JP2015077758A - インプリント用基板の検査方法、インプリント用基板の製造方法、インプリント方法及びインプリントシステム - Google Patents
インプリント用基板の検査方法、インプリント用基板の製造方法、インプリント方法及びインプリントシステム Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】可撓領域Xを有する基板25に対して外力を加えないときの表面の変位量を計測するとともに、外力を加えたときの表面の変位量を計測し、その変位量を比較し、その比較結果に基づいて基板25の状態を判断する。
【選択図】図6
Description
本発明の一実施形態に係るインプリントシステム100は、図1に示すように、インプリントを実行するインプリント処理ユニット10と、インプリントの実行前にモールド25又は転写基板15(以下、「対象物」と称する。)の形状検査を行う検査ユニットKUと、備える。
本発明の一実施形態に係るインプリント用基板の製造方法について図5を参照して説明する。
本発明の一実施形態に係るインプリント方法について図6を参照して説明する。
2 インプリント材料
15 転写基板
25 モールド
25a 凹凸パターン
30 転写ユニット
60 検出装置
65 制御装置
100 インプリントシステム
Claims (7)
- インプリントに用いられる凹凸パターンが形成される一方の面と反対側の他方の面に、前記凹凸パターンに対向して窪み部が形成されている基板であって、前記窪み部により規定される可撓領域と、前記可撓領域の周囲に有する固定領域と、を有する前記基板を準備し、
前記可撓領域における前記一方の面への変位量を計測する第1の計測工程と、
前記可撓領域に外力を加え、前記可撓領域における前記一方の面への変位量を計測する第2の計測工程と、
前記第1及び第2の計測工程において計測した変位量を比較する比較工程と、
前記比較した結果に基づいて、前記基板の状態を判断する判断工程と、
を備えることを特徴とするインプリント用基板の検査方法。 - インプリントに用いられる凹凸パターンが形成される一方の面と反対側の他方の面に、前記凹凸パターンに対向して窪み部が形成されている基板であって、前記窪み部により規定される可撓領域と、前記可撓領域の周囲に有する固定領域と、を有する前記基板を準備し、
前記可撓領域における前記一方の面への変位量を計測する第1の計測工程と、
前記可撓領域に外力を加え、前記可撓領域における前記一方の面への変位量を計測する第2の計測工程と、
前記第1及び第2の計測工程において計測した変位量を比較する比較工程と、
前記比較した結果に基づいて、前記基板の状態を判断する判断工程と、
前記判断の結果、前記基板の状態が良好であると判断された場合、前記基板の一方の面を加工してメサ構造を作製するメサ作製工程と、
を備えることを特徴とするインプリント用基板の製造方法。 - 前記比較工程では、前記第1及び第2の計測工程において計測した変位量を比較して前記可撓領域が最も変位する最大変位座標を求め、
前記基板の前記最大変位座標に基づいて、前記メサ構造の配置を決定することを特徴とする請求項2記載のインプリント用基板の製造方法。 - インプリントに用いられる凹凸パターンが形成される一方の面と反対側の他方の面に、前記凹凸パターンに対向して窪み部が形成されているモールドであって、前記窪み部により規定される可撓領域と、前記可撓領域の周囲に有する固定領域と、を有する前記モールドを準備し、
前記可撓領域における前記一方の面への変位量を計測する第1の計測工程と、
前記可撓領域に外力を加え、前記可撓領域における前記一方の面への変位量を計測する第2の計測工程と、
前記第1及び第2の計測工程において計測した変位量を比較する比較工程と、
前記比較した結果に基づいて、前記モールドの状態を判断する判断工程と、
前記判断の結果、前記モールドの状態が良好であると判断された場合、前記モールドを用いて被転写材料を成型する成型工程と、
を備えることを特徴とするインプリント方法。 - 前記比較工程では、前記第1及び第2の計測工程において計測した変位量を比較して前記可撓領域が最も変位する最大変位座標を求めることを特徴とする請求項4記載のインプリント方法。
- 前記成型工程では、前記モールドの前記最大変位座標の位置に前記被転写材料が最初に接触するようにしたことを特徴とする請求項5に記載のインプリント方法。
- インプリントに用いられる凹凸パターンが形成された一方の面と反対側の他方の面に、前記凹凸パターンに対向して窪み部が形成されているモールドであって、前記窪み部により規定される可撓領域と、前記可撓領域の周囲に有する固定領域と、を有する前記モールドを支持するモールド支持手段と、
転写基板を支持する転写基板支持手段と、
前記モールドと前記転写基板を近接させてインプリント材料を成型し、前記転写基板上に前記凹凸パターンを転写させる転写ユニットと、
前記転写ユニットによる転写前に、前記モールドの状態を検査する検査ユニットと、を備え、
前記検査ユニットは、
前記モールドの可撓領域における前記一方の面への変位量を計測する第1の計測手段と、
前記可撓領域に外力を加え、前記可撓領域における前記一方の面への変位量を計測する第2の計測手段と、
前記第1及び第2の計測手段により計測した変位量を比較する比較手段と、
前記比較した結果に基づいて、前記モールドの状態を判断する判断手段と、
前記判断の結果、前記モールドの状態が良好であると判断された場合、前記モールドを用いて前記転写ユニットによりインプリントを実行することを特徴とするインプリントシステム。
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