JP2015040985A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015040985A5 JP2015040985A5 JP2013172069A JP2013172069A JP2015040985A5 JP 2015040985 A5 JP2015040985 A5 JP 2015040985A5 JP 2013172069 A JP2013172069 A JP 2013172069A JP 2013172069 A JP2013172069 A JP 2013172069A JP 2015040985 A5 JP2015040985 A5 JP 2015040985A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- mask blank
- manufacturing
- transfer
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 46
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 37
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 11
- 238000004088 simulation Methods 0.000 claims description 10
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 6
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 9
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims 4
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 23
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000006355 external stress Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013172069A JP6199115B2 (ja) | 2013-08-22 | 2013-08-22 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013172069A JP6199115B2 (ja) | 2013-08-22 | 2013-08-22 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015040985A JP2015040985A (ja) | 2015-03-02 |
| JP2015040985A5 true JP2015040985A5 (enExample) | 2016-07-14 |
| JP6199115B2 JP6199115B2 (ja) | 2017-09-20 |
Family
ID=52695175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013172069A Expired - Fee Related JP6199115B2 (ja) | 2013-08-22 | 2013-08-22 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6199115B2 (enExample) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI694304B (zh) * | 2015-06-08 | 2020-05-21 | 日商Ａｇｃ股份有限公司 | Ｅｕｖ微影術用反射型光罩基底 |
| JP6523864B2 (ja) * | 2015-08-20 | 2019-06-05 | 東芝メモリ株式会社 | インプリント装置およびインプリント方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5296260B2 (ja) * | 2010-03-30 | 2013-09-25 | Ｈｏｙａ株式会社 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
| WO2012102313A1 (ja) * | 2011-01-26 | 2012-08-02 | 旭硝子株式会社 | フォトマスクの製造方法 |
| JP4819191B2 (ja) * | 2011-04-14 | 2011-11-24 | Ｈｏｙａ株式会社 | マスクブランク用基板、マスクブランク、フォトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 |
-
2013
- 2013-08-22 JP JP2013172069A patent/JP6199115B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI641959B (zh) | 處理窗識別符 | |
| JP2015111283A5 (enExample) | ||
| TW201740211A (zh) | 微影裝置、器件製造方法及相關資料處理裝置及電腦程式產品 | |
| TWI457607B (zh) | 具有延長焦深之透鏡、該透鏡之設計方法以及具有該透鏡的光學系統 | |
| TW200807183A (en) | Method for reducing a wave front aberration, and computer program product | |
| TWI414822B (zh) | Projection optics, exposure apparatus and component manufacturing method | |
| TW200426495A (en) | Exposing mask, production method therefor and exposing method | |
| JP6463935B2 (ja) | 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 | |
| TW201716877A (zh) | 製程窗追蹤 | |
| JP2016018824A (ja) | インプリント装置及び物品の製造方法 | |
| TW201120582A (en) | Image-compensating addressable electrostatic chuck system | |
| TWI753479B (zh) | 用於組態微影設備之方法及電腦程式產品 | |
| TW200928602A (en) | Storage medium storing exposure condition determination program, exposure condition determination method, exposure method, and device manufacturing method | |
| JP2015040985A5 (enExample) | ||
| JP2015068919A5 (enExample) | ||
| US20190041631A1 (en) | Optical device, projection optical system, exposure apparatus using the same, and method for manufacturing article | |
| CN102495468A (zh) | 减小极紫外光刻投影系统变形的投影物镜结构优化方法 | |
| TW201137534A (en) | Calibration method and lithographic apparatus using such a calibration method | |
| JP2019132907A (ja) | 投影光学系、露光装置及び物品の製造方法 | |
| CN102937778B (zh) | 一种确定光刻照明系统中各元件之间匹配关系的方法 | |
| JP2010257998A (ja) | 反射投影光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法 | |
| TWI528416B (zh) | 用於已曝光基板的自動重工之微影群組、方法及控制單元 | |
| JP3958261B2 (ja) | 光学系の調整方法 | |
| JP5398318B2 (ja) | 露光装置および電子デバイスの製造方法 | |
| KR102678914B1 (ko) | 노광 장치 및 물품 제조 방법 |