JP2015075339A - 平板基板の表面状態検査方法及びそれを用いた平板基板の表面状態検査装置 - Google Patents
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Abstract
Description
前記平板基板の表面側に前記平板基板の基板法線に対して所定の入射角で前記レーザ光を前記表面に異なる方向から照射する少なくとも2つの投光系と、前記表面側に設けられ、前記レーザ光の照射点を基準として、前記投光系と反対側の位置に、それぞれ前記投光系に対向するように設けられた少なくとも2つの受光系と、前記各レーザ光が前記平板基板の表面に照射されるレーザ光照射領域が矩形となるようにレーザ光を成形するレーザ光成形手段と、前記矩形に成形された各レーザ光照射領域の離隔を、前記矩形の前記走査方向の投影長又は各レーザ光照射領域が重ならない長さである非重複長に、各投光系と各受光系とを調整する照射領域離隔調整手段と、前記軸方向に送る所定の間隔を、前記投影長又は前記非重複長以上、あるいは前記投影長又は前記非重複長の整数倍に調整する送り間隔調整手段とを備えたことを特徴とする表面状態検査装置である。
少なくとも2つの異なる方向から、照射領域が矩形で、かつ各レーザ光照射領域の離隔を、前記照射領域の前記走査方向の投影長又は各レーザ光照射領域が重ならない長さである非重複長以上に、各投光系と各受光系とを調整し、
前記軸方向に送る所定間隔を、前記投影長又は前記非重複長以上、あるいは前記投影長又は前記非重複長の整数倍に調整し、前記平板基板を送り、前記平板基板の全表面状態を検査することを特徴とする表面状態検査方法である。
少なくとも2つの異なる方向から、照射領域が矩形で、かつ各レーザ光照射領域の離隔を、前記照射領域の前記走査方向の投影長又は各レーザ光照射領域が重ならない長さである非重複長以上に、各投光系と各受光系とを調整し、前記平板基板の外側から中心方向又は中心から外側方向に方向に送る所定間隔を、前記投影長又は前記非重複長以上、あるいは前記投影長又は非重複長の整数倍に調整し、前記平板基板の全表面状態を検査することを特徴とする表面状態検査方法である。
100 200 投光器
101 201 レーザ光
101a 201a レーザ成形光
110 210 散乱光受光器
120 平板基板
130 オリフラ
300 高さセンサー
400 X軸
401 X軸ガイド
410 Y軸
411 Y軸ガイド
500 固定板
600 Z軸
700 ホルダー
800 回転軸
900 910 ケーブル
Claims (8)
- X軸Y軸ステージ上に載置された平板基板の表面に、投光系により照射されたレーザ光を、前記X軸Y軸ステージによりX軸又はY軸のいずれかの方向に走査すると共に、所定間隔で前記走査方向と直交する軸方向に送りながら、表面からの散乱光を受光系により受光し、この受光強度に応じた検出信号により、前記平板基板の全表面状態を検査する平板基板の表面状態検査装置において、
前記平板基板の表面側に前記平板基板の基板法線に対して所定の入射角で前記レーザ光を前記表面に異なる方向から照射する少なくとも2つの投光系と、
前記表面側に設けられ、前記レーザ光の照射点を基準として、前記投光系と反対側の位置に、それぞれ前記投光系に対向するように設けられた少なくとも2つの受光系と、
前記各レーザ光が前記平板基板の表面に照射されるレーザ光照射領域が矩形となるようにレーザ光を成形するレーザ光成形手段と、
前記矩形に成形された各レーザ光照射領域の離隔を、前記矩形の前記走査方向の投影長又は各レーザ光照射領域が重ならない長さである非重複長に、各投光系と各受光系とを調整する照射領域離隔調整手段と、
前記軸方向に送る所定の間隔を、前記投影長又は前記非重複長以上、あるいは前記投影長又は非重複長の整数倍に調整する送り間隔調整手段
とを備えたことを特徴とする表面状態検査装置。 - 一組の前記投光系と受光系と、他の一組の前記投光系と受光系とが、互いに直交するように設けられたことを特徴とする請求項1に記載の表面状態検査装置。
- 前記投影長が50μmから1000μmの範囲にあり、前記軸方向に送る所定の間隔が、前記投影長であることを特徴とする請求項2に記載の表面状態検査装置。
- 回転台上に載置され、前記回転台により回転する平板基板の表面に、投光系によりレーザ光を照射すると共に、前記平板基板の外側から中心方向又は中心から外側方向に所定間隔で前記平板基板を送りながら、表面からの散乱光を受光系により受光し、この受光強度に応じた検出信号により、前記平板基板の全表面状態を検査する平板基板の表面状態検査装置において、
前記平板基板の表面側に前記平板基板の基板法線に対して所定の入射角で前記レーザ光を前記表面に異なる方向から照射する少なくとも2つの投光系と、
前記表面側に設けられ、前記レーザ光の照射点を基準として、前記投光系と反対側の位置に、それぞれ前記投光系に対向するように設けられた少なくとも2つの受光系と、
前記各レーザ光が前記平板基板の表面に照射されるレーザ光照射領域を矩形に成形するレーザ光成形手段と、
前記矩形に成形された各レーザ光照射領域離隔を、前記矩形の前記走査方向の投影長又は各レーザ光照射領域が重ならない長さである非重複長以上に、各投光系と各受光系とを調整する照射領域離隔調整手段と、
前記平板基板の外側から中心方向又は中心から外側方向に前記平板基板を送る所定間隔を、前記投影長又は前記非重複長以上、あるいは前記投影長又は前記非重複長の整数倍に調整する送り間隔調整手段
とを備えたことを特徴とする表面状態検査装置。 - 一組の前記投光系と受光系と、他の一組の前記投光系と受光系とが、互いに直交するように設けられたことを特徴とする請求項4に記載の表面状態検査装置。
- 前記投影長が50μmから1000μmの範囲にあり、前記所定間隔が前記投影長に対応するものであることを特徴とする請求項5に記載の表面状態検査装置。
- X軸Y軸ステージ上に載置された平板基板の表面に、投光系により照射されたレーザ光を、前記X軸Y軸ステージによりX軸又はY軸のいずれかの方向に走査すると共に、所定間隔で前記走査方向と直交する軸方向に送りながら、表面からの散乱光を受光系により受光し、この受光強度に応じた検出信号により、前記平板基板の表面状態を検査する表面状態検査方法において、
少なくとも2つの異なる方向から、照射領域が矩形で、かつ各レーザ光照射領域の離隔を、前記照射領域の前記走査方向の投影長又は各レーザ光照射領域が重ならない長さである非重複長以上に、各投光系と各受光系とを調整し、
前記軸方向に送る所定間隔を、前記投影長又は前記非重複長以上、あるいは前記投影長又は前記非重複長の整数倍に調整し、前記平板基板を送り、前記平板基板の全表面状態を検査することを特徴とする表面状態検査方法。 - 回転台上に載置され、回転する平板基板の表面に、投光系によりレーザ光を照射すると共に、前記平板基板の外側から中心方向又は中心から外側方向に所定間隔で前記平板基板を送りながら、表面からの散乱光を受光系により受光し、この受光強度に応じた検出信号により、前記平板基板の全表面状態を検査する平板基板の表面状態検査方法において、
少なくとも2つの異なる方向から、照射領域が矩形で、かつ各レーザ光照射領域の離隔を、前記照射領域の前記走査方向の投影長又は各レーザ光照射領域が重ならない長さである非重複長以上に、各投光系と各受光系とを調整し、
前記平板基板の外側から中心方向又は中心から外側方向に方向に送る所定間隔を、前記投影長又は前記非重複長以上、あるいは前記投影長又は前記非重複長の整数倍に調整し、
前記平板基板の全表面状態を検査することを特徴とする表面状態検査方法。
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