JP6285777B2 - Release film for ceramic green sheet manufacturing process - Google Patents

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Description

本発明は、セラミックグリーンシートを製造する工程で使用する剥離フィルムに関するものである。   The present invention relates to a release film used in a process for producing a ceramic green sheet.

従来より、積層セラミックコンデンサや多層セラミック基板といった積層セラミック製品を製造するには、セラミックグリーンシートを成形し、得られたセラミックグリーンシートを複数枚積層して焼成することが行われている。   Conventionally, in order to manufacture a multilayer ceramic product such as a multilayer ceramic capacitor or a multilayer ceramic substrate, a ceramic green sheet is formed, and a plurality of obtained ceramic green sheets are stacked and fired.

セラミックグリーンシートは、チタン酸バリウムや酸化チタンなどのセラミック材料を含有するセラミックスラリーを剥離フィルム上に塗工することにより均一な厚みに成形される。剥離フィルムとしては、通常、フィルム基材にポリシロキサン等のシリコーン系化合物で剥離処理し、剥離剤層を形成したものが使用されている。   The ceramic green sheet is formed into a uniform thickness by coating a ceramic slurry containing a ceramic material such as barium titanate or titanium oxide on a release film. As the release film, a film base is usually used which is subjected to a release treatment with a silicone compound such as polysiloxane to form a release agent layer.

近年、電子機器の小型化及び高性能化に伴い、積層セラミックコンデンサや多層セラミック基板の小型化及び多層化が進み、セラミックグリーンシートの薄膜化が進んでいる。セラミックグリーンシートが薄膜化して、その乾燥後の厚みが、例えば3μm以下となると、セラミックスラリーを塗工し乾燥させたときに、剥離フィルムにおける剥離剤層の表面状態に起因して、セラミックグリーンシートにピンホールや厚みむら等の欠陥が発生しやすくなる。また、成形したセラミックグリーンシートを剥離フィルムから剥離するときに、セラミックグリーンシートの強度低下による破断等の不具合が発生し易くなる。   In recent years, along with miniaturization and high performance of electronic devices, the miniaturization and multilayering of multilayer ceramic capacitors and multilayer ceramic substrates have progressed, and thinning of ceramic green sheets has progressed. When the thickness of the ceramic green sheet is reduced to 3 μm or less, for example, when the ceramic slurry is applied and dried, the ceramic green sheet is caused by the surface state of the release agent layer in the release film. Defects such as pinholes and uneven thickness are likely to occur. Further, when the formed ceramic green sheet is peeled from the release film, problems such as breakage due to a decrease in strength of the ceramic green sheet are likely to occur.

そのため、この剥離フィルムには、当該剥離フィルム上に成形した薄膜のセラミックグリーンシートを当該剥離フィルムから破断等することなく剥離できる剥離性が要求される。   Therefore, the peelable film is required to have a peelability capable of peeling a thin ceramic green sheet formed on the peelable film without breaking the peelable film.

ところで、上記のようなセラミックグリーンシートに用いられる剥離フィルムは、一般にロール状に巻かれた状態で保管、輸送され、セラミックスラリーが塗工される際に巻き出される。剥離フィルムを巻き出すと静電気を帯びやすいため、静電気によるトラブルが問題となっていた。この問題を解消すべく、特許文献1には、基材の剥離剤層が設けられている面とは反対の面(背面)の算術平均粗さを粗いものとした剥離フィルムを用いることが提案されている。   By the way, the release film used for the ceramic green sheet as described above is generally stored and transported in a rolled state, and is unwound when the ceramic slurry is applied. When the release film is unwound, it is easy to be charged with static electricity. In order to solve this problem, Patent Document 1 proposes to use a release film having a rough arithmetic average roughness on the surface (back surface) opposite to the surface on which the release agent layer of the substrate is provided. Has been.

特開2003−203822号公報JP 2003-203822 A

しかしながら、特許文献1に記載の剥離フィルムを用いた場合、セラミックグリーンシートが成形された剥離フィルムを巻き取って保管する際に、剥離フィルムの背面の粗い表面形状がセラミックグリーンシートに転写してしまい、セラミックグリーンシートが部分的に薄くなる等の欠陥が生じ、セラミックグリーンシートを積層してコンデンサを作製した時に、短絡による不具合を生じてしまう場合があった。   However, when the release film described in Patent Document 1 is used, when the release film formed with the ceramic green sheet is wound and stored, the rough surface shape on the back surface of the release film is transferred to the ceramic green sheet. In some cases, defects such as partial thinning of the ceramic green sheet occur, and when a ceramic green sheet is laminated to produce a capacitor, a defect due to a short circuit may occur.

一方、剥離フィルムの背面の算術表面粗さを小さいものとすると、表面状態が平坦となり、巻き取って重なった剥離フィルム同士の滑りが悪くなるため、前述したようにブロッキングが発生し、巻き取り不良等の不具合を生じてしまう。   On the other hand, if the arithmetic surface roughness of the back surface of the release film is small, the surface state becomes flat, and slipping between the release films that have been wound up overlaps with each other. Etc. will be caused.

さらに、セラミックグリーシートは、剥離フィルムごと所定のサイズに打ち抜かれ、剥離フィルムから剥離されて積層される。その際に、セラミックグリーンシートの剥離剤層と接していた面に剥離付与成分(例えば、シリコーン系化合物)の転写が起こると、セラミックグリーンシート同士の接着力を低下させ、その結果、歩留まりを低下させる問題が生じる。そのため、セラミックグリーンシートへの剥離付与成分の移行の少ない剥離フィルムが求められている。   Further, the ceramic grease sheet is punched into a predetermined size together with the release film, and is peeled off from the release film and laminated. At that time, if the transfer of a peeling imparting component (for example, a silicone compound) occurs on the surface of the ceramic green sheet that is in contact with the release agent layer, the adhesion between the ceramic green sheets is reduced, resulting in a decrease in yield. Cause problems. For this reason, there is a demand for a release film with little transfer of the release imparting component to the ceramic green sheet.

本発明は、このような実状に鑑みてなされたものであり、セラミックグリーンシートの剥離性に優れるとともに、セラミックグリーンシートに剥離付与成分が移行し難く、また、セラミックグリーンシートに欠陥が発生することを防止・抑制することができ、さらには、ブロッキングが発生し難いセラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルムを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and is excellent in the peelability of the ceramic green sheet, the peeling imparting component is not easily transferred to the ceramic green sheet, and a defect occurs in the ceramic green sheet. It is another object of the present invention to provide a release film for a ceramic green sheet manufacturing process in which blocking can be prevented and suppressed, and blocking is unlikely to occur.

上記目的を達成するために、第1に本発明は、第1の面及び第2の面を有する基材と、前記基材の第1の面に設けられた剥離剤層とを備えたセラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルムであって、前記剥離剤層は、活性エネルギー線硬化性成分(A)及び光重合開始剤(B)を含有する剥離剤組成物から形成され、前記活性エネルギー線硬化性成分(A)は、1分子中に平均して少なくとも3個の(メタ)アクリロイル基を有する水酸基含有(メタ)アクリレート(a1)と、多価イソシアネート化合物(a2)と、1分子中に少なくとも1個の水酸基を有し、質量平均分子量が500〜8000の直鎖状のジメチルオルガノポリシロキサン(a3)とを、前記(メタ)アクリレート(a1)、前記多価イソシアネート化合物(a2)及び前記ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)の合計量に対する前記ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)の量が質量比で0.01〜0.10となるように反応させてなり、前記剥離剤層の厚さは0.3〜2μmであり、前記剥離剤層の前記基材とは反対側の面における算術平均粗さ(Ra1)が8nm以下であり、かつ最大突起高さ(Rp1)が50nm以下であり、前記基材の第2の面における算術平均粗さ(Ra2)が5〜40nmであり、かつ最大突起高さ(Rp2)が60〜500nmであることを特徴とするセラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルムを提供する(発明1)。   In order to achieve the above object, first, the present invention provides a ceramic comprising a substrate having a first surface and a second surface, and a release agent layer provided on the first surface of the substrate. A release film for a green sheet manufacturing process, wherein the release agent layer is formed from a release agent composition containing an active energy ray-curable component (A) and a photopolymerization initiator (B), and the active energy ray cure The component (A) is an hydroxyl group-containing (meth) acrylate (a1) having at least three (meth) acryloyl groups on average in one molecule, a polyvalent isocyanate compound (a2), and at least in one molecule. A linear dimethylorganopolysiloxane (a3) having one hydroxyl group and a weight average molecular weight of 500 to 8000, the (meth) acrylate (a1) and the polyvalent isocyanate compound (a2) And the amount of the dimethylorganopolysiloxane (a3) with respect to the total amount of the dimethylorganopolysiloxane (a3) is reacted so that the mass ratio is 0.01 to 0.10, and the thickness of the release agent layer Is 0.3 to 2 μm, the arithmetic average roughness (Ra1) on the surface of the release agent layer opposite to the base material is 8 nm or less, and the maximum protrusion height (Rp1) is 50 nm or less. Peeling for a ceramic green sheet manufacturing process, wherein the arithmetic mean roughness (Ra2) on the second surface of the substrate is 5 to 40 nm and the maximum protrusion height (Rp2) is 60 to 500 nm A film is provided (Invention 1).

上記発明(発明1)に係るセラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルムによれば、剥離剤層が上記剥離剤組成物から構成されることにより、セラミックグリーンシートの剥離性に優れるとともに、セラミックグリーンシートに剥離付与成分が移行し難い。また、剥離剤層の厚さ並びに剥離剤層及び基材の表面状態が上記のように規定されることにより、セラミックグリーンシートに欠陥が発生することを防止・抑制することができ、さらには、ブロッキングが発生し難い。   According to the release film for a ceramic green sheet production process according to the invention (Invention 1), the release agent layer is composed of the release agent composition, so that the ceramic green sheet is excellent in peelability and the ceramic green sheet The peeling imparting component is difficult to migrate. In addition, by defining the thickness of the release agent layer and the surface state of the release agent layer and the substrate as described above, it is possible to prevent and suppress the occurrence of defects in the ceramic green sheet. Blocking is unlikely to occur.

上記発明(発明1)においては、前記光重合開始剤(B)が、α−ヒドロキシケトン系化合物又はα−アミノアルキルフェノン系化合物であることが好ましい(発明2)。   In the said invention (invention 1), it is preferable that the said photoinitiator (B) is an alpha-hydroxy ketone type compound or an alpha-aminoalkyl phenone type compound (invention 2).

上記発明(発明1,2)においては、前記剥離剤層の前記基材とは反対側の面にポリビニルブチラール樹脂層を形成した後、前記ポリビニルブチラール樹脂層を前記剥離剤層から剥離したときに、前記ポリビニルブチラール樹脂層における前記剥離剤層に接触していた面について、光電子分光分析で測定したケイ素原子比率が、1.0原子%未満であることが好ましい(発明3)。   In the said invention (invention 1 and 2), after forming a polyvinyl butyral resin layer in the surface on the opposite side to the said base material of the said releasing agent layer, when peeling the said polyvinyl butyral resin layer from the said releasing agent layer The silicon atomic ratio measured by photoelectron spectroscopic analysis of the surface of the polyvinyl butyral resin layer that is in contact with the release agent layer is preferably less than 1.0 atomic% (Invention 3).

本発明に係るセラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルムによれば、セラミックグリーンシートの剥離性に優れるとともに、セラミックグリーンシートに剥離付与成分が移行し難く、また、セラミックグリーンシートに欠陥が発生することを防止・抑制することができ、さらには、ブロッキングが発生し難い。   According to the release film for a ceramic green sheet manufacturing process according to the present invention, it is excellent in the peelability of the ceramic green sheet, the peeling imparting component is not easily transferred to the ceramic green sheet, and a defect occurs in the ceramic green sheet. It can be prevented / suppressed, and blocking is less likely to occur.

本発明の一実施形態に係るセラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルムの断面図である。It is sectional drawing of the peeling film for ceramic green sheet manufacturing processes which concerns on one Embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態について説明する。
〔セラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルム〕
図1に示すように、本実施形態に係るセラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルム1(以下、単に「剥離フィルム1」という場合がある。)は、基材11と、基材11の第1の面111(図1では上面)に積層された剥離剤層12とを備えて構成される。基材11は、基材11の第1の面111と反対側の面(図1では下面)に第2の面112を備えている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
[Peeling film for ceramic green sheet manufacturing process]
As shown in FIG. 1, a release film 1 for a ceramic green sheet manufacturing process according to the present embodiment (hereinafter sometimes simply referred to as “release film 1”) includes a base material 11 and a first of the base material 11. And a release agent layer 12 laminated on the surface 111 (upper surface in FIG. 1). The base material 11 includes a second surface 112 on the surface (the lower surface in FIG. 1) opposite to the first surface 111 of the base material 11.

