JP2015133375A - Division apparatus - Google Patents
Division apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015133375A JP2015133375A JP2014003190A JP2014003190A JP2015133375A JP 2015133375 A JP2015133375 A JP 2015133375A JP 2014003190 A JP2014003190 A JP 2014003190A JP 2014003190 A JP2014003190 A JP 2014003190A JP 2015133375 A JP2015133375 A JP 2015133375A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- dividing
- holding table
- ceramic capacitor
- chips
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 72
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 abstract description 68
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 5
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 15
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 7
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
Abstract
Description
本発明は、板状の被加工物を複数のチップに分割する分割装置に関する。 The present invention relates to a dividing device that divides a plate-like workpiece into a plurality of chips.
金属箔と絶縁体とを交互に積層して構成されたセラミックコンデンサー基板は、分割装置によって個々のチップコンデンサーに分割されて携帯電話やパソコン等の電気機器に広く利用されている。 A ceramic capacitor substrate formed by alternately laminating metal foils and insulators is divided into individual chip capacitors by a dividing device and widely used in electric devices such as mobile phones and personal computers.
セラミックコンデンサー基板を個々のチップコンデンサーに分割する分割装置としては、一般に切削ブレードを備えた切削装置が用いられている(例えば特許文献1参照)。 As a dividing device for dividing a ceramic capacitor substrate into individual chip capacitors, a cutting device having a cutting blade is generally used (see, for example, Patent Document 1).
また、セラミックコンデンサー基板を個々のチップコンデンサーに分割する分割方法として、セラミックコンデンサー基板に対して吸収性を有する波長のレーザー光線を分割予定ラインに沿って照射し、セラミックコンデンサー基板を分割予定ラインに沿って切断する方法も試みられている。 Moreover, as a dividing method for dividing the ceramic capacitor substrate into individual chip capacitors, a laser beam having a wavelength that absorbs the ceramic capacitor substrate is irradiated along the planned dividing line, and the ceramic capacitor substrate is divided along the planned dividing line. Attempts have also been made to cut.
而して、セラミックコンデンサー基板は所定の温度で焼結されると硬質になり、切削ブレードによってセラミックコンデンサー基板を切断すると、切削ブレードが激しく消耗するとともに、破損することがあり、生産性が悪いという問題がある。
また、セラミックコンデンサー基板にレーザー光線を照射して個々のチップコンデンサーに分割すると、溶融物(ドロス)がチップコンデンサーの側面に付着して品質を低下させるという問題がある。
更に、セラミックコンデンサー基板が個々のチップコンデンサーに分割された後においても搬送等の取り扱いを容易にするために、セラミックコンデンサー基板は保持基板またはテープ等の支持部材によって支持されるため、支持部材の貼着および剥離の工程が必要であり生産性が悪いという問題がある。
Thus, when the ceramic capacitor substrate is sintered at a predetermined temperature, it becomes hard. When the ceramic capacitor substrate is cut by the cutting blade, the cutting blade is severely consumed and may be damaged, resulting in poor productivity. There's a problem.
Further, when the ceramic capacitor substrate is irradiated with a laser beam and divided into individual chip capacitors, there is a problem that the melt (dross) adheres to the side surface of the chip capacitor and deteriorates the quality.
Furthermore, since the ceramic capacitor substrate is supported by a support member such as a holding substrate or tape in order to facilitate handling such as transportation even after the ceramic capacitor substrate is divided into individual chip capacitors, the support member is not attached. There is a problem that the steps of attaching and peeling are necessary and productivity is poor.
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術的課題は、チップの品質を低下させることなくセラミックコンデンサー基板を含む板状の被加工物を効率よく分割することができる分割装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-mentioned facts, and a main technical problem thereof is a dividing apparatus capable of efficiently dividing a plate-like workpiece including a ceramic capacitor substrate without deteriorating the quality of a chip. Is to provide.
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、板状の被加工物を複数のチップに分割する分割装置であって、
加工前の被加工物を収容したカッセットを載置するカセット載置領域と、
加工前の被加工物を仮置きする仮置き手段と、
該カセット載置領域に載置されたカッセットに収容されている加工前の被加工物を仮置き手段に搬出する被加工物搬出手段と、
加工前の被加工物を吸引保持する保持テーブルと、
該保持テーブルを被加工物を搬入および搬出する搬入・搬出領域と加工領域に移動せしめる移動手段と、
該仮置き手段に搬出された加工前の被加工物を該搬入・搬出領域に位置付けられた該保持テーブルに搬送する被加工物搬入手段と、
該加工領域に配設され該保持テーブルに吸引保持された加工前の被加工物にレーザー光線を照射し、被加工物にチップに分割すべき破断起点となる分割溝を形成するレーザー光線照射手段と、
破断起点となる分割溝が形成された被加工物に外力を付与し、被加工物を分割溝に沿って複数のチップに分割する分割手段と、
該分割手段によって分割された複数のチップを収容する収容手段と、
該分割手段によって分割された複数のチップを該収容手段に落とし込むチップ落とし込み手段と、を具備している、
ことを特徴とする分割装置が提供される。
In order to solve the main technical problem, according to the present invention, a dividing device for dividing a plate-like workpiece into a plurality of chips,
A cassette placement area for placing a cassette containing the workpiece before processing;
Temporary placement means for temporarily placing the workpiece before processing;
A workpiece unloading means for unloading the unprocessed workpiece housed in the cassette placed in the cassette placement area to the temporary placing means;
A holding table for sucking and holding a workpiece before processing;
A moving means for moving the holding table to a loading / unloading area for loading and unloading a workpiece and a machining area;
A workpiece carry-in means for carrying the workpiece before being carried to the temporary placement means to the holding table positioned in the carry-in / out region;
A laser beam irradiating means for irradiating a workpiece before processing disposed in the processing region and sucked and held by the holding table to form a split groove serving as a break starting point to be divided into chips on the workpiece;
A splitting means for applying an external force to the workpiece on which the split groove serving as a fracture starting point is formed, and splitting the workpiece into a plurality of chips along the split groove;
Accommodating means for accommodating a plurality of chips divided by the dividing means;
Chip dropping means for dropping a plurality of chips divided by the dividing means into the accommodating means,
A dividing device is provided.
本発明による分割装置は上記のように構成され、レーザー光線照射手段によって被加工物にレーザー光線を照射してチップに分割すべき破断の起点となる分割溝を形成するので、切削ブレードによって切断する従来の分割方法のように切削ブレードの消耗および破損による生産性の低下を招くことがない。
また、レーザー光線照射手段によるレーザー加工は、被加工物にチップに分割すべき破断の起点となる分割溝を形成するので、チップの側壁に溶融物(ドロス)が付着するようなことはない。
更に、チップに分割すべき破断の起点となる分割溝が形成された被加工物が分割手段によって個々のチップに分割された後においては、収容手段に収容するので、被加工物を保持基板またはテープ等の支持部材に支持する必要がなく、支持部材の貼着および剥離の工程が不要となり生産性が向上する。
The splitting device according to the present invention is configured as described above, and a laser beam is applied to a workpiece by a laser beam irradiation means to form a split groove that is a starting point of fracture to be split into chips. Unlike the dividing method, productivity is not reduced due to wear and breakage of the cutting blade.
Further, the laser processing by the laser beam irradiating means forms a dividing groove as a starting point of the fracture to be divided into chips in the workpiece, so that no melt (dross) is attached to the side wall of the chip.
Further, after the workpiece on which the dividing groove to be the starting point of the fracture to be divided into chips is divided into individual chips by the dividing means, the workpiece is accommodated in the accommodating means, so that the workpiece is held on the holding substrate or It is not necessary to support the support member such as a tape, and the steps of attaching and peeling the support member are not required, and the productivity is improved.
以下、本発明に従って構成された分割装置の好適な実施形態について、添付図面を参照して、更に詳細に説明する。 Preferred embodiments of a dividing device configured according to the present invention will be described below in further detail with reference to the accompanying drawings.
