, an intermediate laminate was produced by laminating the
次に、活性エネルギー線硬化性化合物(A)としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(固形分100質量%)94質量部、ポリオルガノシロキサン(B)としてアクリル変性ポリジメチルシロキサン(信越化学工業社製、商品名「X−22−164A」、固形分100質量%)1質量部、及びα−アミノアルキルフェノン系の光重合開始剤(C)としてα−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤(BASF社製、商品名「IRGACURE907」、2-メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モリフォリノプロパン−1−オン、固形分100質量%)5質量部を、イソプロピルアルコール/メチルエチルケトン混合溶剤(質量比3/1)で希釈して、固形分20質量%の離型層形成用材料を得た。 Next, 94 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (solid content: 100% by mass) as the active energy ray-curable compound (A), and acrylic modified polydimethylsiloxane (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as the polyorganosiloxane (B) 1 part by weight of “X-22-164A”, solid content 100% by mass), and α-aminoalkylphenone photopolymerization initiator (C) as an α-aminoalkylphenone photopolymerization initiator (C), manufactured by BASF Name “IRGACURE907”, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, solid content of 100% by mass, 5 parts by mass of isopropyl alcohol / methyl ethyl ketone mixed solvent (mass ratio) 3/1) to obtain a release layer forming material having a solid content of 20% by mass.
得られた離型層形成用材料をバーコーターで上記中間積層体における基材フィルム11の第1面11a上に塗布して、80℃、1分間で乾燥させて塗布層を形成した。この塗布層に、紫外線を照射(積算光量:250mJ/cm2)して離型層12(厚み:1μm)を形成し、図1に示すような離型フィルム1(キャリアフィルム10とアプリケーションフィルム20との積層体)を得た。
The obtained release layer forming material was applied onto the
(実施例2)
剥離層形成用材料として、ウレタン系粘着型粘着剤(商品名「サイアバインSH−101」、トーヨーケム社製)100質量部(固形分換算)と、硬化剤としてヘキサメチレンジイソシアネートの三量体(商品名「コロネート2030」、日本ポリウレタン工業社製)5質量部(固形分換算)とを混合したものを用いたこと以外は、実施例1と同様にして離型フィルム1を得た。
(Example 2)
As a release layer forming material, urethane-based pressure-sensitive adhesive (trade name “Siavine SH-101”, manufactured by Toyochem Co., Ltd.) 100 parts by mass (in terms of solid content) and hexamethylene diisocyanate trimer (trade name) A release film 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 5 parts by mass (corresponding to solid content) of “Coronate 2030” manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. was used.
(実施例3)
基材フィルム11として、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み:38μm、第1面11aの算術平均粗さRa:15nm、第1面11aの最大突起高さRp:98nm、第2面11bの算術平均粗さRa:15nm、第2面11bの最大突起高さRp:98nm)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして離型フィルム1を得た。
(Example 3)
As the base film 11, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness: 38 μm, arithmetic average roughness Ra of the
(実施例4)
支持体21として、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み:23μm、第1面(内表面)の算術平均粗さRa:13nm、第1面の最大突起高さRp:88nm、第2面(外表面20a)の算術平均粗さRa:13nm、第2面の最大突起高さRp:88nm)を用いた以外は、実施例1と同様にして離型フィルム1を得た。
Example 4
Biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness: 23 μm, arithmetic average roughness Ra of the first surface (inner surface): 13 nm, maximum protrusion height Rp of the first surface: 88 nm, second surface (outer surface) A release film 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the arithmetic average roughness Ra of 20a) was 13 nm and the maximum protrusion height Rp of the second surface was 88 nm.
(比較例1)
アプリケーションフィルムを設けなかったこと以外は実施例1と同様にしてキャリアフィルムを作製した。
(Comparative Example 1)
A carrier film was produced in the same manner as in Example 1 except that no application film was provided.
(比較例2)
基材フィルムを二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム[厚み:38μm、第1の面の算術平均粗さRa:42nm、第1の面の最大突起高さRp:619nm、第2の面の算術平均粗さRa:42nm、第2の面の最大突起高さRp:619nm] に変更したこと以外は、比較例1と同様にしてキャリアフィルムを作製した。
(Comparative Example 2)
Biaxially stretched polyethylene terephthalate film [thickness: 38 μm, first surface arithmetic average roughness Ra: 42 nm, first surface maximum protrusion height Rp: 619 nm, second surface arithmetic average roughness A carrier film was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that Ra: 42 nm and the maximum projection height Rp of the second surface Rp: 619 nm.
