JP2015090326A - 計測装置 - Google Patents
計測装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015090326A JP2015090326A JP2013230592A JP2013230592A JP2015090326A JP 2015090326 A JP2015090326 A JP 2015090326A JP 2013230592 A JP2013230592 A JP 2013230592A JP 2013230592 A JP2013230592 A JP 2013230592A JP 2015090326 A JP2015090326 A JP 2015090326A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- data
- image data
- positional deviation
- inspection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims abstract description 99
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 79
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 35
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims abstract description 21
- 238000013461 design Methods 0.000 claims abstract description 21
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 16
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 11
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- 230000006870 function Effects 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 6
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000013139 quantization Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
- G06T7/0004—Industrial image inspection
- G06T7/001—Industrial image inspection using an image reference approach
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/10—Image acquisition modality
- G06T2207/10016—Video; Image sequence
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/20—Special algorithmic details
- G06T2207/20021—Dividing image into blocks, subimages or windows
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
- G06T2207/30108—Industrial image inspection
- G06T2207/30148—Semiconductor; IC; Wafer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
【構成】計測装置200は、被検査試料に形成されたパターンの欠陥を検査するパターン検査装置とは独立して配置される計測装置であって、パターン検査装置が被検査試料の検査領域を走査した場合に得られる図形パターンの光学画像データと、パターン検査装置がパターンの設計データから作成した、光学画像データと比較するための参照画像データと、を入力する入力部60と、パターン検査装置から得られた光学画像データと参照画像データとを用いて、被検査試料のパターンの位置ずれ量を計測して、位置ずれ量分布を作成する位置ずれ量分布作成部64と、算出された被検査試料のパターンの位置ずれ分布を出力する出力部72と、を備えたことを特徴とする。
【選択図】図2
Description
被検査試料に形成されたパターンの欠陥を検査するパターン検査装置とは独立して配置される計測装置であって、
パターン検査装置が被検査試料の検査領域を走査した場合に得られる図形パターンの光学画像データと、パターン検査装置がパターンの設計データから作成した、光学画像データと比較するための参照画像データと、を入力する入力部と、
パターン検査装置から得られた光学画像データと参照画像データとを用いて、被検査試料のパターンの位置ずれ量を計測して、位置ずれ量分布を作成する位置ずれ量分布作成部と、
算出された被検査試料のパターンの位置ずれ分布を出力する出力部と、
を備えたことを特徴とする。
位置ずれ量分布作成部は、さらに、入力された光学画像データの位置データと参照画像データの位置データとを用いて位置ずれ量分布を作成すると好適である。
位置ずれ量分布作成部は、座標校正データを用いて校正された位置データを用いて位置ずれ量分布を作成すると好適である。
図1は、実施の形態1におけるパターン検査装置の構成を示す構成図である。図1において、試料、例えばマスクに形成されたパターンの欠陥を検査する検査装置100は、光学画像取得部150、及び制御系回路160(制御部)を備えている。
(1) x=f(x1,y1)+g(x2,y2,t)
y=f’(x1,y1)+g’(x2,y2,t)
20 検査ストライプ
30 フレーム領域
50,52,54,56,58,59 記憶装置
60 入力部
61 フレーム分割部
62 位置合わせ部
63 座標変換部
64 位置ずれ量分布作成部
70 位置ずれ量マップ作成部
72 出力部
73 メモリ
100 検査装置
101 試料
102 XYθテーブル
103 光源
104 拡大光学系
105 フォトダイオードアレイ
106 センサ回路
107 位置回路
108 比較回路
109 磁気ディスク装置
110 制御計算機
111 展開回路
112 参照回路
113 オートローダ制御回路
114 テーブル制御回路
115 磁気テープ装置
116 FD
117 CRT
118 パターンモニタ
119 プリンタ
120 バス
122 レーザ測長システム
123 ストライプパターンメモリ
124 リニアスケール測長システム
150 光学画像取得部
160 制御系回路
170 照明光学系
200 計測装置
Claims (5)