図5には、板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板の斜視図が示されている。図5に示すセラミックコンデンサー基板10は、厚みが500μm程度で矩形状に形成されており、表面10aに所定の方向に延びる複数の第1の分割予定ライン101と、該第1の分割予定ライン101と直交する方向に延びる複数の第2の分割予定ライン102が格子状に形成されている。第1の分割予定ライン101と第2の分割予定ライン102によって区画された複数の領域にチップコンデンサー103が形成されている。このように形成されたセラミックコンデンサー基板10は、第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102に沿って個々のチップコンデンサー103に分割される。
FIG. 5 shows a perspective view of a ceramic capacitor substrate as a plate-like workpiece. The
図1には、上記セラミックコンデンサー基板10を第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102に沿って分割するための本発明に従って構成された分割装置の斜視図が示されている。
図1に示された分割装置は、装置ハウジング2を具備している。この装置ハウジング2の中央部には、被加工物を保持する被加工物保持機構3と、該被加工物保持機構3に保持された被加工物にレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段4が配設されている。被加工物保持機構3は、上記板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板10を吸引保持する保持テーブル31と、該保持テーブル31を支持する保持テーブル支持手段32とを具備している。保持テーブル31は、図1に示すように矩形状に形成され表面中央部に上記セラミックコンデンサー基板10を吸引保持するためのポーラスセラミックスによって形成された吸着チャック311が配設されている。そして、吸着チャック311が図示しない吸引手段に接続されている。従って、吸着チャック311上にセラミックコンデンサー基板10を載置し、図示しない吸引手段を作動することにより、吸着チャック311上にセラミックコンデンサー基板10を吸引保持する。
FIG. 1 is a perspective view of a dividing apparatus configured according to the present invention for dividing the
The dividing device shown in FIG. 1 includes a
被加工物保持機構3を構成する保持テーブル支持手段32は、保持テーブル31を上面である保持面に対して垂直な軸周りに回動せしめる図示しない回転駆動手段を備えている。このように構成された保持テーブル支持手段32は、保持テーブル31を図1に示す被加工物を搬入および搬出する搬入・搬出領域とレーザー光線照射手段4による加工領域に移動可能に構成されており、図示しないX軸方向移動手段によって矢印Xで示す加工送り方向(X軸方向)に移動せしめられるようになっている。 The holding table support means 32 constituting the workpiece holding mechanism 3 includes a rotation driving means (not shown) that rotates the holding table 31 about an axis perpendicular to the holding surface that is the upper surface. The holding table support means 32 configured in this manner is configured to be movable between a loading / unloading area for loading and unloading the workpiece shown in FIG. 1 and a processing area by the laser beam irradiation means 4. It can be moved in the machining feed direction (X axis direction) indicated by an arrow X by an X axis direction moving means (not shown).
上記被加工物保持機構3を構成する保持テーブル31に保持されたセラミックコンデンサー基板10にレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段4は、パルスレーザー光線を発振するレーザー光線発振手段(図示せず)と、該レーザー光線発振手段によって発振されたレーザー光線を集光する集光器41を具備しており、集光器41が加工領域に配設されている。
The laser beam irradiation means 4 for irradiating the
上記被加工物保持機構3のY軸方向における一方の側には、加工前の板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板10を収容したカッセットを載置するカセット載置領域5aが設けられており、カセット載置領域5aには図示しない昇降手段によって矢印Zで示す上下方向(Z軸方向)に移動せしめられるカセットテーブル50が配設されている。このカセットテーブル50上に被加工物である上記セラミックコンデンサー基板10が複数枚収容されたカセット5が載置される。カセット載置領域5aの前側には、カセット5に収容されたセラミックコンデンサー基板10を仮置きするとともに位置合わせを行う仮置き手段6と、カセット5に収容されたセラミックコンデンサー基板10を仮置き手段6に搬出する被加工物搬出手段7が配設されている。
On one side of the workpiece holding mechanism 3 in the Y-axis direction, there is provided a
上記仮置き手段6と搬入・搬出領域との間には、仮置き手段6に搬出され位置合わせが行われた加工前の板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板10を搬入・搬出領域に位置付けられている被加工物保持機構3を構成する保持テーブル31の上面である保持面上に搬送する被加工物搬入手段8が配設されている。この被加工物搬入手段8は、セラミックコンデンサー基板10の上面を吸引保持する吸引保持パッド81と、該吸引保持パッド81を支持し吸引保持パッド81を上下方向(Z軸方向)に移動するエアシリンダ機構82と、該エアシリンダ機構82を支持する作動アーム83と、該作動アーム83をY軸方向に移動せしめる図示しない移動手段とからなっている。このように構成された被加工物搬入手段8の吸引保持パッド81は、図示しない吸引手段に接続されている。
Between the temporary placement means 6 and the carry-in / carry-out area, the
図示の実施形態における分割装置は、上記被加工物搬入手段8のエアシリンダ機構82に装着され搬入・搬出領域に位置付けられている保持テーブル31に保持された板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板10の加工すべき領域を検出する撮像手段9を具備している。この撮像手段9は、顕微鏡やCCDカメラ等の光学手段からなっており、撮像した画像信号を後述する制御手段に送る。
The dividing apparatus in the illustrated embodiment is a ceramic capacitor as a plate-like workpiece that is held by a holding table 31 that is mounted on the air cylinder mechanism 82 of the workpiece loading means 8 and is positioned in the loading / unloading area. An imaging means 9 for detecting a region to be processed of the
上記被加工物保持機構3のY軸方向における他方の側には、加工領域においてレーザー加工された板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板10を個々のチップコンデンサーに分割するための分割手段11が配設されている。分割手段11は、被加工物保持機構3のY軸方向における他方の側方に配設された被加工物載置部材111と、該被加工物載置部材111上に載置されたレーザー加工された板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板10に外力を付与する押圧ローラ112と、該押圧ローラ112を出入可能に収容するローラ収容ハウジング113を具備している。被加工物載置部材111は、ゴム等の柔軟部材によって矩形状に形成されている。押圧ローラ112は、被加工物載置部材111上に載置されたセラミックコンデンサー基板10の上面を押圧しつつX軸方向に転動せしめられるように構成されている。
On the other side of the workpiece holding mechanism 3 in the Y-axis direction, a dividing means 11 for dividing the
図示の実施形態における分割装置は、搬入・搬出領域に位置付けられている被加工物保持機構3を構成する保持テーブル31に載置されているレーザー加工された板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板10を上記分割手段11を構成する被加工物載置部材111に搬送する被加工物搬送手段12を具備している。この被加工物搬送手段12は、保持テーブル31に載置されているレーザー加工された板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板10の上面を吸引保持する吸引保持パッド121と、該吸引保持パッド121を支持し吸引保持パッド121を上下方向(Z軸方向)に移動するエアシリンダ機構122と、該エアシリンダ機構122を支持する作動アーム123と、該作動アーム123をY軸方向に移動せしめる図示しない移動手段とからなっている。このように構成された被加工物搬送手段12の吸引保持パッド121は、図示しない吸引手段に接続されている。
The dividing device in the illustrated embodiment is a ceramic capacitor as a plate-like workpiece processed by laser that is placed on a holding table 31 constituting a workpiece holding mechanism 3 positioned in a carry-in / out region. A
図示の実施形態における分割装置は、上記分割手段11を構成する被加工物載置部材111に隣接して配設され個々に分割された複数のチップコンデンサーをバルク収容するバルク収容手段13を具備している。バルク収容手段13は、被加工物載置部材111に隣接して開口する開口部131aを備えたチップ落とし部材131を具備している。このチップ落とし部材131は、図2に示すように開口部131aから下方に向けてロート状に形成されている。このよう構成されたチップ落とし部材131の下側にはチップ収容容器132が配設されている。このようにチップ落とし部材131とチップ収容容器132とからなるバルク収容手段13が配設された装置ハウジング2の前壁には、図1に示すようにチップ収容容器132を出し入れするための引き出し133が設けられている。
The dividing apparatus in the illustrated embodiment includes a bulk accommodating means 13 for bulk accommodating a plurality of individually divided chip capacitors arranged adjacent to the workpiece placing member 111 constituting the dividing means 11. ing. The bulk accommodating means 13 includes a
図1を参照して説明を続けると、図示の実施形態における分割装置は、上記分割手段11を構成する被加工物載置部材111上においてセラミックコンデンサー基板10が分割された複数のチップコンデンサーを上記バルク収容手段13を構成するチップ落とし部材131の開口部131aに落とし込むためのチップ落とし込み手段14を具備している。このチップ落とし込み手段14は、チップ落とし込みワイパー141と、チップ落とし込みワイパー141を支持する作動アーム142と、該作動アーム142をY軸方向に移動せしめる図示しない移動手段とからなっている。
Continuing the description with reference to FIG. 1, the dividing apparatus in the illustrated embodiment includes a plurality of chip capacitors in which the
図示の実施形態における分割装置は、図3に示す制御手段20を具備している。制御手段20はコンピュータによって構成されており、制御プログラムに従って演算処理する中央処理装置(CPU)201と、制御プログラム等を格納するリードオンリメモリ(ROM)202と、演算結果等を格納する読み書き可能なランダムアクセスメモリ(RAM)203と、入力インターフェース204および出力インターフェース205とを備えている。このように構成された制御手段20の入力インターフェース204には、上記撮像手段9等からの検出信号が入力される。そして、制御手段20の出力インターフェース205からは、上記被加工物保持機構3、レーザー光線照射手段4、被加工物搬出手段7、被加工物搬入手段8、分割手段11、被加工物搬送手段12等に制御信号を出力する。
The dividing apparatus in the illustrated embodiment includes the control means 20 shown in FIG. The control means 20 is configured by a computer, and a central processing unit (CPU) 201 that performs arithmetic processing according to a control program, a read-only memory (ROM) 202 that stores control programs and the like, and a read / write that stores arithmetic results and the like. A random access memory (RAM) 203, an
図示の実施形態における分割装置は以上のように構成されており、以下その作用について説明する。
カセット載置領域5aに配設されたカセットテーブル50上に載置されたカセット5に収容されている加工前のセラミックコンデンサー基板10は、図示しない昇降手段によってZ軸方向に上下動することにより搬出位置に位置付けられる。次に、制御手段20は被加工物搬出手段7を進退作動して搬出位置に位置付けられたセラミックコンデンサー基板10を仮置き手段6上に搬出する。仮置き手段6に搬出されたセラミックコンデンサー基板10は、ここで位置合わせされる。次に、制御手段20は被加工物搬入手段8を作動して仮置き手段6において位置合わせされたセラミックコンデンサー基板10の上面を吸引保持パッド81によって吸引保持し、搬入・搬出領域に位置付けられている被加工物保持機構3を構成する保持テーブル31の吸着チャック311の上面である保持面上に搬送する。このようにして保持テーブル31の吸着チャック311の上にセラミックコンデンサー基板10が載置されたならば、制御手段20は図示しない吸引手段を作動することにより、保持テーブル31の吸着チャック311の上面である保持面にセラミックコンデンサー基板10を吸引保持する(被加工物保持工程)。
The dividing apparatus in the illustrated embodiment is configured as described above, and the operation thereof will be described below.
The unprocessed
上述したように保持テーブル31の吸着チャック311の上面である保持面にセラミックコンデンサー基板10を吸引保持したならば、制御手段20は被加工物搬入手段8を作動してエアシリンダ機構82に装着されている撮像手段9を保持テーブル31に保持されたセラミックコンデンサー基板10の上側に位置付ける。次に、制御手段20は、撮像手段9を作動して保持テーブル31に保持されたセラミックコンデンサー基板10に形成された第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102を撮像せしめ、第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102がX軸方向およびY軸方向と平行である否かを確認するアライメント作業実施する。もし、第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102がX軸方向およびY軸方向と平行でない場合には、制御手段20は被加工物保持機構3を構成する保持テーブル支持手段32を回動する図示しない回転駆動手段を制御して保持テーブル31に保持されたセラミックコンデンサー基板10に形成された第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102がX軸方向およびY軸方向と平行となるように調整する(アライメント工程)。
As described above, when the
上述したようにアライメント工程を実施したならば、制御手段20は図示しないX軸方向移動手段を作動して保持テーブル31を加工領域に移動し、図4の(a)に示すように所定の第1の分割予定ライン101の一端(図4の(a)において左端)をレーザー光線照射手段4の集光器41の直下に位置付ける。そして、集光器41から照射されるパルスレーザー光線の集光点Pをセラミックコンデンサー基板10の表面10a(上面)付近に合わせる。次に、制御手段20はレーザー光線照射手段4を作動してセラミックコンデンサー基板10に対して吸収性を有する波長のパルスレーザー光線を集光器41から照射しつつ図示しないX軸方向移動手段を作動して保持テーブル31を図4の(a)において矢印X1で示す方向に所定の加工送り速度で移動せしめる。そして、第1の分割予定ライン101の他端(図4の(b)において右端)が集光器41の直下位置に達したら、パルスレーザー光線の照射を停止するとともに保持テーブル31の移動を停止する。この結果、図4の(b)および図4の(c)に示すようにセラミックコンデンサー基板10には、第1の分割予定ライン101に沿って破断の起点となる分割溝104が形成される(レーザー加工工程)。なお、分割溝104は下記加工条件において50μm程度の深さで形成される。
When the alignment process is performed as described above, the
なお、上記レーザー加工工程は、例えば以下の加工条件で行われる。
波長 :355nm
繰り返し周波数 :10kHz
平均出力 :5W
集光スポット :φ10μm
加工送り速度 :50mm/秒
In addition, the said laser processing process is performed on the following processing conditions, for example.
Wavelength: 355nm
Repetition frequency: 10 kHz
Average output: 5W
Focusing spot: φ10μm
Processing feed rate: 50 mm / sec
上述したレーザー加工工程をセラミックコンデンサー基板10に所定方向に形成された全ての第1の分割予定ライン101に沿って実施したならば、制御手段20は図示しない回転駆動手段を作動して保持テーブル31を90度回動する。そして、保持テーブル31に上記第1の分割予定ライン101と直交する方向に形成された全ての第2の分割予定ライン102に沿って上述したレーザー加工工程を実施する。この結果、保持テーブル31に保持されたセラミックコンデンサー基板10は、全ての第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102に沿って破断の起点となる分割溝104が形成される。
If the laser processing step described above is carried out along all the first
以上のようにしてレーザー加工工程が実施されたセラミックコンデンサー基板10を保持している保持テーブル31は、加工領域から搬入・搬出領域に移動せしめられる。そして、保持テーブル31が図1に示す搬入・搬出領域に達したならば、保持テーブル31の移動を停止する。次に、保持テーブル31に保持されているセラミックコンデンサー基板10の吸引保持を解除する。
The holding table 31 holding the
次に、制御手段20は被加工物搬送手段12の図示しない移動手段を作動して吸引保持パッド121を搬入・搬出領域に位置付けられた保持テーブル31上に載置されているセラミックコンデンサー基板10の直上に位置付けるとともに、エアシリンダ機構122を作動して吸引保持パッド121の下面である吸引保持面をセラミックコンデンサー基板10の上面に接触させる。そして、図示しない吸引手段を作動することにより、吸引保持パッド121の下面である吸引保持面にセラミックコンデンサー基板10を吸引保持する。
Next, the
上述したように吸引保持パッド121にセラミックコンデンサー基板10を吸引保持したならば、制御手段20は被加工物搬送手段12の図示しない移動手段を作動して吸引保持パッド121に吸引保持されたセラミックコンデンサー基板10を分割手段11を構成する被加工物載置部材111の直上に位置付けるとともに、エアシリンダ機構122を作動して吸引保持パッド121を下降し、吸引保持パッド121に吸引保持されたセラミックコンデンサー基板10を分割手段11を構成する被加工物載置部材111の上面に位置付ける。そして、吸引保持パッド121によるセラミックコンデンサー基板10の吸引保持を解除する。この結果、セラミックコンデンサー基板10は、分割手段11を構成する被加工物載置部材111上に載置される。
As described above, when the
次に、制御手段20は分割手段11を構成する押圧ローラ112を作動して被加工物載置部材111上に載置されたセラミックコンデンサー基板10の上面を押圧しつつX軸方向に転動せしめる。この結果、セラミックコンデンサー基板10には第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102に沿って破断の起点となる分割溝104が形成されているので、セラミックコンデンサー基板10は分割溝104が形成された第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102に沿って破断され個々のチップコンデンサー103に分割される(分割工程)。
Next, the control means 20 operates the
上述した分割工程を実施したならば、制御手段20はチップ落とし込み手段14の図示しない移動手段を作動して作動アーム142に装着されたチップ落とし込みワイパー141をバルク収容手段13を構成するチップ落とし部材131の開口部131aに向けて移動せしめる。この結果、被加工物載置部材111上において個々に分割された複数のチップコンデンサー103は、開口部121aを通してチップ収容容器132に収容される。
If the above-described dividing step is performed, the control means 20 operates the moving means (not shown) of the chip dropping means 14 to insert the
以上のように、図示の実施形態における分割装置は、レーザー光線照射手段4によってセラミックコンデンサー基板10における第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102に沿ってレーザー光線を照射することにより破断の起点となる分割溝104を形成するので、切削ブレードによって切断する従来の分割方法のように切削ブレードの消耗および破損による生産性の低下を招くことがない。
また、レーザー光線照射手段4によるレーザー加工は、セラミックコンデンサー基板10における第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102に沿って破断の起点となる分割溝104を形成するので、チップコンデンサーの側壁に溶融物(ドロス)が付着するようなことはない。
更に、第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102に沿って破断の起点となる分割溝104が形成されたセラミックコンデンサー基板10が分割手段11によって個々のチップコンデンサー103に分割された後においては、チップ収容容器132に収容するので、セラミックコンデンサー基板10を保持基板またはテープ等の支持部材に支持する必要がなく、支持部材の貼着および剥離の工程が不要となり生産性が向上する。
As described above, the dividing apparatus in the illustrated embodiment is broken by irradiating the laser beam along the first scheduled
In addition, the laser processing by the laser beam irradiation means 4 forms the dividing
Further, the
なお、上述した実施形態においては板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板10を第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102に沿って個々のチップコンデンサー103に分割する例を示したが、本発明による分割装置は板状の被加工物として分割予定ラインが形成されていないガラス基板を複数のチップに分割しても同様の作用効果を奏する。
In the embodiment described above, an example is shown in which the
2:装置ハウジング
3:被加工物保持機構
31:保持テーブル
4:レーザー光線照射手段
41:集光器
5:カセット
5a:カセット載置領域
6:仮置き手段
7:被加工物搬出手段
8:被加工物搬入手段
9:撮像手段
10:セラミックコンデンサー基板
11:分割手段
111:被加工物載置部材
112:押圧ローラ
12:被加工物搬送手段
13:バルク収容手段
14:チップ落とし込み手段
20:制御手段
2: Device housing 3: Workpiece holding mechanism 31: Holding table 4: Laser beam irradiation means 41: Condenser 5:
Claims (1)
加工前の被加工物を収容したカッセットを載置するカセット載置領域と、
加工前の被加工物を仮置きする仮置き手段と、
該カセット載置領域に載置されたカッセットに収容されている加工前の被加工物を仮置き手段に搬出する被加工物搬出手段と、
加工前の被加工物を吸引保持する保持テーブルと、
該保持テーブルを被加工物を搬入および搬出する搬入・搬出領域と加工領域に移動せしめる移動手段と、
該仮置き手段に搬出された加工前の被加工物を該搬入・搬出領域に位置付けられた該保持テーブルに搬送する被加工物搬入手段と、
該加工領域に配設され該保持テーブルに吸引保持された加工前の被加工物にレーザー光線を照射し、被加工物にチップに分割すべき破断起点となる分割溝を形成するレーザー光線照射手段と、
破断起点となる分割溝が形成された被加工物に外力を付与し、被加工物を分割溝に沿って複数のチップに分割する分割手段と、
該分割手段によって分割された複数のチップを収容する収容手段と、
該分割手段によって分割された複数のチップを該収容手段に落とし込むチップ落とし込み手段と、を具備している、
ことを特徴とする分割装置。 A dividing device for dividing a plate-like workpiece into a plurality of chips,
A cassette placement area for placing a cassette containing the workpiece before processing;
Temporary placement means for temporarily placing the workpiece before processing;
A workpiece unloading means for unloading the unprocessed workpiece housed in the cassette placed in the cassette placement area to the temporary placing means;
A holding table for sucking and holding a workpiece before processing;
A moving means for moving the holding table to a loading / unloading area for loading and unloading a workpiece and a machining area;
A workpiece carry-in means for carrying the workpiece before being carried to the temporary placement means to the holding table positioned in the carry-in / out region;
A laser beam irradiating means for irradiating a workpiece before processing disposed in the processing region and sucked and held by the holding table to form a split groove serving as a break starting point to be divided into chips on the workpiece;
A splitting means for applying an external force to the workpiece on which the split groove serving as a fracture starting point is formed, and splitting the workpiece into a plurality of chips along the split groove;
Accommodating means for accommodating a plurality of chips divided by the dividing means;
Chip dropping means for dropping a plurality of chips divided by the dividing means into the accommodating means,
A dividing apparatus characterized by that.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014003190A JP6342659B2 (en) | 2014-01-10 | 2014-01-10 | Splitting device |
TW103141227A TWI633592B (en) | 2014-01-10 | 2014-11-27 | Split device |
CN201410852585.XA CN104779080A (en) | 2014-01-10 | 2014-12-31 | Cutting device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014003190A JP6342659B2 (en) | 2014-01-10 | 2014-01-10 | Splitting device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015133375A true JP2015133375A (en) | 2015-07-23 |
JP6342659B2 JP6342659B2 (en) | 2018-06-13 |
Family
ID=53620498
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014003190A Active JP6342659B2 (en) | 2014-01-10 | 2014-01-10 | Splitting device |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6342659B2 (en) |
CN (1) | CN104779080A (en) |
TW (1) | TWI633592B (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017112216A (en) * | 2015-12-16 | 2017-06-22 | 株式会社ディスコ | Division device |
RU2664882C1 (en) * | 2017-11-03 | 2018-08-23 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники" | Device for chemical separation of semiconductor plates to crystals |
KR102355996B1 (en) * | 2021-11-11 | 2022-02-08 | 주식회사 에스엠하이텍 | Automatic Separating Equipment |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6896326B2 (en) * | 2017-03-06 | 2021-06-30 | 株式会社ディスコ | Processing equipment |
JP7084519B1 (en) * | 2021-03-04 | 2022-06-14 | Towa株式会社 | Processing equipment |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08172027A (en) * | 1994-12-15 | 1996-07-02 | Murata Mfg Co Ltd | Manufacture of electronic part |
JP2003142334A (en) * | 2001-10-31 | 2003-05-16 | Disco Abrasive Syst Ltd | Method of dividing ceramic chip capacitor sheet |
JP2005123288A (en) * | 2003-10-15 | 2005-05-12 | Tdk Corp | Manufacturing method for laminated electronic component |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5947010B2 (en) * | 2011-09-15 | 2016-07-06 | 株式会社ディスコ | Splitting device |
JP6425368B2 (en) * | 2012-04-27 | 2018-11-21 | 株式会社ディスコ | Laser processing apparatus and laser processing method |
-
2014
- 2014-01-10 JP JP2014003190A patent/JP6342659B2/en active Active
- 2014-11-27 TW TW103141227A patent/TWI633592B/en active
- 2014-12-31 CN CN201410852585.XA patent/CN104779080A/en active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08172027A (en) * | 1994-12-15 | 1996-07-02 | Murata Mfg Co Ltd | Manufacture of electronic part |
JP2003142334A (en) * | 2001-10-31 | 2003-05-16 | Disco Abrasive Syst Ltd | Method of dividing ceramic chip capacitor sheet |
JP2005123288A (en) * | 2003-10-15 | 2005-05-12 | Tdk Corp | Manufacturing method for laminated electronic component |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017112216A (en) * | 2015-12-16 | 2017-06-22 | 株式会社ディスコ | Division device |
RU2664882C1 (en) * | 2017-11-03 | 2018-08-23 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники" | Device for chemical separation of semiconductor plates to crystals |
KR102355996B1 (en) * | 2021-11-11 | 2022-02-08 | 주식회사 에스엠하이텍 | Automatic Separating Equipment |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104779080A (en) | 2015-07-15 |
TW201533787A (en) | 2015-09-01 |
JP6342659B2 (en) | 2018-06-13 |
TWI633592B (en) | 2018-08-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6342659B2 (en) | Splitting device | |
US7629229B2 (en) | Laser processing method | |
JP6679157B2 (en) | Transfer mechanism of processing equipment | |
JP5389580B2 (en) | Cutting equipment | |
JP2007242787A (en) | Splitting method of wafer | |
KR20160012073A (en) | Processing method of package substrate | |
JP6692578B2 (en) | Wafer processing method | |
JP2014067843A (en) | Laser processing device and protective film coating method | |
JP4989498B2 (en) | Wafer transfer device and processing device | |
JP2015037145A (en) | Processing method of package substrate | |
JP2011023540A (en) | Device for detection of cutting groove, and cutting machine | |
JP2012059989A (en) | Dividing method | |
JP6305867B2 (en) | Wafer processing method | |
JP6525845B2 (en) | Laser processing equipment | |
JP2010093103A (en) | Tool for division working | |
JP5536534B2 (en) | Glass plate division method | |
JP2013000777A (en) | Laser beam machining apparatus | |
KR102293784B1 (en) | Conveying apparatus, processing apparatus and conveying method | |
JP2017199780A (en) | Wafer processing method | |
JP2001319899A (en) | Dividing method of semiconductor wafer | |
JP2014229772A (en) | Processing apparatus | |
JP2016207820A (en) | Processing method of wafer | |
CN110707017A (en) | Method for drying workpiece and cutting device | |
JP2005066675A (en) | Laser beam machining method | |
JP2013222936A (en) | Method for processing tabular object |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161117 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20171013 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171024 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180424 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180517 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6342659 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |