JP2015054291A - 紫外線照射装置 - Google Patents
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 76
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 4
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 claims 2
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 abstract description 2
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 19
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 10
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 9
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 5
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 2
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 1
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000004332 deodorization Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003673 groundwater Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
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- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
- C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/322—Lamp arrangement
- C02F2201/3225—Lamps immersed in an open channel, containing the liquid to be treated
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
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- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/322—Lamp arrangement
- C02F2201/3227—Units with two or more lamps
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2301/00—General aspects of water treatment
- C02F2301/02—Fluid flow conditions
- C02F2301/026—Spiral, helicoidal, radial
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2303/00—Specific treatment goals
- C02F2303/04—Disinfection
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- Hydrology & Water Resources (AREA)
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- Environmental & Geological Engineering (AREA)
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Abstract
【課題】紫外線ランプから発光される紫外線の全てを過不足なく被処理水へ照射することができ、水の種類や水量が変化した場合でも十分な紫外線処理を行う。【解決手段】実施形態の紫外線照射装置は、流入された被処理水に対し紫外線を照射する紫外線照射管が配置された胴部と、被処理水を胴部の内部に流入させる流入管と、胴部から被処理水を流出させる流出管と、を有し、胴部の内壁に沿って流した被処理水が旋回流を形成可能に流入管及び流出管を配置している。【選択図】図1
Description
本発明の実施形態は、紫外線照射装置に関する。
従来、上下水道(水道水または地下水等)の処理水の殺菌・消毒、工業用水の脱臭・脱色、あるいはパルプの漂白、さらには医療機器の殺菌等を行うためにオゾンや塩素等の薬品が用いられている。そして、従来の消毒装置では、オゾンや薬品を処理水に均一に溶かし込むために、滞留槽やスプレーポンプ等の攪拌装置が必需品で、水質や水量の急激な変化には、迅速に対応することはできなかった。
一方、紫外線には、殺菌・消毒・脱色、工業用水の脱臭・脱色、あるいはパルプの漂白等の作用があり、さらに、水質や水量の急激な変化に対しても、紫外線ランプの出力を調整することで迅速に対応することができる。
このような紫外線ランプを用いた技術として、円筒形の通水胴と、通水胴よりも小径の円管で構成されたランプハウジングが十字接合されており、ランプハウジング内部にランプハウジング軸と平行に、内部に紫外線ランプを収納した石英ガラスから成る紫外線照射管が複数本取り付けられた構造を有する技術が挙げられる(特許文献1参照)。上記構成の紫外線照射装置は、通水配管径が大きく、さらに必要紫外線量が異なる場合でも、設置するランプハウジング数を適宜増減できるので、比較的大規模の処理システムに適している。
しかしながら、従来技術においては、以下のような(1)〜(4)等の理由により、処理量に応じて決まる配管径と、必要照射量に応じて選択される紫外線ランプ長と、がマッチングし難いという問題点があった。
(1)紫外線ランプの長さは出力が大きくなるに従い長くなる。
(2)処理対象物質は多様であり、かつ、処理対象物質の濃度も異なるため、処理に必要な紫外線量も異なっている。
(3)原水の紫外線透過率(UVT)によって紫外線の照射効率が異なる。
(4)処理施設の配管径は、その計画処理量に応じて異なっている。
(2)処理対象物質は多様であり、かつ、処理対象物質の濃度も異なるため、処理に必要な紫外線量も異なっている。
(3)原水の紫外線透過率(UVT)によって紫外線の照射効率が異なる。
(4)処理施設の配管径は、その計画処理量に応じて異なっている。
以上のような理由から処理量に応じて決まる配管径と、必要照射量に応じて選択される紫外線ランプ長がマッチングし難く、特に下水処理時の低UVT時や過酸化水素+紫外線あるいはオゾン+紫外線の促進酸化で高い照射量(例えば、浄水適用時の数十倍〜数百倍)を照射する必要がある時は、浄水と同じ照射装置であっても、処理流量を1/10以下にする必要があり、そのような水処理プラントの場合、接続配管径が小さく、高出力で発光長の長いランプに対して、流路に偏りが生じ均一に照射されず照射効率が低下するという課題があった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、紫外線ランプから発光される紫外線の全てを過不足なく被処理水へ照射することができ、水の種類や水量が変化した場合でも十分な紫外線処理が行える紫外線照射装置を提供することを目的とする。
実施形態の紫外線照射装置は、流入された被処理水に対し紫外線を照射する紫外線照射管が配置された胴部と、被処理水を胴部の内部に流入させる流入管と、胴部から被処理水を流出させる流出管と、を有している。そして、胴部の内壁に沿って流した被処理水が旋回流を形成可能に流入管及び流出管を配置している。
次に実施形態について、図面を参照して説明する。
[1]第1実施形態
図1は、第1実施形態の紫外線照射装置(紫外線照射ユニット)の外観図である。
図2は、図1のA−A部分断面矢視図である。
[1]第1実施形態
図1は、第1実施形態の紫外線照射装置(紫外線照射ユニット)の外観図である。
図2は、図1のA−A部分断面矢視図である。
紫外線照射装置10は、既設配管のフランジ継手と接続される第1フランジ継手11が形成された流入管12と、既設配管のフランジ継手と接続される第2フランジ継手13が形成された流出管14と、円柱状の円環胴15と、円環胴15に挿入設置された複数(図1では、3本)の紫外線照射管16−1〜16−3と、を備えている。
なお、本実施形態では、紫外線照射管として紫外線照射管16−1〜16−3の3本を備えた構成としているが、必要な紫外線量に応じて、1本、2本、もしくは4本以上備えた構成としてもよい。
円環胴15は、円板状の第1天板21と、円筒状の胴本体22と、円板状の第2天板23と、を備えている。
さらに円環胴15には、紫外線照射管16−1〜16−3のそれぞれに2つずつの合計6つの貫通孔が形成されている。この6つの貫通孔には、ブッシング25a、25b、25cが貫通して固定されている。
そして胴本体22には、図2に示すように第2天板23(あるいは、第1天板21。以下同様)を平面視し、第2天板23を円と見なした場合の接線CL1方向に沿って流入管12が設けられている。なお、図2においては、第2天板23の内壁23Iが図示されている。
さらに円環胴15には、紫外線照射管16−1〜16−3のそれぞれに2つずつの合計6つの貫通孔が形成されている。この6つの貫通孔には、ブッシング25a、25b、25cが貫通して固定されている。
そして胴本体22には、図2に示すように第2天板23(あるいは、第1天板21。以下同様)を平面視し、第2天板23を円と見なした場合の接線CL1方向に沿って流入管12が設けられている。なお、図2においては、第2天板23の内壁23Iが図示されている。
さらに第2天板23を円と見なした場合に流入管12が設けられている位置と第1天板21の中心点Cに対して点対称な位置に流入管12の延在方向と平行な方向、すなわち、接線CL1と平行な接線CL2に沿って流出管14が設けられている。
さらに流入管12と流出管14とは、図1に示すように円環胴15(胴本体22)の高さ方向(h方向)については、異なる位置に設けられている。より詳細には、流入管12は、第1天板21側寄り、流出管14は、第2天板23側寄りとされている。
さらに流入管12と流出管14とは、図1に示すように円環胴15(胴本体22)の高さ方向(h方向)については、異なる位置に設けられている。より詳細には、流入管12は、第1天板21側寄り、流出管14は、第2天板23側寄りとされている。
ここで、紫外線照射管16−1〜16−3について説明する。
図3は、紫外線照射管の概要説明図である。
紫外線照射管16−1〜16−3は、同様の構成であるので、以下の説明においては、紫外線照射管16−1を例として説明する。
図3は、紫外線照射管の概要説明図である。
紫外線照射管16−1〜16−3は、同様の構成であるので、以下の説明においては、紫外線照射管16−1を例として説明する。
紫外線照射管16−1は、紫外線ランプ31と、石英ガラス管32と、を備えている。
紫外線ランプ31は、円環胴15を通過する被処理水Wに紫外線を照射するランプである。
本実施形態の紫外線ランプ31は、紫外線を発光する発光部の長さ(発光長)が、円環胴15の内径に対して−10%〜+10%以内の長さのものが備えられている。また、紫外線ランプ31は、波長が200nm〜300nmの範囲の紫外線を発光するものである。
紫外線ランプ31は、円環胴15を通過する被処理水Wに紫外線を照射するランプである。
本実施形態の紫外線ランプ31は、紫外線を発光する発光部の長さ(発光長)が、円環胴15の内径に対して−10%〜+10%以内の長さのものが備えられている。また、紫外線ランプ31は、波長が200nm〜300nmの範囲の紫外線を発光するものである。
石英ガラス管32は、石英ガラスによって形成され、紫外線ランプ31を収納する保護管である。
紫外線照射管16−1は、上述した紫外線ランプ31及び石英ガラス管32に加え、さらに、Oリング押さえ33と、キャップ34と、位置決コマ35と、を備えている。
そして、紫外線照射管16−1は、図3に示すように、両端部に電力供給用の配線36が接続されている。
紫外線照射管16−1は、上述した紫外線ランプ31及び石英ガラス管32に加え、さらに、Oリング押さえ33と、キャップ34と、位置決コマ35と、を備えている。
そして、紫外線照射管16−1は、図3に示すように、両端部に電力供給用の配線36が接続されている。
Oリング押さえ33は、Oリングを押さえるものである。位置決コマ35は、紫外線ランプ31の両端に取り付けられており、紫外線ランプ31を石英ガラス管32の中心に位置するように保持する。
キャップ34は、石英ガラス管32の両端部に取り付けられており、石英ガラス管32の両端部を保護するとともに、紫外線ランプ31から照射された紫外線の外部漏洩を防止するものである。そして、キャップ34には、紫外線ランプ31へ電力を供給する配線36が通る導線孔が形成されている。
紫外線照射管16−1〜16−3は、円環胴15(胴本体22)の高さ方向(h方向)に交差する平面上(h方向と交差する方向を含む平面上)に平行に設けられている。具体的には、紫外線照射管16−1〜16−3は、h方向と直交する平面上に3本が平行に並ぶように配置されている。すなわち、紫外線照射管16−1〜16−3は、図1に示すように断面線A−A上に縦に一列に並んで配置されている。
そして、紫外線照射管16−1〜16−3は、両端部が、円環胴15に設けられた6つの貫通孔それぞれに固定されているブッシング25a、25b、25cに挿入されて、取り付けられている。
また、ブッシング25a、25b、25cの外側の端部近傍には、図示していないOリング用の三角溝が形成されており、この三角溝にOリングをはさみ、Oリング押さえ33(図3参照)で固定することにより、紫外線照射管16−1〜16−3は、円環胴15に水密固定されている。
次に第1実施形態の紫外線照射装置10における紫外線照射時の概要動作を説明する。
上記構成の結果、流入管12から流れ込んだ被処理水Wは、流入管12から流出管14へ直ちに向かう短絡流を形成することなく、胴本体22の内壁22Iに沿って旋回流FR(図1及び図2参照)を形成する。
上記構成の結果、流入管12から流れ込んだ被処理水Wは、流入管12から流出管14へ直ちに向かう短絡流を形成することなく、胴本体22の内壁22Iに沿って旋回流FR(図1及び図2参照)を形成する。
そして、最終的には、流入管12から流れ込んだ被処理水Wの旋回流FRは、胴本体22の内壁22Iに沿って螺旋を描く螺旋流となって流出管14に向かうようにされている。
従って形成された被処理水Wの旋回流(螺旋流)FRは、流入管12から流出管14に向かって、何度も紫外線ランプ31(紫外線照射管16−1〜16−3)の周囲を流れることとなり、実効的な流路長が長くなるとともに、被処理水wの単位体積当たりの紫外線の実効的な照射量が高くなる。
