JP2015096973A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015096973A5 JP2015096973A5 JP2015009267A JP2015009267A JP2015096973A5 JP 2015096973 A5 JP2015096973 A5 JP 2015096973A5 JP 2015009267 A JP2015009267 A JP 2015009267A JP 2015009267 A JP2015009267 A JP 2015009267A JP 2015096973 A5 JP2015096973 A5 JP 2015096973A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- mask blank
- tantalum
- blank according
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 9
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims 7
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 7
- 239000010408 film Substances 0.000 claims 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 claims 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015009267A JP5899558B2 (ja) | 2009-04-16 | 2015-01-21 | マスクブランク及び転写用マスク |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009100050 | 2009-04-16 | ||
| JP2009100050 | 2009-04-16 | ||
| JP2015009267A JP5899558B2 (ja) | 2009-04-16 | 2015-01-21 | マスクブランク及び転写用マスク |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011509271A Division JPWO2010119811A1 (ja) | 2009-04-16 | 2010-04-09 | マスクブランク及び転写用マスク並びに膜緻密性評価方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015096973A JP2015096973A (ja) | 2015-05-21 |
| JP2015096973A5 true JP2015096973A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | 2015-09-03 |
| JP5899558B2 JP5899558B2 (ja) | 2016-04-06 |
Family
ID=42982473
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011509271A Pending JPWO2010119811A1 (ja) | 2009-04-16 | 2010-04-09 | マスクブランク及び転写用マスク並びに膜緻密性評価方法 |
| JP2015009267A Active JP5899558B2 (ja) | 2009-04-16 | 2015-01-21 | マスクブランク及び転写用マスク |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011509271A Pending JPWO2010119811A1 (ja) | 2009-04-16 | 2010-04-09 | マスクブランク及び転写用マスク並びに膜緻密性評価方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8709681B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| JP (2) | JPWO2010119811A1 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| KR (1) | KR101702682B1 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| TW (1) | TWI444760B (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| WO (1) | WO2010119811A1 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20130160948A1 (en) * | 2011-12-23 | 2013-06-27 | Lam Research Corporation | Plasma Processing Devices With Corrosion Resistant Components |
| JP6335735B2 (ja) * | 2014-09-29 | 2018-05-30 | Hoya株式会社 | フォトマスク及び表示装置の製造方法 |
| JP6489951B2 (ja) * | 2015-06-12 | 2019-03-27 | 東芝メモリ株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
| JP6932552B2 (ja) * | 2017-05-31 | 2021-09-08 | Hoya株式会社 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
| JP7332324B2 (ja) * | 2019-04-10 | 2023-08-23 | デクセリアルズ株式会社 | 無機偏光板及びその製造方法、並びに光学機器 |
| JP2022045198A (ja) * | 2020-09-08 | 2022-03-18 | 凸版印刷株式会社 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及び位相シフトマスクの製造方法 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0690508B2 (ja) | 1987-06-30 | 1994-11-14 | 三菱電機株式会社 | フオトマスク |
| US5919321A (en) * | 1996-08-13 | 1999-07-06 | Hitachi Metals, Ltd. | Target material of metal silicide |
| JP4686006B2 (ja) | 2000-04-27 | 2011-05-18 | 大日本印刷株式会社 | ハーフトーン位相シフトフォトマスクとハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス、及びハーフトーン位相シフトフォトマスクの製造方法 |
| JP3608654B2 (ja) * | 2000-09-12 | 2005-01-12 | Ｈｏｙａ株式会社 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク |
| JP2002156742A (ja) | 2000-11-20 | 2002-05-31 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びこれらの製造方法 |
| JP2002169265A (ja) * | 2000-12-01 | 2002-06-14 | Hoya Corp | フォトマスクブランクス及びフォトマスクブランクスの製造方法 |
| KR20090091831A (ko) * | 2001-10-02 | 2009-08-28 | 도꾸리쯔교세이호진상교기쥬쯔소고겡뀨죠 | 금속산화물 박막 및 그 제조방법 |
| JP4158885B2 (ja) * | 2002-04-22 | 2008-10-01 | Ｈｏｙａ株式会社 | フォトマスクブランクの製造方法 |
| JP4534417B2 (ja) * | 2002-12-13 | 2010-09-01 | ソニー株式会社 | スパッタターゲットの製造方法 |
| JP2005156700A (ja) | 2003-11-21 | 2005-06-16 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクブランクの製造方法、及びパターン転写方法 |
| JP2006078825A (ja) | 2004-09-10 | 2006-03-23 | Shin Etsu Chem Co Ltd | フォトマスクブランクおよびフォトマスクならびにこれらの製造方法 |
| JP5105217B2 (ja) * | 2005-04-25 | 2012-12-26 | 大日本印刷株式会社 | 金属積層体 |
| JP4766518B2 (ja) * | 2006-03-31 | 2011-09-07 | Ｈｏｙａ株式会社 | マスクブランク及びフォトマスク |
| TWI444757B (zh) * | 2006-04-21 | 2014-07-11 | Asahi Glass Co Ltd | 用於極紫外光（ｅｕｖ）微影術之反射性空白光罩 |
| JP2008101246A (ja) * | 2006-10-19 | 2008-05-01 | Asahi Glass Co Ltd | Ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランクを製造する際に使用されるスパッタリングターゲット |
| KR101471358B1 (ko) * | 2007-03-12 | 2014-12-10 | 주식회사 에스앤에스텍 | 하프톤형 위상반전 블랭크 마스크, 하프톤형 위상반전포토마스크 및 그의 제조방법 |
| KR20100009558A (ko) | 2007-04-27 | 2010-01-27 | 호야 가부시키가이샤 | 포토마스크 블랭크 및 포토마스크 |
-
2010
- 2010-04-09 JP JP2011509271A patent/JPWO2010119811A1/ja active Pending
- 2010-04-09 WO PCT/JP2010/056409 patent/WO2010119811A1/ja not_active Ceased
- 2010-04-09 KR KR1020117027174A patent/KR101702682B1/ko active Active
- 2010-04-09 US US13/264,664 patent/US8709681B2/en active Active
- 2010-04-15 TW TW99111731A patent/TWI444760B/zh active
-
2015
- 2015-01-21 JP JP2015009267A patent/JP5899558B2/ja active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2015096973A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | ||
| JP2016021075A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | ||
| JP2018146945A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | ||
| JP2016532576A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | ||
| WO2012048094A3 (en) | Atomic layer deposition of photoresist materials and hard mask precursors | |
| JP2015102633A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | ||
| JP2014137388A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | ||
| JP2019500490A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | ||
| JP2017523310A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | ||
| RU2017120233A (ru) | Противоэлектрод для электрохромных устройств | |
| BR112014000395A2 (pt) | películas de barreira de óxido de metal misto e método de deposição de camada atômica para preparar películas de barreira de óxido de metal misto | |
| KR20140128436A (ko) | 도전성 조성물, 도전성 부재, 도전성 부재의 제조 방법, 터치 패널 및 태양 전지 | |
| JP2011505589A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | ||
| JP2015133514A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | ||
| TW200734825A (en) | Silicon-containing resist underlayer coating forming composition for forming resist under-layer coating of photo-crosslink cure | |
| WO2013141278A1 (ja) | 導電性組成物、導電性部材、導電性部材の製造方法、タッチパネルおよび太陽電池 | |
| JP2017049312A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | ||
| EP2881790A3 (en) | Photomask blank | |
| JP2015092281A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | ||
| JP2017520437A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | ||
| JP2013076821A (ja) | ネガ型感光性樹脂組成物およびそれを用いた保護膜およびタッチパネル部材 | |
| WO2009018261A3 (en) | Rheology-controlled conductive materials, methods of production and uses thereof | |
| TW200641543A (en) | Underlayer coating forming composition for lithography containing compound having protected carboxy group | |
| JP2019174806A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | ||
| KR20180084635A (ko) | 표시 장치 제조용 위상 시프트 마스크 블랭크, 표시 장치 제조용 위상 시프트 마스크의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법 |