1.基材
本実施形態に係る剥離フィルム1の基材11は、剥離剤層12を積層することができれば特に限定されるものではない。かかる基材11としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリプロピレンやポリメチルペンテン等のポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニルなどのプラスチックからなるフィルムが挙げられ、単層であってもよいし、同種又は異種の2層以上の多層であってもよい。これらの中でもポリエステルフィルムが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましく、さらには二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。ポリエチレンテレフタレートフィルムは、加工時、使用時等において、埃等が発生しにくいため、例えば、埃等によるセラミックスラリー塗工不良等を効果的に防止することができる。さらに、ポリエチレンテレフタレートフィルムに帯電防止処理を行うことで、塗工不良等を防止する効果を高めることができる。
1. Base Material The base material 11 of the release film 1 according to the present embodiment is not particularly limited as long as the release agent layer 12 can be laminated. Examples of the substrate 11 include films made of polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyolefins such as polypropylene and polymethylpentene, plastics such as polycarbonate and polyvinyl acetate, and may be a single layer. However, it may be a multilayer of two or more layers of the same type or different types. Among these, a polyester film is preferable, a polyethylene terephthalate film is particularly preferable, and a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is more preferable. Since the polyethylene terephthalate film hardly generates dust or the like during processing or use, for example, it is possible to effectively prevent a ceramic slurry coating failure due to dust or the like. Furthermore, the effect which prevents a coating defect etc. can be heightened by performing an antistatic process to a polyethylene terephthalate film.

また、この基材11においては、剥離剤層12との密着性を向上させる目的で、所望により第1の面111または第1の面111及び第2の面112の両面に、酸化法や凹凸化法などによる表面処理、あるいはプライマー処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、プラズマ放電処理、クロム酸化処理(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン、紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶射処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は、基材フィルムの種類に応じて適宜選ばれるが、一般にコロナ放電処理法が効果及び操作性の面から好ましく用いられる。   Moreover, in this base material 11, for the purpose of improving the adhesiveness with the release agent layer 12, an oxidation method or unevenness is formed on the first surface 111 or both the first surface 111 and the second surface 112 as desired. Surface treatment by a chemical method or the like, or primer treatment can be performed. Examples of the oxidation method include corona discharge treatment, plasma discharge treatment, chromium oxidation treatment (wet), flame treatment, hot air treatment, ozone, ultraviolet irradiation treatment, and the like. Examples include a thermal spraying method. These surface treatment methods are appropriately selected depending on the type of the base film, but generally, a corona discharge treatment method is preferably used from the viewpoints of effects and operability.

基材11の厚さは、通常10〜300μmであればよく、好ましくは15〜200μmであり、特に好ましくは20〜125μmである。   The thickness of the base material 11 should just be 10-300 micrometers normally, Preferably it is 15-200 micrometers, Especially preferably, it is 20-125 micrometers.

基材11の第1の面111における算術平均粗さ(Ra0)は、2〜50nmであることが好ましく、特に5〜30nmであることが好ましい。また、基材11の第1の面111における最大突起高さ(Rp0)は、10〜700nmであることが好ましく、特に30〜500nmであることが好ましい。基材11の第1の面111における算術平均粗さ(Ra0)及び最大突起高さ(Rp0)を上記の範囲に設定することで、剥離剤層12の表面121(基材11とは反対側の面)における算術平均粗さ(Ra1)及び最大突起高さ(Rp1)を後述する範囲内におさめることが容易となる。   The arithmetic average roughness (Ra0) on the first surface 111 of the substrate 11 is preferably 2 to 50 nm, and particularly preferably 5 to 30 nm. Further, the maximum protrusion height (Rp0) on the first surface 111 of the substrate 11 is preferably 10 to 700 nm, and particularly preferably 30 to 500 nm. By setting the arithmetic average roughness (Ra0) and the maximum protrusion height (Rp0) on the first surface 111 of the base material 11 within the above ranges, the surface 121 of the release agent layer 12 (the side opposite to the base material 11) It is easy to keep the arithmetic average roughness (Ra1) and the maximum protrusion height (Rp1) in the ranges described later.

基材11の第2の面112における算術平均粗さ(Ra2)は、5〜40nmであり、10〜30nmであることが好ましく、特に15〜25nmであることが好ましい。また、基材11の第2の面112における最大突起高さ(Rp2)は、60〜500nmであり、100〜400nmであることが好ましい。基材11の第2の面112における算術平均粗さ(Ra2)及び最大突起高さ(Rp2)を上記の範囲に設定することで、基材11の第2の面112に起因してセラミックグリーンシートに欠陥が発生することを防止・抑制することができ、かつ、ブロッキングの発生を抑制することができる。   The arithmetic mean roughness (Ra2) on the second surface 112 of the substrate 11 is 5 to 40 nm, preferably 10 to 30 nm, and particularly preferably 15 to 25 nm. The maximum protrusion height (Rp2) on the second surface 112 of the substrate 11 is 60 to 500 nm, and preferably 100 to 400 nm. By setting the arithmetic average roughness (Ra2) and the maximum protrusion height (Rp2) on the second surface 112 of the base material 11 within the above ranges, the ceramic green originates from the second surface 112 of the base material 11 The occurrence of defects in the sheet can be prevented / suppressed, and the occurrence of blocking can be suppressed.

すなわち、基材11の第2の面112の算術平均粗さ(Ra2)が5nm未満であると、当該第2の面112が平滑過ぎることとなり、剥離フィルム1の巻き取り時に基材11の第2の面112と高平滑な剥離剤層12とが密着して、ブロッキングが発生し易くなる。一方、基材11の第2の面112の算術平均粗さ(Ra2)が40nmを超えると、基材11の第2の面112の最大突起高さ(Rp2)を上記の好ましい低い範囲におさめることが困難になる。   That is, when the arithmetic average roughness (Ra2) of the second surface 112 of the substrate 11 is less than 5 nm, the second surface 112 is too smooth, and the second surface 112 of the substrate 11 is wound when the release film 1 is wound. The second surface 112 and the highly smooth release agent layer 12 are in close contact with each other, and blocking is likely to occur. On the other hand, when the arithmetic average roughness (Ra2) of the second surface 112 of the base material 11 exceeds 40 nm, the maximum protrusion height (Rp2) of the second surface 112 of the base material 11 is kept within the preferable low range. It becomes difficult.

基材11の第2の面112における最大突起高さ(Rp2)が500nmを超えると、セラミックグリーンシートを成形した剥離フィルム1を巻き取ったときに、基材11の第2の面112の突起形状がこの面に接するセラミックグリーンシートの表面に転写され、セラミックグリーンシートが部分的に薄くなる等の欠陥が生じ、当該セラミックグリーンシートを積層してコンデンサを作製したときに、短絡による不具合が生じるおそれがある。一方、基材11の第2の面112の最大突起高さ(Rp2)が60nm未満であると、基材11の第2の面112が平坦になるため、剥離剤層12を形成する工程等で、基材11がロールに接する面で空気を巻き込みやすくなる。その結果、搬送している基材11が蛇行したり、ロール状に巻き取る際に巻きずれを生じたりすることがある。   When the maximum protrusion height (Rp2) on the second surface 112 of the base material 11 exceeds 500 nm, the protrusion on the second surface 112 of the base material 11 when the release film 1 formed with the ceramic green sheet is wound up. The shape is transferred to the surface of the ceramic green sheet in contact with this surface, resulting in defects such as partial thinning of the ceramic green sheet. When a capacitor is produced by laminating the ceramic green sheet, a defect due to a short circuit occurs. There is a fear. On the other hand, when the maximum protrusion height (Rp2) of the second surface 112 of the base material 11 is less than 60 nm, the second surface 112 of the base material 11 becomes flat. Therefore, it becomes easy to entrain air on the surface where the substrate 11 is in contact with the roll. As a result, the substrate 11 being conveyed may meander or may be unwound when wound into a roll.

なお、基材11の第1の面111と逆の面に、後述する剥離剤層12と同じ層を設けたり、または剥離剤層12とは異なる層を設けたりしてもよく、この場合、基材11の第2の面112は、これらの層の面のうち、基材11側とは反対側の面を指す。   In addition, on the surface opposite to the first surface 111 of the substrate 11, the same layer as the release agent layer 12 described later may be provided, or a layer different from the release agent layer 12 may be provided. The 2nd surface 112 of the base material 11 points out the surface on the opposite side to the base material 11 side among the surfaces of these layers.

2.剥離剤層
本実施形態に係る剥離フィルム1における剥離剤層12は、活性エネルギー線硬化性成分(A)及び光重合開始剤(B)を含有する剥離剤組成物(以下「剥離剤組成物R」という場合がある。)から形成される。剥離剤層12は、当該剥離剤組成物Rを硬化させて形成される。
2. Release agent layer The release agent layer 12 in the release film 1 according to the present embodiment includes a release agent composition (hereinafter referred to as "release agent composition") containing an active energy ray-curable component (A) and a photopolymerization initiator (B). It may be referred to as an object R ”). The release agent layer 12 is formed by curing the release agent composition R.

活性エネルギー線硬化性成分(A)は、1分子中に平均して少なくとも3個の(メタ)アクリロイル基を有する水酸基含有(メタ)アクリレート(a1)と、多価イソシアネート化合物(a2)と、1分子中に少なくとも1個の水酸基を有し、質量平均分子量が500〜8000の直鎖状のジメチルオルガノポリシロキサン(a3)とを、(メタ)アクリレート(a1)、多価イソシアネート化合物(a2)及びジメチルオルガノポリシロキサン(a3)の合計量に対するジメチルオルガノポリシロキサン(a3)の量が質量比で0.01〜0.10となるように反応させてなるものである。なお、本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートの両方を意味する。他の類似用語も同様である。   The active energy ray-curable component (A) comprises a hydroxyl group-containing (meth) acrylate (a1) having at least three (meth) acryloyl groups on average in one molecule, a polyvalent isocyanate compound (a2), 1 A linear dimethylorganopolysiloxane (a3) having at least one hydroxyl group in the molecule and having a mass average molecular weight of 500 to 8000, a (meth) acrylate (a1), a polyvalent isocyanate compound (a2), and The reaction is carried out so that the amount of dimethylorganopolysiloxane (a3) relative to the total amount of dimethylorganopolysiloxane (a3) is 0.01 to 0.10 in terms of mass ratio. In the present specification, (meth) acrylate means both acrylate and methacrylate. The same applies to other similar terms.

上記(メタ)アクリレート(a1)、多価イソシアネート化合物(a2)及びジメチルオルガノポリシロキサン(a3)を反応させると、(メタ)アクリレート(a1)の水酸基及びジメチルオルガノポリシロキサン(a3)の水酸基が多価イソシアネート化合物(a2)のイソシアネート基と反応し、(メタ)アクリレート(a1)同士、または(メタ)アクリレート(a1)とジメチルオルガノポリシロキサン(a3)とが多価イソシアネート化合物(a2)によって化学的に結合されることとなる。   When the (meth) acrylate (a1), the polyvalent isocyanate compound (a2) and the dimethylorganopolysiloxane (a3) are reacted, the hydroxyl group of the (meth) acrylate (a1) and the hydroxyl group of the dimethylorganopolysiloxane (a3) are many. It reacts with the isocyanate group of the polyvalent isocyanate compound (a2), and (meth) acrylates (a1) or (meth) acrylate (a1) and dimethylorganopolysiloxane (a3) are chemically reacted with the polyvalent isocyanate compound (a2). Will be combined.

この活性エネルギー線硬化性成分(A)を含む剥離剤組成物Rに活性エネルギー線を照射すると、(メタ)アクリレート(a1)はラジカル重合によってポリマーを形成する。剥離付与成分であるジメチルオルガノポリシロキサン(a3)は、共有結合によって当該ポリマーに取り込まれているため、剥離剤組成物Rの硬化物である剥離剤層12から脱落することが抑制される。したがって、剥離剤層12上に形成したセラミックグリーシートに対して、剥離付与成分が移行することが抑制され、信頼性の高いセラミックグリーシートを歩留まり良く形成することができる。また、剥離付与成分であるジメチルオルガノポリシロキサン(a3)が上記のように存在することにより、得られる剥離剤層12は、良好な剥離性を発揮する。   When the release composition R containing the active energy ray-curable component (A) is irradiated with active energy rays, the (meth) acrylate (a1) forms a polymer by radical polymerization. Since dimethylorganopolysiloxane (a3), which is a release imparting component, is incorporated into the polymer by covalent bonding, it is suppressed from falling off from the release agent layer 12 that is a cured product of the release agent composition R. Therefore, migration of the peeling imparting component is suppressed with respect to the ceramic grease sheet formed on the release agent layer 12, and a highly reliable ceramic grease sheet can be formed with high yield. Moreover, when the dimethylorganopolysiloxane (a3), which is a peeling imparting component, is present as described above, the resulting release agent layer 12 exhibits good peelability.

(メタ)アクリレート(a1)は、下記一般式(1)又は(2)に示す構造を有する単一または2種以上の化合物よりなる。   The (meth) acrylate (a1) is composed of a single compound or two or more compounds having a structure represented by the following general formula (1) or (2).

Figure 0006285777
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上記一般式(1)及び(2)中、X〜X10は、それぞれ独立して(メタ)アクリロイル基又は水酸基を表し、X〜Xのうち少なくとも3個以上は(メタ)アクリロイル基を示し、X〜X10のうち少なくとも3個以上は(メタ)アクリロイル基を示す。 In the general formulas (1) and (2), X 1 to X 10 each independently represent a (meth) acryloyl group or a hydroxyl group, and at least three of X 1 to X 6 are (meth) acryloyl groups. And at least three of X 7 to X 10 represent a (meth) acryloyl group.