- 被検査試料に形成されたパターンの欠陥を検査するパターン検査装置とは独立して配置される計測装置であって、
前記パターン検査装置が前記被検査試料の検査領域を走査した場合に得られる図形パターンの光学画像データと、前記パターン検査装置が前記パターンの設計データから作成した、前記光学画像データと比較するための参照画像データと、を入力する入力部と、
前記パターン検査装置から得られた前記光学画像データと前記参照画像データとを用いて、前記被検査試料のパターンの位置ずれ量を計測して、位置ずれ量分布を作成する位置ずれ量分布作成部と、
算出された前記被検査試料のパターンの位置ずれ分布を出力する出力部と、
を備えたことを特徴とする計測装置。 - 前記入力部は、さらに、前記光学画像データの位置データと前記参照画像データの位置データとを入力し、
前記位置ずれ量分布作成部は、さらに、入力された前記光学画像データの位置データと前記参照画像データの位置データとを用いて前記位置ずれ量分布を作成することを特徴とする請求項1記載の計測装置。 - 前記光学画像データの位置データとして、複数の座標系の位置データが用いられることを特徴とする請求項1又は2記載の計測装置。
- 前記入力部は、さらに、前記複数の座標系を校正する座標校正データを入力し、
前記位置ずれ量分布作成部は、前記座標校正データを用いて校正された位置データを用いて前記位置ずれ量分布を作成することを特徴とする請求項3記載の計測装置。 - 前記位置ずれ量分布作成部は、前記パターン検査装置の検査動作に連動して、前記位置ずれ量を計測することを特徴とする請求項1〜4いずれか記載の計測装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013230592A JP6259642B2 (ja) | 2013-11-06 | 2013-11-06 | 計測装置 |
US14/529,297 US9811896B2 (en) | 2013-11-06 | 2014-10-31 | Measuring apparatus |
KR1020140152353A KR20150052790A (ko) | 2013-11-06 | 2014-11-04 | 계측 장치 및 계측 방법 |
KR1020160160502A KR102146943B1 (ko) | 2013-11-06 | 2016-11-29 | 계측 장치 및 계측 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013230592A JP6259642B2 (ja) | 2013-11-06 | 2013-11-06 | 計測装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015090326A true JP2015090326A (ja) | 2015-05-11 |
JP6259642B2 JP6259642B2 (ja) | 2018-01-10 |
Family
ID=53007098
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013230592A Active JP6259642B2 (ja) | 2013-11-06 | 2013-11-06 | 計測装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9811896B2 (ja) |
JP (1) | JP6259642B2 (ja) |
KR (2) | KR20150052790A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6537332B2 (ja) * | 2014-04-28 | 2019-07-03 | キヤノン株式会社 | 画像処理方法および撮影装置 |
JP2017032457A (ja) * | 2015-08-04 | 2017-02-09 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | パターン検査装置 |
KR20220114716A (ko) | 2021-02-09 | 2022-08-17 | 삼성에스디에스 주식회사 | 이미지 클러스터링 방법 및 그 장치 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11160039A (ja) * | 1997-11-25 | 1999-06-18 | Nec Corp | レティクル検査方法および検査装置 |
JP2006266864A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Advanced Mask Inspection Technology Kk | 試料検査装置及び試料検査方法 |
JP2008039712A (ja) * | 2006-08-10 | 2008-02-21 | Advanced Mask Inspection Technology Kk | 試料検査装置、画像位置合わせ方法、位置ずれ量推定方法及びプログラム |
JP2012002731A (ja) * | 2010-06-18 | 2012-01-05 | Nuflare Technology Inc | 検査装置および検査方法 |
US20130044205A1 (en) * | 2011-08-18 | 2013-02-21 | Nuflare Technology, Inc. | Pattern inspection apparatus and pattern inspection method |
JP2013064632A (ja) * | 2011-09-16 | 2013-04-11 | Nuflare Technology Inc | 位置ずれマップ作成装置、パターン検査システム、及び位置ずれマップ作成方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6151122A (en) * | 1995-02-21 | 2000-11-21 | Nikon Corporation | Inspection method and apparatus for projection optical systems |
JP3824542B2 (ja) | 2002-01-25 | 2006-09-20 | 株式会社東芝 | 線幅検査方法とその装置 |
JP2010117185A (ja) | 2008-11-11 | 2010-05-27 | Olympus Corp | 欠陥検査装置および欠陥検査方法 |
JP5832345B2 (ja) | 2012-03-22 | 2015-12-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査装置および検査方法 |
JP6170707B2 (ja) | 2013-04-01 | 2017-07-26 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査方法および検査装置 |
JP6134565B2 (ja) | 2013-04-12 | 2017-05-24 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査方法および検査装置 |
-
2013
- 2013-11-06 JP JP2013230592A patent/JP6259642B2/ja active Active
-
2014
- 2014-10-31 US US14/529,297 patent/US9811896B2/en active Active
- 2014-11-04 KR KR1020140152353A patent/KR20150052790A/ko active Search and Examination
-
2016
- 2016-11-29 KR KR1020160160502A patent/KR102146943B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11160039A (ja) * | 1997-11-25 | 1999-06-18 | Nec Corp | レティクル検査方法および検査装置 |
JP2006266864A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Advanced Mask Inspection Technology Kk | 試料検査装置及び試料検査方法 |
JP2008039712A (ja) * | 2006-08-10 | 2008-02-21 | Advanced Mask Inspection Technology Kk | 試料検査装置、画像位置合わせ方法、位置ずれ量推定方法及びプログラム |
JP2012002731A (ja) * | 2010-06-18 | 2012-01-05 | Nuflare Technology Inc | 検査装置および検査方法 |
US20130044205A1 (en) * | 2011-08-18 | 2013-02-21 | Nuflare Technology, Inc. | Pattern inspection apparatus and pattern inspection method |
JP2013040873A (ja) * | 2011-08-18 | 2013-02-28 | Nuflare Technology Inc | パターン検査装置及びパターン検査方法 |
JP2013064632A (ja) * | 2011-09-16 | 2013-04-11 | Nuflare Technology Inc | 位置ずれマップ作成装置、パターン検査システム、及び位置ずれマップ作成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9811896B2 (en) | 2017-11-07 |
KR102146943B1 (ko) | 2020-08-21 |
US20150125066A1 (en) | 2015-05-07 |
KR20160142800A (ko) | 2016-12-13 |
KR20150052790A (ko) | 2015-05-14 |
JP6259642B2 (ja) | 2018-01-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8233698B2 (en) | Pattern inspection apparatus, corrected image generation method, and computer-readable recording medium storing program | |
JP4336672B2 (ja) | 試料検査装置、試料検査方法及びプログラム | |
JP4174504B2 (ja) | 試料検査装置、試料検査方法及びプログラム | |
JP6132658B2 (ja) | 検査感度評価方法 | |
JP4323475B2 (ja) | 試料検査装置、試料検査方法及びプログラム | |
JP2017198589A (ja) | パターン検査方法及びパターン検査装置 | |
JP6310263B2 (ja) | 検査装置 | |
JP2007071629A (ja) | 試料検査装置の支援装置、試料検査方法及びプログラム | |
JP4970569B2 (ja) | パターン検査装置およびパターン検査方法 | |
JP4988000B2 (ja) | パターン検査装置及びパターン検査方法 | |
JP2012251785A (ja) | 検査装置および検査方法 | |
KR102013287B1 (ko) | 계측 장치 및 계측 방법 | |
KR102146943B1 (ko) | 계측 장치 및 계측 방법 | |
JP2011196952A (ja) | 検査装置および検査方法 | |
JP2017138250A (ja) | パターンの線幅測定装置及びパターンの線幅測定方法 | |
JP2020085454A (ja) | パターン検査装置及びパターン検査方法 | |
JP4772815B2 (ja) | 補正パターン画像生成装置、パターン検査装置および補正パターン画像生成方法 | |
JP4977123B2 (ja) | 試料検査装置、試料検査方法及びプログラム | |
JP4185515B2 (ja) | 試料検査方法、プログラム及び試料検査装置 | |
JP4922381B2 (ja) | パターン検査装置及びパターン検査方法 | |
JP4960404B2 (ja) | パターン検査装置及びパターン検査方法 | |
JP2014232071A (ja) | パターン検査方法及びパターン検査装置 | |
JP2021167787A (ja) | パターン検査装置及びパターン検査方法 | |
JP2016133613A (ja) | パターン検査方法 | |
JP2017032457A (ja) | パターン検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161004 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170621 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170627 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170825 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171205 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171211 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6259642 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |