JP2015110837A - マルチトレイバラスト蒸気引き込みシステム - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (31)
- 気化前駆体を供給するためのシステムであって、
流出部を含むエンクロージャと、
前記エンクロージャ内において積層され、隔離されで配置されている複数のトレイであって、液体前駆体を保持するように構成されている複数のトレイと、
前記エンクロージャにキャリアガス供給源を流体接続し、複数の開口を含む第1の管路と、
前記第1の管路に沿って配置され、前記キャリアガス供給源から前記第1の管路を通して前記第1の管路の前記複数の開口への前記キャリアガスの送給を選択的に制御するように構成されている第1の弁とを備え、
前記複数の開口は、それぞれ、前記複数のトレイ内の前記液体前駆体全体にわたるように前記キャリアガスを導くように構成され、
前記エンクロージャの前記流出部は、前記キャリアガスと前記気化前駆体との混合物を提供する
システム。 - さらに、
少なくとも1つの開口を含み、液体前駆体源と前記複数のトレイのうちの少なくとも1つのトレイとを流体接続する第2の管路と、
前記第2の管路に沿って配置され、前記液体前駆体源から前記第2の管路の開口を通して前記複数のトレイのうちの前記少なくとも1つのトレイへの前記液体前駆体の送給を選択的に制御するように構成されている第2の弁と
を備える請求項1に記載のシステム。 - さらに、
前記複数のトレイのうちの少なくとも1つのトレイ内の前記液体前駆体の液位を感知するための液位センサと、
前記液位に基づいて、前記第2の弁を選択的に制御するための制御装置と
を備える請求項1に記載のシステム。 - さらに、前記液体前駆体を供給するように構成されている液体前駆体貯蔵タンクを備える請求項1に記載のシステム。
- さらに、前記エンクロージャ内に配置されている支持部材を備え、前記複数のトレイは前記支持部材に接続されている請求項1に記載のシステム。
- 前記支持部材および前記複数のトレイが伝熱材料からなる請求項5に記載のシステム。
- さらに、前記支持部材を加熱するために前記支持部材に接続されている、または前記支持部材の内部に配置されているヒータの少なくともいずれか一方を備え、前記支持部材は、前記複数のトレイおよび前記液体前駆体を加熱する請求項5に記載のシステム。
- さらに、前記支持部材および前記複数のトレイの少なくとも1つを振動させるように構成されている振動デバイスを備える請求項5に記載のシステム。
- さらに、前記複数のトレイのうちの少なくとも1つのトレイ内の液体前駆体の液位を感知するための液位センサを備える請求項1に記載のシステム。
- 前記複数のトレイは開口を規定し、前記支持部材は前記複数のトレイの前記開口を通過する請求項5に記載のシステム。
- 前記複数のトレイは、それぞれ、前記複数のトレイのうちの少なくとも1つの隣接するトレイから所定の距離だけ離隔されている請求項1に記載のシステム。
- 前記複数のトレイは、開口をそれぞれ規定するN個のトレイを備え、Nは1よりも大きい整数であり、
前記支持部材は、前記N個のトレイの前記開口を通過し、
前記N個のトレイのうちの少なくともN−1個のトレイは、前記N個のトレイのうちの前記少なくともN−1個のトレイの端部に位置されている少なくとも1つの開口を含み、
前記少なくともN−1個のトレイのうちの1つのトレイ内の前記液体前駆体の液位が所定の液位よりも大きいときに、前記液体前駆体は、前記N−1個のトレイの前記少なくとも1つの開口を通過して、前記N個のトレイのうちの1つの隣接する下側のトレイに進む
請求項5に記載のシステム。 - さらに、
前記複数のトレイのうちの対応する1つのトレイの上方にそれぞれ配置されている複数のリングを備え、
前記複数のリングは、それぞれ、内方向に延びる突出部と、前記突出部の端部に配置されているノズルとを含む
請求項1に記載のシステム。 - さらに、
前記複数のトレイのうちの対応する1つのトレイの上方にそれぞれ配置されている複数のリングを備え、
前記複数のリングは、それぞれ、複数のクロスバーを含み、前記クロスバーは、前記クロスバーの少なくとも1つの側部に配置されているノズルを含む
請求項1に記載のシステム。 - さらに、
前記複数のトレイのうちの対応する1つのトレイの上方にそれぞれ配置されている複数のスプリットリングを備え、
前記複数のスプリットリングは、それぞれ、前記複数のトレイ内の前記液体前駆体上に前記キャリアガスを向けるための突出部およびノズルを含む第1のリング部分と、前記気化前駆体を収集するための開口を含む第2のリング部分とを含む
請求項1に記載のシステム。 - さらに、
前記気化前駆体を収集するために、それぞれ前記複数のトレイに隣接して配置されている複数の開口を含む第2の管路を備え、
前記エンクロージャの前記流出部は、前記第2の管路に接続されている
請求項1に記載のシステム。 - 気化前駆体を供給するための方法であって、
複数のトレイを、積層され、離隔されている構成でエンクロージャ内部に配置し、
前記複数のトレイに液体前駆体を少なくとも一部充填し、
キャリアガス供給源を前記エンクロージャに流体接続するために第1の管路を使用し、
前記キャリアガス供給源から前記第1の管路を通して前記第1の管路の前記複数の開口への前記キャリアガスの送給を制御し、
前記複数のトレイ内の前記液体前駆体全体にわたるように前記キャリアガスを導くように前記複数の開口をそれぞれ構成し、
前記エンクロージャの流出部に、前記キャリアガスと前記気化前駆体との混合物を提供すること
を備える方法。 - さらに、
液体前駆体源と前記複数のトレイのうちの少なくとも1つのトレイとを流体接続し、