(メタ)アクリレート(a1)は、1分子中に平均して少なくとも3個の(メタ)アクリロイル基を有することにより、十分な硬化性を発揮し、活性エネルギー線を照射したときに、硬化不良を起こすことが防止される。かかる観点から、(メタ)アクリレート(a1)1分子中における(メタ)アクリロイル基の個数は、5個以上であることが好ましい。   The (meth) acrylate (a1) has at least three (meth) acryloyl groups on average in one molecule, thereby exhibiting sufficient curability and exhibiting poor curing when irradiated with active energy rays. It is prevented from waking up. From this viewpoint, the number of (meth) acryloyl groups in one molecule of (meth) acrylate (a1) is preferably 5 or more.

(メタ)アクリレート(a1)としては、メタクリロイル基を含まず、官能基がアクリロイル基及び水酸基のみで構成される水酸基含有アクリレートを用いることが好ましい。かかる水酸基含有アクリレートは、より良い硬化性を発揮する。その中でも、上記の一般式(1)又は(2)に示す構造を有する、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート及びペンタエリスリトールテトラアクリレートから選択される1種又は2種以上の混合物であることが好ましく、含有するアクリロイル基が、平均して1分子中3個以上、かつその濃度が1Kg当たり8当量以上に調整されたものが特に好ましい。   As the (meth) acrylate (a1), it is preferable to use a hydroxyl group-containing acrylate which does not contain a methacryloyl group and whose functional group is composed only of an acryloyl group and a hydroxyl group. Such a hydroxyl group-containing acrylate exhibits better curability. Among them, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol triacrylate and pentane having the structure represented by the above general formula (1) or (2) It is preferable that the mixture is one or a mixture of two or more selected from erythritol tetraacrylate, and the average content of acryloyl groups is 3 or more per molecule, and the concentration is adjusted to 8 equivalents or more per kg. Those are particularly preferred.

多価イソシアネート化合物(a2)は、1分子中に少なくとも2個のイソシアネート基を有する化合物であり、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族多価イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族多価イソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート等の脂環式多価イソシアネートなど、及びそれらのビウレット体、イソシアヌレート体、さらにはエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、ヒマシ油等の低分子活性水素含有化合物との反応物であるアダクト体などが挙げられる。これらの中でも、特に剥離力を低くして剥離性を向上させることのできるヘキサメチレンジイソシアネート及びそのイソシアヌレート体が好ましい。上記多価イソシアネート化合物(a2)は、1種を単独で、または2種以上を組み合わせて使用することができる。   The polyvalent isocyanate compound (a2) is a compound having at least two isocyanate groups in one molecule. For example, aromatic polyvalent isocyanate such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, etc. Aliphatic polyisocyanates such as aliphatic polyisocyanate, isophorone diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, and the like, and biuret and isocyanurate forms, as well as ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylolpropane, castor Examples thereof include adducts that are a reaction product with a low-molecular active hydrogen-containing compound such as oil. Among these, hexamethylene diisocyanate and its isocyanurate body, which can lower the peel force and improve the peelability, are particularly preferable. The said polyvalent isocyanate compound (a2) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)は、多価イソシアネート化合物(a2)を介して、(メタ)アクリレート(a1)と反応させるため、1分子中に少なくとも1個の水酸基を有している必要がある。また、良好な剥離性を発現させるために、ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)は、直鎖状であり、質量平均分子量が500〜8000であることを要する。質量平均分子量がこの範囲内にあることにより、安定した剥離性が発揮され、また塗工性も良好となる。質量平均分子量は、500〜6000であることが好ましく、特に500〜5000であることが好ましい。なお、本明細書における質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により測定した標準ポリスチレン換算の値である。   Since dimethylorganopolysiloxane (a3) is reacted with (meth) acrylate (a1) via polyvalent isocyanate compound (a2), it is necessary to have at least one hydroxyl group in one molecule. Moreover, in order to express favorable peelability, a dimethylorganopolysiloxane (a3) needs to be linear form and a mass mean molecular weight is 500-8000. When the mass average molecular weight is within this range, stable releasability is exhibited and coatability is also improved. The mass average molecular weight is preferably 500 to 6000, and particularly preferably 500 to 5000. In addition, the mass mean molecular weight in this specification is the value of standard polystyrene conversion measured by the gel permeation chromatography (GPC) method.

ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)としては、下記一般式(3)、(4)又は(5)に示す構造を有するものが挙げられる。中でも、一般式(3)に示す構造を有するものが好ましく、これによれば、特に剥離力を低くして剥離性を向上させることができる。また、一般式(5)に示す構造を有するものと、多価イソシアネート化合物(a2)としてヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体とを組み合わせた場合も、剥離性を向上させることができるため好ましい。   Examples of the dimethylorganopolysiloxane (a3) include those having a structure represented by the following general formula (3), (4) or (5). Especially, what has the structure shown in General formula (3) is preferable, and according to this, especially peel force can be made low and peelability can be improved. A combination of a compound having the structure represented by the general formula (5) and an isocyanurate of hexamethylene diisocyanate as the polyvalent isocyanate compound (a2) is also preferable because the peelability can be improved.

Figure 0006285777
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上記一般式(3)、(4)及び(5)中、R、R及びRは、それぞれ独立してアルキル基又はアルキレンエーテル基を示し、R、R、R及びRは、それぞれ独立してアルキレン基又はアルキレンエーテル基を示す。nは、正の整数を示す。 In the general formulas (3), (4) and (5), R 1 , R 3 and R 6 each independently represent an alkyl group or an alkylene ether group, and R 2 , R 4 , R 5 and R 7 Each independently represents an alkylene group or an alkylene ether group. n represents a positive integer.

ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)としては、市販品を使用することもできる。市販品としては、例えば、チッソ社製のサイラプレーンFM−4411、FM−4421、FM−4425、FMDA11、FMDA21、FM0411、FM0421、FM0425や、信越化学工業社製のX22−160AS、KF−6001、KF−6002、KF−6003、X−22−170BX、X−22−170DX、X22−176DX、X−22−176Fなどが挙げられ、中でもサイラプレーンFMDA11、FMDA21及びFM0411が好ましい。   A commercial item can also be used as dimethylorganopolysiloxane (a3). Commercially available products include, for example, Chisso Silaplane FM-4411, FM-4421, FM-4425, FMDA11, FMDA21, FM0411, FM0421, FM0425, X22-160AS, KF-6001 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Examples thereof include KF-6002, KF-6003, X-22-170BX, X-22-170DX, X22-176DX, X-22-176F, among which silaplane FMDA11, FMDA21 and FM0411 are preferable.

活性エネルギー線硬化性成分(A)は、(メタ)アクリレート(a1)、多価イソシアネート化合物(a2)及びジメチルオルガノポリシロキサン(a3)の合計量に対するジメチルオルガノポリシロキサン(a3)の量が質量比で0.01〜0.10となるように反応させたものである。その質量比が0.01未満であると、安定した剥離性が得られにくくなる。一方、質量比が0.10を超えると、ロール状に巻き取った剥離フィルムを繰り出す際に剥離フィルムの帯電量が大きくなる。このため、剥離フィルムの表面に異物等が付着しやすくなり、スラリーを塗工する際に塗工面にピンホールなどを発生させる可能性がある。また、塗工性が悪化し、塗工面に塗工スジ等ができることがある。すなわち、質量比が上記の範囲内にあれば、優れた剥離性を安定して発現し、塗工性が良好な剥離剤組成物Rを得ることができる。かかる観点から、上記質量比は、0.01〜0.07であることが好ましく、特に0.01〜0.05であることが好ましい。   In the active energy ray-curable component (A), the amount of dimethylorganopolysiloxane (a3) relative to the total amount of (meth) acrylate (a1), polyvalent isocyanate compound (a2) and dimethylorganopolysiloxane (a3) is in a mass ratio. The reaction was carried out to 0.01 to 0.10. If the mass ratio is less than 0.01, it becomes difficult to obtain stable peelability. On the other hand, if the mass ratio exceeds 0.10, the charge amount of the release film increases when the release film wound up in a roll shape is fed out. For this reason, it becomes easy for foreign matter etc. to adhere to the surface of a peeling film, and when applying slurry, there is a possibility of generating a pinhole etc. on the coated surface. Moreover, coating property may deteriorate and a coating stripe etc. may be formed on the coating surface. That is, when the mass ratio is within the above range, it is possible to obtain a release agent composition R that stably exhibits excellent peelability and has good coatability. From this viewpoint, the mass ratio is preferably 0.01 to 0.07, and particularly preferably 0.01 to 0.05.

ここで、多価イソシアネート化合物(a2)が有する総イソシアネート基量から、ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)が有する総水酸基量を差し引いた値が、(メタ)アクリレート(a1)が有する総水酸基量よりも小さくなるよう調整することが好ましい。また、活性エネルギー線硬化性成分(A)を製造するときに、先に多価イソシアネート化合物(a2)とジメチルオルガノポリシロキサン(a3)とを反応させ、それに(メタ)アクリレート(a1)を反応させることが好ましい。上記のようにすることにより、ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)のうち、(メタ)アクリレート(a1)と反応せずに残存するものの量を減らすことができ、したがって、剥離付与成分であるジメチルオルガノポリシロキサン(a3)がセラミックグリーンシートに移行する量を減らすことができる。   Here, the value obtained by subtracting the total hydroxyl group content of the dimethylorganopolysiloxane (a3) from the total isocyanate group amount of the polyvalent isocyanate compound (a2) is greater than the total hydroxyl group content of the (meth) acrylate (a1). It is preferable to adjust so that it may become small. Further, when the active energy ray-curable component (A) is produced, the polyvalent isocyanate compound (a2) and the dimethylorganopolysiloxane (a3) are reacted first, and the (meth) acrylate (a1) is reacted therewith. It is preferable. By doing so, the amount of the dimethylorganopolysiloxane (a3) remaining without reacting with the (meth) acrylate (a1) can be reduced. The amount of siloxane (a3) transferred to the ceramic green sheet can be reduced.

剥離剤組成物Rが含有する光重合開始剤(B)としては、例えば、α−ヒドロキシケトン系化合物、α−アミノアルキルフェノン系化合物、チオキサントン等を含む芳香族ケトン類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。これらの中でも、重合反応を促進し、硬化性を向上する点から、α−ヒドロキシケトン系化合物及びα−アミノアルキルフェノン系化合物が好ましい。上記光重合開始剤(B)は、1種を単独で、または2種以上を組み合わせて使用することができる。   Examples of the photopolymerization initiator (B) contained in the release agent composition R include, for example, α-hydroxyketone compounds, α-aminoalkylphenone compounds, aromatic ketones containing thioxanthone, acylphosphine oxides, and the like. Is mentioned. Among these, an α-hydroxyketone compound and an α-aminoalkylphenone compound are preferable from the viewpoint of promoting a polymerization reaction and improving curability. The said photoinitiator (B) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

α−ヒドロキシケトン系化合物としては、例えば、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−4’−ヒドロキシエトキシ−2−メチルプロピオフェノン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、オリゴ{2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン}等が挙げられる。   Examples of α-hydroxyketone compounds include 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] -phenyl} -2-methyl-propan-1-one. 2-hydroxy-4′-hydroxyethoxy-2-methylpropiophenone, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, oligo {2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl ] Propanone} and the like.

α−アミノアルキルフェノン系化合物としては、例えば、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モリフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−ジメチルアミノ−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン等が挙げられる。   Examples of the α-aminoalkylphenone compound include 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4 -Morpholinophenyl) -butanone-1,2-dimethylamino-2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone and the like.

剥離剤組成物R中における光重合開始剤(B)の含有量は、活性エネルギー線硬化性成分(A)100質量部に対して、2〜15質量部であることが好ましく、特に4〜12質量部であることが好ましい。   The content of the photopolymerization initiator (B) in the release agent composition R is preferably 2 to 15 parts by mass, particularly 4 to 12 parts per 100 parts by mass of the active energy ray-curable component (A). It is preferable that it is a mass part.

本実施形態に係る剥離剤組成物Rは、上記成分のほか、必要に応じて、シリカ、帯電防止剤、開始助剤、染料、顔料その他の添加剤を含有してもよい。   The release agent composition R according to this embodiment may contain silica, an antistatic agent, a starting aid, a dye, a pigment, and other additives as necessary in addition to the above components.

本実施形態に係る剥離フィルム1における剥離剤層12の厚さは、0.3〜2μmであり、0.3〜1.5μmであることが好ましく、特に0.3〜1.2μmであることが好ましい。剥離剤層12の厚さが0.3μm未満であると、基材11の第1の面111に存在する突起相互間の凹部分を埋めきれずに、剥離剤層12表面112の平滑性が不十分となり、セラミックグリーンシートにピンホールや厚みむらが発生し易くなる。一方、剥離剤層12の厚さが2μmを超えると、剥離剤層12の硬化収縮により剥離フィルム1にカールが発生し易くなる。また、剥離フィルム1をロール状に巻き取った際に、基材11の第2の面112とブロッキングが発生し易くなる。   The thickness of the release agent layer 12 in the release film 1 according to this embodiment is 0.3 to 2 μm, preferably 0.3 to 1.5 μm, particularly 0.3 to 1.2 μm. Is preferred. When the thickness of the release agent layer 12 is less than 0.3 μm, the concave portion between the protrusions existing on the first surface 111 of the substrate 11 cannot be filled, and the smoothness of the surface 112 of the release agent layer 12 is obtained. It becomes insufficient, and pinholes and uneven thickness easily occur in the ceramic green sheet. On the other hand, when the thickness of the release agent layer 12 exceeds 2 μm, the release film 1 is likely to curl due to curing shrinkage of the release agent layer 12. Moreover, when the peeling film 1 is wound up in a roll shape, the second surface 112 of the substrate 11 and blocking are likely to occur.

