JP2015070157A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
[作用・効果] 上記の構成によれば、引き戻し配管(7)は処理液供給管路(4、252)と連通し、先端(7a)は供給口(252a)よりも低い位置にあるので、処理液供給管路(4、252)からの処理液の供給が停止されると、サイフォンの原理により、処理液供給管路(4,252)の処理液は引き戻し配管(7)を通じて排出され、基板(W)への処理液の不所望な落下を確実に防止できる。
<<<第1実施形態>>>
<<基板処理装置の全体構成>>
<<基板処理装置の全体動作>>
<1.洗浄液による洗浄>
<2.純水によるリンス>
<3.純水の振り切り乾燥>
<4.引き戻し配管7の機能>
そして、リンス処理が終了し、振り切り乾燥処理に移行する際には、バルブ41が閉じられて、液体供給管4への純水の供給は停止する。すると、液体供給管4にかかっていた水圧がなくなるため、液体供給口252aからの純水の吐出は停止する。このとき処理液供給管路(液体供給管4と液体流通路252)と引き戻し配管7とは連通しており、かつ引き戻し配管7の先端7aはこのときの状態(すなわち、アーム22の高さ位置が、リンス処理時に液体供給口252aから処理液を供給して処理をする位置にある状態)において、その液体供給口252aの高さ(すなわち遮断板2の下面の高さ)よりも低い高さ位置にある。したがって、液体供給管4にかかっていた水圧がなくなると、処理液供給管路(液体供給管4と液体流通路252)のうち液体供給管4の分岐部4Bより下流側部分と、引き戻し配管7内にある純水は、サイフォンの原理により、引き戻し配管7の先端7aからチャンバ外箱C1内の底部に落下する。これによって液体供給管4内の液は全て抜けるので、これ以後、液体供給口252aから処理液がウエハW上に不所望に落下してしまい、処理に失敗してしまうことはなくなる。
<<第1実施形態の変形例>>
<<<第2実施形態>>>
<<基板処理装置の構成>>
<<引き戻し配管7の機能>>
<<<第3実施形態>>>
<<基板処理装置の構成>>
<<引き戻し配管7の機能>>
<<第3実施形態の変形例>>
2 遮断板
3 第1乾燥ガス供給管
4 液体供給管
5 第2乾燥ガス供給管
6 制御装置
7 引き戻し配管
7a 先端
24 開口
25 管部材
252 液体流通路
252a 液体供給口
26 第2乾燥ガス流通路
26a 第2乾燥ガス供給口
31 バルブ
32 バルブ
41 バルブ
42 バルブ
51 バルブ
60 液体容器
63 逆止弁
W ウエハ
Claims (7)
- 基板の上面に処理液を供給して処理する基板処理装置において、
基板を保持する保持機構と、
前記保持機構に保持された基板の上方に位置してその基板の上面に処理液を吐出するための供給口まで処理液を供給する処理液供給管路と、
前記供給口に連通する前記処理液供給管路の途中から分岐して、先端が前記供給口の高さよりも低い位置に開口する引き戻し配管と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1記載の基板処理装置において、
前記引き戻し配管に、前記処理液供給管路方向への逆流を阻止する逆流阻止機構を設けたことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2記載の基板処理装置において、
前記逆流阻止機構は、液体を貯留する容器を備え、前記容器内の液体の水面下に前記引き戻し配管の先端を位置させてなることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2記載の基板処理装置において、
前記逆流阻止機構は、前記引き戻し配管に設けた弁よりなることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項4記載の基板処理装置において、
前記弁は、処理液供給時にその処理液の供給圧力により開となる逆止弁であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項4または5に記載の基板処理装置において、
前記弁は、基板処理時の前記供給口近傍における負圧により閉となる逆止弁であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1乃至6のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記引き戻し配管の先端には、配管の内径を小さく絞る絞り部を有していることを特徴とする基板の熱処理装置。
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2013
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