JP2015063409A - 施釉装置 - Google Patents

Abstract

【課題】施釉後において成形体を乗せる回転載置部をより完全に洗浄することができ製品の仕上がりを向上させることができる施釉装置を提供することができる施釉装置を提供する。【解決手段】施釉装置は、鋳込み成形した衛生陶器の成形体Ｍを乾燥後、この成形体Ｍの表面に釉薬を塗布するための装置であり、この施釉装置は、施釉ブース内に配置された回転載置部を有し、回転載置部は、断面が略三角形状であり、成形体Ｍを載せるための複数本の棒状体５１ないし５４と、それぞれの棒状体５１ないし５４の長手方向に沿って洗浄水Ｗを噴射する洗浄水ノズル５５と、を備える。【選択図】図３

Description

本発明は、陶器の成形体を乾燥後、この成形体の表面に釉薬を塗布するための施釉装置に関する。

例えば、衛生陶器を製造する際の施釉工程は、鋳込み成形した便器等の衛生陶器の成形体を乾燥後に、噴霧ノズルからこの成形体の表面に釉薬を塗布する。この施釉工程では、施釉ブースには回転載置部（回転ロクロ）が設置されている。成形体は、この回転載置部上に載せて、回転載置部の回転停止位置を調整しながら、ティーチングによる動作制御が成されたロボットを用いて施釉作業を行う。回転載置部上の成形体は、施釉作業が終わるたびに入れ替わる。そのため、回転載置部は、施釉が終わって新たな成形体を載せる前に、その都度洗浄が行われる。

この回転載置部の洗浄では、成形体を載せている回転載置部の載置面に付着して残っている釉薬を洗い流すことで、新たに載せた成形体に対して残った釉薬が移ってしまって、そのまま焼成されてしまうのを防止している。
このため、回転載置部の洗浄を行うために、施釉位置と搬入位置と搬送位置に加えて洗浄位置を設定することで、回転載置部が、これらの施釉位置と搬入位置と搬出位置と洗浄位置にそれぞれ旋回して位置決めできるようにした施釉設備が、特許文献１に提案されている。

特開平９−３０８７５号公報

ところが、特許文献１に記載されている施釉設備は、洗浄位置において回転載置部を洗浄しようとするものであるが、回転載置部に対して、成形体の載置部分が大きな面積で接触して載っているので、当該載置領域については洗い流すことができないので、付着している釉薬を十分に洗浄して除去することができない。
そこで、本発明は、施釉後において成形体を乗せる回転載置部をより完全に洗浄することができ製品の仕上がりを向上させることができる施釉装置を提供することを目的とする。

本発明の施釉装置は、陶器の成形体を乾燥後、前記成形体の表面に釉薬を塗布する施釉装置であって、施釉ブース内に配置され、前記成形体を載せるための回転載置部と、釉薬塗布後の成形体を取り去った後において、施釉の際に、前記成形体と接触していた、前記回転載置部の上面の載置領域に対して、洗浄水を噴射する洗浄水ノズルとを有しており、 前記回転載置部の前記載置領域は、前記洗浄水ノズルにより洗浄水が噴射される範囲に適合するように形状と面積が決められて形成されていることを特徴とする。
上記構成によれば、成形体を載せる回転載置部において、成形体を載せた状態における載置領域が大きな面積となることがないようにされた載置領域を有しているので、成形体との接触部の面積を極力少なくして、載置領域のみを効果的に洗浄することができる。これにより、成形体が接触する載置領域を、釉薬を残すことなく効果的に洗浄することで、成形体が接触する載置領域に前の釉薬塗布の際の釉薬が残ってしまうことを無くし、新たに載せた成形体に対して、前の釉薬塗布の際の釉薬が付着することを防ぐことができる。

