JP6945269B2 - マルチトレイバラスト蒸気引き込みシステム - Google Patents
マルチトレイバラスト蒸気引き込みシステム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6945269B2 JP6945269B2 JP2014231137A JP2014231137A JP6945269B2 JP 6945269 B2 JP6945269 B2 JP 6945269B2 JP 2014231137 A JP2014231137 A JP 2014231137A JP 2014231137 A JP2014231137 A JP 2014231137A JP 6945269 B2 JP6945269 B2 JP 6945269B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- trays
- support member
- liquid precursor
- liquid
- precursor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
- C23C16/4481—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation using carrier gas in contact with the source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45561—Gas plumbing upstream of the reaction chamber
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
適用例1:気化前駆体を供給するためのシステムであって、
流出部を含むエンクロージャと、
前記エンクロージャ内において積層され、隔離されで配置されている複数のトレイであって、液体前駆体を保持するように構成されている複数のトレイと、
前記エンクロージャにキャリアガス供給源を流体接続し、複数の開口を含む第1の管路と、
前記第1の管路に沿って配置され、前記キャリアガス供給源から前記第1の管路を通して前記第1の管路の前記複数の開口への前記キャリアガスの送給を選択的に制御するように構成されている第1の弁とを備え、
前記複数の開口は、それぞれ、前記複数のトレイ内の前記液体前駆体全体にわたるように前記キャリアガスを導くように構成され、
前記エンクロージャの前記流出部は、前記キャリアガスと前記気化前駆体との混合物を提供する
システム。
適用例2:さらに、
少なくとも1つの開口を含み、液体前駆体源と前記複数のトレイのうちの少なくとも1つのトレイとを流体接続する第2の管路と、
前記第2の管路に沿って配置され、前記液体前駆体源から前記第2の管路の開口を通して前記複数のトレイのうちの前記少なくとも1つのトレイへの前記液体前駆体の送給を選択的に制御するように構成されている第2の弁と
を備える適用例1に記載のシステム。
適用例3:さらに、
前記複数のトレイのうちの少なくとも1つのトレイ内の前記液体前駆体の液位を感知するための液位センサと、
前記液位に基づいて、前記第2の弁を選択的に制御するための制御装置と
を備える適用例1に記載のシステム。
適用例4:さらに、前記液体前駆体を供給するように構成されている液体前駆体貯蔵タンクを備える適用例1に記載のシステム。
適用例5:さらに、前記エンクロージャ内に配置されている支持部材を備え、前記複数のトレイは前記支持部材に接続されている適用例1に記載のシステム。
適用例6:前記支持部材および前記複数のトレイが伝熱材料からなる適用例5に記載のシステム。
適用例7:さらに、前記支持部材を加熱するために前記支持部材に接続されている、または前記支持部材の内部に配置されているヒータの少なくともいずれか一方を備え、前記支持部材は、前記複数のトレイおよび前記液体前駆体を加熱する適用例5に記載のシステム。
適用例8:さらに、前記支持部材および前記複数のトレイの少なくとも1つを振動させるように構成されている振動デバイスを備える適用例5に記載のシステム。
適用例9:さらに、前記複数のトレイのうちの少なくとも1つのトレイ内の液体前駆体の液位を感知するための液位センサを備える適用例1に記載のシステム。
適用例10:前記複数のトレイは開口を規定し、前記支持部材は前記複数のトレイの前記開口を通過する適用例5に記載のシステム。
適用例11:前記複数のトレイは、それぞれ、前記複数のトレイのうちの少なくとも1つの隣接するトレイから所定の距離だけ離隔されている適用例1に記載のシステム。
適用例12:前記複数のトレイは、開口をそれぞれ規定するN個のトレイを備え、Nは1よりも大きい整数であり、
前記支持部材は、前記N個のトレイの前記開口を通過し、
前記N個のトレイのうちの少なくともN−1個のトレイは、前記N個のトレイのうちの前記少なくともN−1個のトレイの端部に位置されている少なくとも1つの開口を含み、
前記少なくともN−1個のトレイのうちの1つのトレイ内の前記液体前駆体の液位が所定の液位よりも大きいときに、前記液体前駆体は、前記N−1個のトレイの前記少なくとも1つの開口を通過して、前記N個のトレイのうちの1つの隣接する下側のトレイに進む
適用例5に記載のシステム。
適用例13:さらに、
前記複数のトレイのうちの対応する1つのトレイの上方にそれぞれ配置されている複数のリングを備え、
前記複数のリングは、それぞれ、内方向に延びる突出部と、前記突出部の端部に配置されているノズルとを含む
適用例1に記載のシステム。
適用例14:さらに、
前記複数のトレイのうちの対応する1つのトレイの上方にそれぞれ配置されている複数のリングを備え、
前記複数のリングは、それぞれ、複数のクロスバーを含み、前記クロスバーは、前記クロスバーの少なくとも1つの側部に配置されているノズルを含む
適用例1に記載のシステム。
適用例15:さらに、
前記複数のトレイのうちの対応する1つのトレイの上方にそれぞれ配置されている複数のスプリットリングを備え、
前記複数のスプリットリングは、それぞれ、前記複数のトレイ内の前記液体前駆体上に前記キャリアガスを向けるための突出部およびノズルを含む第1のリング部分と、前記気化前駆体を収集するための開口を含む第2のリング部分とを含む
適用例1に記載のシステム。
適用例16:さらに、
前記気化前駆体を収集するために、それぞれ前記複数のトレイに隣接して配置されている複数の開口を含む第2の管路を備え、
前記エンクロージャの前記流出部は、前記第2の管路に接続されている
適用例1に記載のシステム。
適用例17:気化前駆体を供給するための方法であって、
複数のトレイを、積層され、離隔されている構成でエンクロージャ内部に配置し、
前記複数のトレイに液体前駆体を少なくとも一部充填し、
キャリアガス供給源を前記エンクロージャに流体接続するために第1の管路を使用し、
前記キャリアガス供給源から前記第1の管路を通して前記第1の管路の前記複数の開口への前記キャリアガスの送給を制御し、
前記複数のトレイ内の前記液体前駆体全体にわたるように前記キャリアガスを導くように前記複数の開口をそれぞれ構成し、
前記エンクロージャの流出部に、前記キャリアガスと前記気化前駆体との混合物を提供すること
を備える方法。
適用例18:さらに、
液体前駆体源と前記複数のトレイのうちの少なくとも1つのトレイとを流体接続し、
前記液体前駆体源から前記複数のトレイのうちの前記少なくとも1つのトレイへの前記液体前駆体の送給を制御すること
を備える適用例17に記載の方法。
適用例19:さらに、前記エンクロージャ内に支持部材を配置することを備え、前記複数のトレイは前記支持部材に接続されている適用例17に記載の方法。
適用例20:前記支持部材および前記複数のトレイは伝熱材料からなる適用例19に記載の方法。
適用例21:さらに、前記複数のトレイおよび前記液体前駆体を加熱するために前記支持部材を加熱することを備える適用例19に記載の方法。
適用例22:さらに、前記支持部材および前記複数のトレイの少なくとも1つを振動させることを備える適用例19に記載の方法。
適用例23:さらに、
前記複数のトレイのうちの少なくとも1つのトレイ内の前記液体前駆体の液位を感知し、
前記液位に基づいて、前記液体前駆体を自動的に補充することを備える適用例16に記載の方法。
適用例24:前記複数のトレイは中央開口を規定し、前記支持部材は、前記複数のトレイの前記中央開口を通過する適用例19に記載の方法。
適用例25:さらに、前記複数のトレイを、それぞれ前記複数のトレイのうちの少なくとも1つの隣接するトレイから所定の距離だけ離隔することを備える適用例17に記載の方法。
適用例26:前記複数のトレイは、開口をそれぞれ規定するN個のトレイを備え、Nが、1よりも大きい整数であり、
前記支持部材は、前記N個のトレイの前記開口を通過し、
前記N個のトレイのうちの少なくともN−1個のトレイは前記N個のトレイのうちの前記少なくともN−1個のトレイの端部に位置されている少なくとも1つの開口を含む
適用例19に記載の方法。
適用例27:さらに、前記少なくともN−1個のトレイのうちの1つのトレイ内の前記液体前駆体の液位が所定の液位よりも大きいときに、前記N−1個のトレイの前記少なくとも1つの開口を通して、前記N個のトレイのうちの1つの隣接する下側のトレイに前記液体前駆体を進ませることを備える適用例26に記載の方法。
適用例28:さらに、
前記複数のトレイのうちの対応する1つのトレイの上方に複数のリングを配置することを備え、
前記複数のリングは、それぞれ、内方向に延びる突出部と、前記突出部の端部に配置されているノズルとを備える
適用例17に記載の方法。
適用例29:さらに、
前記複数のトレイのうちの対応する1つのトレイの上方に複数のリングを配置することを備え、
前記複数のリングは、それぞれ、複数のクロスバーを含み、前記クロスバーは、前記クロスバーの少なくとも1つの側部に配置されているノズルを備える
適用例17に記載の方法。
適用例30:さらに、
前記複数のトレイのうちの対応する1つのトレイの上方に複数のスプリットリングを配置することを備え、
前記複数のスプリットリングは、それぞれ、
前記複数のトレイ内の前記液体前駆体上に前記キャリアガスを導くための突出部およびノズルを含む第1のリング部分と、
前記気化前駆体を収集するための開口を含む第2のリング部分とを含む
適用例17に記載の方法。
適用例31:さらに、
前記気化前駆体を収集するために、それぞれ前記複数のトレイに隣接して配置されている複数の開口を含む第2の管路を使用し、
前記エンクロージャの前記流出部を前記第2の管路に接続することを備える適用例17に記載の方法。
Claims (21)
- 気化前駆体を供給するためのシステムであって、
流出部を含むエンクロージャと、
前記エンクロージャ内において積層され、隔離されて配置されている複数のトレイであって、液体前駆体を保持するように構成されている複数のトレイと、前記複数のトレイの少なくとも一番上のトレイは前記液体前駆体が供給されるように構成されており、
前記エンクロージャにキャリアガス供給源を流体接続し、複数の開口を含む第1の管路と、
前記第1の管路に沿って配置され、前記キャリアガス供給源から前記第1の管路を通して前記第1の管路の前記複数の開口へのキャリアガスの送給を選択的に制御するように構成されている第1の弁と、
前記複数の開口は、それぞれ、前記複数のトレイ内の前記液体前駆体の全体にわたるように前記キャリアガスを導くように構成され、
前記エンクロージャの前記流出部は、前記キャリアガスと前記気化前駆体との混合物を提供し、
少なくとも1つの開口を含み、液体前駆体源と前記複数のトレイのうちの前記少なくとも一番上のトレイとを流体接続する第2の管路と、
前記第2の管路に沿って配置され、前記液体前駆体源から前記第2の管路の開口を通して前記複数のトレイのうちの前記少なくとも一番上のトレイへの前記液体前駆体の送給を選択的に制御するように構成されている第2の弁と
を備える、