剥離剤層12の表面121の算術平均粗さ(Ra1)は、8nm以下であり、好ましくは6nm以下であり、特に好ましくは4nm以下である。また、剥離剤層12の表面121の最大突起高さ(Rp1)は、50nm以下であり、好ましくは40nm以下であり、特に好ましくは30nm以下である。   The arithmetic average roughness (Ra1) of the surface 121 of the release agent layer 12 is 8 nm or less, preferably 6 nm or less, and particularly preferably 4 nm or less. Further, the maximum protrusion height (Rp1) of the surface 121 of the release agent layer 12 is 50 nm or less, preferably 40 nm or less, and particularly preferably 30 nm or less.

剥離剤層12の表面121の算術平均粗さ(Ra1)及び最大突起高さ(Rp1)を上記のような範囲とすることで、剥離剤層12の表面121を十分に高平滑なものにすることができ、例えば厚さ1μm以下の薄膜セラミックグリーンシートを剥離剤層12の表面121に成形したときにも、薄膜セラミックグリーンシートにはピンホールや厚みむら等の欠陥が発生しにくく、良好なスラリー塗工性が示される。また、剥離剤層12の表面121の算術平均粗さ(Ra1)及び最大突起高さ(Rp1)を上記のような範囲とすることで、セラミックグリーンシートの剥離性も優れたものとなり、例えば厚さ1μm以下の薄膜セラミックグリーンシートを剥離剤層12から剥離するときにも、セラミックグリーンシートは破断し難い。   By making the arithmetic average roughness (Ra1) and the maximum protrusion height (Rp1) of the surface 121 of the release agent layer 12 within the above ranges, the surface 121 of the release agent layer 12 is made sufficiently high and smooth. For example, even when a thin film ceramic green sheet having a thickness of 1 μm or less is formed on the surface 121 of the release agent layer 12, defects such as pinholes and uneven thickness are hardly generated in the thin film ceramic green sheet. Slurry coatability is shown. Further, by making the arithmetic average roughness (Ra1) and the maximum protrusion height (Rp1) of the surface 121 of the release agent layer 12 in the above ranges, the peelability of the ceramic green sheet becomes excellent, for example, the thickness Even when a thin film ceramic green sheet having a thickness of 1 μm or less is peeled from the release agent layer 12, the ceramic green sheet is hardly broken.

剥離剤組成物Rを硬化させてなる剥離剤層12は、上記基材11の第1の面111に積層されたときに、剥離剤層12の表面121における算術平均粗さ(Ra1)及び最大突起高さ(Rp1)を前述した範囲にすることができるものである。剥離剤組成物Rによれば、主として活性エネルギー線硬化性成分の硬化物によって、基材11の第1の面111に存在する突起相互間の凹部分を効果的に埋めて、得られる剥離剤層12の表面121を高平滑化することができる。   When the release agent layer 12 obtained by curing the release agent composition R is laminated on the first surface 111 of the substrate 11, the arithmetic average roughness (Ra1) and the maximum on the surface 121 of the release agent layer 12. The projection height (Rp1) can be within the above-described range. According to the release agent composition R, the release agent obtained by effectively filling the concave portions between the protrusions present on the first surface 111 of the substrate 11 mainly with the cured product of the active energy ray-curable component. The surface 121 of the layer 12 can be highly smoothed.

また、剥離剤組成物Rを硬化させてなる剥離剤層12によれば、前述した通り、剥離剤層12上に形成したセラミックグリーシートに対して、剥離付与成分が移行することが抑制される。   Moreover, according to the release agent layer 12 formed by curing the release agent composition R, as described above, the transfer of the release imparting component to the ceramic grease sheet formed on the release agent layer 12 is suppressed. .

具体的には、剥離剤層12の表面121にポリビニルブチラール樹脂層を形成した後、当該ポリビニルブチラール樹脂層を剥離剤層12から剥離したときに、ポリビニルブチラール樹脂層における剥離剤層12に接触していた面のシリコーン移行量が低下する。シリコーン移行量としては、X線光電子分光分析法(XPS)によって測定されるケイ素原子比率によってその性能が評価できる。本実施形態においては、当該面を測定して得られるケイ素原子比率が、1.0原子%未満であることが好ましく、特に0.5原子%未満であることが好ましく、さらには0.3原子%以下であることが好ましい。なお、ケイ素原子比率は、ケイ素原子(Si)、炭素原子(C)及び酸素原子(O)の量(XPSカウント数)に基づき、下記の式により算出される。
ケイ素原子比率(原子%)=[(Si元素量)/(C元素量)+(O元素量)+(Si元素量)]×100
Specifically, after the polyvinyl butyral resin layer is formed on the surface 121 of the release agent layer 12, when the polyvinyl butyral resin layer is released from the release agent layer 12, the release agent layer 12 in the polyvinyl butyral resin layer comes into contact. The amount of silicone transferred on the surface that has been reduced decreases. The amount of silicone transferred can be evaluated by the silicon atom ratio measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). In the present embodiment, the silicon atom ratio obtained by measuring the surface is preferably less than 1.0 atom%, particularly preferably less than 0.5 atom%, and more preferably 0.3 atom % Or less is preferable. The silicon atom ratio is calculated by the following formula based on the amounts (XPS count number) of silicon atoms (Si), carbon atoms (C), and oxygen atoms (O).
Silicon atomic ratio (atomic%) = [(Si element amount) / (C element amount) + (O element amount) + (Si element amount)] × 100

なお、ポリビニルブチラール樹脂層そのものは、XPSによりケイ素が検出されない水準であることが大半であるため、当該ケイ素原子比率を剥離剤層12の剥離付与成分であるシリコーン系化合物の移行量の評価基準として利用することができる。   In addition, since the polyvinyl butyral resin layer itself is at a level at which silicon is not detected by XPS, the silicon atomic ratio is used as an evaluation standard for the migration amount of the silicone compound that is the release imparting component of the release agent layer 12. Can be used.

ポリビニルブチラール樹脂層における剥離剤層12に接触していた面のケイ素原子比率が上記の範囲内にあることにより、剥離剤層12にセラミックグリーンシートを形成した時に、セラミックグリーンシートへの剥離剤層12に含まれるシリコーンの移行を抑制することができる。   When the ceramic green sheet is formed on the release agent layer 12 when the silicon atomic ratio of the surface in contact with the release agent layer 12 in the polyvinyl butyral resin layer is within the above range, the release agent layer on the ceramic green sheet is formed. 12 can be suppressed.

3.セラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルムの製造方法
本実施形態に係る剥離フィルム1は、基材11の第1の面111に、剥離剤組成物R及び所望により有機溶剤を含有する剥離剤層形成用材料を塗布した後、必要に応じて乾燥し、活性エネルギー線の照射により硬化させて剥離剤層12を形成することにより、製造することができる。剥離剤層形成用材料の塗布方法としては、例えば、グラビアコート法、バーコート法、スプレーコート法、スピンコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ダイコート法等が使用できる。
3. Manufacturing method of release film for ceramic green sheet manufacturing process The release film 1 according to this embodiment includes a release agent layer containing a release agent composition R and an organic solvent as required on the first surface 111 of the substrate 11. After the forming material is applied, it can be produced by drying as necessary and curing by irradiation with active energy rays to form the release agent layer 12. As a coating method of the release agent layer forming material, for example, a gravure coating method, a bar coating method, a spray coating method, a spin coating method, a knife coating method, a roll coating method, a die coating method and the like can be used.

上記有機溶剤としては、剥離剤層形成用材料の各成分の溶解性が良好であって、反応性を有しないものであれば、従来公知のものを用いることができる。例えば、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、塩化メチレン、塩化エチレン等のハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール(イソプロピルアルコール)、ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノール等のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶剤、それらの混合溶媒などが用いられる。有機溶剤の使用量は、通常、固形分濃度が1〜60質量%の範囲になるように調整することが好ましい。   As the organic solvent, a conventionally known organic solvent can be used as long as the solubility of each component of the release agent layer forming material is good and it does not have reactivity. For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and cyclohexane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and ethylene chloride, methanol, ethanol, propanol (isopropyl alcohol), butanol, 1- Alcohols such as methoxy-2-propanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, isophorone and cyclohexanone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, cellosolve solvents such as ethyl cellosolve, mixed solvents thereof and the like are used. Usually, the amount of the organic solvent used is preferably adjusted so that the solid concentration is in the range of 1 to 60% by mass.

活性エネルギー線としては、通常、紫外線、電子線等が用いられ、紫外線が特に好ましい。活性エネルギー線の照射量は、エネルギー線の種類によって異なるが、例えば紫外線の場合には、光量で50〜1000mJ/cmが好ましく、特に100〜500mJ/cmが好ましい。また、電子線の場合には、0.1〜50kGy程度が好ましい。 As the active energy ray, ultraviolet rays, electron beams and the like are usually used, and ultraviolet rays are particularly preferable. The dose of the active energy ray varies depending on the type of the energy ray, for example, in the case of ultraviolet rays, preferably 50~1000mJ / cm 2 in quantity, in particular 100 to 500 mJ / cm 2 is preferred. Moreover, in the case of an electron beam, about 0.1-50 kGy is preferable.

上記活性エネルギー線の照射により、剥離剤組成物R中の活性エネルギー線硬化性成分(A)が重合して硬化し、剥離剤層12が形成される。   By irradiation with the active energy ray, the active energy ray-curable component (A) in the release agent composition R is polymerized and cured, and the release agent layer 12 is formed.

以上説明した剥離フィルム1を使用するには、スロットダイ塗工方式やドクターブレード方式等を用いて、剥離剤層12の表面121にセラミックスラリーを塗工して乾燥させることにより、セラミックグリーンシートを成形する。このとき、本実施形態に係る剥離フィルム1によれば、スラリー塗工性に優れ、強度の低い薄膜のセラミックグリーンシートを剥離剤層に成形した場合でも、平滑性の高いセラミックグリーンシートを形成することができ、ピンホールや厚みむらの発生を抑制することができる。また、形成したセラミックグリーンシートは、剥離フィルム1から剥離し易く、かつ、セラミックグリーンシートに剥離付与成分(シリコーン系化合物)が移行し難い。   In order to use the release film 1 described above, the ceramic green sheet is formed by applying a ceramic slurry to the surface 121 of the release agent layer 12 and drying using a slot die coating method, a doctor blade method, or the like. Mold. At this time, according to the release film 1 according to the present embodiment, a ceramic green sheet having high smoothness is formed even when a thin ceramic green sheet having excellent slurry coating properties and low strength is formed into a release agent layer. It is possible to suppress the occurrence of pinholes and uneven thickness. Moreover, the formed ceramic green sheet is easy to peel from the release film 1, and the peeling imparting component (silicone compound) is not easily transferred to the ceramic green sheet.

さらに、セラミックグリーンシートが形成された剥離フィルム1を、ロール状に巻かれた状態で保管したり、ロール・トゥ・ロールで搬送しても、基材11の第2の面112の表面状態に起因してセラミックグリーンシートが部分的に薄くなる等の欠陥が生じることが抑制される。さらに、上記剥離フィルム1によれば、ブロッキングが発生し難いため、巻き取り不良や、巻き出し時の帯電量が増大して異物が付着する等の不具合を抑制することができる。したがって、本実施例に係る剥離フィルム1によれば、信頼性の高いセラミックグリーンシートを、良好な生産性で歩留まり良く製造することができる。   Furthermore, even if the release film 1 on which the ceramic green sheet is formed is stored in a rolled state or transported by roll-to-roll, the surface state of the second surface 112 of the substrate 11 is maintained. As a result, the occurrence of defects such as partial thinning of the ceramic green sheet is suppressed. Furthermore, according to the release film 1, since blocking is unlikely to occur, it is possible to suppress problems such as winding failure and increase in charge amount during unwinding and adhesion of foreign matters. Therefore, according to the peeling film 1 which concerns on a present Example, a highly reliable ceramic green sheet can be manufactured with sufficient yield with favorable productivity.

以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。   The embodiment described above is described for facilitating understanding of the present invention, and is not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.

例えば、基材11における剥離剤層12の反対側の面や、基材11と剥離剤層12との間には、帯電防止層等の他の層が設けられてもよい。   For example, another layer such as an antistatic layer may be provided between the surface of the substrate 11 opposite to the release agent layer 12 or between the substrate 11 and the release agent layer 12.

以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example etc. demonstrate this invention further more concretely, the scope of the present invention is not limited to these Examples etc.

〔製造例1〕
撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を備えた反応器に、多価イソシアネート(a2)としてのヘキサメチレンジイソシアネート100質量部(固形分換算;以下同じ)と、ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)(チッソ社製,製品名「サイラプレーンFMDA11」,数平均分子量1000;一般式(3)に示される構造を有し、一般式(3)におけるRは−OH、Rは−(CHOCHCH−、Rは−CHCHである。同製品の構造は以下同じ。)300質量部と、メチルエチルケトン400質量部とを仕込み、85℃まで昇温して7時間保温して反応させ、反応物を得た。
[Production Example 1]
In a reactor equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 100 parts by mass of hexamethylene diisocyanate as a polyvalent isocyanate (a2) (in terms of solid content; the same shall apply hereinafter) and dimethylorganopolysiloxane (a3) (Manufactured by Chisso Corporation, product name “Silaplane FMDA11”, number average molecular weight 1000; having the structure represented by the general formula (3), R 1 in the general formula (3) is —OH, R 2 is — (CH 2 ) 3 OCH 2 CH 2 —, R 3 is —CH 2 CH 3. The structure of the product is the same below.) 300 parts by mass and 400 parts by mass of methyl ethyl ketone are charged, heated to 85 ° C., and 7 hours. The reaction was obtained by incubating.

上記と同様の装備を有する別の反応器に、(メタ)アクリレート(a1)としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物(東亜合成社製,製品名「M−400」,ジペンタエリスリトールペンタアクリレート50質量%含有;一般式(1)に示す構造)286質量部と、上記で得られた反応物の固形分12質量部と、メチルエチルケトン286質量部とを仕込み、85℃まで昇温して7時間保温して反応させ、イソシアネート基が消失したことをIR測定により確認し、活性エネルギー線硬化性成分(A1)を得た。   In another reactor having the same equipment as above, a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate as (meth) acrylate (a1) (product name “M-400”, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) 50% by mass of pentaerythritol pentaacrylate; structure shown in the general formula (1)) 286 parts by mass, 12 parts by mass of the solid content of the reaction product obtained above, and 286 parts by mass of methyl ethyl ketone were charged and heated to 85 ° C. The mixture was heated and allowed to react for 7 hours, and it was confirmed by IR measurement that the isocyanate group had disappeared. Thus, an active energy ray-curable component (A1) was obtained.

〔製造例2〕
撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を備えた反応器に、多価イソシアネート(a2)としてのヘキサメチレンジイソシアネート100質量部と、ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)(チッソ社製,製品名「サイラプレーンFMDA11」,数平均分子量1000)300質量部と、メチルエチルケトン400質量部とを仕込み、85℃まで昇温して7時間保温して反応させ、反応物を得た。
[Production Example 2]
In a reactor equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 100 parts by mass of hexamethylene diisocyanate as the polyvalent isocyanate (a2) and dimethylorganopolysiloxane (a3) (manufactured by Chisso Corporation, product name “ Thylaplane FMDA11 ", number average molecular weight 1000) 300 parts by mass and methyl ethyl ketone 400 parts by mass were charged, heated to 85 ° C. and incubated for 7 hours to obtain a reaction product.

上記と同様の装備を有する別の反応器に、(メタ)アクリレート(a1)としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物(東亜合成社製,製品名「M−400」;一般式(1)に示す構造)258質量部と、上記で得られた反応物の固形分40質量部と、メチルエチルケトン258質量部とを仕込み、85℃まで昇温して7時間保温して反応させ、イソシアネート基が消失したことをIR測定により確認し、活性エネルギー線硬化性剥離剤化合物(A2)を得た。   In another reactor having the same equipment as above, a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate as (meth) acrylate (a1) (product name “M-400” manufactured by Toagosei Co., Ltd .; (Structure shown in Formula (1)) 258 parts by mass, 40 parts by mass of the solid content of the reaction product obtained above, and 258 parts by mass of methyl ethyl ketone were charged, heated to 85 ° C. and kept for 7 hours to react. It was confirmed by IR measurement that the isocyanate group had disappeared, and an active energy ray-curable release agent compound (A2) was obtained.

〔製造例3〕
撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を備えた反応器に、多価イソシアネート(a2)としてのヘキサメチレンジイソシアネート100質量部と、ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)(チッソ社製,製品名「サイラプレーンFMDA21」,数平均分子量5000;一般式(3)に示される構造を有し、一般式(3)におけるRは−OH、Rは−(CHOCHCH−、Rは−CHCHである。)1488質量部と、メチルエチルケトン1588質量部とを仕込み、85℃まで昇温して7時間保温して反応させ、反応物を得た。
[Production Example 3]
In a reactor equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 100 parts by mass of hexamethylene diisocyanate as the polyvalent isocyanate (a2) and dimethylorganopolysiloxane (a3) (manufactured by Chisso Corporation, product name “ Silaplane FMDA21 ”, number average molecular weight 5000; having the structure represented by the general formula (3), R 1 in the general formula (3) is —OH, R 2 is — (CH 2 ) 3 OCH 2 CH 2 —, R 3 is —CH 2 CH 3 ) 1488 parts by mass and 1588 parts by mass of methyl ethyl ketone were charged, the temperature was raised to 85 ° C., and the reaction was continued for 7 hours to obtain a reaction product.

上記と同様の装備を有する別の反応器に、(メタ)アクリレート(a1)としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物(東亜合成社製,製品名「M−400」;一般式(1)に示す構造)289質量部と、上記で得られた反応物の固形分10質量部と、メチルエチルケトン289質量部とを仕込み、85℃まで昇温して7時間保温して反応させ、イソシアネート基が消失したことをIR測定により確認し、活性エネルギー線硬化性剥離剤化合物(A3)を得た。   In another reactor having the same equipment as above, a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate as (meth) acrylate (a1) (product name “M-400” manufactured by Toagosei Co., Ltd .; (Structure shown in Formula (1)) 289 parts by mass, 10 parts by mass of the solid content of the reaction product obtained above, and 289 parts by mass of methyl ethyl ketone were charged, heated to 85 ° C. and allowed to react for 7 hours. It was confirmed by IR measurement that the isocyanate group had disappeared, and an active energy ray-curable release agent compound (A3) was obtained.

〔製造例4〕
撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を備えた反応器に、多価イソシアネート(a2)としてのヘキサメチレンジイソシアネート100質量部と、ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)(チッソ社製,製品名「サイラプレーンFMDA11」,数平均分子量1000)300質量部と、メチルエチルケトン400質量部とを仕込み、85℃まで昇温して7時間保温して反応させ、反応物を得た。
[Production Example 4]
In a reactor equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 100 parts by mass of hexamethylene diisocyanate as the polyvalent isocyanate (a2) and dimethylorganopolysiloxane (a3) (manufactured by Chisso Corporation, product name “ Thylaplane FMDA11 ", number average molecular weight 1000) 300 parts by mass and methyl ethyl ketone 400 parts by mass were charged, heated to 85 ° C. and incubated for 7 hours to obtain a reaction product.

上記と同様の装備を有する別の反応器に、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートとの混合物(新中村化学工業社製,製品名「A−TMM−3L」,ペンタエリスリトールトリアクリレート55質量%含有)286質量部と、上記で得られた反応物の固形分12質量部と、メチルエチルケトン286質量部とを仕込み、85℃まで昇温して7時間保温して反応させ、イソシアネート基が消失したことをIR測定により確認し、活性エネルギー線硬化性剥離剤化合物(A4)を得た。   In another reactor having the same equipment as above, a mixture of pentaerythritol tetraacrylate and pentaerythritol triacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name “A-TMM-3L”, pentaerythritol triacrylate 55% by mass) Containing) 286 parts by mass, 12 parts by mass of the solid content of the reaction product obtained above, and 286 parts by mass of methyl ethyl ketone, heated to 85 ° C. and allowed to react for 7 hours, and the isocyanate group disappeared. This was confirmed by IR measurement, and an active energy ray-curable release agent compound (A4) was obtained.

〔製造例5〕
撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を備えた反応器に、多価イソシアネート(a2)としてのヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体100質量部と、ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)(チッソ社製,製品名「サイラプレーンFM0411」,数平均分子量1000;一般式(5)に示される構造を有し、一般式(5)におけるRは−OH、Rは−COC−である。)175質量部と、メチルエチルケトン275質量部とを仕込み、85℃まで昇温して7時間保温して反応させ、反応物を得た。
[Production Example 5]
In a reactor equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 100 parts by mass of isocyanurate of hexamethylene diisocyanate as polyvalent isocyanate (a2) and dimethylorganopolysiloxane (a3) (manufactured by Chisso Corporation) , Product name “Silaplane FM0411”, number average molecular weight 1000; having the structure represented by the general formula (5), R 6 in the general formula (5) is —OH, and R 7 is —C 3 H 6 OC 2 H 4 -. a a) and 175 parts by weight, were charged methyl ethyl ketone 275 parts by mass, and reacted by incubating was heated to 85 ° C. 7 hours to obtain a reaction product.

上記と同様の装備を有する別の反応器に、(メタ)アクリレート(a1)としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物(東亜合成社製,製品名「M−400」;一般式(1)に示す構造)167質量部と、上記で得られた反応物の固形分8質量部と、メチルエチルケトン167質量部とを仕込み、85℃まで昇温して7時間保温して反応させ、イソシアネート基が消失したことをIR測定により確認し、活性エネルギー線硬化性剥離剤化合物(A5)を得た。   In another reactor having the same equipment as above, a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate as (meth) acrylate (a1) (product name “M-400” manufactured by Toagosei Co., Ltd .; (Structure shown in formula (1)) 167 parts by mass, 8 parts by mass of the solid content of the reaction product obtained above, and 167 parts by mass of methyl ethyl ketone were charged, heated to 85 ° C. and kept for 7 hours to react. It was confirmed by IR measurement that the isocyanate group had disappeared, and an active energy ray-curable release agent compound (A5) was obtained.

〔製造例6〕
撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を備えた反応器に、多価イソシアネート(a2)としてのヘキサメチレンジイソシアネート100質量部と、ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)(チッソ社製,製品名「サイラプレーンFMDA11」,数平均分子量1000)300質量部と、メチルエチルケトン400質量部とを仕込み、85℃まで昇温して7時間保温して反応させ、反応物を得た。
[Production Example 6]
In a reactor equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 100 parts by mass of hexamethylene diisocyanate as the polyvalent isocyanate (a2) and dimethylorganopolysiloxane (a3) (manufactured by Chisso Corporation, product name “ Thylaplane FMDA11 ", number average molecular weight 1000) 300 parts by mass and methyl ethyl ketone 400 parts by mass were charged, heated to 85 ° C. and incubated for 7 hours to obtain a reaction product.

上記と同様の装備を有する別の反応器に、(メタ)アクリレート(a1)としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物(東亜合成社製,製品名「M−400」;一般式(1)に示す構造)300質量部と、上記で得られた反応物の固形分3質量部と、メチルエチルケトン300質量部とを仕込み、85℃まで昇温して7時間保温して反応させ、イソシアネート基が消失したことをIR測定により確認し、活性エネルギー線硬化性剥離剤化合物(A6)を得た。   In another reactor having the same equipment as above, a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate as (meth) acrylate (a1) (product name “M-400” manufactured by Toagosei Co., Ltd .; (Structure shown in Formula (1)) 300 parts by mass, 3 parts by mass of the solid content of the reaction product obtained above, and 300 parts by mass of methyl ethyl ketone were charged, heated to 85 ° C. and incubated for 7 hours for reaction. It was confirmed by IR measurement that the isocyanate group had disappeared, and an active energy ray-curable release agent compound (A6) was obtained.

〔製造例7〕
撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を備えた反応器に、多価イソシアネート(a2)としてのヘキサメチレンジイソシアネート100質量部と、ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)(チッソ社製,製品名「サイラプレーンFMDA11」,数平均分子量1000)300質量部と、メチルエチルケトン400質量部とを仕込み、85℃まで昇温して7時間保温して反応させ、反応物を得た。
[Production Example 7]
In a reactor equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 100 parts by mass of hexamethylene diisocyanate as the polyvalent isocyanate (a2) and dimethylorganopolysiloxane (a3) (manufactured by Chisso Corporation, product name “ Thylaplane FMDA11 ", number average molecular weight 1000) 300 parts by mass and methyl ethyl ketone 400 parts by mass were charged, heated to 85 ° C. and incubated for 7 hours to obtain a reaction product.

上記と同様の装備を有する別の反応器に、(メタ)アクリレート(a1)としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物(東亜合成社製,製品名「M−400」;一般式(1)に示す構造)250質量部と、上記で得られた反応物の固形分43質量部と、メチルエチルケトン250質量部とを仕込み、85℃まで昇温して7時間保温して反応させ、イソシアネート基が消失したことをIR測定により確認し、活性エネルギー線硬化性剥離剤化合物(A7)を得た。   In another reactor having the same equipment as above, a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate as (meth) acrylate (a1) (product name “M-400” manufactured by Toagosei Co., Ltd .; (Structure shown in Formula (1)) 250 parts by mass, 43 parts by mass of the solid content of the reaction product obtained above, and 250 parts by mass of methyl ethyl ketone were charged, heated to 85 ° C. and allowed to react for 7 hours. It was confirmed by IR measurement that the isocyanate group had disappeared, and an active energy ray-curable release agent compound (A7) was obtained.

〔製造例8〕
撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を備えた反応器に、多価イソシアネート(a2)としてのヘキサメチレンジイソシアネート100質量部と、ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)(チッソ社製,製品名「サイラプレーンFMDA26」,数平均分子量15000;一般式(3)に示される構造を有し、一般式(3)におけるRは−OH、Rは−(CHOCHCH−、Rは−CHCHである。)4460質量部と、メチルエチルケトン4560質量部とを仕込み、85℃まで昇温して7時間保温して反応させ、反応物を得た。
[Production Example 8]
In a reactor equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 100 parts by mass of hexamethylene diisocyanate as the polyvalent isocyanate (a2) and dimethylorganopolysiloxane (a3) (manufactured by Chisso Corporation, product name “ Silaplane FMDA26 ", number average molecular weight of 15,000; has the structure represented by the general formula (3), R 1 in the general formula (3) is -OH, R 2 is - (CH 2) 3 OCH 2 CH 2 -, R 3 is —CH 2 CH 3 ) 4460 parts by mass and 4560 parts by mass of methyl ethyl ketone were charged, the temperature was raised to 85 ° C., and the reaction was continued for 7 hours to obtain a reaction product.

