JP2015068919A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2015068919A5
JP2015068919A5 JP2013201579A JP2013201579A JP2015068919A5 JP 2015068919 A5 JP2015068919 A5 JP 2015068919A5 JP 2013201579 A JP2013201579 A JP 2013201579A JP 2013201579 A JP2013201579 A JP 2013201579A JP 2015068919 A5 JP2015068919 A5 JP 2015068919A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask blank
manufacturing
mask
substrate
transfer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013201579A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP6266286B2 (ja
JP2015068919A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2013201579A priority Critical patent/JP6266286B2/ja
Priority claimed from JP2013201579A external-priority patent/JP6266286B2/ja
Publication of JP2015068919A publication Critical patent/JP2015068919A/ja
Publication of JP2015068919A5 publication Critical patent/JP2015068919A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6266286B2 publication Critical patent/JP6266286B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2013201579A 2013-09-27 2013-09-27 マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 Active JP6266286B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013201579A JP6266286B2 (ja) 2013-09-27 2013-09-27 マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013201579A JP6266286B2 (ja) 2013-09-27 2013-09-27 マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015068919A JP2015068919A (ja) 2015-04-13
JP2015068919A5 true JP2015068919A5 (enExample) 2016-11-04
JP6266286B2 JP6266286B2 (ja) 2018-01-24

Family

ID=52835651

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013201579A Active JP6266286B2 (ja) 2013-09-27 2013-09-27 マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6266286B2 (enExample)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI694304B (zh) * 2015-06-08 2020-05-21 日商Agc股份有限公司 Euv微影術用反射型光罩基底
WO2017022171A1 (ja) * 2015-08-05 2017-02-09 京セラコネクタプロダクツ株式会社 プラグコネクタ
JP6973280B2 (ja) * 2018-05-08 2021-11-24 信越化学工業株式会社 インプリントモールド用合成石英ガラス基板

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010278034A (ja) * 2009-05-26 2010-12-09 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
JP5296260B2 (ja) * 2010-03-30 2013-09-25 Hoya株式会社 マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法
JP4819191B2 (ja) * 2011-04-14 2011-11-24 Hoya株式会社 マスクブランク用基板、マスクブランク、フォトマスクおよび半導体デバイスの製造方法
US8760188B2 (en) * 2011-06-30 2014-06-24 Silicon Image, Inc. Configurable multi-dimensional driver and receiver
JP5835968B2 (ja) * 2011-07-05 2015-12-24 キヤノン株式会社 決定方法、プログラム及び露光方法
US9690189B2 (en) * 2013-06-21 2017-06-27 Hoya Corporation Mask blank substrate, mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2015111283A5 (enExample)
TWI569109B (zh) 減輕缺陷可印刷性之方法以及用於極紫外線微影製程的方法
TWI641959B (zh) 處理窗識別符
TW201202866A (en) Method for operating a projection exposure apparatus for microlithography with correction of imaging aberrations induced by rigorous effects of the mask
TWI414822B (zh) Projection optics, exposure apparatus and component manufacturing method
KR20170122272A (ko) 리소그래피 장치용 미러를 제조하기 위한 방법
TWI539312B (zh) 光罩圖案之產生方法,儲存媒體,電腦,光罩之製造方法,曝光方法,製造用於生成光罩之裝置與系統的方法
KR102756367B1 (ko) 노광 방법, 노광 장치, 물품제조방법 및 반도체 디바이스의 제조 방법
TW201017342A (en) Exposure method and memory medium storing computer program
JP2015068919A5 (enExample)
JP2010182718A (ja) 露光方法及び露光システム
TWI364780B (en) Method for determining exposure condition and computer-readable storage media storing program for determining exposure condition
CN111948910B (zh) 曝光装置、曝光方法、决定方法和物品制造方法
JP2015040985A5 (enExample)
CN102937778A (zh) 一种确定光刻照明系统中各元件之间匹配关系的方法
JP5398318B2 (ja) 露光装置および電子デバイスの製造方法
JP2016170366A (ja) 反射型露光マスク、その製造方法およびマスクパターン作製プログラム
TWI772756B (zh) 曝光裝置及物品製造方法
JP6288985B2 (ja) リソグラフィ装置、および物品の製造方法
CN100580558C (zh) 曝光方法
JPH05347239A (ja) 投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法
JP2018092078A (ja) 露光装置、露光方法、及び物品の製造方法
JP2010258145A (ja) 半導体デバイスの製造方法
JP2010153922A5 (enExample)
TWI512390B (zh) 微影系統、微影遮罩、及微影方法