システム。 - 前記複数のトレイのうちの少なくとも1つのトレイ内の前記液体前駆体の液位を感知するように構成されている液位センサと、
前記液位に基づいて、前記複数のトレイのうちの前記少なくとも1つのトレイに前記液体前駆体を補充するように構成されている制御装置と、を更に備え、
前記制御装置は、前記液位に基づいて、前記第2の弁を選択的に制御するように構成されている、請求項1に記載のシステム。 - さらに、前記液体前駆体を供給するように構成されている液体前駆体貯蔵タンクを備える請求項1に記載のシステム。
- さらに、前記エンクロージャ内に配置されている支持部材を備え、前記複数のトレイは前記支持部材に接続されている請求項1に記載のシステム。
- 前記支持部材および前記複数のトレイが伝熱材料からなる請求項4に記載のシステム。
- さらに、前記支持部材を加熱するために前記支持部材に接続されている、または前記支持部材の内部に配置されているヒータの少なくともいずれか一方を備え、前記支持部材は、前記複数のトレイおよび前記液体前駆体を加熱する請求項4に記載のシステム。
- さらに、前記支持部材および前記複数のトレイの少なくとも1つを振動させるように構成されている振動デバイスを備える請求項4に記載のシステム。
- 前記複数のトレイは開口を規定し、前記支持部材は前記複数のトレイの前記開口を通過する請求項4に記載のシステム。
- 前記複数のトレイは、それぞれ、前記複数のトレイのうちの少なくとも1つの隣接するトレイから所定の距離だけ離隔されている請求項1に記載のシステム。
- 前記複数のトレイは、開口をそれぞれ規定するN個のトレイを備え、Nは1よりも大きい整数であり、
前記支持部材は、前記N個のトレイの前記開口を通過し、
前記N個のトレイのうちの少なくともN−1個のトレイは、前記N個のトレイのうちの前記少なくともN−1個のトレイの端部に位置されている少なくとも1つの流体開口を含み、
前記少なくともN−1個のトレイのうちの1つのトレイ内の前記液体前駆体の液位が所定の液位よりも大きいときに、前記液体前駆体は、前記N−1個のトレイの前記少なくとも1つの流体開口を通過して、前記N個のトレイのうちの1つの隣接する下側のトレイに進む
請求項4に記載のシステム。 - 前記気化前駆体を収集するために、複数の開口を含む第3の管路がそれぞれ前記複数のトレイに隣接して配置され、
前記エンクロージャの前記流出部は、前記第3の管路に接続されている
請求項1に記載のシステム。 - 気化前駆体を供給するための方法であって、
複数のトレイを、積層され、離隔されている構成でエンクロージャ内部に配置し、
前記複数のトレイに液体前駆体を少なくとも一部充填し、前記液体前駆体は前記複数のトレイの少なくとも一番上のトレイに供給され、
キャリアガス供給源を前記エンクロージャに流体接続するために第1の管路を使用し、
前記キャリアガス供給源から前記第1の管路を通して前記第1の管路の複数の開口へのキャリアガスの送給を制御し、
前記複数のトレイ内の前記液体前駆体の全体にわたるように前記キャリアガスを導くように前記複数の開口をそれぞれ構成し、
前記エンクロージャの流出部に、前記キャリアガスと前記気化前駆体との混合物を提供し、
少なくとも1つの開口を含み、液体前駆体源と前記複数のトレイのうちの前記少なくとも一番上のトレイとを流体接続する第2の管路を用い、
前記液体前駆体源から前記第2の管路の開口を通して前記複数のトレイのうちの前記少なくとも一番上のトレイへの前記液体前駆体の送給を制御すること
を備える方法。 - さらに、前記エンクロージャ内に支持部材を配置することを備え、前記複数のトレイは前記支持部材に接続されている請求項12に記載の方法。
- 前記支持部材および前記複数のトレイは伝熱材料からなる請求項13に記載の方法。
- さらに、前記複数のトレイおよび前記液体前駆体を加熱するために前記支持部材を加熱することを備える請求項13に記載の方法。
- さらに、前記支持部材および前記複数のトレイの少なくとも1つを振動させることを備える請求項13に記載の方法。
- 前記複数のトレイは中央開口を規定し、前記支持部材は、前記複数のトレイの前記中央開口を通過する請求項13に記載の方法。
- さらに、前記複数のトレイを、それぞれ前記複数のトレイのうちの少なくとも1つの隣接するトレイから所定の距離だけ離隔することを備える請求項12に記載の方法。
- 前記複数のトレイは、開口をそれぞれ規定するN個のトレイを備え、Nが、1よりも大きい整数であり、
前記支持部材は、前記N個のトレイの前記開口を通過する、請求項13に記載の方法。 - 前記N個のトレイのうちの少なくともN−1個のトレイは前記N個のトレイのうちの前記少なくともN−1個のトレイの端部に位置されている少なくとも1つの液体開口を含み、
さらに、前記少なくともN−1個のトレイのうちの1つのトレイ内の前記液体前駆体の液位が所定の液位よりも大きいときに、前記N−1個のトレイの前記少なくとも1つの液体開口を通して、前記N個のトレイのうちの1つの隣接する下側のトレイに前記液体前駆体を進ませることを備える、請求項19に記載の方法。 - さらに、
前記気化前駆体を収集するために、それぞれ前記複数のトレイに隣接して配置されている複数の開口を含む第3の管路を使用し、
前記エンクロージャの前記流出部を前記第3の管路に接続することを備える請求項12に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US14/089,009 US9334566B2 (en) | 2013-11-25 | 2013-11-25 | Multi-tray ballast vapor draw systems |
US14/089,009 | 2013-11-25 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015110837A JP2015110837A (ja) | 2015-06-18 |
JP2015110837A5 JP2015110837A5 (ja) | 2017-12-14 |
JP6945269B2 true JP6945269B2 (ja) | 2021-10-06 |
Family
ID=53181978
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014231137A Active JP6945269B2 (ja) | 2013-11-25 | 2014-11-14 | マルチトレイバラスト蒸気引き込みシステム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9334566B2 (ja) |
JP (1) | JP6945269B2 (ja) |
KR (1) | KR102369254B1 (ja) |
CN (2) | CN104651806B (ja) |
TW (2) | TWI700120B (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11926894B2 (en) * | 2016-09-30 | 2024-03-12 | Asm Ip Holding B.V. | Reactant vaporizer and related systems and methods |
US10876205B2 (en) | 2016-09-30 | 2020-12-29 | Asm Ip Holding B.V. | Reactant vaporizer and related systems and methods |
US11908715B2 (en) | 2018-07-05 | 2024-02-20 | Lam Research Corporation | Dynamic temperature control of substrate support in substrate processing system |
JP7376278B2 (ja) | 2018-08-16 | 2023-11-08 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 固体原料昇華器 |
JP7240993B2 (ja) * | 2019-08-27 | 2023-03-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 原料ガス供給システム及び原料ガス供給方法 |
US11624113B2 (en) | 2019-09-13 | 2023-04-11 | Asm Ip Holding B.V. | Heating zone separation for reactant evaporation system |
WO2021054216A1 (ja) * | 2019-09-18 | 2021-03-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 原料ガス供給システム及び原料ガス供給方法 |
US20230151486A1 (en) * | 2020-03-17 | 2023-05-18 | Tokyo Electron Limited | Raw material supply system |
KR20230082679A (ko) * | 2020-10-09 | 2023-06-08 | 램 리써치 코포레이션 | 증기 전달 디바이스 |
CN114277358B (zh) * | 2021-11-12 | 2023-10-27 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 一种液态源瓶及半导体工艺设备 |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US24200A (en) * | 1859-05-31 | hall covel | ||
US245443A (en) * | 1881-08-09 | Carburetor | ||
US550317A (en) * | 1895-11-26 | Carburetor | ||
US366168A (en) * | 1887-07-05 | Gas-generating machine | ||
US409570A (en) * | 1889-08-20 | Carburetor | ||
US55950A (en) * | 1866-06-26 | Improved apparatus for carbureting air | ||
US1301610A (en) * | 1917-02-15 | 1919-04-22 | Oliver L Scott | Carbureter. |
US1545755A (en) * | 1922-12-21 | 1925-07-14 | Kent Ltd G | Apparatus for making illuminating gas |
US1583255A (en) * | 1924-05-21 | 1926-05-04 | Moore Willis Luther | Humidifying radiator |
US1985689A (en) * | 1931-03-06 | 1934-12-25 | Emerson Electric Mfg Co | Humidifier |
US4286577A (en) * | 1978-11-30 | 1981-09-01 | The University Of Iowa Research Foundation | Apparatus for containing liquid |
JPH08279497A (ja) * | 1995-04-07 | 1996-10-22 | Hitachi Ltd | 半導体製造装置および半導体装置 |
US6358323B1 (en) * | 1998-07-21 | 2002-03-19 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for improved control of process and purge material in a substrate processing system |