上記と同様の装備を有する別の反応器に、(メタ)アクリレート(a1)としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物(東亜合成社製,製品名「M−400」;一般式(1)に示す構造)289質量部と、上記で得られた反応物の固形分9質量部と、メチルエチルケトン289質量部とを仕込み、85℃まで昇温して7時間保温して反応させ、イソシアネート基が消失したことをIR測定により確認し、活性エネルギー線硬化性剥離剤化合物(A8)を得た。   In another reactor having the same equipment as above, a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate as (meth) acrylate (a1) (product name “M-400” manufactured by Toagosei Co., Ltd .; (Structure shown in Formula (1)) 289 parts by mass, 9 parts by mass of the solid content of the reaction product obtained above, and 289 parts by mass of methyl ethyl ketone were charged, heated to 85 ° C. and incubated for 7 hours for reaction. It was confirmed by IR measurement that the isocyanate group had disappeared, and an active energy ray-curable release agent compound (A8) was obtained.

〔製造例9〕
撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を備えた反応器に、多価イソシアネート(a2)としてのヘキサメチレンジイソシアネート100質量部と、ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)(チッソ社製,製品名「サイラプレーンFMDA11」,数平均分子量1000)300質量部と、メチルエチルケトン400質量部とを仕込み、85℃まで昇温して7時間保温して反応させ、反応物を得た。
[Production Example 9]
In a reactor equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 100 parts by mass of hexamethylene diisocyanate as the polyvalent isocyanate (a2) and dimethylorganopolysiloxane (a3) (manufactured by Chisso Corporation, product name “ Thylaplane FMDA11 ", number average molecular weight 1000) 300 parts by mass and methyl ethyl ketone 400 parts by mass were charged, heated to 85 ° C. and incubated for 7 hours to obtain a reaction product.

上記と同様の装備を有する別の反応器に、2−ヒドロキシエチルアクリレート286質量部と、上記で得られた反応物の固形分12質量部と、メチルエチルケトン286質量部とを仕込み、85℃まで昇温して7時間保温して反応させ、イソシアネート基が消失したことをIR測定により確認し、活性エネルギー線硬化性剥離剤化合物(A9)を得た。   In another reactor having the same equipment as above, 286 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, 12 parts by mass of the solid content of the reaction product obtained above, and 286 parts by mass of methyl ethyl ketone were charged, and the temperature was raised to 85 ° C. The reaction was carried out by heating for 7 hours to confirm that the isocyanate group had disappeared, and an active energy ray-curable release agent compound (A9) was obtained.

上記製造例1〜9で得られた活性エネルギー線硬化性剥離剤化合物A1〜A9について、(メタ)アクリレート(a1)における(メタ)アクリロイル基の数、ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)の分子量、並びに(メタ)アクリレート(a1)、多価イソシアネート化合物(a2)及びジメチルオルガノポリシロキサン(a3)の合計量に対するジメチルオルガノポリシロキサン(a3)の量の質量比(a3)/[(a1)+(a2)+(a3)])を表1に示す。   About the active energy ray-curable release agent compounds A1 to A9 obtained in Production Examples 1 to 9, the number of (meth) acryloyl groups in (meth) acrylate (a1), the molecular weight of dimethylorganopolysiloxane (a3), and Mass ratio of the amount of dimethylorganopolysiloxane (a3) to the total amount of (meth) acrylate (a1), polyvalent isocyanate compound (a2) and dimethylorganopolysiloxane (a3) (a3) / [(a1) + (a2 ) + (A3)]) is shown in Table 1.

〔実施例1〕
活性エネルギー線硬化性成分(A1)100質量部と、α−ヒドロキシケトン系の光重合開始剤(B1)としての2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン(BASF社製,製品名「IRGACURE127」)5質量部とを、イソプロピルアルコール及びメチルエチルケトンの混合溶剤(質量比3:1)にて固形分濃度20質量%に希釈し、剥離剤層形成用材料を得た。
[Example 1]
100 parts by mass of the active energy ray-curable component (A1) and 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-) as an α-hydroxyketone photopolymerization initiator (B1) 5 parts by mass of propionyl) -benzyl] -phenyl} -2-methyl-propan-1-one (manufactured by BASF, product name “IRGACURE127”) in a mixed solvent of isopropyl alcohol and methyl ethyl ketone (mass ratio 3: 1) The solid content concentration was diluted to 20% by mass to obtain a release agent layer forming material.

得られた剥離剤層形成用材料を、基材としての二軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚さ31μm,第1の面の算術平均粗さRa0:16nm,第1の面の最大突起高さRp0:196nm,第2の面の算術平均粗さRa2:16nm,第2の面の最大突起高さRp2:196nm)の第1の面に、硬化後の厚さが1μmとなるようにバーコーターによって塗布し、80℃で1分間乾燥させた。その後、紫外線を照射(積算光量:250mJ/cm)し、剥離剤層形成用材料を硬化させて剥離剤層を形成し、これを剥離フィルムとした。なお、剥離剤層の厚さは、後述する測定方法によって測定した結果である(以下の実施例等も同じ)。 The obtained release agent layer forming material was used as a biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film as a substrate (thickness 31 μm, arithmetic average roughness Ra0: 16 nm on the first surface, maximum protrusion height on the first surface) The first surface has a thickness Rp0: 196 nm, the second surface has an arithmetic average roughness Ra2: 16 nm, and the second surface has a maximum protrusion height Rp2: 196 nm. The bar has a thickness of 1 μm after curing. It was applied by a coater and dried at 80 ° C. for 1 minute. Then, ultraviolet rays were irradiated (accumulated light amount: 250 mJ / cm 2 ), the release agent layer forming material was cured to form a release agent layer, and this was used as a release film. In addition, the thickness of the release agent layer is a result measured by a measurement method described later (the following examples and the like are the same).

〔実施例2〕
活性エネルギー線硬化性成分(A1)の替わりに活性エネルギー線硬化性成分(A2)を配合した以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
[Example 2]
A release film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray-curable component (A2) was blended in place of the active energy ray-curable component (A1).

〔実施例3〕
活性エネルギー線硬化性成分(A1)の替わりに活性エネルギー線硬化性成分(A3)を配合した以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
Example 3
A release film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray-curable component (A3) was blended in place of the active energy ray-curable component (A1).

〔実施例4〕
活性エネルギー線硬化性成分(A1)の替わりに活性エネルギー線硬化性成分(A4)を配合した以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
Example 4
A release film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray-curable component (A4) was blended in place of the active energy ray-curable component (A1).

〔実施例5〕
活性エネルギー線硬化性成分(A1)の替わりに活性エネルギー線硬化性成分(A5)を配合した以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
Example 5
A release film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray-curable component (A5) was blended in place of the active energy ray-curable component (A1).

〔実施例6〕
剥離剤層の厚さを0.5μmに変更した以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
Example 6
A release film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the release agent layer was changed to 0.5 μm.

〔実施例7〕
剥離剤層の厚さを1.9μmに変更した以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
Example 7
A release film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the release agent layer was changed to 1.9 μm.

〔実施例8〕
光重合開始剤(B1)の替わりに、α−アミノアルキルフェノン系の光重合開始剤(B2)としての2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モリフォリノプロパン−1−オン(BASF社製,製品名「IRGACURE907」)を配合した以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
Example 8
In place of the photopolymerization initiator (B1), 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1- as an α-aminoalkylphenone photopolymerization initiator (B2) A release film was produced in the same manner as in Example 1 except that ON (made by BASF, product name “IRGACURE907”) was blended.

〔実施例9〕
実施例1における基材の替わりに、二軸延伸PETフィルム(厚さ38μm,第1の面の算術平均粗さRa0:15nm,第1の面の最大突起高さRp0:98nm,第2の面の算術平均粗さRa2:15nm,第2の面の最大突起高さRp2:98nm)を用いた以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
Example 9
Instead of the base material in Example 1, a biaxially stretched PET film (thickness 38 μm, arithmetic average roughness Ra0: 15 nm of the first surface, maximum protrusion height Rp0: 98 nm of the first surface, second surface A release film was produced in the same manner as in Example 1 except that the arithmetic average roughness Ra2: 15 nm and the maximum protrusion height Rp2 of the second surface (Rp2: 98 nm) were used.

〔実施例10〕
実施例1における基材の替わりに、二軸延伸PETフィルム(厚さ38μm,第1の面の算術平均粗さRa0:35nm,第1の面の最大突起高さRp0:471nm,第2の面の算術平均粗さRa2:35nm,第2の面の最大突起高さRp2:471nm)を用いた以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
Example 10
Instead of the base material in Example 1, a biaxially stretched PET film (thickness 38 μm, arithmetic average roughness Ra0: 35 nm of the first surface, maximum protrusion height Rp0: 471 nm of the first surface, second surface A release film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the arithmetic average roughness Ra2: 35 nm and the maximum protrusion height Rp2: 471 nm of the second surface were used.

〔比較例1〕
活性エネルギー線硬化性成分(A1)の替わりに活性エネルギー線硬化性成分(A6)を配合した以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
[Comparative Example 1]
A release film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray-curable component (A6) was blended in place of the active energy ray-curable component (A1).

〔比較例2〕
活性エネルギー線硬化性成分(A1)の替わりに活性エネルギー線硬化性成分(A7)を配合した以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
[Comparative Example 2]
A release film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray-curable component (A7) was blended in place of the active energy ray-curable component (A1).

〔比較例3〕
活性エネルギー線硬化性成分(A1)の替わりに活性エネルギー線硬化性成分(A8)を配合した以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
[Comparative Example 3]
A release film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray-curable component (A8) was blended in place of the active energy ray-curable component (A1).

〔比較例4〕
活性エネルギー線硬化性成分(A1)の替わりに活性エネルギー線硬化性成分(A9)を配合した以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
[Comparative Example 4]
A release film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray-curable component (A9) was blended in place of the active energy ray-curable component (A1).

〔比較例5〕
活性エネルギー線硬化性成分としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート99質量部と、メタクリロイル基含有シリコーン樹脂組成物(信越化学工業社製,製品名「X−62−164A」)1質量部と、α−ヒドロキシケトン系の光重合開始剤(B1)としての2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン(BASF社製,製品名「IRGACURE127」)5質量部とを、イソプロピルアルコール及びメチルエチルケトンの混合溶剤(質量比3:1)にて固形分濃度20質量%に希釈し、剥離剤層形成用材料を得た。この剥離剤層形成用材料を使用して、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
[Comparative Example 5]
99 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate as an active energy ray-curable component, 1 part by mass of a methacryloyl group-containing silicone resin composition (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name “X-62-164A”), and α-hydroxy 2-Hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] -phenyl} -2-methyl-propane-1- as ketone-based photopolymerization initiator (B1) 5 parts by mass of ON (manufactured by BASF, product name “IRGACURE127”) is diluted with a mixed solvent of isopropyl alcohol and methyl ethyl ketone (mass ratio 3: 1) to a solid content concentration of 20% by mass, and a release agent layer forming material Got. Using this release agent layer forming material, a release film was prepared in the same manner as in Example 1.

〔比較例6〕
剥離剤層の厚さを0.2μmに変更した以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
[Comparative Example 6]
A release film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the release agent layer was changed to 0.2 μm.

〔比較例7〕
実施例1における基材の替わりに、二軸延伸PETフィルム(厚さ38μm,第1の面の算術平均粗さRa0:42nm,第1の面の最大突起高さRp0:619nm,第2の面の算術平均粗さRa2:42nm,第2の面の最大突起高さRp2:619nm)を用いた以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
[Comparative Example 7]
Instead of the base material in Example 1, a biaxially stretched PET film (thickness 38 μm, arithmetic average roughness Ra0: 42 nm of the first surface, maximum protrusion height Rp0: 619 nm of the first surface, second surface A release film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the average roughness Ra2 of 42 nm and the maximum protrusion height Rp2 of the second surface (Rp2: 619 nm) were used.

〔比較例8〕
実施例1における基材の替わりに、二軸延伸PETフィルム(厚さ38μm,第1の面の算術平均粗さRa0:15nm,第1の面の最大突起高さRp0:105nm,第2の面の算術平均粗さRa2:3nm,第2の面の最大突起高さRp2:15nm)を用いた以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
[Comparative Example 8]
Instead of the substrate in Example 1, a biaxially stretched PET film (thickness 38 μm, arithmetic average roughness Ra0 of the first surface Ra0: 15 nm, maximum protrusion height Rp0 of the first surface Rp0: 105 nm, second surface A release film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the arithmetic average roughness Ra2: 3 nm and the maximum protrusion height Rp2 of the second surface (Rp2: 15 nm) were used.

