JP2015084432A - 炭化ケイ素基板用研磨剤組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の炭化ケイ素基板用研磨剤組成物は、金属オキソ酸とその塩である、イソポリ酸、及びイソポリ酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一種と、砥粒、酸素供与剤、pH調節剤、及び水を含有してなる。イソポリ酸は、タングステン酸及び/又はモリブデン酸であり、イソポリ酸塩は、タングステン酸塩及び/又はモリブデン酸塩である。また、砥粒は、コロイダルシリカ、ヒュームドシリカ、湿式合成シリカからなる群から選ばれる少なくとも一種である。
【選択図】なし
Description
Dp=6000/ρ・Sa
(但し、Dp:平均粒子径(nm)、Sa:BET法比表面積(m2/g)、ρ:密度(g/cm3))
タングステン酸、リンタングステン酸、ケイタングステン酸、リンタングストモリブデン酸、タングステン酸塩、モリブデン酸、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸塩、酸素供与剤、砥粒、pH調節剤と、純水とを混合し、攪拌し表1に示す組成からなる研磨剤組成物を得た。
研磨加工機:不二越機械(株)製SLM−100 片面研磨加工機
研磨圧力:500g/cm2
研磨パッド:SUBA−800(ローデルニッタ(株)社製)
定盤回転数:100rpm
研磨剤組成物の供給量:100ml/min
研磨時間:5時間
Claims (7)
- 金属オキソ酸とその塩である、イソポリ酸、及びイソポリ酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一種と、砥粒、酸素供与剤、pH調節剤、及び水を含有してなり、
前記イソポリ酸は、タングステン酸及び/又はモリブデン酸であり、前記イソポリ酸塩は、タングステン酸塩及び/又はモリブデン酸塩であり、
前記砥粒がコロイダルシリカ、ヒュームドシリカ、湿式合成シリカからなる群から選ばれる少なくとも一種である炭化ケイ素基板用研磨剤組成物。 - 前記タングステン酸塩がパラタングステン酸アンモニウム、メタタングステン酸アンモニウム、タングステン酸カリウム、及びタングステン酸カルシウムからなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項1に記載の炭化ケイ素基板用研磨剤組成物。
- 前記酸素供与剤が過酸化水素である請求項1または2に記載の炭化ケイ素基板用研磨剤組成物。
- pHが1.0以上9.0未満である請求項1〜3のいずれか1項に記載の炭化ケイ素基板用研磨剤組成物。
- pHを1.0以上9.0未満に調整する前記pH調節剤として、無機酸、有機酸、無機塩基性化合物、及び有機塩基性化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物を含有する請求項4に記載の炭化ケイ素基板用研磨剤組成物。
- 六方晶炭化ケイ素単結晶ウェハ(0001)ケイ素面を研磨するときに使用される請求項1〜5のいずれか1項に記載の炭化ケイ素基板用研磨剤組成物。
- 六方晶炭化ケイ素単結晶ウェハ(0001)ケイ素面以外の面を研磨するときに使用される請求項1〜5のいずれか1項に記載の炭化ケイ素基板用研磨剤組成物。
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