JP2015117284A - 光散乱層形成用塗料 - Google Patents
光散乱層形成用塗料 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015117284A JP2015117284A JP2013260610A JP2013260610A JP2015117284A JP 2015117284 A JP2015117284 A JP 2015117284A JP 2013260610 A JP2013260610 A JP 2013260610A JP 2013260610 A JP2013260610 A JP 2013260610A JP 2015117284 A JP2015117284 A JP 2015117284A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mass
- light scattering
- titania particles
- alkoxysilane
- scattering layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 28
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 127
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 117
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 73
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 58
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 claims abstract description 32
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims abstract description 19
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 17
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims abstract description 13
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 claims abstract description 8
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 25
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 8
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 25
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical group OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 9
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 8
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010335 hydrothermal treatment Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000011928 denatured alcohol Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- -1 titanium hydride Chemical compound 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000000017 hydrogel Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- IYVLHQRADFNKAU-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[Ti+4] IYVLHQRADFNKAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);titanium(4+);sulfate Chemical compound [O-2].[Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- ZMYXZXUHYAGGKG-UHFFFAOYSA-N propoxysilane Chemical compound CCCO[SiH3] ZMYXZXUHYAGGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZFVBIJYVFABOJ-UHFFFAOYSA-N tetraoctylsilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC CZFVBIJYVFABOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003608 titanium Chemical class 0.000 description 1
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000048 titanium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000349 titanium oxysulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000348 titanium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
【解決手段】動的光散乱法で求められる平均粒子径が100〜500nmであるチタニア粒子の表面をアルコキシシランで処理してなるコアシェル型シリカチタニア粒子:100質量部、アルコキシシランの加水分解生成物からなるシリカオリゴマー:5〜50質量部、沸点100℃以上の高沸点溶媒:100〜600質量部、を含む、光散乱層形成用塗料。
【選択図】図1
Description
例えば、特許文献1には、80〜700nmまたは150nm〜8μmの粒子サイズの粒子を含む光散乱層が記載されている。
例えば、特許文献2には、5nm以上50nm以下の無機微粒子を含む光散乱層が記載されている。
本発明は以下の(1)〜(3)である。
(1)動的光散乱法で求められる平均粒子径が100〜500nmであるチタニア粒子の表面をアルコキシシランで処理してなるコアシェル型シリカチタニア粒子:100質量部、
アルコキシシランの加水分解生成物からなるシリカオリゴマー:5〜50質量部、
沸点100℃以上の高沸点溶媒:100〜600質量部、を含む、光散乱層形成用塗料。
(2)前記コアシェル型シリカチタニア粒子がTiO2およびSiO2を、TiO2:100質量部に対して、SiO2:0.2〜35質量部の比で含む、上記(1)に記載の光散乱層形成用塗料。
(3)前記シリカオリゴマーを構成するアルコキシシランの加水分解生成物の重量平均分子量が700以上5000未満である上記(1)または(2)に記載の光散乱層形成用塗料。
本発明は、動的光散乱法で求められる平均粒子径が100〜500nmであるチタニア粒子の表面をアルコキシシランで処理してなるコアシェル型シリカチタニア粒子:100質量部、アルコキシシランの加水分解生成物からなるシリカオリゴマー:5〜50質量部、沸点100℃以上の高沸点溶媒:100〜600質量部、を含む、光散乱層形成用塗料である。
このような光散乱層形成用塗料を、以下では「本発明の塗料」ともいう。
コアシェル型シリカチタニア粒子は、核(コア)であるチタニア粒子をアルコキシシランによって表面処理して得られるものであり、チタニア粒子の表面に殻(シェル)としてアルコキシシランからなる層を有している。
固形分20質量%のチタニア水ゾル1.5gを、pH11の水溶液で20gに希釈し、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)を14滴(約0.5〜1.0ml)加えて、超音波を3分間かける。その後、レーザー回折式粒度分布測定装置にて前記チタニア水ゾルの光強度パターンを測定し、動的光散乱法によって粒度分布(体積基準)を求め、平均粒子径(メジアン径)を求める。
シリカオリゴマーは、アルコキシシランの加水分解生成物からなる。
アルコキシシランは、前記チタニア粒子の表面に被覆するアルコキシシランと同様のものを用いることができる。ただし、前記コアシェル型シリカチタニア粒子を構成するアルコキシシランと、シリカオリゴマーを生成するアルコキシシランとは、異なる物であってもよいが、同じ物であることが好ましい。光散乱層形成用塗料において、混合(分散)状態がより安定し得るからである。
高沸点溶媒は、沸点100℃以上の溶媒であれば特に限定されない。このような溶媒として、1−メトキシ−2−プロパノール、イソプロピルアルコール、ジアセトンアルコール(DAA)、エチレングリコールなどが挙げられる。
シリカオリゴマーは、コアシェル型シリカチタニア粒子100質量部に対して、5〜50質量部含有し、5〜35質量部含有することが好ましく、10〜20質量部含有することがより好ましい。
高沸点溶媒は、コアシェル型シリカチタニア粒子100質量部に対して、100〜600質量部含有し、150〜400質量部含有することが好ましく、200〜300質量部含有することがより好ましい。
また、厚膜化しなくても光散乱性能が高いと考えられる。具体的には、膜厚が100〜1000nmであることが好ましく、250〜700nmであることがより好ましい。また、強度が高いと考えられる。
本発明の塗料は、以下に説明する方法で製造することが好ましい。
初めに、チタン化合物を含む水溶液を用意し、ここへ酸または塩基、あるいは水を混合して加水分解してゲルを得る。
また、混合する際の温度は特に制限はないが、10〜40℃で行うことが好ましく、
15〜30℃で行うことがさらに好ましい。
また、この時のpHを8〜11とすることが好ましく、8.5〜10とすることがより好ましい。
酸化剤は過酸化水素であることが好ましい。
酸化剤として過酸化水素を用いる場合、過酸化水素の使用量はゲルを溶解することができれば特に制限されないが、過酸化水素(H2O2)の質量と、ゲルの酸化物(TiO2)としての質量との比(H2O2/TiO2)を1〜40とすることが好ましく、2〜30とすることがより好ましい。
また、4級アルキルアンモニウム化合物(TAA)のモル数(MAR)と、TiO2のモル数(MT)のモル数とのモル比((MAR)/(MT))が0.05〜5の範囲となるように添加することが好ましい。
4級アルキルアンモニウム化合物として、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラプロピルアンモニウムハイドロオキサイド等が挙げられる。
水熱処理した後は、常温にまで冷却することが好ましい。
ここで酸は従来公知のものであってよく、例えば塩酸水溶液、硫酸水溶液、硝酸水溶液等を用いることができる。
