JP2015068919A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015068919A5 JP2015068919A5 JP2013201579A JP2013201579A JP2015068919A5 JP 2015068919 A5 JP2015068919 A5 JP 2015068919A5 JP 2013201579 A JP2013201579 A JP 2013201579A JP 2013201579 A JP2013201579 A JP 2013201579A JP 2015068919 A5 JP2015068919 A5 JP 2015068919A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask blank
- manufacturing
- mask
- substrate
- transfer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 29
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 5
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 23
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013201579A JP6266286B2 (ja) | 2013-09-27 | 2013-09-27 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013201579A JP6266286B2 (ja) | 2013-09-27 | 2013-09-27 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015068919A JP2015068919A (ja) | 2015-04-13 |
| JP2015068919A5 true JP2015068919A5 (enExample) | 2016-11-04 |
| JP6266286B2 JP6266286B2 (ja) | 2018-01-24 |
Family
ID=52835651
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013201579A Active JP6266286B2 (ja) | 2013-09-27 | 2013-09-27 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6266286B2 (enExample) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI694304B (zh) * | 2015-06-08 | 2020-05-21 | 日商Agc股份有限公司 | Euv微影術用反射型光罩基底 |
| WO2017022171A1 (ja) * | 2015-08-05 | 2017-02-09 | 京セラコネクタプロダクツ株式会社 | プラグコネクタ |
| JP6973280B2 (ja) * | 2018-05-08 | 2021-11-24 | 信越化学工業株式会社 | インプリントモールド用合成石英ガラス基板 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010278034A (ja) * | 2009-05-26 | 2010-12-09 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP5296260B2 (ja) * | 2010-03-30 | 2013-09-25 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
| JP4819191B2 (ja) * | 2011-04-14 | 2011-11-24 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板、マスクブランク、フォトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 |
| US8760188B2 (en) * | 2011-06-30 | 2014-06-24 | Silicon Image, Inc. | Configurable multi-dimensional driver and receiver |
| JP5835968B2 (ja) * | 2011-07-05 | 2015-12-24 | キヤノン株式会社 | 決定方法、プログラム及び露光方法 |
| US9690189B2 (en) * | 2013-06-21 | 2017-06-27 | Hoya Corporation | Mask blank substrate, mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device |
-
2013
- 2013-09-27 JP JP2013201579A patent/JP6266286B2/ja active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2015111283A5 (enExample) | ||
| TWI569109B (zh) | 減輕缺陷可印刷性之方法以及用於極紫外線微影製程的方法 | |
| TWI641959B (zh) | 處理窗識別符 | |
| TW201202866A (en) | Method for operating a projection exposure apparatus for microlithography with correction of imaging aberrations induced by rigorous effects of the mask | |
| TWI414822B (zh) | Projection optics, exposure apparatus and component manufacturing method | |
| KR20170122272A (ko) | 리소그래피 장치용 미러를 제조하기 위한 방법 | |
| TWI539312B (zh) | 光罩圖案之產生方法,儲存媒體,電腦,光罩之製造方法,曝光方法,製造用於生成光罩之裝置與系統的方法 | |
| KR102756367B1 (ko) | 노광 방법, 노광 장치, 물품제조방법 및 반도체 디바이스의 제조 방법 | |
| TW201017342A (en) | Exposure method and memory medium storing computer program | |
| JP2015068919A5 (enExample) | ||
| JP2010182718A (ja) | 露光方法及び露光システム | |
| TWI364780B (en) | Method for determining exposure condition and computer-readable storage media storing program for determining exposure condition | |
| CN111948910B (zh) | 曝光装置、曝光方法、决定方法和物品制造方法 | |
| JP2015040985A5 (enExample) | ||
| CN102937778A (zh) | 一种确定光刻照明系统中各元件之间匹配关系的方法 | |
| JP5398318B2 (ja) | 露光装置および電子デバイスの製造方法 | |
| JP2016170366A (ja) | 反射型露光マスク、その製造方法およびマスクパターン作製プログラム | |
| TWI772756B (zh) | 曝光裝置及物品製造方法 | |
| JP6288985B2 (ja) | リソグラフィ装置、および物品の製造方法 | |
| CN100580558C (zh) | 曝光方法 | |
| JPH05347239A (ja) | 投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法 | |
| JP2018092078A (ja) | 露光装置、露光方法、及び物品の製造方法 | |
| JP2010258145A (ja) | 半導体デバイスの製造方法 | |
| JP2010153922A5 (enExample) | ||
| TWI512390B (zh) | 微影系統、微影遮罩、及微影方法 |