(表面粗さ)
表面粗さについては、実施例1−4で作製した離型フィルム及び比較例1、2で作製したキャリアフィルムを、各測定面が上になるようにガラス板に貼付された両面テープ上に固定し、JIS B0601−1994に準拠して表面粗さ測定機(SV3000S4(触針式)、ミツトヨ社製)にて算術平均粗さRa及び最大突起高さRpを測定した。表面粗さは、離型層の外表面、基材フィルムの第2面、アプリケーションフィルムの外表面における算術平均粗さRa及び最大突起高さRpを測定した。測定結果を下記表1、2に示す。
(Surface roughness)
For the surface roughness, the release film prepared in Example 1-4 and the carrier film prepared in Comparative Examples 1 and 2 were fixed on a double-sided tape affixed to a glass plate so that each measurement surface was on top. In accordance with JIS B0601-1994, the arithmetic average roughness Ra and the maximum protrusion height Rp were measured with a surface roughness measuring machine (SV3000S4 (stylus type), manufactured by Mitutoyo Corporation). For the surface roughness, the arithmetic average roughness Ra and the maximum protrusion height Rp on the outer surface of the release layer, the second surface of the base film, and the outer surface of the application film were measured. The measurement results are shown in Tables 1 and 2 below.
(剥離性評価)
実施例1−4の離型フィルムからアプリケーションフィルムを引き剥がし、アプリケーションフィルムが正常に剥離できるか評価した。評価結果を下記表3に示す。
A:アプリケーションフィルムが破れることなく、スムーズに剥離できた。
B:アプリケーションフィルムが破れることなく、ややスムーズさに欠けるものの剥離できた。
C:アプリケーションフィルムが破れてしまうか、又は剥離できない。
(Peelability evaluation)
The application film was peeled off from the release film of Example 1-4, and it was evaluated whether the application film could be normally peeled off. The evaluation results are shown in Table 3 below.
A: The application film could be smoothly peeled without tearing.
B: The application film was not broken, but it was slightly smooth but could be peeled off.
C: The application film is torn or cannot be peeled off.
(ハンドリング性評価)
実施例1−4の離型フィルム及び比較例1、2のキャリアフィルムをロール状に巻き取った際のハンドリング性を評価した。評価結果を下記表3に示す。
A:滑り性が良く、かつロール状にするときの空気抜けが良く、離型フィルムの巻きズレを防止できた。
B:滑り性が若干悪く、かつロール状に巻いたときの空気の抜けが若干悪く、巻きズレが若干生じるものの支障がない。
C:滑り性が悪く、かつロール状に巻いたときの空気の抜けが悪く、巻きズレが顕著に生じた。
(Handling evaluation)
The handling property when the release film of Example 1-4 and the carrier films of Comparative Examples 1 and 2 were wound into a roll was evaluated. The evaluation results are shown in Table 3 below.
A: The slipperiness was good, and the air release when forming into a roll shape was good, and the winding deviation of the release film could be prevented.
B: The slipperiness is slightly worse and the air escape is slightly worse when wound in a roll shape.
C: The slipperiness was poor, and the air was not easily removed when wound into a roll, and the winding deviation was noticeably generated.
(ブロッキング性評価)
実施例1−4の離型フィルム及び比較例1,2のキャリアフィルムを、幅400mm、長さ3000mのロール状に巻き上げた。このフィルムロールを40℃、湿度50%以下の環境下にて30日間保管し、ロールの外観を目視にて観察してブロッキング性を評価した。評価結果を下記表3に示す。なお、下記評価Cのように表裏の密着によるブロッキングが発生してロールの広範な領域にわたって色目が変化した場合、正常に巻き出すことができない場合がある。
A:ロール状に巻き上げたときから変化がなく、ブロッキングが発生しなかった。
B:部分的に色目が異なる領域があり、若干ブロッキングが発生したが使用可能であった。
C:広範な領域にわたって色目が異なり、ブロッキング有りが発生した。
(Blocking evaluation)
The release film of Example 1-4 and the carrier films of Comparative Examples 1 and 2 were wound into a roll having a width of 400 mm and a length of 3000 m. This film roll was stored for 30 days in an environment of 40 ° C. and a humidity of 50% or less, and the appearance of the roll was visually observed to evaluate the blocking property. The evaluation results are shown in Table 3 below. In addition, as shown in the following evaluation C, when blocking occurs due to adhesion between the front and back sides and the color changes over a wide area of the roll, the roll may not be unwound normally.
A: There was no change from when it was rolled up, and no blocking occurred.
B: There was a region where the color was partially different, and although some blocking occurred, it was usable.
C: Color was different over a wide area and blocking occurred.