KR20010047128A (ko) | 1999-11-18 | 2001-06-15 | 이경수 | 액체원료 기화방법 및 그에 사용되는 장치 |
FR2829037B1 (fr) * | 2001-08-28 | 2003-12-19 | Joint Industrial Processors For Electronics | Dispositif a enceintes multiples pour l'evaporation fractionnee et la separation d'une solution |
US7300038B2 (en) | 2002-07-23 | 2007-11-27 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method and apparatus to help promote contact of gas with vaporized material |
US6921062B2 (en) | 2002-07-23 | 2005-07-26 | Advanced Technology Materials, Inc. | Vaporizer delivery ampoule |
US7484315B2 (en) * | 2004-11-29 | 2009-02-03 | Tokyo Electron Limited | Replaceable precursor tray for use in a multi-tray solid precursor delivery system |
US20060185597A1 (en) * | 2004-11-29 | 2006-08-24 | Kenji Suzuki | Film precursor evaporation system and method of using |
JP4607637B2 (ja) * | 2005-03-28 | 2011-01-05 | 東京エレクトロン株式会社 | シリコン窒化膜の形成方法、シリコン窒化膜の形成装置及びプログラム |
JP4960720B2 (ja) * | 2006-02-10 | 2012-06-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 膜前駆体蒸発システムにおいて使用される膜前駆体のトレーおよびその使用方法 |
US20070234956A1 (en) * | 2006-04-05 | 2007-10-11 | Dalton Jeremie J | Method and apparatus for providing uniform gas delivery to a reactor |
US20080241805A1 (en) * | 2006-08-31 | 2008-10-02 | Q-Track Corporation | System and method for simulated dosimetry using a real time locating system |
US8057602B2 (en) * | 2007-05-09 | 2011-11-15 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for supporting, positioning and rotating a substrate in a processing chamber |
TWI470672B (zh) * | 2011-08-22 | 2015-01-21 | Soitec Silicon On Insulator | 用於鹵化物氣相磊晶系統之直接液體注入及方法 |
JP5933372B2 (ja) * | 2012-07-02 | 2016-06-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 原料容器および原料容器の使用方法 |
-
2013
- 2013-11-25 US US14/089,009 patent/US9334566B2/en active Active
-
2014
- 2014-11-14 JP JP2014231137A patent/JP6945269B2/ja active Active
- 2014-11-24 KR KR1020140164246A patent/KR102369254B1/ko active IP Right Grant
- 2014-11-24 TW TW107145291A patent/TWI700120B/zh active
- 2014-11-24 TW TW103140649A patent/TWI654025B/zh active
- 2014-11-24 CN CN201410680419.6A patent/CN104651806B/zh active Active
- 2014-11-24 CN CN201811122857.5A patent/CN109536923B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN109536923B (zh) | 2021-08-06 |
CN104651806A (zh) | 2015-05-27 |
TW201919755A (zh) | 2019-06-01 |
TWI654025B (zh) | 2019-03-21 |
TWI700120B (zh) | 2020-08-01 |
US20150145154A1 (en) | 2015-05-28 |
US9334566B2 (en) | 2016-05-10 |
KR20150060566A (ko) | 2015-06-03 |
KR102369254B1 (ko) | 2022-02-28 |
CN104651806B (zh) | 2018-11-02 |
CN109536923A (zh) | 2019-03-29 |
TW201532665A (zh) | 2015-09-01 |
JP2015110837A (ja) | 2015-06-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6945269B2 (ja) | マルチトレイバラスト蒸気引き込みシステム | |
JP6868951B2 (ja) | 蒸気供給のためのシステムおよび方法 | |
CN107452651B (zh) | 用于固体和液体前体的蒸汽输送方法和装置 | |
CN102348832B (zh) | 用于稳定前驱物供应的气泡供应系统 | |
US9637821B2 (en) | Method for supplying vaporized precursor | |
US10147597B1 (en) | Turbulent flow spiral multi-zone precursor vaporizer | |
KR102563448B1 (ko) | 프리커서의 벌크 기화를 위한 시스템들 및 방법들 | |
KR101591487B1 (ko) | 전구체 기화기 | |
CN101298666A (zh) | 气源供给装置和方法 | |
KR102235339B1 (ko) | 대면적용 선형 증발원 | |
KR100455224B1 (ko) | 기화기 | |
KR101351438B1 (ko) | 소스 공급 장치 및 이를 포함하는 박막 증착 시스템 | |
US10344747B2 (en) | Method and apparatus for metering and vaporizing a fluid | |
US20150184292A1 (en) | Systems and methods for preventing mixing of two gas streams in a processing chamber | |
US20150125603A1 (en) | Methods and apparatus for depositing chalcogenide layers using hot wire chemical vapor deposition |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171101 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171101 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180517 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180522 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180810 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181113 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190208 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20190716 |
|
C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20191107 |
|
C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22 Effective date: 20200915 |
|
C13 | Notice of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C13 Effective date: 20210126 |
|
C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22 Effective date: 20210413 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20210420 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210617 |
|
C302 | Record of communication |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C302 Effective date: 20210630 |
|
C23 | Notice of termination of proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C23 Effective date: 20210713 |
|
C03 | Trial/appeal decision taken |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C03 Effective date: 20210817 |
|
C30A | Notification sent |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C3012 Effective date: 20210817 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210914 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6945269 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |