JP2015059569A - 真空ポンプを有する装置、及び、真空ポンプ内に配置された、干渉磁場を生成する少なくとも１つの部品の磁場を補正するための方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ロータとこのロータを駆動させるために設けられている駆動モータとを有する真空ポンプを備える装置に関して、真空ポンプ内に配置された、干渉磁場を生成する少なくとも１つの部品を補正する。【解決手段】真空ポンプを備える装置では、少なくとも１つの補正コイル４６，４８，５０が、ターボ分子ポンプ１の駆動モータ４４などの部品によって生成された干渉磁場を補正するために、少なくとも１つの補正コイルが、特に３つの補正コイル４６，４８，５０が、真空ポンプの少なくとも１つの部品の干渉磁場を補正する。【選択図】図１

Description

本発明は、真空ポンプを有する装置、及び真空ポンプ内に配置された、干渉磁場を生成する少なくとも１つの部品、例えば磁石軸受及び／又は駆動モータの磁場を補正するための方法に関する。

数十年前から、ターボ分子ポンプが、真空技術において高真空及び超高真空を発生させるために使用されている。ロータが、そのロータ軸上に沿って互いに離間された複数の羽根車を有し、ステータ側から張り出している複数の羽根車が、そのロータ軸上に沿って互いに離間されたこれらの羽根車間に配置されていることによって、当該真空が発生される。

一般に、当該ロータは、半径方向に配置されている少なくとも１つの磁石軸受によってターボ分子ポンプ内に回転可能に軸支される。多くの場合、この磁石軸受は、軸方向と半径方向との安定化を保証する第２軸受、例えばころ軸受によって軸方向に支持される。

当該ターボ分子ポンプは、例えば独国特許出願公開第１０２０１００５２６６０号明細書から公知である。

一般に、当該磁石軸受は、コイル状の構造を成す複数のリングから構成される。当該個々のリングの不均質性が、可能な限り相殺するように、これらのリングの均質性が、ターボ分子ポンプ内に取り付ける前に定量化され、これらのリングが、経験にしたがって互いに調整される。

しかしながら、多くの場合、これらの不均質性は、完全に相殺され得ない。その結果、合成磁場が、ターボ分子ポンプの稼働時に発生する。

実際に知られている多くの用途では、当該合成磁場は邪魔にならない。何故なら、当該合成磁場は、比較的小さいからである。

しかしながら、ターボ分子ポンプが、高感度の機器で、例えば、電子顕微鏡の検査チャンバを排気するために使用される場合は、例えば磁石軸受及び／又は駆動モータによって生成された干渉磁場が、いわゆる画像ぼやけを発生させる、すなわち、画像の鮮明さを若干損なわせる。

独国特許出願公開第１０２０１００５２６６０号明細書

本発明の技術的課題は、少なくとも１つの部品、例えば磁石軸受及び／又は駆動モータの生成し得る干渉磁場が補正（相殺）されるターボ分子ポンプを提供すること、及び、ターボ分子ポンプ内に配置された少なくとも１つの部品、例えば磁石軸受及び／又は駆動モータの干渉磁場を補正するための、簡単に且つ低コストに実行される方法を提供することにある。

この技術的課題は、請求項１に記載の特徴を有する真空ポンプと、請求項１０に記載の特徴を有する方法とによって解決される。

ロータとこのロータを駆動させるために設けられている駆動モータとを有する真空ポンプを備える本発明の装置は、少なくとも１つの補正コイルが、ターボ分子ポンプの部品によって生成された干渉磁場を補正するために設けられていることを特徴とする。

上記の干渉磁場を生成する部品は、例えば、ロータを回転可能に軸支する少なくとも１つの磁石軸受である得る。当該干渉磁場は、ロータを駆動させる駆動モータによっても生成され得る。しかしながら、本発明の用途は、これらの部品に限定されない。

調整可能な振幅と方向とから成る磁場ベクトル

が、少なくとも１つの補正コイルによって生成される。当該少なくとも１つの追加のコイルが配置されているために、調整可能な振幅と方向とから成る磁場ベクトル

が、当該コイル中の電流によってこのコイルで生成される。真空ポンプの少なくとも１つの部品の干渉磁場が、当該磁場ベクトルによって補正される。

好ましくは、上記補正装置は、ターボ分子ポンプの駆動電子装置から回転同期する補正基本周波数と第１次から第ｎ次までの高調波（ｎ≧２）とを導き出す補正装置として構成されていることが提唱されている。

本発明の好適な実施の形態によれば、３つのコイルが、真空ポンプの少なくとも１つの部品の干渉磁場を補正するために配置されている。

当該３つのコイルが、各空間方向（Ｘ，Ｙ，Ｚ）に配置されているときに、補正を実行することが、これらのコイルによって可能である。何故なら、干渉磁場の磁場ベクトルは、配向ベクトルであるからである。

これらのコイルの磁場が、互いに平行に配向されていないように、すなわち３つの補正コイルの磁場が、好ましくは３つの空間方向に互いに配向されているように、これらのコイルは、好ましくは互いに配置されている。本発明の特に好適な実施の形態によれば、当該３つのコイルがそれぞれ、互いに９０°の角度を成して配置されている。好ましくは、１つのコイルが、そのコイル面を回転軸に対して垂直に配置されていて、その他の２つのコイルがそれぞれ、当該第１コイルとその他方のコイルとに対して垂直に配置されている。すなわち、好ましくは、第２コイルが、回転軸に対して平行に配置されていて、第３コイルが、当該第１コイルと当該第２コイルとのそれぞれに対して９０°だけ回転されて配置されている。

干渉磁場を一平面内だけで補正することで十分である場合もある。しかしながら、干渉磁場が、ほぼ完全に補正されるならば、すなわち、干渉磁場が、３つ又は全ての空間方向Ｘ，Ｙ，Ｚに補正可能であるように、少なくとも１つの補正コイルが、各空間方向Ｘ，Ｙ，Ｚに付設されるならば、より良好な結果が得られる。

この場合、ただ１つの補正コイルを各空間方向Ｘ，Ｙ，Ｚ又は少なくとも１つの空間方向Ｘ，Ｙ，Ｚに付設することが可能である。少なくとも１つの別のコイルが、特に同じ軸上で当該各補正コイルに付設されてもよい。この場合には、補正コイル対が構成される。したがって、当該発明の実施の形態では、少なくとも１つの補正コイル対が、各空間方向に付設されている。その結果、干渉磁場が、全ての空間方向Ｘ，Ｙ，Ｚで補正可能である。

１つの補正コイル対の１つの補正コイルだけが給電され得るように、その補正コイル対が、接続されてもよく及び／又は制御可能である。

別の好適な実施の形態によれば、少なくとも１つの補正コイルが、導電体の少なくとも１つの巻線から形成されている。当該構成は、補正コイルを製作するための最も簡単な態様である。

別の好適な実施の形態によれば、少なくとも１つのセンサが、干渉磁場を検出又は測定するために設けられている。干渉磁場が検出されると、当該干渉磁場が、ほぼ又は完全に補正されるように、少なくとも１つの補正コイルが制御され得る。

本発明の別の好適な実施の形態によれば、補正磁場を生成するための補正コイルのほかに、少なくとも１つの補正コイル用の少なくとも１つの電源が設けられている。さらに、検出及び／又は測定される干渉磁場に応じて、少なくとも１つのコイル中の電流を制御及び／又は調整するための補正装置を設けることが重要である。

対応する補正磁場を生成するため、好ましくは、調整可能な振幅と方向とから成る磁場ベクトル

が、少なくとも１つのコイルによって生成される。

好ましくは、当該補正装置が、真空ポンプの駆動電子装置から回転同期する補正基本周波数と第１次から第ｎ次までの高調波（ｎ≧２）とを導き出すように、この補正装置は構成されている。

重要な補正のために必要である所定の高調波が導き出される。

当該補正電子装置は、誘導コイルによって回転同期する補正基本周波数を導き出してもよい。合成磁場が、少なくとも１つのコイル中の電流の振幅と位相とを変化させることによって最小にされ得る。したがって、電子顕微鏡における移動した電荷の軌跡上で発生する干渉磁場も、同様に最小にされ得る。

当該コイル中の電流の振幅と位相との変化は、下記のように表される：

当該方程式は、Ｚ方向に対して成立し、同じ方程式が、Ｘ方向とＹ方向にも成立する必要がある。

上記の零補正又は最小補正は、自動的に実行されるか、又は上記のパラメータを適切に変化させ、磁場センサを用いてその結果として生成された干渉磁場を検出することによって実行されるか、又は機器、例えば電子顕微鏡の画像ぼやけの程度を観察することによって実行される。

好ましくは、位相基準を検出するためのセンサが設けられている。

すなわち、補正磁場が、干渉磁場の干渉信号に対して１８０°だけ移相されているように、当該磁場は補正される必要がある。

既に説明したように、干渉磁場を生成する部品は、例えば、磁石軸受として又は電気モータとして構成されている。当該磁石軸受は、永久磁石軸受として又は能動磁石軸受として構成され得る。真空ポンプ内のその他の部品の干渉磁場を補正することも可能である。

本発明の別の好適な実施の形態によれば、少なくとも１つの補正コイルが、真空ポンプ内に配置されている、及び／又は真空ポンプに対して配置されている。これにより、本発明の装置のコンパクトな構造が得られる。

本発明の別の好適な実施の形態によれば、真空ポンプが、ターボ分子ポンプとして、ベーン真空ポンプとして、ロータリー真空ポンプとして又はサイドチャネルポンプとして構成されている。

これらのポンプは、通常のポンプ方式である。この場合、干渉磁場の補正が特に有益である。

ターボ分子ポンプは、複数の羽根付き円板を有する多段式タービンロータが、ケーシング内で回転する構造を成す。同様な幾何学形状を成す複数の羽根付きステータ円板が、同様に複数のロータ円板間にミラー反転して配置されている。これらのロータ円板は、好ましくは２つの軸受、例えば２つのころ軸受によって軸支されている。この場合、潤滑油に起因して、当該２つの軸受は、予備真空側に配置される必要がある。

ハイブリッド軸受を設けることも可能である。すなわち、２種類の軸受をただ１つの真空ポンプで使用するという着想が可能である。この場合、オイルで潤滑されたころ軸受が、例えば、予備真空側のシャフトの端部を支持し、点検を要せず且つ摩耗しない永久磁石軸受が、高真空側に配置されている。この永久磁石軸受は、ロータを放射状の中心に配置させる。

好ましくは、ブラシレスＤＣモータが、ロータを駆動させるために使用される。当該ブラシレスＤＣモータは、電子駆動装置によって１，５００Ｈｚ（９０，０００回転／分）までの回転周波数を可能にする。したがって、気体を排気するために必要な動翼回転速度が得られる。

ベーン真空ポンプでは、逆方向に同期回転する２つのロータが、非接触式に１つのケーシング内で回転する。これらのロータは「８」の字の形を成し、互いに対向していて、狭い間隙によってステータから分離されている。当該作用は、２つの歯を有するそれぞれ１つの歯車を備える歯車ポンプに相当する。この歯車ポンプは、気体を吸引口から排気口に送る。第１ピストンを支持する一方のシャフトが、駆動モータによって駆動される。第２ピストンを支持する他方のシャフトの同期が、歯車室内の歯車対によって実行される。

摩擦が、吸気室内で発生しないので、当該ベーン真空ポンプは、高い回転数、例えば、１，５００〜３，０００回転／分で稼働され得る。

ロータリー真空ポンプは、オイルコーティングされた回転駆動式ポンプである。このポンプシステムは、偏心に取り付けられたロータ、遠心力と弾性力とによって半径方向に可動なベーン（翼）並びに吸気口及び排気口から構成される。その吸気口弁が、存在する場合に、真空安全弁として形成されていて、稼働中に常に開かれている。ステータとロータとベーンとによって限定されている作動室が、ケーシング内に存在する。当該偏心ステータと当該ベーンとが、この動作室を異なる容積を有する２つの別々の空間に分割する。したがって、当該ロータが回転すると、吸気室が、第２ベーンによって閉鎖されるまで、気体が、当該大きくなった吸気室内に流れる。次いで、排気弁が、大気圧に逆らって開くまで、当該密封された気体が圧縮される。この排気弁は、オイルコーティングされている。少量のオイルが、この排気弁の開口時にこの吸気室内に浸入し、潤滑作用を引き起こすほかに、ケーシング（ステータ）に対するベーンの密封作用も引き起こす。

サイドチャネルポンプは、大気圧から高真空領域まで稼働し得る真空ポンプである。当該サイドチャネル真空ポンプのポンプシステムが、外周に配置された複数の羽根を有するロータ円板とリング状の動作室とサイドチャネルとから構成される。このサイドチャネルは、一か所で断路器によって当該ロータ円板の輪郭に向かって狭くされている。当該排気効果は、回転するロータの羽根に起因して引き起こされる入口から出口までの渦巻き状の流によって発生する。これにより、吸気口と排気口との間の圧力差が発生する。低い最終圧力が、直線状に連結された複数のポンプ段によって達成される。

真空ポンプ内に配置された、干渉磁場を生成する真空ポンプの少なくとも１つの部品の磁場を補正するための本発明の方法は、少なくとも１つの補正コイルが、真空ポンプの少なくとも１つの部品の干渉磁場を補正することを特徴とする。

当該部品は、例えば、駆動モータ及び／又はロータを軸支するための少なくとも１つの磁石軸受でもよい。

本発明の方法は、コイル又は少なくとも１つの磁石軸受及び／又は駆動モータの干渉磁場が、少なくとも１つの補正コイルから発生した磁場によって補正されるという利点がある。したがって、例えば電子顕微鏡のような高感度の機器は、真空ポンプの部品の干渉磁場によって悪影響を受ける。

本発明の特に好適な実施の形態によれば、少なくとも１つの部品の干渉磁場を補正するため、３つのコイルが設けられている。

補正を各空間方向Ｘ，Ｙ，Ｚで実行することが、３つのコイルを配置することによって可能である。

好ましくは、干渉磁場を検出し及び／又は測定する少なくとも１つのセンサが設けられている。干渉磁場を検出及び／又は測定することによって、当該干渉磁場が、最適に補正されるように、少なくとも１つのコイルが調整され得る。

本発明の別の好適な実施の形態は、補正装置が、検出及び／又は測定される干渉磁場に応じて、少なくとも１つのコイル中の電流を制御及び／又は調整することを提唱する。この実施の形態には、補正装置が、全ての制御工程及び調整工程を実行するという利点がある。少なくとも１つのセンサによって検出された干渉磁場のデータが、補正装置内に入力され、最適な補正が得られるように、この補正装置が、少なくとも１つのコイル、すなわち少なくとも１つのコイル中の電流を制御する。

本発明の別の好適な実施の形態によれば、干渉磁場を最適に補正するため、調整可能な振幅と方向とから成る磁場ベクトル

が、少なくとも１つの補正コイルによって生成される。

本発明の別の好適な実施の形態は、補正装置が、真空ポンプの駆動電子装置から回転同期する補正基本周波数と第１次から第ｎ次までの高調波（ｎ≧２）とを導き出すことを提唱する。合成磁場

が、コイル中の電流の振幅及び位相を変化させることによって最小にされ得る。この合成磁場は、干渉磁場

と、当該補正コイルによって生成された磁場

とから合成される。つまり、

当該コイル４６，４８，５０中の電流の振幅及び位相は、下記の方程式：

にしたがって可変である。

当該方程式は、Ｘ方向とＹ方向にも成立する必要がある。

本発明の別の好適な実施の形態によれば、真空ポンプの位相基準が、センサによって検出される。

また、センサなしにロータの位置を確認するか又はロータの位相を確認するときの位相基準を、モータモデルを使用して通信情報を評価し、当該位相基準を補正装置に転送することによって検出することも可能である。

当該干渉磁場は、ロータの回転と同期させて補正される必要がある。このために、位相基準が、既知である必要がある。補正磁場が、当該干渉磁場の干渉信号に対して１８０°だけ移相されているように、当該磁場は補正される必要がある。

好ましくは、少なくとも１つの磁石軸受又は少なくとも１つの電気モータの干渉磁場が、本発明の方法によって補正される。当該磁石軸受は、例えば、永久磁石軸受として又は能動磁石軸受として構成され得る。

本発明の別の好適な実施の形態によれば、本発明の方法を用いることで、干渉磁場が、真空ポンプ内に及び／又は真空ポンプに対して配置された少なくとも１つの補正コイルによって補正される。したがって、真空ポンプのコンパクトな構造が得られる。

本発明の方法は、特に好ましくは、ターボ分子ポンプ、ベーン真空ポンプ、ロータリー真空ポンプ又はサイドチャネルポンプで使用され得る。しかしながら、その他の種類の真空ポンプで使用することが、同様に考えられる。

本発明のその他の特徴及び利点を、本発明のターボ分子ポンプの実施の形態が例示的に示されている添付図面に基づいて説明する。

ターボ分子ポンプの縦断面図である。 補正コイルの配置の概略図である。

図１は、ターボ分子ポンプの縦断面図である。このターボ分子ポンプ１１は、排気すべきチャンバ（図示せず）のフランジに取り外し可能に固定されているフランジ４を有する。気体が、吸気口６を通じて真空ポンプ１内に吸気され、排気口８を通じて排気される。ロータ１０及びステータ２０が、ケーシング２０内に配置されている。当該気体輸送作用は、このロータ１０とこのステータ２０との協働作用によって得られる。このロータ１０は、シャフト１２を有する。予備真空側の動翼１４、中央の動翼１６及び高真空側の動翼１８が、このシャフト１２上に設けられている。この場合、それぞれの動翼１４，１６，１８が、複数の羽根から成る羽根車を有する。

当該シャフト１２は、高真空側では永久磁石軸受４０によって回転可能に支持され、予備真空側ではころ軸受４２によって回転可能に支持される。駆動モータ４４が、当該ロータを１０，０００回転／分で高速回転させる。当該ステータは、予備真空側の静翼（固定翼）２４、中央の静翼２６及び高真空側の静翼２８を有する。これらの静翼２４，２６，２８は、シャフト１２に対して同軸のスペーサリング３０，３２，３４を介して軸方向に互いに離間されていて、且つ動翼１４，１６，１８と交互に配置されている。これらの静翼２４，２６，２８は、同様に羽根車を有する。動翼及び静翼の数は、排気速度、及び吸気口と排気口との間の圧縮比のような、真空技術の希望するパラメータによって決まる。

３つのコイル４６，４８，５０が、ケーシングチャック３６に配置されている。これらのコイル４６，４８，５０はそれぞれ、互いに９０°の角度を成して配置されている。さらに、補正装置５２が設けられている。この補正装置５２は、図示されなかった電線を通じてこれらのコイル４６，４８，５０中の電流を制御する。

さらに、この制御装置５２は、図示されなかった電線を通じてセンサ５４に接続されている。干渉磁場

が、センサ５４によって検出される。これらのコイル４６，４８，５０は、補正磁場

を生成する。その結果、合成磁場

が生成される。この合成磁場は、補正装置５２によって最小にされる。その結果、永久磁石軸受４０及び／又は駆動モータ４４によって生成された当該干渉磁場

が、真空ポンプ１に隣接されている電子顕微鏡のような、その他の機器に影響を及ぼさない。

回転同期する補正基本周波数が、駆動電子装置から導き出されるか又は誘導コイルによって導き出されると同時に、補正装置５２が、コイル４６，４８，５０中の電流の振幅及び位相を変化させることによって、合成磁場

と、第１次から第ｎ次までの高調波（ｎ≧２）とを最小にする。

当該コイル４６，４８，５０中の電流の振幅及び位相は、下記の方程式：

にしたがって可変である。

当該方程式は、Ｘ方向とＹ方向にも成立する必要がある。

調整可能な振幅と方向とから成る磁場ベクトル

が、当該コイル４６，４８，５０中の電流によって生成される。ターボ分子ポンプの永久磁石軸受４０と駆動モータ４４とによって生成された干渉磁場

が、

によって補正される。必然的に、当該交番干渉磁場は、ターボ分子ポンプ１と同じ周波数を有し、且つ正弦波とは少し異なる。

上記の干渉磁場の零補正又は最小補正は、自動的に実行されるか、又は上記のパラメータを適切に変化させ、磁場センサ５４を用いて干渉磁場

を検出することによって実行される。補正が、ターボ分子ポンプに隣接されている機器の画像ぼやけの程度を観察することによっても実行され得る。当該補正は、例えば、電子顕微鏡（図示せず）によって実行されてもよい。

図２によれば、３つのコイル４６，４８，５０の相互の好適な配置が示されている。これらのコイルの巻線が、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸に沿って配向されている。その結果、これらのコイルはそれぞれ、互いに９０°の角度を成して配置されている。これにより、干渉磁場の最適な補正が可能である。

１ ターボ分子ポンプ
２ ケーシング
４ フランジ
６ 吸気口
８ 排気口
１０ ロータ
１２ シャフト
１４ 動翼
１６ 動翼
１８ 動翼
２０ ステータ
２４ 静翼（固定翼）
２６ 静翼（固定翼）
２８ 静翼（固定翼）
３０ スペーサリング
３２ スペーサリング
３４ スペーサリング
３６ ケーシングチャック
４０ 永久磁石軸受
４２ ころ軸受
４４ 駆動モータ
４６ 補正コイル
４８ 補正コイル
５０ 補正コイル
５２ 補正装置
５４ 磁場センサ

Claims (15)

1. ロータとこのロータを駆動させるために設けられている駆動モータとを有する真空ポンプを備える装置において、
   少なくとも１つの補正コイル（４６，４８，５０）が、前記ターボ分子ポンプ（１）の部品（４０，４４）によって生成された干渉磁場
   

   

   を補正するために設けられていることを特徴とする真空装置を有する真空ポンプを有する装置。
2. ３つの補正コイル（４６，４８，５０）が、少なくとも１つの前記部品（４０，４４）の干渉磁場
   

   

   を補正するために配置されていることを特徴とする請求項１に記載の真空ポンプを有する装置。
3. ３つの前記補正コイル（４６，４８，５０）の磁場が、３つの空間方向に、特にそれぞれ互いに９０°の角度を成して配置されていることを特徴とする請求項２に記載の真空ポンプを有する装置。
4. 少なくとも１つの前記補正コイル（４６，４８，５０）が、導電体の少なくとも１つの巻線から形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の真空ポンプを有する装置。
5. 少なくとも１つのセンサ（５４）が、前記干渉磁場
   

   

   又は位相基準を検出及び／又は測定するために設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の真空ポンプを有する装置。
6. 少なくとも１つの補正コイル（４６，４８，５０）のための少なくとも１つの電源と、１つの補正装置（５２）とが、検出及び／又は測定された前記干渉磁場
   

   

   に応じて、少なくとも１つの前記補正コイル（４６，４８，５０）中の電流を制御及び／又は調整するために設けられていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の真空ポンプを有する装置。
7. 前記補正装置（５２）は、前記補正コイル（４６，４８，５０）を個別に制御するように構成されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の真空ポンプを有する装置。
8. 干渉磁場を生成する少なくとも１つの前記部品は、特に永久磁石軸受として若しくは能動磁石軸受として構成されている磁石軸受（４０）又は電気モータ（４４）であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の真空ポンプを有する装置。
9. 少なくとも１つの前記補正コイルは、前記真空ポンプ内に配置されている、及び／又は前記真空ポンプに対して配置されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の真空ポンプを有する装置。
10. 真空ポンプ内に配置された、干渉磁場を生成する少なくとも１つの、この真空ポンプの部品を補正するための方法において、
    少なくとも１つの補正コイル（４６，４８，５０）が、特に３つの補正コイルが、前記真空ポンプ（１）の少なくとも１つの前記部品（４０，４４）の干渉磁場
    

    

    を補正することを特徴とする方法。
11. 補正装置（５２）が、検出及び／又は測定された前記干渉磁場
    

    

    に応じて、少なくとも１つの前記補正コイル（４６，４８，５０）中の電流を制御及び／又は調整することを特徴とする請求項１０に記載の方法。
12. 調整可能な振幅と方向とから成る磁場ベクトル
    

    

    が、少なくとも１つの前記補正コイル（４６，４８，５０）によって生成されることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の方法。
13. 前記補正装置（５２）は、前記真空ポンプ（１）の駆動電子装置から、回転同期する補正基本周波数と、ｎ≧２の、第１次から第ｎ次までの高調波とを導き出すことを特徴とする請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の方法。
14. 前記真空ポンプ（１）の位相基準が、センサによって検出されることを特徴とする請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の方法。
15. 少なくとも１つの磁石軸受又は少なくとも１つの電気モータの干渉磁場が、補正されることを特徴とする請求項１０〜１４のいずれか１項に記載の方法。

Images