〔試験例1〕(剥離剤層の厚さ測定)
実施例及び比較例で得られた剥離フィルムの剥離剤層の厚さ(μm)を、反射式膜厚計(フィルメトリックス社製,製品名「F20」)を使用して測定した。具体的には、実施例及び比較例で得られた剥離フィルムを100×100mmに裁断した後、測定する側の面の反対面が吸引ステージ側となるように剥離フィルムを膜厚計に設置し、剥離剤層表面の10ヵ所について膜厚を測定し、その平均値を剥離剤層の厚さとした。結果を表2に示す。
[Test Example 1] (Measurement of thickness of release agent layer)
The thickness (μm) of the release agent layer of the release films obtained in Examples and Comparative Examples was measured using a reflective film thickness meter (product name “F20” manufactured by Filmetrics). Specifically, after the release films obtained in Examples and Comparative Examples were cut to 100 × 100 mm, the release film was installed on the film thickness meter so that the surface opposite to the surface to be measured was on the suction stage side. The film thickness was measured at 10 locations on the surface of the release agent layer, and the average value was defined as the thickness of the release agent layer. The results are shown in Table 2.

〔試験例2〕(剥離剤層の表面粗さ測定)
ガラス板に両面テープを貼付し、実施例及び比較例で得られた剥離フィルムを、測定する側の面の反対面がガラス板側となるように上記両面テープを介してガラス板に固定した。その剥離フィルムの剥離剤層の表面(露出している表面;以下同じ)における算術平均粗さ(Ra1;nm)及び最大突起高さ(Rp1;nm)を、表面粗さ測定機(ミツトヨ社製,製品名「SV−3000S4」,触針式)を使用し、JIS B0601−1994に準拠して測定した。結果を表2に示す。
[Test Example 2] (Measurement of surface roughness of release agent layer)
A double-sided tape was affixed to the glass plate, and the release films obtained in the examples and comparative examples were fixed to the glass plate via the double-sided tape so that the surface opposite to the surface to be measured was on the glass plate side. The arithmetic average roughness (Ra1; nm) and maximum protrusion height (Rp1; nm) on the surface of the release agent layer of the release film (exposed surface; the same applies hereinafter) and the surface roughness measuring machine (Mitutoyo) , Product name “SV-3000S4”, stylus type) and measured according to JIS B0601-1994. The results are shown in Table 2.

〔試験例3〕(シリコーン移行性評価)
トルエン及びエタノールの混合溶剤(質量比50:50)にて、ポリビニルブチラール樹脂(積水化学社製,製品名「エスレックB・K BL−S」,粉末状)を固形分濃度20質量%に溶解し、ポリビニルブチラール樹脂溶液を得た。得られたポリビニラール樹脂溶液を、実施例及び比較例で得られた剥離フィルムの剥離剤層表面に、乾燥後の厚さが4μmとなるようにバーコーターによって塗布し、乾燥させてポリビニラール樹脂層を形成した。
[Test Example 3] (Evaluation of silicone migration)
In a mixed solvent of toluene and ethanol (mass ratio 50:50), a polyvinyl butyral resin (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., product name “S-Lec B · K BL-S”, powder form) is dissolved to a solid content concentration of 20% by mass. A polyvinyl butyral resin solution was obtained. The obtained polyvinyl resin solution was applied to the release agent layer surface of the release film obtained in Examples and Comparative Examples with a bar coater so that the thickness after drying was 4 μm, and dried to form a polyvinyl resin layer. Formed.

上記ポリビニラール樹脂層を剥離フィルムから剥離し、当該ポリビニラール樹脂層における剥離剤層表面と接触していた面について、X線光電子分光分析法(XPS)によって測定されるケイ素原子(Si)、炭素原子(C)及び酸素原子(O)の量(XPSカウント数)に基づき、下記の式によりケイ素原子比率(原子%)を算出した。
ケイ素原子比率(原子%)=[(Si元素量)/(C元素量)+(O元素量)+(Si元素量)]×100
The polyvinyl resin layer is peeled from the release film, and the surface of the polyvinyl resin layer that has been in contact with the surface of the release agent layer is measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), silicon atoms (Si), carbon atoms ( Based on the amount of C) and oxygen atoms (O) (XPS count number), the silicon atom ratio (atomic%) was calculated by the following formula.
Silicon atomic ratio (atomic%) = [(Si element amount) / (C element amount) + (O element amount) + (Si element amount)] × 100

そして、以下の判断基準により、シリコーン移行性を評価した。結果を表3に示す。
A…ケイ素原子比率が0.3原子%未満
B…ケイ素原子比率が0.3原子%以上、1.0原子%未満
C…ケイ素原子比率が1.0原子%以上
The silicone migration was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 3.
A: Silicon atomic ratio is less than 0.3 atomic% B: Silicon atomic ratio is 0.3 atomic% or more and less than 1.0 atomic% C: Silicon atomic ratio is 1.0 atomic% or more

〔試験例4〕(剥離剤層の塗工面評価)
実施例及び比較例で得られた剥離フィルムについて、剥離剤層の塗工面(表面)の状態を目視にて観察し、以下の判断基準により、剥離剤層の塗工面を評価した。結果を表3に示す。
A…塗工スジによる面異常がなかった
B…塗工スジによる面異常は若干あるものの、使用上問題なかった
C…塗工スジが塗工面全体に発生した、または極端な面異常が発生した
[Test Example 4] (Evaluation of coating surface of release agent layer)
About the release film obtained by the Example and the comparative example, the state of the coating surface (surface) of a release agent layer was observed visually, and the coating surface of the release agent layer was evaluated by the following judgment criteria. The results are shown in Table 3.
A: There was no surface abnormality due to coating stripes B: Although there were some surface abnormalities due to coating stripes, there was no problem in use C: Coating stripes occurred on the entire coated surface, or extreme surface abnormalities occurred

〔試験例5〕(剥離剤層の硬化性評価)
実施例及び比較例で得られた剥離フィルムについて、メチルエチルケトンを含ませたウエス(小津産業社製,製品名「BEMCOT AP−2」)によって、剥離剤層の表面を荷重1kg/cmで往復10回研磨した。その後、剥離剤層の表面を目視で観察し、以下の判断基準により剥離剤層の硬化性を評価した。なお、本試験(試験例5)において、評価が「C」であったものについては、他の試験を行うのに満足な試料を得ることができなかったため、他の試験は行わなかった。結果を表3に示す。
A…剥離剤層の溶解・脱落がなかった
B…剥離剤層の一部溶解が見られた
C…剥離剤層が完全に溶解し、基材から脱落した
[Test Example 5] (Evaluation of curability of release agent layer)
About the release films obtained in Examples and Comparative Examples, the surface of the release agent layer was reciprocated at a load of 1 kg / cm 2 with a waste containing methyl ethyl ketone (product name “BEMCOT AP-2”) containing methyl ethyl ketone 10 Polished twice. Thereafter, the surface of the release agent layer was visually observed, and the curability of the release agent layer was evaluated according to the following criteria. In addition, in this test (Test Example 5), for samples with an evaluation of “C”, a sample satisfactory for performing other tests could not be obtained, and thus other tests were not performed. The results are shown in Table 3.
A: The release agent layer did not dissolve / drop off B: Part of the release agent layer was found to be dissolved C: The release agent layer was completely dissolved and dropped from the substrate

〔試験例6〕(スラリー塗工性評価)
チタン酸バリウム粉末(BaTiO;堺化学工業社製,製品名「BT−03」)100質量部、バインダーとしてのポリビニルブチラール樹脂(積水化学工業社製,製品名「エスレックB・K BM−2」)8質量部、及び可塑剤としてのフタル酸ジオクチル(関東化学社製,フタル酸ジオクチル 鹿1級)4質量部に、トルエン及びエタノールの混合液(質量比6:4)135質量部とを、ジルコニアビーズの存在下で、ボールミルにて混合し分散させて、ビーズを除去してセラミックスラリーを調製した。
[Test Example 6] (Slurry coating property evaluation)
Barium titanate powder (BaTiO 3 ; manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., product name “BT-03”), polyvinyl butyral resin as a binder (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., product name “S-REC B / K BM-2”) ) 8 parts by mass and 4 parts by mass of dioctyl phthalate (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., dioctyl phthalate deer grade 1) as a plasticizer, 135 parts by mass of a mixed solution of toluene and ethanol (mass ratio 6: 4), In the presence of zirconia beads, they were mixed and dispersed by a ball mill, and the beads were removed to prepare a ceramic slurry.

実施例及び比較例で得られた剥離フィルムの剥離剤層表面に、上記セラミックスラリーをダイコーターにて乾燥後の膜厚が1μmになるように、幅250mm、長さ10mにわたって塗工し、その後、乾燥機にて80℃で1分間乾燥させた。セラミックグリーンシートが成形された剥離フィルムについて、剥離フィルム側から蛍光灯を照らして、成形したすべてのセラミックグリーンシート面を目視で検査し、以下の判断基準によりスラリー塗工性を評価した。結果を表3に示す。
A…セラミックグリーンシートにピンホールがなかった
B…セラミックグリーンシートに1〜5個のピンホールが発生した
C…セラミックグリーンシートに6個以上のピンホールが発生した
On the surface of the release agent layer of the release films obtained in Examples and Comparative Examples, the ceramic slurry was applied over a width of 250 mm and a length of 10 m so that the film thickness after drying with a die coater would be 1 μm. And dried at 80 ° C. for 1 minute in a dryer. About the release film in which the ceramic green sheet was shape | molded, the fluorescent lamp was illuminated from the release film side, all the molded ceramic green sheet surfaces were visually inspected, and slurry coating property was evaluated by the following judgment criteria. The results are shown in Table 3.
A: There were no pinholes in the ceramic green sheet B: 1-5 pinholes occurred in the ceramic green sheet C: Six or more pinholes occurred in the ceramic green sheet

〔試験例7〕(セラミックグリーンシート剥離性評価)
試験例6と同じ手順により剥離フィルムの剥離剤層表面に成形したセラミックグリーンシートを、剥離フィルムを打ち抜かないようにして200mm×200mmに打ち抜いた。次いで、グリーンシート積層機のシート剥離機構を利用して、打ち抜かれたグリーンシートを真空吸引ステージに吸着させ、剥離フィルムから剥離した。このときのセラミックグリーンシートの剥離性を、以下の判断基準により評価した。結果を表3に示す。
A…セラミックグリーンシートが破れることなく、スムーズに剥離でき、剥離剤層上にセラミックグリーンシートが残らなかった
B…セラミックグリーンシートが破れることなく、ややスムーズさに欠けるものの剥離でき、剥離剤層上にセラミックグリーンシートが残らなかった
C…セラミックグリーンシートが破れるか、剥離できなかった
[Test Example 7] (Ceramic green sheet peelability evaluation)
A ceramic green sheet formed on the surface of the release agent layer of the release film by the same procedure as in Test Example 6 was punched out to 200 mm × 200 mm without punching the release film. Next, using the sheet peeling mechanism of the green sheet laminating machine, the punched green sheet was adsorbed on a vacuum suction stage and peeled from the release film. The peelability of the ceramic green sheet at this time was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 3.
A: The ceramic green sheet can be peeled off smoothly without tearing, and the ceramic green sheet did not remain on the release agent layer. B: The ceramic green sheet could be peeled off slightly without being broken, and on the release agent layer. There was no ceramic green sheet left on the surface. C ... The ceramic green sheet was torn or could not be peeled off.

〔試験例8〕(剥離剤層表面によるセラミックグリーンシートの欠陥評価)
トルエン及びエタノールの混合溶剤(質量比60:40)にて、ポリビニルブチラール樹脂(積水化学社製,製品名「エスレックB・K BL−S」,粉末状)を固形分濃度20質量%に溶解し、ポリビニルブチラール樹脂溶液を得た。得られたポリビニルブチラール樹脂溶液を、実施例及び比較例で得られた剥離フィルムの剥離剤層の上に、乾燥後の厚さが3μmとなるように塗布し、80℃で1分間乾燥させてポリビニルブチラール樹脂層を成形した。そして、そのポリビニルブチラール樹脂層の表面にポリエステル粘着テープを貼付した。
[Test Example 8] (Defect evaluation of ceramic green sheet on the surface of the release agent layer)
In a mixed solvent of toluene and ethanol (mass ratio 60:40), a polyvinyl butyral resin (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., product name “ESREC B / K BL-S”, powdered) is dissolved to a solid content concentration of 20% by mass. A polyvinyl butyral resin solution was obtained. The obtained polyvinyl butyral resin solution was applied on the release agent layer of the release film obtained in Examples and Comparative Examples so that the thickness after drying was 3 μm, and dried at 80 ° C. for 1 minute. A polyvinyl butyral resin layer was molded. And the polyester adhesive tape was stuck on the surface of the polyvinyl butyral resin layer.

次いで、剥離フィルムをポリビニルブチラール樹脂層から剥離し、ポリビニルブチラール樹脂層をポリエステル粘着テープに転写した。その後、当該ポリビニルブチラール樹脂層の剥離剤層表面と接触していた面における凹みの数を数えた。具体的には、光干渉式表面形状観察装置(Vecco社製,製品名「WYKO―1100」)を使用して、PSIモードにて50倍率で観察し、得られた91.2×119.8μmの範囲における表面形状画像に基づいて、深さ150nm以上の凹みの数を数えた。   Next, the release film was peeled from the polyvinyl butyral resin layer, and the polyvinyl butyral resin layer was transferred to a polyester adhesive tape. Thereafter, the number of dents on the surface of the polyvinyl butyral resin layer that was in contact with the surface of the release agent layer was counted. Specifically, using a light interference type surface shape observation device (product name “WYKO-1100” manufactured by Vecco), observation was performed at 50 magnifications in the PSI mode, and the obtained 91.2 × 119.8 μm was obtained. On the basis of the surface shape images in the range, the number of dents having a depth of 150 nm or more was counted.

上記凹みの数に基づいて、以下の判断基準により、剥離剤層表面によるセラミックグリーンシートの欠陥評価を行った。なお、前述したセラミックグリーンシート剥離性評価の試験(試験例7)において、評価が「C」であったものについては、本試験を行うのに満足な試料を得ることができなかったため、本試験は行わなかった。結果を表3に示す。
A…凹みの数が0個
B…凹みの数が1〜5個
C…凹みの数が6個以上
なお、上記評価Cの凹みが存在するセラミックグリーンシートでコンデンサを製造した場合、得られるコンデンサは、耐電圧低下によるショートが発生し易いものとなる。
Based on the number of depressions, the ceramic green sheet was evaluated for defects on the surface of the release agent layer according to the following criteria. In addition, in the above-described test for evaluating the peelability of the ceramic green sheet (Test Example 7), a sample that was evaluated as “C” could not obtain a satisfactory sample for performing this test. Did not. The results are shown in Table 3.
A: The number of dents is 0. B: The number of dents is 1-5. C: The number of dents is 6 or more. In addition, when a capacitor is manufactured with the ceramic green sheet in which the above-mentioned evaluation C exists, the obtained capacitor Is likely to cause a short circuit due to a decrease in withstand voltage.

〔試験例9〕(基材の第2の面によるセラミックグリーンシートの欠陥評価)
トルエン及びエタノールの混合溶剤(質量比60:40)にて、ポリビニルブチラール樹脂(積水化学社製,製品名「エスレックB・K BL−S」,粉末状)を固形分濃度20質量%に溶解し、ポリビニルブチラール樹脂溶液を得た。得られたポリビニルブチラール樹脂溶液を、厚さ50μmのPETフィルム上に、乾燥後の厚さが3μmとなるように塗布し、80℃で1分間乾燥させてポリビニルブチラール樹脂層を成形した。
[Test Example 9] (Defect evaluation of ceramic green sheet by the second surface of the substrate)
In a mixed solvent of toluene and ethanol (mass ratio 60:40), a polyvinyl butyral resin (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., product name “ESREC B / K BL-S”, powdered) is dissolved to a solid content concentration of 20% by mass. A polyvinyl butyral resin solution was obtained. The obtained polyvinyl butyral resin solution was applied onto a 50 μm thick PET film so that the thickness after drying was 3 μm, and dried at 80 ° C. for 1 minute to form a polyvinyl butyral resin layer.

実施例及び比較例で得られた剥離フィルムを、当該剥離フィルムにおける基材の第2の面が上記ポリビニルブチラール樹脂層と接するように、当該ポリビニルブチラール樹脂層に貼り合わせた。この積層体を100mm×100mmに裁断した後、荷重5kg/cmでプレスし、剥離フィルムにおける基材の第2の面の突起形状をポリビニルブチラール樹脂層に転写させた。 The release films obtained in Examples and Comparative Examples were bonded to the polyvinyl butyral resin layer so that the second surface of the substrate in the release film was in contact with the polyvinyl butyral resin layer. The laminate was cut to 100 mm × 100 mm and then pressed with a load of 5 kg / cm 2 to transfer the protrusion shape of the second surface of the substrate in the release film to the polyvinyl butyral resin layer.

次いで、剥離フィルムをポリビニルブチラール樹脂層から剥離し、ポリビニルブチラール樹脂フィルムの、剥離フィルムの基材の第2の面に接触していた面における凹みの深さを測定するとともに、凹みの数を数えた。具体的には、光干渉式表面形状観察装置(Vecco社製,WYKO―1100)を使用して、PSIモードにて50倍率で観察し、得られた91.2×119.8μmの範囲における表面形状画像に基づいて、凹みの深さを測定するとともに、凹みの数を数えた。   Next, the release film is peeled from the polyvinyl butyral resin layer, and the depth of the recess in the surface of the polyvinyl butyral resin film that has been in contact with the second surface of the substrate of the release film is measured, and the number of recesses is counted. It was. Specifically, using an optical interference type surface shape observation apparatus (Vecco, WYKO-1100), the surface in the range of 91.2 × 119.8 μm obtained by observing at a magnification of 50 in the PSI mode. Based on the shape image, the depth of the dent was measured and the number of dents was counted.

上記凹みの深さ及び数に基づいて、以下の判断基準により、基材の第2の面によるセラミックグリーンシートの欠陥評価を行った。結果を表3に示す。
A…深さ300nm以上の凹みの数が0個
B…深さ500nm以上の凹みの数が0個で、深さ300nm以上500nm未満の凹みの数が1個以上
C…深さ500nm以上の凹みの数が1個以上
なお、上記評価Cの凹みが存在するセラミックグリーンシートでコンデンサを製造した場合、得られるコンデンサは、耐電圧低下によるショートが発生し易いものとなる。
Based on the depth and number of the dents, a defect evaluation of the ceramic green sheet by the second surface of the substrate was performed according to the following criteria. The results are shown in Table 3.
A: The number of recesses having a depth of 300 nm or more is 0 B: The number of recesses having a depth of 500 nm or more is 0, and the number of recesses having a depth of 300 nm or more and less than 500 nm is 1 or more C: A recess having a depth of 500 nm or more In addition, when a capacitor is manufactured with the ceramic green sheet in which the dent of the evaluation C exists, the obtained capacitor is likely to be short-circuited due to a decrease in withstand voltage.

〔試験例10〕(ハンドリング性評価)
実施例及び比較例で得られた剥離フィルムをロール状にする際のハンドリング性について評価した。具体的には、接触した剥離フィルム同士の滑り性、ロール状にする際の空気抜けの良さ、及び剥離フィルムの巻きズレの生じ難さについて、以下の判断基準により評価した。結果を表3に示す。
A…接触した剥離フィルム同士の滑り性が良く、かつ剥離フィルムをロール状にするときの空気抜けが良く、剥離フィルムの巻きズレを防止できた
B…接触した剥離フィルム同士の滑り性が若干悪く、かつ剥離フィルムをロール状に巻いたときの空気の抜けが若干悪く、巻きズレが若干生じるものの支障はなかった
C…接触した剥離フィルム同士の滑り性が悪く、かつ剥離フィルムをロール状に巻いたときの空気の抜けが悪く、巻きズレが顕著に生じた
[Test Example 10] (Handling evaluation)
The handling properties when the release films obtained in Examples and Comparative Examples were made into rolls were evaluated. Specifically, the following judgment criteria evaluated the slipperiness | slidability of the peeling films which contacted, the good air bleed at the time of making it into a roll shape, and the difficulty of generating the winding gap of a peeling film. The results are shown in Table 3.
A ... Good slipperiness between peeled release films and good air escape when making the release film into a roll, and prevented winding film from slipping. B ... Slightly slippery contacted release films were slightly worse. When the release film was wound into a roll, the air escape was slightly worse, and there was no hindrance although some winding deviation occurred. C ... The slipperiness between the release films contacted was poor, and the release film was wound into a roll. The air escape was bad and the winding deviation was noticeable.

〔試験例11〕(ブロッキング性評価)
実施例及び比較例で得られた剥離フィルムを、幅400mm、長さ5000mのロール状に巻き上げた。この剥離フィルムロールを40℃、湿度50%以下の環境下に30日間保管し、剥離フィルムロールそのままの状態での外観を目視にて観察し、以下の判断基準によりブロッキング性を評価した。結果を表3に示す。
A…ロール状に巻き上げたときから変化がなかった(ブロッキング無し)
B…幅方向における半分以下の領域にて、フィルム同士の密着に起因する色目の変化が見られた(ブロッキングは若干有るが使用可能)
C…幅方向における過半の領域にわたって、フィルム同士の密着に起因する色目の変化が見られた(ブロッキング有り)
[Test Example 11] (Evaluation of blocking properties)
The release films obtained in Examples and Comparative Examples were rolled up into a roll having a width of 400 mm and a length of 5000 m. This release film roll was stored for 30 days in an environment of 40 ° C. and a humidity of 50% or less. The appearance of the release film roll as it was was visually observed, and the blocking property was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 3.
A: There was no change from when it was rolled up (no blocking)
B: In the area of less than half in the width direction, a change in color due to adhesion between the films was observed (there is some blocking but can be used)
C: Over the majority region in the width direction, a change in color due to adhesion between films was observed (with blocking)

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表3から明らかなように、実施例の剥離フィルムは、セラミックグリーンシートの剥離性に優れるとともに、セラミックグリーンシートにシリコーン系化合物(剥離付与成分)が移行し難いものであった。また、実施例の剥離フィルムによれば、セラミックグリーンシートに欠陥が生じ難く、さらにはブロッキングが発生し難く、ハンドリング性も良好であった。   As is clear from Table 3, the release films of the examples were excellent in the peelability of the ceramic green sheet, and the silicone compound (release imparting component) was not easily transferred to the ceramic green sheet. Moreover, according to the peeling film of an Example, it was hard to produce a defect in a ceramic green sheet, and also it was hard to generate | occur | produce blocking, and its handleability was also favorable.

1…セラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルム
11…基材
111…第1の面
112…第2の面
12…剥離剤層
121…表面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Release film for ceramic green sheet manufacturing process 11 ... Base material 111 ... 1st surface 112 ... 2nd surface 12 ... Release agent layer 121 ... Surface

Claims (3)

第1の面及び第2の面を有する基材と、前記基材の第1の面に設けられた剥離剤層とを備えたセラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルムであって、
前記剥離剤層は、活性エネルギー線硬化性成分(A)及び光重合開始剤(B)を含有する剥離剤組成物から形成され、
前記活性エネルギー線硬化性成分(A)は、
1分子中に平均して少なくとも3個の(メタ)アクリロイル基を有する水酸基含有(メタ)アクリレート(a1)と、
多価イソシアネート化合物(a2)と、
1分子中に少なくとも1個の水酸基を有し、質量平均分子量が500〜8000の直鎖状のジメチルオルガノポリシロキサン(a3)とを、
前記(メタ)アクリレート(a1)、前記多価イソシアネート化合物(a2)及び前記ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)の合計量に対する前記ジメチルオルガノポリシロキサン(a3)の量が質量比で0.01〜0.10となるように反応させてなり、
前記剥離剤層の厚さは0.3〜2μmであり、
前記剥離剤層の前記基材とは反対側の面における算術平均粗さ(Ra1)が8nm以下であり、かつ最大突起高さ(Rp1)が50nm以下であり、
前記基材の第2の面における算術平均粗さ(Ra2)が5〜40nmであり、かつ最大突起高さ(Rp2)が60〜500nmである
ことを特徴とするセラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルム。
A release film for a ceramic green sheet manufacturing process comprising a substrate having a first surface and a second surface, and a release agent layer provided on the first surface of the substrate,
The release agent layer is formed from a release agent composition containing an active energy ray-curable component (A) and a photopolymerization initiator (B),
The active energy ray-curable component (A) is
A hydroxyl group-containing (meth) acrylate (a1) having an average of at least three (meth) acryloyl groups in one molecule;
A polyvalent isocyanate compound (a2);
A linear dimethylorganopolysiloxane (a3) having at least one hydroxyl group in one molecule and having a mass average molecular weight of 500 to 8000,
The amount of the dimethylorganopolysiloxane (a3) relative to the total amount of the (meth) acrylate (a1), the polyvalent isocyanate compound (a2) and the dimethylorganopolysiloxane (a3) is 0.01 to 0.00 by mass ratio. Let it react to be 10,
The release agent layer has a thickness of 0.3-2 μm,
The arithmetic average roughness (Ra1) on the surface of the release agent layer opposite to the substrate is 8 nm or less, and the maximum protrusion height (Rp1) is 50 nm or less,
An arithmetic average roughness (Ra2) on the second surface of the substrate is 5 to 40 nm, and a maximum protrusion height (Rp2) is 60 to 500 nm. .
前記光重合開始剤(B)が、α−ヒドロキシケトン系化合物又はα−アミノアルキルフェノン系化合物であることを特徴とする請求項1に記載のセラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルム。   The release film for a ceramic green sheet production process according to claim 1, wherein the photopolymerization initiator (B) is an α-hydroxyketone compound or an α-aminoalkylphenone compound. 前記剥離剤層の前記基材とは反対側の面にポリビニルブチラール樹脂層を形成した後、前記ポリビニルブチラール樹脂層を前記剥離剤層から剥離したときに、前記ポリビニルブチラール樹脂層における前記剥離剤層に接触していた面について、光電子分光分析で測定したケイ素原子比率が、1.0原子%未満であることを特徴とする請求項1又は2に記載のセラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルム。   After the polyvinyl butyral resin layer is formed on the surface of the release agent layer opposite to the substrate, the release agent layer in the polyvinyl butyral resin layer is peeled off when the polyvinyl butyral resin layer is released from the release agent layer. The release film for a ceramic green sheet production process according to claim 1, wherein the silicon atom ratio measured by photoelectron spectroscopy analysis is less than 1.0 atomic% with respect to the surface in contact with the ceramic green sheet.
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