好ましくは、前記回転載置部は、垂直な回転軸の周りに回転可能に配置された基台と、該基台の上に設けられ、水平でかつ一方向に延びるように並列的に配置された複数の支持板部材とを備えていて、各支持板部材の長さ方向の両端側に、前記成形体を載せるために、前記洗浄ノズルによる洗浄水の噴射方向に沿って延びる棒状部材がそれぞれ配置されていて、各棒状部材は、上端部の幅を狭くし、あるいは線状とすることによって、前記洗浄水が噴射される範囲に適合するように形状と面積が決められた前記載置領域を形成するために、該棒状部材の縦断面がほぼ三角形状に近似した形態とされているとともに、これら各棒状部材に挟まれた間隔領域は凹状とされていて、この凹状部には、前記各棒状部材の延びる方向に向けて前記洗浄水ノズルが形成されていることを特徴とする。
上記構成によれば、前記棒状部材は、縦断面がほぼ三角形状であるから、その上に載せる成形体との載置領域が完全な線状もしくは細長い狭い面状となる。このため、該載置領域が極めて少なくて済み、洗浄して釉薬を洗い流すべき面積を極力小さすることができるので、その分釉薬の残存の程度が極めて少なくなり、次に載置される成形体を残り釉薬で汚染する可能性が効果的に抑制される。

好ましくは、前記回転載置部は、回転軸部により回転自在に保持され、前記洗浄水ノズルに前記洗浄水を供給する給水管は、前記回転軸部内に配置されていることを特徴とする。
上記構成によれば、回転載置部は、回転と停止を繰り返して施釉されるのであるが、給水管がねじれないように設置できる。また、給水管は、回転軸部内に配置されているので、給水管の収まりがよく、給水管に釉薬が付着するのを防げる。
好ましくは、前記棒状体は、ゴムで形成されていることを特徴とする。
上記構成によれば、成形体が脆弱な成形体であっても成形体はダメージを受けず、棒状体から金属粉が生じることもないので、鉄粉のような金属粉が施釉時に混入するのを防ぐことができる。

好ましくは、前記施釉ブース内は、仕切りにより２つの個別ブースに仕切られ、各前記個別ブースにおいて１台のロボットにより施釉が行われることを特徴とする。
上記構成によれば、一方の個別ブース内の回転載置部の洗浄が行われている場合に、他方の個別ブース内の回転載置部では、成形体の施釉処理が行えるので、１台のロボットを休ませることなく稼働できるので、生産性が高まる。

好ましくは、前記ロボットには、２本の施釉ノズルが設置され、各前記施釉ノズルは、異なる色の前記釉薬が噴射可能であり、前記２つの個別ブースでは、相互に異なる色の施釉が行われることを特徴とする。
上記構成によれば、１つのロボットにより、多色の施釉処理ができることから、衛生陶器の生産性が高まる。

本発明は、施釉後において成形体を乗せる回転載置部をより完全に洗浄することができ製品の仕上がりを向上させることができる施釉装置を提供することができる施釉装置を提供することができる。

本発明の施釉装置の好ましい実施形態を示す斜視図。 図１に示す施釉装置を示す平面図。 図１と図２に示す第１回転載置部と第２回転載置部を示す斜視図。 図３において矢印Ｆ方向から見た第１回転載置部と第２回転載置部の側面図。 本発明の別の実施形態を示す図。

以下に、本発明の好ましい実施形態を、図面を参照して詳しく説明する。
尚、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるものではない。

図１は、本発明の施釉装置の好ましい実施形態を示す斜視図である。図２は、図１に示す施釉装置を示す平面図である。図１と図２に示す施釉装置１は、例えば１つの施釉ブース２と、１台の施釉ロボット３を有している。施釉装置１は、鋳込み成形した衛生陶器の成形体Ｍを乾燥後、この成形体Ｍの表面に釉薬を塗布するための装置である。

施釉装置１は、鋳込み成形した便器等の衛生陶器の成形体Ｍを乾燥する乾燥工程と、施釉後の成形体を焼成する焼成工程と、の間に設けられた施釉工程に配置されている。乾燥工程では、鋳込み成形した衛生陶器の成形体Ｍを乾燥室に入れて乾燥した後に、成形体Ｍの生素地の点検を行う。焼成工程では、施釉後の成形体Ｍを、焼き上げる。
図１と図２に示す施釉ブース２と施釉ロボット３は、シールド室４により囲まれており、シールド室４は、施釉ロボット３が釉薬を成形体Ｍに施釉処理する際に、釉薬や音が外部に漏れるのを防いでいる。衛生陶器の成形体Ｍは、例えば便器であるが、特に限定されない。

図１と図２に示すように、施釉ブース２は、第１個別ブース１１と、第２個別ブース１２を有している。この第１個別ブース１１と第２個別ブース１２は、仕切り部５により互いに仕切られていることで、別々の区画された空間として形成されている。施釉ブース２は、左右の側面部６，７と、中央の仕切り部５と、背面部８と、天井部９と、床面部１０を有している。
施釉ブース２の第１個別ブース１１は、左側の側面部６と、仕切り部５と、背面部８と、天井部９と、床面部１０により区画して形成されている。同様にして、施釉ブース２の第２個別ブース１２は、右側の側面部７と、仕切り部５と、背面部８と、天井部９と、床面部１０により区画して形成されている。

第１個別ブース１１の床面部１０には、第１回転載置部２１が設置されている。第２個別ブース１２の床面部１０には、第２回転載置部２２が設置されている。第１個別ブース１１と第２個別ブース１２では、１台の施釉ロボット３により異なる色の施釉が行われるようになっている。このため、第１個別ブース１１の内部と第２個別ブース１２の内部は、仕切り部５により区分けされていることで、互いに異なる色の釉薬が混じらないようになっている。

図１に示すように、第１個別ブース１１は、開閉扉１１Ｐを有している。この開閉扉１１Ｐは、施釉前の成形体Ｍを第１回転載置部２１の上に載せたり、施釉済みの成形体Ｍを第１回転載置部２１から外部に取り出す際に開くようになっている。同様にして、第２個別ブース１２は、開閉扉１２Ｐを有している。この開閉扉１２Ｐは、施釉前の成形体Ｍを第２回転載置部２２の上に載せたり、施釉済みの成形体Ｍを第２回転載置部２２から外部に取り出す際に開くようになっている。
開閉扉１１Ｐ、１２Ｐのガイドレール（図示せず）は、成形体Ｍを出し入れする際に開閉扉１１Ｐ、１２Ｐを開閉するために必要である。この開閉扉１１Ｐ、１２Ｐのガイドレールとしては、金属製ではない樹脂製のレールを用いている。これにより、第１個別ブース１１の内部と第２個別ブース１２の内部に、ガイドレールから金属粉が発生しないようにできるので、金属粉が各色の釉薬に混じらない。

図１と図２に示す１台の施釉ロボット３は、例えばアーム型の多軸ロボットであり、施釉ロボット３の動作制御は、制御部１００の指令により行われる。制御部１００は、１台の施釉ロボット３と、第１回転載置部２１と第２回転載置部２２は、施釉動作と回転載置部の回転動作とを同期して動作させることで、第１回転載置部２１上の成形体Ｍと第２回転載置部２２上の成形体Ｍに対して、１台の施釉ロボット３を用いて、それぞれ別の色の釉薬を施釉可能になっている。

施釉ボット３のアーム先端部には、例えば２本の施釉ノズル３１，３２が設置されている。図１に示すように、施釉ロボット３は、例えばＲ１方向、Ｒ２方向、Ｒ３方向、Ｒ４方向、Ｒ５方向、Ｒ６方向に旋回可能にすることで、施釉ノズル３１，３２は、成形体Ｍの表面の各部分に対して、適切に所定の色の釉薬を噴射して塗布することができる小型の噴射ノズルである。これらの施釉ノズル３１，３２は、異なる色の釉薬（例えば、黄色の釉薬とピンク色の釉薬）を噴射することができる。

例えば、第１個別ブース１１の内部の成形体Ｍには、施釉ノズル３１から黄色の釉薬を噴射することで、第１個別ブース１１の成形体Ｍに黄色の釉薬の施釉が可能であり、第２個別ブース１２の内部の成形体Ｍには、施釉ノズル３２からピンク色の釉薬を噴射することで、第２個別ブース１２の成形体Ｍにピンク色の釉薬の施釉が可能である。

図１に示す２本の施釉ノズル３１，３２としては、交換可能にするために着脱自在であり、成形体のリムの裏側等の狭い箇所にも接近して確実に施釉できるようにするために、小型のノズルを使用している。しかも、施釉ノズル３１，３２は、金属製ではなく、好ましくはセラミックス製のノズルを用いている。これにより、第１個別ブース１１の内部と第２個別ブース１２の内部に、施釉ノズル３１，３２から金属粉が発生しないようにすることができるので、金属粉が釉薬に混じらない。

図３は、図１と図２に示す第１回転載置部２１と第２回転載置部２２を示す斜視図である。図４は、図３において矢印Ｆ方向から見た第１回転載置部２１と第２回転載置部２２の側面図である。
第１回転載置部２１と第２回転載置部２２は、回転ロクロともいい、第１回転載置部２１と第２回転載置部２２は同じ構造を有している。図３に示すように、第１回転載置部２１と第２回転載置部２２は、基台４０と、２本の平板状の支持板部材４１，４２と、４つの棒状体５１，５２，５３，５４と、４つの洗浄水ノズル５５と、回転軸部８０等を有している。

回転軸部８０は、ベース８１と軸部分８２を有しており、ベース８１は、床面部１０の固定された固定部８３に対して回転可能に取り付けられている。ベース８１は軸部分８２の下端部に固定され、基台４０は軸部分８２の上端部に固定されている。軸部分８２は円筒状の部材であり、内部に収容空間を有している。制御部１００がモータ８４を駆動することで、モータＭは、ベース８１と軸部分８２と基部４０を、固定部８３に対して、Ｓ１方向と、Ｓ１方向とは反対のＳ２方向に回転して、任意の回転角度の位置でインデックス可能である。

図３には、本実施形態における回転載置台の洗浄機構の構成例が示されている。
本実施形態では、回転載置部２２の成形体を載せる領域は、後述する洗浄水ノズルにより洗浄水が噴射される範囲に適合するような形状と面積とされていて、成形体を載置して支持できる最小限の載置面積と、洗浄水を噴射した後で、洗浄残りができるだけ出ないような形状となるようにされている。
具体的には、以下のように構成されている。
図３に示すように、基台４０の上には、２本の支持板部材４１，４２が、互いに間隔を離して平行にしかも水平に固定されている。支持板部材４１，４２は、一方向に長い長方形状の板部材である。一方の支持板部材４１の長さ方向の両端部上面には、それぞれ棒状体５１，５２が互いに間隔領域４１Ｄを離して固定されている。同様にして、他方の支持板部材４２の上面にも、それぞれ棒状体５３，５４が互いに間隔領域４２Ｄを離して固定されている。これにより各間隔領域４１Ｄ、４２Ｄは、棒状体が存在しない分、凹部となっている。４つの棒状体５１，５２，５３，５４は、好ましくは金属材料以外で、その上に載置される成形体Ｍに傷をつけないような弾性変形可能な材質、例えばゴムにより形成されている。棒状体５１ないし５４は、ゴムで形成されているので、成形体Ｍが脆弱な成形体であっても成形体Ｍはダメージを受けない。しかも、棒状体５１ないし５４から金属粉が生じることもないので、鉄粉のような金属粉が施釉時に混入するのを防げる。

４つの棒状体５１，５２，５３，５４は、その上に成形体を載せるものであり、後述する洗浄水ノズルによる洗浄水の噴射方向に沿って長くなるように構成されている。これら棒状体５１，５２，５３，５４は、それぞれ長手方向の斜面部分６０，６１と短手方向の斜面部６２，６３を有している。斜面部分６０，６１を縦方向（垂直方向）の断面で見ると、ほぼ三角形状に形成されている。これにより、４つの棒状体５１，５２，５３，５４の頂点部分は、成形体Ｍを載置する際に、成形体Ｍの底面部を支えるための載置領域としての接触部６５となっている。この接触部６５は、ほぼ尖った峰部分であり、支持板部材４１，４２の長手方向に平行に形成されている。すなわち、載置領域としての接触部６５は、成形体に釉薬の残りが付着することを極力防止するために、最小限の狭い面積とされることが好ましく、しかも、洗浄水により確実に洗浄される形態が好ましい。このため、洗浄水が噴出される方向に連続して、あるいは断続的に延びていて、成形体との接触部６５は、上記方向に沿って、一体に連続して、もしくは断続的に連続するように設けた、線状か、きわめて狭い平面状に、設けることが適しており、鋭角な稜線でなくても凸状の曲面であっても良い。

これにより、成形体Ｍは、成形体Ｍの施釉処理の際に、４つの棒状体５１，５２，５３，５４の接触部６５を用いて、最小限の接触面積により棒状体５１，５２，５３，５４の上に載置することができる。また、成形体Ｍの施釉処理をする際には、第１回転載置部２１と第２回転載置部２２は、成形体Ｍを載せたまま回転するが、ゴム製の接触部６５は金属材料に比べて摩擦力が大きいので、成形体Ｍの位置ずれを発生させること無く成形体Ｍの底面部をしっかりと保持することができる。

図３と図４に示すように、支持板部材４１の間隔領域４１Ｄには、２つの洗浄水ノズル５５がＺ方向（上方向）に突出して設けられている。支持板部材４２の間隔領域４２Ｄには、２つの洗浄水ノズル５５がＺ方向（上方向）に突出して設けられている。これらの４つの洗浄水ノズル５５は、ほぼＬ字型を有しており、各ノズル先端部５５Ｓは、対応する位置に棒状体５１，５２，５３，５４の長さ方向に延びていて、これに対応して水平に向いている。
これにより、棒状体５１，５２，５３，５４の接触部６５、すなわち成形体Ｍの底面部を直接載せる部分が、ノズル先端部５５Ｓから噴射される洗浄水により、限定して効果的に洗浄することができる。このため、前の施釉処理に用いられた釉薬が、この棒状体５１，５２，５３，５４の特に接触部６５に残ることを防ぐことができる。なお、図４に示す斜面部６３は、洗浄水ノズル５５を避けるために、段差部分６３Ｂを有して凹部を形成しており、成形体Ｍを回転載置部に載せた時に干渉しないよう洗浄水ノズルが退避できる。

図４に示すように、２つ洗浄水ノズル５５，５５の下端部は、継手７０を介して給水管７１の上端部に接続されている。残りの２つ洗浄水ノズル５５，５５の下端部も、継手７０を介して給水管７１の上端部に接続されている。給水管７１の下端部は、継手７２を介して給水管７３の上端部に接続されている。給水管７３の下端部は、ロータリジョイント７４を介して、給水管７５の上端部に接続されている。

図４に示すこのロータリジョイント７４は、第１回転載置部２１あるいは第２回転載置部２２がＳ１方向あるいはＳ２方向に回転する際に、給水管のねじれを防止するために設けられている。ロータリジョイント７４は、回転部７５と固定部７６を有しており、回転部７５は、給水管７３の下端部に取り付けられている。固定部７６は、給水管７５の上端部に取り付けられている。給水管７５の下端部は、連結部７７に接続されており、連結部７７は、エアー供給管７８と給水管７９に接続されている。図３に例示するように、洗浄水ノズル５５からエアー供給管７８と給水管７９の一部までは、回転軸部８０の軸部分８２内に収容するようにして配置されている。

図３に示すように、エアー供給管７８は、バルブ９０を介してエアー供給源９１に接続され、給水管７９は、バルブ９２を介して水供給源９３に接続されている。バルブ９０，９２の開閉は、制御部１００の制御により行われる。なお、図４に示す洗浄水ノズル５５から噴射された洗浄水Ｗと、流し落とされた釉薬は、図３に示す回収部５９に回収できるようになっている。これにより、回収された洗浄水Ｗと釉薬は、所定の処理を行って、再利用することが可能となる。

次に、上述した施釉装置１の動作例を説明する。
図１と図２において、第１個別ブース１１では、開閉扉１１Ｐを開けて、図示しないロード・アンロード装置により成形体Ｍを第１回転載置部２１の上に載せるとともに、第２個別ブース１２では、開閉扉１２Ｐを開けて、図示しないロード・アンロード装置により成形体Ｍを第２回転載置部２２の上に載せる。
これにより、成形体Ｍは、図３に示すように、第１回転載置部２１の４つの棒状体５１，５２，５３，５４の接触部６５の上に直接載せるとともに、第２回転載置部２２の４つの棒状体５１，５２，５３，５４の接触部６５の上に直接載せる。そして、制御部１００の指令により、開閉扉１１Ｐ、１２Ｐを閉じる。

まず、制御部１００は、施釉ロボット３と第１回転載置部２１とを、施釉動作と回転載置部の回転動作とを同期して動作させることで、それぞれの施釉前の成形体Ｍに対して、予め定めた色の釉薬、例えば黄色の釉薬を施釉することができる。すなわち、施釉ロボット３は、制御部１００の指令により、第１回転載置部２１側に旋回動作して、施釉ノズル３１から噴射する予め定めた例えば黄色の釉薬を、第１回転載置部２１上の施釉前の成形体Ｍの表面に噴射して塗布する。この場合、第１回転載置部２１は、施釉前の成形体Ｍの所定の部位に、例えば黄色の釉薬を塗布できるように、施釉ロボット３の動作に同期して、Ｓ１方向とＳ２方向に回転してインデックスされる。

第１回転載置部２１上の成形体Ｍに対する施釉処理が終わると、次に、制御部１００は、施釉ロボット３と第２回転載置部２２とを、同期して動作させることで、施釉前の成形体Ｍに対して、予め定めた別の色の釉薬、例えばピンク色の釉薬を施釉することができる。すなわち、施釉ロボット３は、制御部１００の指令により、第２回転載置部２２側に旋回動作して、施釉ノズル３２から噴射する予め定めたピンク色の釉薬を、第２回転載置部２２上の施釉前の成形体Ｍの表面に噴射して塗布する。この場合、第２回転載置部２２は、施釉前の成形体Ｍの所定の部位に予め定めたピンク色の釉薬を塗布できるように、施釉ロボット３の動作に同期して、Ｓ１方向とＳ２方向に回転してインデックスされる。

このようにして、施釉ロボット３が、第２回転載置部２２上の施釉前の成形体Ｍに対してピンク色の釉薬の塗布を行っている間には、この第２載置部２２における施釉作業と同時に、制御部１００の指令により、第１回転載置部２１上の施釉済みの成形体Ｍは、第１回転載置部２１から除去して、第１回転載置部２１の棒状体５１から５４の洗浄作業を始める。すなわち、第１個別ブース１１では、開閉扉１１Ｐを開けて、図示しないロード・アンロード装置により施釉済みの成形体Ｍを第１回転載置部２１の上から排出して、次のようにして第１回転載置部２１の洗浄を始める。

図４に示すように、第１回転載置部２１の４つの棒状体５１，５２，５３，５４の接触部６５を、各洗浄水ノズル５５から噴射される洗浄水Ｗを用いて、前の施釉処理で残っている釉薬を洗浄する。図３に示す制御部１００は、バルブ９０，９２を開いて、図５に例示するように、洗浄水Ｗをエアーの力を用いて給水管７５，７３，７１を通じて各洗浄水ノズル５５から噴射させる。この噴射された洗浄水Ｗは、４つの棒状体５１，５２，５３，５４の接触部６５を直接洗浄することができるので、接触部６５には先に使用された釉薬を、確実に洗い流すことができる。

次に、第２回転載置部２２上の成形体Ｍに対する施釉処理が終わると、制御部１００は、施釉ロボット３と第１回転載置部２１とを、再び同期して動作させることで、次の施釉前の成形体Ｍに対して、予め定めた青色の釉薬を施釉することができる。施釉ロボット３は、制御部１００の指令により、再び第１回転載置部２１側に旋回動作して、施釉ノズル３１から噴射する青色の釉薬を第１回転載置部２１上の施釉前の成形体Ｍの周囲に噴射して塗布する。この場合、第１回転載置部２１は、施釉前の成形体Ｍの所定の部位に青色の釉薬を塗布できるように、施釉ロボット３の動作に同期して、Ｓ１方向とＳ２方向に回転してインデックスされる。

このようにして、施釉ロボット３が、第１回転載置部２１上の成形体Ｍに対して釉薬の塗布を行っている際には、この第１載置部２１における施釉作業と同時に、制御部１００の指令により、第２回転載置部２２上の施釉済みの成形体Ｍは、第２回転載置部２２から除去して、第２回転載置部２２の棒状体５１から５４の洗浄作業を行うことができる。すなわち、第２個別ブース１２では、開閉扉１２Ｐを開けて、図示しないロード・アンロード装置により施釉済みの成形体Ｍを第２回転載置部２２の上から排出して、次のようにして第２回転載置部２２の洗浄を始める。

図４に示すように、第２回転載置部２２の４つの棒状体５１，５２，５３，５４の接触部６５を、各洗浄水ノズル５５から噴射される洗浄水Ｗを用いて、前の施釉処理で残っている釉薬を洗浄する。図３に示す制御部１００は、バルブ９０，９１を開いて、洗浄水Ｗをエアーの力を用いて給水管７５，７３，７１を通じて各洗浄水ノズル５５から噴射させる。この噴射された洗浄水Ｗは、４つの棒状体５１，５２，５３，５４の接触部６５を直接洗浄することができるので、接触部６５には先に使用された釉薬を、確実に洗い流すことができる。

以上説明したように、一方の回転載置部では施釉前の成形体Ｍに対して施釉処理を行い、他方の回転載置部では施釉済みの成形体Ｍを取り除いて回転載置部の洗浄を行うサイクルを繰り返すことができる。
これにより、第１回転載置部２１の接触部６５と第２回転載置部２２の接触部６５は、施釉作業後に必ず洗浄することで、前の施釉処理における釉薬が接触部６５には残らないようにきれいにすることができる。このため、次の施釉前の成形体Ｍを棒状体５１，５２，５３，５４の接触部６５上に載せて釉薬を塗布しようとする際には、棒状体５１，５２，５３，５４の接触部６５から余分な釉薬が、次に載せる施釉前の成形体Ｍ側に付着するおそれが無くなる。

以上説明した動作例では、１つの施釉ロボット３を用いるだけで、第１個別ブース１１の内部の成形体Ｍには、例えば青色の釉薬を施釉可能であり、第２個別ブース１２の内部の成形体Ｍには、例えばピンク色の釉薬を施釉可能である。なお、釉薬の色は、青色やピンク色に限らず、赤色や黄色等を適宜選択することができる。
また、図４に示す洗浄水ノズル５５から噴射された洗浄水Ｗと、流し落とされた釉薬は、図３に示す回収部５９により回収できる。これにより、回収された洗浄水Ｗと釉薬は、所定の処理を行って、再利用することができる。

本発明の実施形態の施釉装置１は、鋳込み成形した衛生陶器の成形体Ｍを乾燥後、この成形体Ｍの表面に釉薬を塗布する施釉装置である。この施釉装置１は、施釉ブース内に配置された回転載置部１１，１２を有し、回転載置部１１，１２は、断面が略三角形状であり、成形体Ｍを載せるための複数本の棒状体５１ないし５４と、それぞれの棒状体５１ないし５４の長手方向に沿って洗浄水Ｗを噴射する洗浄水ノズル５５とを備える。

これにより、成形体Ｍが接触する接触部６５の面積を極力少なくして、接触部６５のみを効果的に洗浄することができる。すなわち、成形体Ｍを支える棒状体５１ないし５４の断面が略三角形状であるので、成形体Ｍが接触する接触部６５の面積を極力少なくすることができる。しかも、洗浄水ノズル５５が棒状体５１ないし５４の長手方向に沿って洗浄水Ｗを噴射するので、成形体Ｍが接触する接触部６５を、釉薬を残すことなく効果的に洗浄することで、成形体Ｍが接触する接触部６５に前の釉薬塗布の際の釉薬が残ってしまうことを無くし、新たに載せた成形体Ｍに対して、前の釉薬塗布の際に残っている釉薬が付着することを防ぐことができる。成形体Ｍに施釉する際に、成形体Ｍが接触する領域を極力少なくすることができる。

第１回転載置部２１と第２回転載置部２２は、回転軸部８０により回転自在に保持され、洗浄水ノズル５５に洗浄水Ｗを供給する給水管は、回転軸部８０内に配置されている。これにより、第１回転載置部２１と第２回転載置部２２は、回転と停止を繰り返して施釉されるのであるが、給水管がねじれない。また、給水管は、回転軸部８０内に配置されているので、給水管の収まりがよく、しかも給水管に釉薬が付着するのを防げる。

棒状体５１ないし５４は、ゴムで形成されている。これにより、成形体Ｍが脆弱な成形体であっても成形体Ｍはダメージを受けず、棒状体５１ないし５４から金属粉が生じることもないので、鉄粉のような金属粉が施釉時に混入するのを防ぐことができる。

施釉ブース２内は、仕切りにより２つの個別ブース１１，１２に仕切られ、各個別ブース１１，１２において１台の施釉ロボット３により施釉が行われる。これにより、例えば、一方の個別ブース内の回転載置部の洗浄が行われている場合に、他方の個別ブース内の回転載置部では、成形体Ｍの施釉処理が行えるので、施釉ロボット３を休ませることなく稼働できるので、生産性が高まる。

施釉ロボット３には、２本の施釉ノズル３１，３２が設置され、各施釉ノズル３１，３２は、異なる色の釉薬が噴射可能であり、２つの個別ブースでは、相互に異なる色の施釉が行われる。これにより、１つの施釉ロボット３により、多色の施釉処理ができることから、衛生陶器の生産性が高まる。

図４に示す斜面部６３は、洗浄水ノズル５５を避けるために、段差部分６３Ｂを有している。しかしこれに限らず、図５に示す本発明の別の実施形態では、斜面部６３は、洗浄水ノズル５５を避けることができる単純な傾斜面になっている。

ところで、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明は様々な修正と変更が可能であり、特許請求の範囲に記載された範囲で種々の変形が可能である。
本発明は、「衛生陶器」の施釉に限らず、種々の種類の陶器でなる成形体への施釉を行う装置に適用できる。
図１と図２に示す施釉ブース２は、第１個別ブース１１と、第２個別ブース１２を有しており、第１個別ブース１１と第２個別ブース１２は、仕切り部５により互いに仕切られている。しかしこれに限らず、施釉ブース２は、３つ以上の個別ブースに仕切られていて、１台の施釉ロボット３が３つ以上の個別ブースに対応して用いられるようにしても良い。製造の対象となる衛生陶器は、便器に限らずその他の種類の物であっても良い。
上述した実施形態については、その一部の構成についてこれを省略し、あるいは実施形態の説明では触れていない他の構成と組み合わせて実施することも可能であり、このような技術も本発明の範囲に包含される。

１・・・施釉装置
２・・・施釉ブース
３・・・施釉ロボット（ロボット）
１１・・・第１個別ブース
１２・・・第２個別ブース
２１・・・第１回転載置部
２２・・・第２回転載置部
４１・・・支持板部材
４２・・・支持板部材
５１ないし５５・・・棒状体
５５・・・洗浄水ノズル
６５・・・棒状体の接触部
８０・・・回転軸部
Ｗ・・・・洗浄水
Ｍ・・・・成形体

Claims (6)

1. 陶器の成形体を乾燥後、前記成形体の表面に釉薬を塗布する施釉装置であって、
   施釉ブース内に配置され、前記成形体を載せるための回転載置部と、
   釉薬塗布後の成形体を取り去った後において、施釉の際に、前記成形体と接触していた、前記回転載置部の上面の載置領域に対して、洗浄水を噴射する洗浄水ノズルと
   を有しており、
   前記回転載置部の前記載置領域は、前記洗浄水ノズルにより洗浄水が噴射される範囲に適合するように形状と面積が決められて形成されている
   ことを特徴とする施釉装置。
2. 前記回転載置部は、垂直な回転軸の周りに回転可能に配置された基台と、該基台の上に設けられ、水平でかつ一方向に延びるように並列的に配置された複数の支持板部材とを備えていて、各支持板部材の長さ方向の両端側に、前記成形体を載せるために、前記洗浄ノズルによる洗浄水の噴射方向に沿って延びる棒状部材がそれぞれ配置されていて、各棒状部材は、上端部の幅を狭くし、あるいは線状とすることによって、前記洗浄水が噴射される範囲に適合するように形状と面積が決められた前記載置領域を形成するために、該棒状部材の縦断面がほぼ三角形状に近似した形態とされているとともに、これら各棒状部材に挟まれた間隔領域は凹状とされていて、この凹状部には、前記各棒状部材の延びる方向に向けて前記洗浄水ノズルが形成されていることを特徴とする請求項１に記載の施釉装置。
3. 前記回転載置部は、回転軸部により回転自在に保持され、前記洗浄水ノズルに前記洗浄水を供給する給水管は、前記回転軸部内に配置されていることを特徴とする請求項１または２に記載の施釉装置。
4. 前記棒状体は、ゴムで形成されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の施釉装置。
5. 前記施釉ブース内は、仕切りにより２つの個別ブースに仕切られ、各前記個別ブースにおいて１台のロボットにより施釉が行われることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の施釉装置。
6. 前記ロボットには、２本の施釉ノズルが設置され、各前記施釉ノズルは、異なる色の前記釉薬が噴射可能であり、前記２つの個別ブースでは、相互に異なる色の施釉が行われることを特徴とする請求項５に記載の施釉装置。

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