すなわち、本実施形態によれば、被処理水Wは、円環胴15の接線CL1方向に接続された流入管12から流入することによって円環胴15内で旋回流FRを形成するように流れる。
したがって、紫外線ランプ31から出射(発光)された紫外線が被処理水Wに満遍なく照射され、被処理水W内の微生物や有機物、および無機物の被処理対象物質の消毒(殺菌)処理または酸化処理に寄与させることができ、照射効率(殺菌効率、消毒効率、酸化効率等)を向上させることができる。
[2]第2実施形態
図4は、第2実施形態の紫外線照射装置(紫外線照射ユニット)の外観図である。
図5は、図4のA−A部分断面矢視図である。
図4は、第2実施形態の紫外線照射装置(紫外線照射ユニット)の外観図である。
図5は、図4のA−A部分断面矢視図である。
本第2実施形態の紫外線照射装置10Aが、第1実施形態の紫外線照射装置10と異なる点は、円環胴の高さ(h方向の長さ)を高く(長く)構成するとともに、円環胴の高さ方向(h方向)に交差する平面上(h方向と交差する方向を含む平面上)に平行に設けた複数の紫外線照射管で構成される紫外線照射管群を所定距離離間して、平行に複数組(図4では、二組)配置した点と、被処理水の流入方向と流出方向とが逆向きとなるように、流入管と流出管とを円環胴の同じ側に設けた点である。
紫外線照射装置10Aは、既設配管のフランジ継手と接続される第1フランジ継手11が形成された流入管12と、既設配管のフランジ継手と接続される第2フランジ継手13が形成された流出管14と、円柱状の円環胴15Aと、円環胴15Aに挿入設置された複数(図4では、6本)の紫外線照射管16−1〜16−6と、を備えている。
ここで、円環胴15Aは、円板状の第1天板21と、円筒状の胴本体22Aと、円状の第2天板23と、を備えている。
また、紫外線照射管16−1〜16−3は、紫外線照射管群16G1を構成し、紫外線照射管16−4〜16−6は、紫外線照射管群16G2を構成している。
また、紫外線照射管16−1〜16−3は、紫外線照射管群16G1を構成し、紫外線照射管16−4〜16−6は、紫外線照射管群16G2を構成している。
また、本実施形態では、紫外線照射管群16Gを二組設けた構成としているが、3組以上設けるように構成することも可能である。この場合において、紫外線照射管群16Gを構成する紫外線照射管数は、必要な紫外線量に応じて、1本(この場合も、便宜上、紫外線照射管群と呼ぶものとする)、2本、もしくは4本以上備えた構成としてもよい。
この場合において、各紫外線照射管群16Gを構成する紫外線照射管は、円環胴15A(胴本体22A)の高さ方向(h方向)に交差する平面上(h方向と交差する方向を含む平面上)に平行に設けられている。具体的には、紫外線照射管16−1〜16−3は、h方向と直交する平面上に3本が平行に並ぶように配置されている。
また、各紫外線照射管群16Gは、互いに所定距離Lだけ離間して配置されている。所定距離Lの設定としては、円環胴15A(胴本体22A)内の空間をほぼ均等に分割出来る距離、図4の例の場合、紫外線照射管群16Gとしては、紫外線照射管群16G1、16G2の2つあるので、円環胴15A(胴本体22A)内の空間をほぼ三等分するような距離(L≒H/3)とされる。
そして胴本体22Aには、図5に示すように第2天板23(あるいは、第1天板21。以下同様)を平面視し、第2天板23を円と見なした場合の接線CL1方向に沿って流入管12が設けられている。なお、図5においては、第2天板23の内壁23Iが図示されている。
さらに図5に示すように、流出管14は、平面視した状態で、第2天板23を円と見なした場合に流入管12が設けられている位置に対し、紫外線照射管16―2の軸を含み、図5の紙面に垂直な平面に対し、面対称となるように、かつ、接線CL1と平行な接線CL2に沿って設けられている。
さらに流入管12と流出管14とは、図4に示すように円環胴15A(胴本体22A)の高さ方向(h方向)については、異なる位置に設けられている。より詳細には、流入管12は、第1天板21側寄り、流出管14は、第2天板23側寄りとされている。
次に第2実施形態の紫外線照射装置10Aにおける紫外線照射時の概要動作を説明する。
上記構成の結果、流入管12から流れ込んだ被処理水Wは、流入管12から流出管14へ直ちに向かう短絡流を形成することなく、胴本体22Aの内壁22AIに沿って旋回流FR(図4及び図5参照)を形成し、紫外線照射管群16G1の近傍に至る。そして、何度も紫外線照射管16−1〜16−3の周囲を旋回流FRを形成したまま流れて、今度は、紫外線照射管群16G2の近傍に至る。そして、何度も紫外線照射管16−4〜16−6の周囲を旋回流FRを形成したまま流れる。
上記構成の結果、流入管12から流れ込んだ被処理水Wは、流入管12から流出管14へ直ちに向かう短絡流を形成することなく、胴本体22Aの内壁22AIに沿って旋回流FR(図4及び図5参照)を形成し、紫外線照射管群16G1の近傍に至る。そして、何度も紫外線照射管16−1〜16−3の周囲を旋回流FRを形成したまま流れて、今度は、紫外線照射管群16G2の近傍に至る。そして、何度も紫外線照射管16−4〜16−6の周囲を旋回流FRを形成したまま流れる。
そして、最終的には、流入管12から流れ込んだ被処理水Wの旋回流FRは、胴本体22Aの内壁22AIに沿って螺旋を描く螺旋流となって流出管14に向かうようにされている。
このとき、流出管14は、平面視した状態で、第2天板23を円と見なした場合に流入管12が設けられている位置に対し、紫外線照射管16―2の軸を含み、図5の紙面に垂直な平面に対し、面対称となるように、かつ、接線CL1と平行な接線CL2に沿って設けられているので、旋回流FR(螺旋流)の流れを乱すことなく流出管14から流出することとなる。
以上の説明のように、本第2実施形態によっても被処理水Wの旋回流(螺旋流)FRは、流入管12から流出管14に向かって、何度も紫外線照射管群16G1の周囲及び紫外線照射管群16G2の周囲をそれぞれ流れることとなり、実効的な流路長が長くなるとともに、被処理水wの単位体積当たりの紫外線の実効的な照射量が高くなる。
すなわち、本第2実施形態によれば、第1実施形態と同様に、被処理水Wは、円環胴15の接線CL1方向に接続された流入管12から流入することによって円環胴15A内で旋回流FRを形成するように流れ、紫外線ランプ31から出射(発光)された紫外線が被処理水Wに満遍なく照射され、被処理水W内の微生物や有機物、および無機物の被処理対象物質の消毒(殺菌)処理または酸化処理に寄与させることができ、照射効率(殺菌効率、消毒効率、酸化効率等)を向上させることができる。
さらに本第2実施形態によれば、旋回流FR(螺旋流)の流れを乱すことなく流出管14から流出させるので、流路抵抗を低減でき、より処理効率の向上が図れる。
[3]第3実施形態
図6は、第3実施形態の紫外線照射装置(紫外線照射ユニット)の外観図である。
本第3実施形態の紫外線照射装置10Bが、第2実施形態の紫外線照射装置10Aと異なる点は、円環胴22Bの中心軸AXに垂直な平面に対して所定角度θだけ傾けた平面上に各紫外線照射管群16G1、16G2を構成する紫外線照射管16−1〜16−3、16−4〜16−6を配置した点である。
図6は、第3実施形態の紫外線照射装置(紫外線照射ユニット)の外観図である。
本第3実施形態の紫外線照射装置10Bが、第2実施形態の紫外線照射装置10Aと異なる点は、円環胴22Bの中心軸AXに垂直な平面に対して所定角度θだけ傾けた平面上に各紫外線照射管群16G1、16G2を構成する紫外線照射管16−1〜16−3、16−4〜16−6を配置した点である。
本第3実施形態によれば、旋回流FR(螺旋流)の流れを紫外線照射管群16G1、16G2を構成する紫外線照射管16−1〜16−3、16−4〜16−6の配置により沿わせることができるので、被処理水Wを紫外線照射管群16G1あるいは紫外線照射管群16G2の近傍により長く滞留させることができ、連続的に所定強度以上の紫外線を被処理水Wに照射することができ、より一層の処理効率の向上が図れる。
[4]第4実施形態
図7は、第4実施形態の紫外線照射装置(紫外線照射ユニット)の外観図である。
図8は、図7のA−A部分断面矢視図である。
図7は、第4実施形態の紫外線照射装置(紫外線照射ユニット)の外観図である。
図8は、図7のA−A部分断面矢視図である。
本第4実施形態の紫外線照射装置10Cが、第2実施形態の紫外線照射装置10Aと異なる点は、第1紫外線照射管群16G1を構成している紫外線照射管16−1〜16−3の延在方向に対し、第2紫外線照射管群16G2Aを構成している紫外線照射管16−4〜16−6の延在方向を直交させた(90度向きを変えた)点である。
このような構成とすることにより、本第4実施形態によれば、第2実施形態の図5の紙面垂直方向に流れる被処理水Wの短絡流が発生する虞を低減でき、被処理水Wを紫外線照射管群16G1あるいは紫外線照射管群16G2Aの近傍により長く滞留させることができ、連続的に所定強度以上の紫外線を被処理水Wに照射することができ、より一層の処理効率の向上が図れる。
[5]第5実施形態
図9は、第5実施形態の紫外線照射装置(紫外線照射ユニット)の外観図である。
図10は、図9のA−A部分断面矢視図である。
図9及び図10において、図1又は図2と同様の部分には、同一の符号を付すものとする。
図9は、第5実施形態の紫外線照射装置(紫外線照射ユニット)の外観図である。
図10は、図9のA−A部分断面矢視図である。
図9及び図10において、図1又は図2と同様の部分には、同一の符号を付すものとする。
第5実施形態の紫外線照射装置10Dは、既設配管のフランジ継手と接続される第1フランジ継手11が形成された流入管12と、既設配管のフランジ継手と接続される第2フランジ継手13が形成された流出管14と、円柱状(円筒状)の円環胴22D1及び円錐台状(漏斗状)の円錐台胴22D2を備えた胴22Dと円環胴22D1に挿入設置された複数(図9では、3本)の紫外線照射管16−1〜16−3と、を備えている。
なお、本実施形態では、紫外線照射管として紫外線照射管16−1〜16−3の3本を備えた構成としているが、必要な紫外線量に応じて、1本、2本、もしくは4本以上備えた構成としてもよい。
円環胴22D1は、円板状の天板21Dと、円筒状の胴本体22D1Aと、を備えている。
さらに胴本体22D1Aには、紫外線照射管16−1〜16−3のそれぞれに2つずつの合計6つの貫通孔が形成されている。この6つの貫通孔には、ブッシング25a、25b、25cが貫通して固定されている。
さらに胴本体22D1Aには、紫外線照射管16−1〜16−3のそれぞれに2つずつの合計6つの貫通孔が形成されている。この6つの貫通孔には、ブッシング25a、25b、25cが貫通して固定されている。
そして胴本体22D1Aには、図10に示すように天板21Dを円と見なした場合の接線CL1方向に沿って流入管12が設けられている。なお、図10においては、円錐台胴22D2の内面22D2Iが図示されている。
さらに円錐台胴22D2の下端には、下方に向かって流出管14が設けられている。
さらに円錐台胴22D2の下端には、下方に向かって流出管14が設けられている。
次に第5実施形態の紫外線照射装置10Dにおける紫外線照射時の概要動作を説明する。
被処理水Wは、流入管12から流入し、円環胴22D1の周面に沿って、円環胴22D1内を旋回するように流れる旋回流FRとなる。
被処理水Wは、流入管12から流入し、円環胴22D1の周面に沿って、円環胴22D1内を旋回するように流れる旋回流FRとなる。
そして、旋回流FRは、円錐台胴22D2に至ると、徐々に旋回径を小さくしつつ、流出管14に向かう。
このとき、形成された被処理水Wの旋回流(螺旋流)FRは、流入管12から流出管14に向かうに際して、何度も紫外線照射管16−1〜16−3の周囲を流れることとなり、実効的な流路長が長くなるとともに、被処理水wの単位体積当たりの紫外線の実効的な照射量が高くなる。
このとき、形成された被処理水Wの旋回流(螺旋流)FRは、流入管12から流出管14に向かうに際して、何度も紫外線照射管16−1〜16−3の周囲を流れることとなり、実効的な流路長が長くなるとともに、被処理水wの単位体積当たりの紫外線の実効的な照射量が高くなる。
すなわち、本第5実施形態においても、流入管12から流出管14に向かう被処理水Wは、旋回流FRを形成しつつ、流れるので、紫外線ランプ31から出射(発光)された紫外線が被処理水Wに満遍なく照射され、被処理水W内の微生物や有機物、および無機物の被処理対象物質の消毒(殺菌)処理または酸化処理に寄与させることができ、照射効率(殺菌効率、消毒効率、酸化効率等)を向上させることができる。
[6]第6実施形態
図11は、第6実施形態の紫外線照射装置(紫外線照射ユニット)の外観図である。
図12は、図11のA−A部分断面矢視図である。
図11は、第6実施形態の紫外線照射装置(紫外線照射ユニット)の外観図である。
図12は、図11のA−A部分断面矢視図である。
図11及び図12に示すように、紫外線照射装置10Eの円環胴15Eには、開口51が設けられた第1仕切り板52及び開口53を設けた第2仕切り板54により、3つの部屋R1〜R3に仕切られ、部屋R1には、紫外線照射管16−3が配置され、部屋R2には、紫外線照射管16−2が配置され、部屋R3には、紫外線照射管16−1が配置されている。
このとき、開口51及び開口53は、被処理水Wの流れが円環胴15E内でジグザグに流れるように配置されている。
この結果、流入管12から円環胴15E内に流入した被処理水Wは、全ての紫外線照射管16−1〜16−3の周囲を、紫外線ランプ31の延在方向に沿って流れ、流出管14から流出することとなる。
したがって、本第6実施形態によれば、被処理水Wが紫外線ランプ31の延在方向に沿って流れるため、紫外線ランプ31から発光された紫外線が満遍なく照射され、被処理水W内の微生物や有機物、および無機物の被処理対象物質の消毒(殺菌)処理または、酸化処理に寄与することができる。
[7]実施形態の効果
以上の説明のように、各実施形態によれば、螺旋流あるいはジグザグ流により、確実に全ての被処理水Wが紫外線ランプ31の近傍を流れて、紫外線ランプ31から発光された紫外線が満遍なく照射され、被処理水W内の微生物や有機物、および無機物の被処理対象物質の消毒(殺菌)処理または、酸化処理に寄与することができる。
以上の説明のように、各実施形態によれば、螺旋流あるいはジグザグ流により、確実に全ての被処理水Wが紫外線ランプ31の近傍を流れて、紫外線ランプ31から発光された紫外線が満遍なく照射され、被処理水W内の微生物や有機物、および無機物の被処理対象物質の消毒(殺菌)処理または、酸化処理に寄与することができる。
以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
10、10A〜10E 紫外線照射装置
11 第1フランジ継手
12 流入管
13 第2フランジ継手
14 流出管
15、15A、15E 円環胴
16−1〜16−6 紫外線照射管
16G 紫外線照射管群
21 第1天板
21D 天板
22 胴本体
22A 胴本体
22AI 内壁
22D 胴
22I 内壁
23 第2天板
25a〜25c ブッシング
31 紫外線ランプ
51、53 開口
52、54 仕切り板
16G1 第1紫外線照射管群
16G2、16G2A 第2紫外線照射管群
22D1 円環胴
22D1A 胴本体
22D2 円錐台胴
22D2I 内面
CL1、CL2 接線
FR 旋回流
R1〜R3 部屋
11 第1フランジ継手
12 流入管
13 第2フランジ継手
14 流出管
15、15A、15E 円環胴
16−1〜16−6 紫外線照射管
16G 紫外線照射管群
21 第1天板
21D 天板
22 胴本体
22A 胴本体
22AI 内壁
22D 胴
22I 内壁
23 第2天板
25a〜25c ブッシング
31 紫外線ランプ
51、53 開口
52、54 仕切り板
16G1 第1紫外線照射管群
16G2、16G2A 第2紫外線照射管群
22D1 円環胴
22D1A 胴本体
22D2 円錐台胴
22D2I 内面
CL1、CL2 接線
FR 旋回流
R1〜R3 部屋
実施形態の紫外線照射装置は、流入された被処理水に対し紫外線を照射する紫外線照射管が配置された胴部と、被処理水を胴部の内部に流入させる流入管と、胴部から被処理水を流出させる流出管と、を有し、胴部の内壁に沿って流した被処理水が旋回流を形成可能に流入管及び流出管を配置し、胴部は、断面が流入管の径よりも大きな径を有する円とされ、高さが径よりも小さい円柱の形状とされた円環胴を有し、流入管及び流出管は、円の接線方向に沿って配置され、円柱の高さ方向に垂直な仮想平面あるいは垂直な仮想平面に対し所定角度傾けた仮想平面の上に複数の紫外線照射管が円環胴の中心軸に対し直交する方向に沿って配置されている流入された被処理水に対し紫外線を照射する紫外線照射管が配置された胴部と、被処理水を胴部の内部に流入させる流入管と、胴部から被処理水を流出させる流出管と、を有し、胴部の内壁に沿って流した被処理水が旋回流を形成可能に流入管及び流出管を配置し、胴部は、断面が円とされ、円柱の形状を有し、高さが径よりも小さく設定された円環胴を有し、流入管及び流出管は、円の接線方向に沿って配置され、円柱の高さ方向に垂直な仮想平面あるいは垂直な仮想平面に対し所定角度傾けた仮想平面の上に複数の紫外線照射管が配置されている。
Claims (11)
- 流入された被処理水に対し紫外線を照射する紫外線照射管が配置された胴部と、
前記被処理水を前記胴部の内部に流入させる流入管と、
前記胴部から前記被処理水を流出させる流出管と、
を有し、
前記胴部の内壁に沿って流した前記被処理水が旋回流を形成可能に前記流入管及び前記流出管を配置した、
紫外線照射装置。 - 前記胴部は、断面が円とされ、円柱の形状を有する円環胴として構成され、
前記流入管及び前記流出管は、前記円の接線方向に沿って配置されている、
請求項1記載の紫外線照射装置。 - 前記流入管及び前記流出管は、前記円柱の高さ方向に所定距離離間して配置されている、
請求項2記載の紫外線照射装置。 - 前記流入管における前記被処理水の流入方向と、前記流出管における前記被処理水の流出方向と、は、互いに平行で逆方向とされている、
請求項2または請求項3記載の紫外線照射装置。 - 前記流入管における前記被処理水の流入方向と、前記流出管における前記被処理水の流出方向と、は、互いに平行で同一方向とされている、
請求項2または請求項3記載の紫外線照射装置。 - 前記円柱の高さ方向に垂直な仮想平面あるいは前記垂直な仮想平面に対し所定角度傾けた仮想平面の上に複数の前記紫外線照射管が配置されている、
請求項2乃至請求項5記載の紫外線照射装置。 - 前記複数の紫外線照射管は、同一の仮想平面上で互いに平行に配置されている、
請求項6記載の紫外線照射装置。 - 他の仮想平面に対し所定距離離間した互いに平行な複数の仮想平面上にそれぞれ複数の前記紫外線照射管が互いに平行に配置されている、
請求項6又は請求項7記載の紫外線照射装置。 - 前記高さ方向からみた場合に、前記複数の仮想平面上の前記紫外線照射管が交差するように配置されている、
請求項8記載の紫外線照射装置。 - 前記胴部は、断面が円とされ、円柱の形状を有する円環胴および円錐台形状を有する円錐台胴が連設されて構成され、
前記流入管は、前記円の接線方向に沿って配置され、
前記流出管は、前記円錐台の小径部先端に配置されている、
請求項1記載の紫外線照射装置。 - 流入された被処理水に対し紫外線を照射する直管状の紫外線照射管が配置された胴部と、
前記被処理水を前記胴部の内部に流入させる流入管と、
前記胴部から前記被処理水を流出させる流出管と、
を有し、
前記胴部内に仕切り板によりジグザグ形状の流路を形成するとともに、
前記流路内の流れ方向に沿って、前記紫外線照射管を配置した、
紫外線照射装置。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013189252A JP5687744B1 (ja) | 2013-09-12 | 2013-09-12 | 紫外線照射装置 |
PCT/JP2014/056569 WO2015037258A1 (ja) | 2013-09-12 | 2014-03-12 | 紫外線照射装置 |
CN201480044545.0A CN105452172A (zh) | 2013-09-12 | 2014-03-12 | 紫外线照射装置 |
CA2923950A CA2923950C (en) | 2013-09-12 | 2014-03-12 | Ultraviolet irradiation device |
SG11201601826YA SG11201601826YA (en) | 2013-09-12 | 2014-03-12 | Ultraviolet irradiation device |
US14/917,936 US20160214873A1 (en) | 2013-09-12 | 2014-03-12 | Ultraviolet irradiation device |
AU2014319795A AU2014319795B2 (en) | 2013-09-12 | 2014-03-12 | Ultraviolet irradiation device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013189252A JP5687744B1 (ja) | 2013-09-12 | 2013-09-12 | 紫外線照射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5687744B1 JP5687744B1 (ja) | 2015-03-18 |
JP2015054291A true JP2015054291A (ja) | 2015-03-23 |
Family
ID=52665387
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013189252A Active JP5687744B1 (ja) | 2013-09-12 | 2013-09-12 | 紫外線照射装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20160214873A1 (ja) |
JP (1) | JP5687744B1 (ja) |
CN (1) | CN105452172A (ja) |
AU (1) | AU2014319795B2 (ja) |
CA (1) | CA2923950C (ja) |
SG (1) | SG11201601826YA (ja) |
WO (1) | WO2015037258A1 (ja) |
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-
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- 2013-09-12 JP JP2013189252A patent/JP5687744B1/ja active Active
-
2014
- 2014-03-12 US US14/917,936 patent/US20160214873A1/en not_active Abandoned
- 2014-03-12 WO PCT/JP2014/056569 patent/WO2015037258A1/ja active Application Filing
- 2014-03-12 CN CN201480044545.0A patent/CN105452172A/zh active Pending
- 2014-03-12 CA CA2923950A patent/CA2923950C/en active Active
- 2014-03-12 SG SG11201601826YA patent/SG11201601826YA/en unknown
- 2014-03-12 AU AU2014319795A patent/AU2014319795B2/en not_active Ceased
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Publication number | Publication date |
---|---|
AU2014319795B2 (en) | 2017-03-30 |
CN105452172A (zh) | 2016-03-30 |
WO2015037258A1 (ja) | 2015-03-19 |
US20160214873A1 (en) | 2016-07-28 |
JP5687744B1 (ja) | 2015-03-18 |
CA2923950A1 (en) | 2015-03-19 |
SG11201601826YA (en) | 2016-04-28 |
CA2923950C (en) | 2018-07-03 |
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