チタニア粒子分散液が含むチタニア粒子の濃度は1〜30質量%であることが好ましく、2〜20質量%であることがより好ましく、5〜15質量%であることがさらに好ましい。
上記のようにして得たチタニア粒子分散液をアルコキシシランを用いて処理する。例えばチタニア粒子分散液へアルコキシシランを加えて撹拌混合する方法が挙げられる。撹拌混合は常温で行ってもよいが、20〜40℃(好ましくは30℃程度)に加熱して行うことが好ましい。
なお、ここでSiO2濃度とは、シリカチタニア粒子が含むSi量を求め、その全てがSiO2として存在していると仮定して質量を算出して求める値を意味する。
例えば、前記アルコキシシランへ酸またはアルカリを添加して加水分解し、必要に応じて熟成することによって加水分解することができる。
本発明の塗料において用いることができる高沸点溶媒を用いることができる。
これらを混合する方法は特に限定されない。例えば従来公知の撹拌方法を適用することができる。
<酸化チタン微粒子分散液の調製>
四塩化チタン溶液(TiO2濃度:27.8質量%)183.5gを、純水でTiO2濃度が8質量%となるまで希釈し、さらに、pHが9.3となるように15質量%濃度のアンモニア水を加え、よく混合して、酸化チタン水和物ヒドロゲルスラリーを得た。
次に、得られた酸化チタン水和物ヒドロゲルスラリーを純水を用いてろ過洗浄した後、回収したケーキに純水を加えてTiO2濃度が3質量%となるように調整した。
次に、得られたスラリー800gに対して、濃度5質量%過酸化水素液400gを混合し、ついで95℃で2時間加熱して溶解し、TiO2としての濃度が2質量%であるペルオキソチタン酸水溶液を得た。
次に、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)の濃度が0.1質量%となるように、濃度25質量%のTMAH水溶液を加えた。そして、オートクレーブを用いて240℃にて96時間熟成した後、常温に冷却した。
次に、硝酸水溶液を用いてpHが1.0となるように調整し、遠心分離器を用いて固液分離して上澄みを除去した後、除去した上澄みと同量のメタノールを固形分に加え、さらに遠心分離器を用いて固液分離を行った。その後、上澄みを除去し、TiO2濃度が10質量%となるよう、固形分にメタノールを加え、これを分散液として回収した。
このようにして酸化チタン微粒子分散液を得た。
得られた酸化チタン微粒子分散液を撹拌しながら、酸化チタン微粒子分散液が含むTiO2の質量とTEOSが含むSiO2の質量の比(SiO2/TiO2比)が0.02となるように、テトラエトキシシラン(TEOS)0.8gを加え、その後、マグネティックスターラー(As one製、HPS−100)を用いて、500rpmの回転数で、室温にて撹拌した。
そして、遠心分離器を行い、上澄みを除去した後、除去した上澄みと同量のエタノールを固形分に加えて、さらに遠心分離器を用いて固液分離を行った。その後、上澄みを除去し、TiO2およびSiO2の固形分濃度が35質量%となるよう、固形分にエタノールを加え、これを分散液として回収した。この分散液に含まれる固形分中のSiO2濃度はTiO2に対して0.8質量%であった。
このようにしてコアシェル型シリカチタニア粒子分散液を得た。
変性アルコール(日本アルコール販売社製、商品名:ソルミックスAP−11、組成:エタノール85.5%、メタノール4.7%、イソプロピルアルコール9.8%)1350gに、硝酸濃度1.0質量%の硝酸水溶液を300g加え、よく撹拌した後、さらにテトラエトキシシラン(TEOS)350gを加えて、2時間撹拌することで、SiO2換算の濃度が5質量%であるシリカ系バインダーを得た。
得られたコアシェル型シリカチタニア粒子分散液とシリカ系バインダーとを混合した。ここで、シリカ系バインダーが含むSiO2と、コアシェル型シリカチタニア粒子分散液が含むTiO2との質量比(SiO2/TiO2)が0.11となるように混合した。そして、溶媒中におけるTiO2(コアシェル型シリカチタニア粒子分散液由来)とSiO2(コアシェル型シリカチタニア粒子分散液およびシリカ系バインダー由来)の合計の質量濃度が15質量%となるように、1−メトキシ−2−プロパノール(PGME)、ジアセトンアルコールおよびエタノールを添加した。なお、溶媒が含む、エタノールと、変性アルコールと、PGMEと、ジアセトンアルコールとの質量比は、33.4:33.4:18.2:15である。
その後、エバポレータを用いて固形分濃度を25質量%に調整し、さらにプロピレングリコールおよびエタノールを7:1の質量比で添加して、溶媒中におけるTiO2(コアシェル型シリカチタニア粒子分散液由来)とSiO2(コアシェル型シリカチタニア粒子分散液およびシリカ系バインダー由来)の合計の質量濃度が20質量%とした後、撹拌混合を行うことで、光散乱層形成用塗料を調整した。なお、溶媒が含む、低沸点溶媒(エタノール+変性アルコール)と、PGMEと、ジアセトンアルコールと、プロピレングリコールとの質量比は、50:25:22:3である。
得られた光散乱層形成用塗料10mlをガラス瓶に入れ、2時間静置した。塗料上部に離漿水は見られず、また、ガラス瓶底への沈降物も見られなかった。得られた塗料が分散性に優れているために、分離・沈降が発生しなかったことが考えられる。
次に、得られた光散乱層形成用塗料を、バーコーダー(テスター産業製、RODNo.7)でガラス板上に塗布した。図1に、得られた光散乱層形成用塗料を塗布したガラス板の写真を示す。
得られた光散乱層形成用塗料は分散性に優れ、凝集や沈降が発生し難いため、図1に示すようにムラなく塗布することができた。よって、これを乾燥し、焼成して得られるガラス板上の皮膜は、光散乱の均一性に優れる。
Claims (2)
- 動的光散乱法で求められる平均粒子径が100〜500nmであるチタニア粒子の表面をアルコキシシランで処理してなるコアシェル型シリカチタニア粒子:100質量部、
アルコキシシランの加水分解生成物からなるシリカオリゴマー:5〜50質量部、
沸点100℃以上の高沸点溶媒:100〜600質量部、を含む、光散乱層形成用塗料。 - 前記コアシェル型シリカチタニア粒子がTiO2およびSiO2を、TiO2:100質量部に対して、SiO2:0.2〜35質量部の比で含む、請求項1に記載の光散乱層形成用塗料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013260610A JP6163097B2 (ja) | 2013-12-17 | 2013-12-17 | 光散乱層形成用塗料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013260610A JP6163097B2 (ja) | 2013-12-17 | 2013-12-17 | 光散乱層形成用塗料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015117284A true JP2015117284A (ja) | 2015-06-25 |
JP6163097B2 JP6163097B2 (ja) | 2017-07-12 |
Family
ID=53530328
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013260610A Expired - Fee Related JP6163097B2 (ja) | 2013-12-17 | 2013-12-17 | 光散乱層形成用塗料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6163097B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021040029A (ja) * | 2019-09-03 | 2021-03-11 | 出光興産株式会社 | 微小構造体、微小構造体の製造方法および光電変換素子 |
WO2023159359A1 (zh) * | 2022-02-22 | 2023-08-31 | 耐酷时科技有限责任公司 | 光催化核壳中空结构纳米粒子的制备方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001166104A (ja) * | 1999-09-28 | 2001-06-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止膜、偏光板、及びそれを用いた画像表示装置 |
JP2006232919A (ja) * | 2005-02-23 | 2006-09-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | コアシェル粒子の製造方法 |
JP2007102208A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-04-19 | Fujifilm Corp | 光学フィルム、反射防止フィルム、並びに該光学フィルムまたは該反射防止フィルムを用いた偏光板および画像表示装置 |
JP2009251190A (ja) * | 2008-04-03 | 2009-10-29 | Fujifilm Corp | 光学フィルム、偏光板、画像表示装置 |
JP2011132484A (ja) * | 2009-11-30 | 2011-07-07 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 高屈折率金属酸化物微粒子を含む水分散ゾルの調製方法、該方法から得られる水分散ゾルおよび前記微粒子を含む有機溶媒分散ゾル並びに塗料組成物 |
JP2012155177A (ja) * | 2011-01-27 | 2012-08-16 | Fujifilm Corp | 光拡散層形成材料、及び光取り出し部材、並びに有機電界発光装置及びその製造方法 |
JP2013114938A (ja) * | 2011-11-29 | 2013-06-10 | Fujifilm Corp | 積層体、及び有機電界発光装置 |
-
2013
- 2013-12-17 JP JP2013260610A patent/JP6163097B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001166104A (ja) * | 1999-09-28 | 2001-06-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止膜、偏光板、及びそれを用いた画像表示装置 |
JP2006232919A (ja) * | 2005-02-23 | 2006-09-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | コアシェル粒子の製造方法 |
JP2007102208A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-04-19 | Fujifilm Corp | 光学フィルム、反射防止フィルム、並びに該光学フィルムまたは該反射防止フィルムを用いた偏光板および画像表示装置 |
JP2009251190A (ja) * | 2008-04-03 | 2009-10-29 | Fujifilm Corp | 光学フィルム、偏光板、画像表示装置 |