前記液体前駆体源から前記複数のトレイのうちの前記少なくとも1つのトレイへの前記液体前駆体の送給を制御すること
を備える請求項17に記載の方法。 - さらに、前記エンクロージャ内に支持部材を配置することを備え、前記複数のトレイは前記支持部材に接続されている請求項17に記載の方法。
- 前記支持部材および前記複数のトレイは伝熱材料からなる請求項19に記載の方法。
- さらに、前記複数のトレイおよび前記液体前駆体を加熱するために前記支持部材を加熱することを備える請求項19に記載の方法。
- さらに、前記支持部材および前記複数のトレイの少なくとも1つを振動させることを備える請求項19に記載の方法。
- さらに、
前記複数のトレイのうちの少なくとも1つのトレイ内の前記液体前駆体の液位を感知し、
前記液位に基づいて、前記液体前駆体を自動的に補充することを備える請求項16に記載の方法。 - 前記複数のトレイは中央開口を規定し、前記支持部材は、前記複数のトレイの前記中央開口を通過する請求項19に記載の方法。
- さらに、前記複数のトレイを、それぞれ前記複数のトレイのうちの少なくとも1つの隣接するトレイから所定の距離だけ離隔することを備える請求項17に記載の方法。
- 前記複数のトレイは、開口をそれぞれ規定するN個のトレイを備え、Nが、1よりも大きい整数であり、
前記支持部材は、前記N個のトレイの前記開口を通過し、
前記N個のトレイのうちの少なくともN−1個のトレイは前記N個のトレイのうちの前記少なくともN−1個のトレイの端部に位置されている少なくとも1つの開口を含む
請求項19に記載の方法。 - さらに、前記少なくともN−1個のトレイのうちの1つのトレイ内の前記液体前駆体の液位が所定の液位よりも大きいときに、前記N−1個のトレイの前記少なくとも1つの開口を通して、前記N個のトレイのうちの1つの隣接する下側のトレイに前記液体前駆体を進ませることを備える請求項26に記載の方法。
- さらに、
前記複数のトレイのうちの対応する1つのトレイの上方に複数のリングを配置することを備え、
前記複数のリングは、それぞれ、内方向に延びる突出部と、前記突出部の端部に配置されているノズルとを備える
請求項17に記載の方法。 - さらに、
前記複数のトレイのうちの対応する1つのトレイの上方に複数のリングを配置することを備え、
前記複数のリングは、それぞれ、複数のクロスバーを含み、前記クロスバーは、前記クロスバーの少なくとも1つの側部に配置されているノズルを備える
請求項17に記載の方法。 - さらに、
前記複数のトレイのうちの対応する1つのトレイの上方に複数のスプリットリングを配置することを備え、
前記複数のスプリットリングは、それぞれ、
前記複数のトレイ内の前記液体前駆体上に前記キャリアガスを導くための突出部およびノズルを含む第1のリング部分と、
前記気化前駆体を収集するための開口を含む第2のリング部分とを含む
請求項17に記載の方法。 - さらに、
前記気化前駆体を収集するために、それぞれ前記複数のトレイに隣接して配置されている複数の開口を含む第2の管路を使用し、
前記エンクロージャの前記流出部を前記第2の管路に接続することを備える請求項17に記載の方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021031740A (ja) * | 2019-08-27 | 2021-03-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 原料ガス供給システム及び原料ガス供給方法 |
WO2021187134A1 (ja) * | 2020-03-17 | 2021-09-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 原料供給システム |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10876205B2 (en) | 2016-09-30 | 2020-12-29 | Asm Ip Holding B.V. | Reactant vaporizer and related systems and methods |
US11926894B2 (en) * | 2016-09-30 | 2024-03-12 | Asm Ip Holding B.V. | Reactant vaporizer and related systems and methods |
WO2020010153A1 (en) | 2018-07-05 | 2020-01-09 | Lam Research Corporation | Dynamic temperature control of substrate support in substrate processing system |
KR20200020608A (ko) | 2018-08-16 | 2020-02-26 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 고체 소스 승화기 |
US11624113B2 (en) | 2019-09-13 | 2023-04-11 | Asm Ip Holding B.V. | Heating zone separation for reactant evaporation system |
CN116324026A (zh) * | 2020-10-09 | 2023-06-23 | 朗姆研究公司 | 蒸气输送设备 |
CN114277358B (zh) * | 2021-11-12 | 2023-10-27 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 一种液态源瓶及半导体工艺设备 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08279497A (ja) * | 1995-04-07 | 1996-10-22 | Hitachi Ltd | 半導体製造装置および半導体装置 |
JP2002521566A (ja) * | 1998-07-21 | 2002-07-16 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | Cvd装置 |
JP2007211346A (ja) * | 2006-02-10 | 2007-08-23 | Tokyo Electron Ltd | 膜前駆体蒸発システムにおいて使用される膜前駆体のトレーおよびその使用方法 |
JP2008522029A (ja) * | 2004-11-29 | 2008-06-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 交換式の積み重ね可能なトレイを備える固体前駆体供給システム |
JP2010502833A (ja) * | 2006-08-31 | 2010-01-28 | アドバンスド テクノロジー マテリアルズ,インコーポレイテッド | 制御された固体モルフォロジを利用する、固体前駆体に基づいた流体の送出 |
JP2014009392A (ja) * | 2012-07-02 | 2014-01-20 | Tokyo Electron Ltd | 原料容器および原料容器の使用方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US55950A (en) * | 1866-06-26 | Improved apparatus for carbureting air | ||
US24200A (en) * | 1859-05-31 | hall covel | ||
US245443A (en) * | 1881-08-09 | Carburetor | ||
US409570A (en) * | 1889-08-20 | Carburetor | ||
US366168A (en) * | 1887-07-05 | Gas-generating machine | ||
US550317A (en) * | 1895-11-26 | Carburetor | ||
US1301610A (en) * | 1917-02-15 | 1919-04-22 | Oliver L Scott | Carbureter. |
US1545755A (en) * | 1922-12-21 | 1925-07-14 | Kent Ltd G | Apparatus for making illuminating gas |
US1583255A (en) * | 1924-05-21 | 1926-05-04 | Moore Willis Luther | Humidifying radiator |
US1985689A (en) * | 1931-03-06 | 1934-12-25 | Emerson Electric Mfg Co | Humidifier |
US4286577A (en) * | 1978-11-30 | 1981-09-01 | The University Of Iowa Research Foundation | Apparatus for containing liquid |
KR20010047128A (ko) | 1999-11-18 | 2001-06-15 | 이경수 | 액체원료 기화방법 및 그에 사용되는 장치 |
FR2829037B1 (fr) * | 2001-08-28 | 2003-12-19 | Joint Industrial Processors For Electronics | Dispositif a enceintes multiples pour l'evaporation fractionnee et la separation d'une solution |
US6921062B2 (en) | 2002-07-23 | 2005-07-26 | Advanced Technology Materials, Inc. | Vaporizer delivery ampoule |
US7300038B2 (en) | 2002-07-23 | 2007-11-27 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method and apparatus to help promote contact of gas with vaporized material |
US20060185597A1 (en) * | 2004-11-29 | 2006-08-24 | Kenji Suzuki | Film precursor evaporation system and method of using |
JP4607637B2 (ja) * | 2005-03-28 | 2011-01-05 | 東京エレクトロン株式会社 | シリコン窒化膜の形成方法、シリコン窒化膜の形成装置及びプログラム |
US20070234956A1 (en) * | 2006-04-05 | 2007-10-11 | Dalton Jeremie J | Method and apparatus for providing uniform gas delivery to a reactor |
US8057602B2 (en) * | 2007-05-09 | 2011-11-15 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for supporting, positioning and rotating a substrate in a processing chamber |
TWI470672B (zh) * | 2011-08-22 | 2015-01-21 | Soitec Silicon On Insulator | 用於鹵化物氣相磊晶系統之直接液體注入及方法 |
-
2013
- 2013-11-25 US US14/089,009 patent/US9334566B2/en active Active
-
2014
- 2014-11-14 JP JP2014231137A patent/JP6945269B2/ja active Active
- 2014-11-24 CN CN201811122857.5A patent/CN109536923B/zh active Active
- 2014-11-24 TW TW103140649A patent/TWI654025B/zh active
- 2014-11-24 CN CN201410680419.6A patent/CN104651806B/zh active Active
- 2014-11-24 KR KR1020140164246A patent/KR102369254B1/ko active IP Right Grant
- 2014-11-24 TW TW107145291A patent/TWI700120B/zh active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08279497A (ja) * | 1995-04-07 | 1996-10-22 | Hitachi Ltd | 半導体製造装置および半導体装置 |
JP2002521566A (ja) * | 1998-07-21 | 2002-07-16 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | Cvd装置 |
JP2008522029A (ja) * | 2004-11-29 | 2008-06-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 交換式の積み重ね可能なトレイを備える固体前駆体供給システム |
JP2007211346A (ja) * | 2006-02-10 | 2007-08-23 | Tokyo Electron Ltd | 膜前駆体蒸発システムにおいて使用される膜前駆体のトレーおよびその使用方法 |
JP2010502833A (ja) * | 2006-08-31 | 2010-01-28 | アドバンスド テクノロジー マテリアルズ,インコーポレイテッド | 制御された固体モルフォロジを利用する、固体前駆体に基づいた流体の送出 |
JP2014009392A (ja) * | 2012-07-02 | 2014-01-20 | Tokyo Electron Ltd | 原料容器および原料容器の使用方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021031740A (ja) * | 2019-08-27 | 2021-03-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 原料ガス供給システム及び原料ガス供給方法 |
WO2021039493A1 (ja) * | 2019-08-27 | 2021-03-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 原料ガス供給システム及び原料ガス供給方法 |
JP7240993B2 (ja) | 2019-08-27 | 2023-03-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 原料ガス供給システム及び原料ガス供給方法 |
WO2021187134A1 (ja) * | 2020-03-17 | 2021-09-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 原料供給システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102369254B1 (ko) | 2022-02-28 |
TW201919755A (zh) | 2019-06-01 |
KR20150060566A (ko) | 2015-06-03 |
JP6945269B2 (ja) | 2021-10-06 |
CN104651806A (zh) | 2015-05-27 |
CN109536923B (zh) | 2021-08-06 |
TWI654025B (zh) | 2019-03-21 |
US9334566B2 (en) | 2016-05-10 |
TWI700120B (zh) | 2020-08-01 |
US20150145154A1 (en) | 2015-05-28 |
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TW201532665A (zh) | 2015-09-01 |
CN109536923A (zh) | 2019-03-29 |
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