(凹凸欠陥評価1)
ポリビニルブチラール樹脂をトルエン/エタノール混合溶剤(質量比6/4)にて溶解した塗工液を、実施例1−4の離型フィルム及び比較例1,2で得られたキャリアフィルムの離型層の上に、乾燥後の厚さが3μmとなるように塗布し、80℃で1分間乾燥させてポリビニルブチラール樹脂層を成形した。次に、成形したポリビニルブチラール樹脂層の表面にポリエステルテープを貼付し、ポリビニルブチラール樹脂層から離型フィルムを剥離し、ポリビニルブチラール樹脂層をポリエステルテープに転写した。次に、離型フィルム(キャリアフィルム)の離型層に接触していたポリビニルブチラール樹脂層の表面を光干渉式表面形状観察装置(型番:WYKO−1100、Veeco社製)を用いて、PSIモード、50倍率にて、91.2×119.8μmの範囲に確認される離型層の形状が転写された深さ150nm以上の凹みを数えて評価した。なお、下記評価Cの凹みが存在するグリーンシートでコンデンサを作製した場合、耐電圧低下によるショートが発生し易い傾向があった。但し、上記ブロッキング性評価又は剥離性評価で評価Cの場合には、試験を行わなかった。
A:凹みの数が0個の場合
B:凹みの数が1〜5個の場合
C:凹みの数が6個以上の場合
(Unevenness defect evaluation 1)
A coating liquid prepared by dissolving polyvinyl butyral resin in a toluene / ethanol mixed solvent (mass ratio 6/4) was used as a release film of Example 1-4 and a release layer of the carrier film obtained in Comparative Examples 1 and 2. A polyvinyl butyral resin layer was formed by coating the film so that the thickness after drying was 3 μm, and drying at 80 ° C. for 1 minute. Next, a polyester tape was attached to the surface of the molded polyvinyl butyral resin layer, the release film was peeled off from the polyvinyl butyral resin layer, and the polyvinyl butyral resin layer was transferred to the polyester tape. Next, the surface of the polyvinyl butyral resin layer that had been in contact with the release layer of the release film (carrier film) was subjected to PSI mode using an optical interference type surface shape observation device (model number: WYKO-1100, manufactured by Veeco). The dents having a depth of 150 nm or more to which the shape of the release layer confirmed in the range of 91.2 × 119.8 μm was transferred were counted and evaluated at 50 magnifications. In addition, when a capacitor was produced with a green sheet having a dent of the following evaluation C, a short circuit due to a decrease in withstand voltage tended to occur. However, the test was not performed in the case of the evaluation C in the blocking property evaluation or the peelability evaluation.
A: When the number of dents is 0 B: When the number of dents is 1-5 C: When the number of dents is 6 or more
(凹凸欠陥評価2)
ポリビニルブチラール樹脂をトルエン/エタノール混合溶剤(質量比6/4)にて溶解した塗工液を、厚さ50μmのPETフィルム上に、乾燥後の厚さが3μmとなるように塗布し、80℃で1分間乾燥させてポリビニルブチラール樹脂層を成形した。実施例1−4の離型フィルムからアプリケーションフィルムを剥離除去したキャリアフィルム及び比較例1、2のキャリアフィルムの外表面(基材フィルムの第2面)がポリビニルブチラール樹脂層と接するように、当該ポリビニルブチラール樹脂層に貼り合わせた。この積層体を100mm×100mmに裁断した後、荷重5kg/cm2でプレスし、キャリアフィルムの背面の突起形状をポリビニルブチラール樹脂層に転写させた。次に、キャリアフィルムをポリビニルブチラール樹脂層から剥離し、ポリビニルブチラール樹脂フィルムのキャリアフィルムの背面に接触していた面における深さ150nm以上の凹みを数えて評価した。この評価では、光干渉式表面形状観察装置(型番:WYKO−1100、Veeco社製)を用いて、PSIモード、50倍率にて、91.2×119.8μmの範囲に確認される第2面の形状が転写された凹みを数えた。なお、下記評価Cの凹みが存在するグリーンシートでコンデンサを作製した場合、耐電圧低下によるショートが発生し易い傾向があった。但し、上記ブロッキング性評価で評価Cの場合には、試験を行わなかった。
A:凹みの数が0個の場合
B:凹みの数が1〜3個の場合
C:凹みの数が4個以上の場合
(Unevenness defect evaluation 2)
A coating solution prepared by dissolving polyvinyl butyral resin in a toluene / ethanol mixed solvent (mass ratio 6/4) was applied onto a PET film having a thickness of 50 μm so that the thickness after drying was 3 μm, and 80 ° C. And dried for 1 minute to form a polyvinyl butyral resin layer. The carrier film from which the application film was peeled and removed from the release film of Example 1-4 and the outer surface of the carrier film of Comparative Examples 1 and 2 (second surface of the base film) were in contact with the polyvinyl butyral resin layer. It bonded together to the polyvinyl butyral resin layer. The laminate was cut to 100 mm × 100 mm and then pressed with a load of 5 kg / cm 2 to transfer the protrusion shape on the back of the carrier film to the polyvinyl butyral resin layer. Next, the carrier film was peeled from the polyvinyl butyral resin layer, and dents having a depth of 150 nm or more on the surface of the polyvinyl butyral resin film that was in contact with the back surface of the carrier film were counted and evaluated. In this evaluation, the second surface is confirmed in the range of 91.2 × 119.8 μm in the PSI mode at 50 magnifications using an optical interference type surface shape observation device (model number: WYKO-1100, manufactured by Veeco). The number of dents where the shape was transferred was counted. In addition, when a capacitor was produced with a green sheet having a dent of the following evaluation C, a short circuit due to a decrease in withstand voltage tended to occur. However, the test was not performed in the case of evaluation C in the blocking property evaluation.
A: When the number of dents is 0 B: When the number of dents is 1 to 3 C: When the number of dents is 4 or more
表1〜表3から分かるように、基材フィルム11の第2面11bに外表面20aが粗面のアプリケーションフィルム(保護層)20を設けた場合には、剥離性、ハンドリング性、ブロッキング性、凹凸欠陥1、2のいずれにおいても、良好な評価結果が得られることが分かる(実施例1−4)。この結果は、アプリケーションフィルム(保護層)20の外表面20aにより離型フィルム1の一方の主面が適度な粗面となるので、アプリケーションフィルム(保護層)20の外表面20aと離型層12の外表面12aとの間に適度な隙間ができ、巻き取り時の空気抜けが良好になると共に、外表面20aが適度な粗面の範囲であったため凹凸欠陥が生じなかったためと考えられる。
As can be seen from Tables 1 to 3, when the application film (protective layer) 20 having a rough
これに対して、アプリケーションフィルム(保護層)を有さない場合においては、ハンドリング性及びブロッキング性の評価が著しく悪化することが分かる(比較例1)。この結果は、キャリアフィルムの両面が高平滑であるために、キャリアフィルムの巻き取り時の空気抜けが悪化したことや、平滑な表面同士がブロッキングしたことによるものと考えられる。また、単に、基材フィルム11の第2面11bを粗面にした場合には、凹凸欠陥2の評価が悪化することが分かる(比較例2)。
On the other hand, when there is no application film (protective layer), it can be seen that the evaluation of handling properties and blocking properties is significantly deteriorated (Comparative Example 1). This result is considered to be due to the fact that both sides of the carrier film are highly smooth, so that air escape during winding of the carrier film deteriorated and smooth surfaces blocked. Moreover, when the
1 離型フィルム
2 第1積層体
3 第2積層体
4 内部電極積層体
5 中間積層体
6 積層セラミックコンデンサ(積層セラミック電子部品)
10 キャリアフィルム
11 基材フィルム(基材)
11a 第1面
11b 第2面
12 離型層
12a 外表面
20 アプリケーションフィルム(保護層)
20a 外表面
21 支持体
22 剥離層
31 グリーンシート
32 内部電極
33 外部電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
10 Carrier film 11 Base film (base material)
20a
Claims (7)
第1面及び第2面を有する基材と、
前記基材の前記第1面上に設けられた離型層と、
前記基材の前記第2面上に剥離可能に固定された保護層と、を具備し、
前記保護層の外表面が粗面であることを特徴とする、離型フィルム。 It is a release film that can be rolled up and stored on a core material,
A substrate having a first surface and a second surface;
A release layer provided on the first surface of the substrate;
A protective layer releasably fixed on the second surface of the base material,
A release film, wherein an outer surface of the protective layer is a rough surface.
前記第1積層体から前記保護層を剥離して第2積層体を得る第2工程と、
前記第2積層体をロール状に巻き取る第3工程とを含むことを特徴とする、グリーンシートの製造方法。 A first step of obtaining a first laminate by providing a green sheet on the release layer of the release film according to any one of claims 1 to 5;
A second step of removing the protective layer from the first laminate to obtain a second laminate;
And a third step of winding the second laminated body in a roll shape.
前記中間積層体を所望の形状に成形する成形工程と、
前記中間積層体に外部電極を形成する外部電極形成工程と、を含むことを特徴とする、積層セラミック電子部品の製造方法。 A lamination step of providing an internal electrode on a green sheet produced by the method for producing a green sheet according to claim 6, and laminating the green sheet provided with the internal electrode to obtain an intermediate laminate,
A molding step of molding the intermediate laminate into a desired shape;
And an external electrode forming step of forming an external electrode on the intermediate laminate. A method for producing a multilayer ceramic electronic component, comprising:
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