JP2011132484A (ja) * | 2009-11-30 | 2011-07-07 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 高屈折率金属酸化物微粒子を含む水分散ゾルの調製方法、該方法から得られる水分散ゾルおよび前記微粒子を含む有機溶媒分散ゾル並びに塗料組成物 |
JP2012155177A (ja) * | 2011-01-27 | 2012-08-16 | Fujifilm Corp | 光拡散層形成材料、及び光取り出し部材、並びに有機電界発光装置及びその製造方法 |
JP2013114938A (ja) * | 2011-11-29 | 2013-06-10 | Fujifilm Corp | 積層体、及び有機電界発光装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021040029A (ja) * | 2019-09-03 | 2021-03-11 | 出光興産株式会社 | 微小構造体、微小構造体の製造方法および光電変換素子 |
WO2023159359A1 (zh) * | 2022-02-22 | 2023-08-31 | 耐酷时科技有限责任公司 | 光催化核壳中空结构纳米粒子的制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6163097B2 (ja) | 2017-07-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4550753B2 (ja) | 表面処理された酸化チタンゾルの製造法 | |
KR101437200B1 (ko) | 표면 피복된 이산화티탄졸, 그 제조법 및 그것을 포함한 코팅 조성물 | |
KR102092523B1 (ko) | 금속 산화물 나노 입자와 실세스퀴옥산 중합체의 복합체 및 그의 제조 방법, 및 그 복합체를 사용하여 제조한 복합 재료 | |
JP6323861B2 (ja) | 表面修飾メソポーラスシリカナノ粒子の製造方法 | |
JP6430940B2 (ja) | シロキサン化合物を含む反射防止コーティング組成物、これを用いた反射防止フィルム | |
JP5047488B2 (ja) | シリカエアロゲル膜の製造方法 | |
KR20110110221A (ko) | 복합 입자 및 그 제조 방법, 중공 입자, 그 제조 방법 및 용도 | |
TWI741116B (zh) | 二氧化矽粒子分散液及其製造方法 | |
JP6329959B2 (ja) | シロキサン化合物を含む超親水性反射防止コーティング組成物、それを用いた超親水性反射防止フィルムおよびその製造方法 | |
JP2018123043A (ja) | シリカ系粒子分散液の製造方法、シリカ系粒子分散液、透明被膜形成用塗布液及び透明被膜付基材 | |
JP6163097B2 (ja) | 光散乱層形成用塗料 | |
JP2014224166A (ja) | 表面改質金属酸化物微粒子、薄膜形成用の塗布液、薄膜付き基材、光電気セル、及び表面改質金属酸化物微粒子の製造方法 | |
JP5241199B2 (ja) | 繊維状中空シリカ微粒子の製造方法および反射防止被膜付基材 | |
JP6592897B2 (ja) | シリカエアロゲル膜の製造方法 | |
JP2015038036A (ja) | シリカ粒子材料、フィラー含有樹脂組成物、およびシリカ粒子の表面処理方法 | |
KR101163539B1 (ko) | 체인 무기 산화물 미립자 그룹, 미립자 그룹 분산의제조방법 및 미립자 그룹의 이용 | |
JP5284632B2 (ja) | 導電性繊維状中空シリカ微粒子分散質およびその製造方法 | |
TW201139535A (en) | Modified cerium(IV) oxide colloidal particles and production method thereof | |
JP6582414B2 (ja) | 多孔質の光学薄膜用塗工液及びその製造方法 | |
JP5961421B2 (ja) | 熱可塑性樹脂組成物及びその製造方法 | |
JP6163096B2 (ja) | 高屈折率無機平坦化層形成用塗料およびその製造方法 | |
JP5766251B2 (ja) | 透明被膜形成用塗料の製造方法 | |
JP6507655B2 (ja) | 多孔質膜用塗工液及びその製造方法 | |
JP2007039286A (ja) | 酸化チタンゾルの製造方法および酸化チタンゾル | |
JP2005352121A (ja) | 反射防止膜 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20160531 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20160606 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161007 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20161007 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170523 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170530 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170616 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6163097 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |