JP2015035530A - 基板処理システム - Google Patents
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- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims abstract description 541
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 406
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 claims abstract description 208
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 94
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 63
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 56
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 claims description 36
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 28
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 25
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 9
- 230000010354 integration Effects 0.000 claims description 8
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 8
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 31
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 26
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 16
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 8
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4401—Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67276—Production flow monitoring, e.g. for increasing throughput
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Abstract
【解決手段】 制御部70は、PM10A,10B,10C,10Dについて、予め定められた規則に基づき基板Wの処理やコンディショニングを行う優先順位を決定する。そして、全てのPM10について1回ずつコンディショニングを実施する1サイクルの間に、全てのPM10で同時に基板Wの処理を行っている全処理室同時使用状態が発生しないように制御する。コンディショニングCの実施タイミングは、PM10A,10B,10C,10Dにおいて重なっておらず、167枚ずつ順次ずれたサイクルが形成される。
【選択図】図1
Description
P=N/(n−1)(ただし、小数点以下は、繰上げまたは切捨て)
となるように、前記他の各処理室への前記搬送装置による1枚の前記基板の搬送時間、及び一つの前記処理室のコンディショニング時間を調節するものであってもよい。
第1規則:
前記第1から第4の処理室の中で、前記積算部でカウントされた前記基板の積算処理枚数が降順で3番目に大きい処理室の積算処理枚数が(N×3/6)枚未満(ただし、小数点以下は、繰上げ)であるとき、前記基板の積算処理枚数が降順で1番目、2番目及び3番目の処理室を使用して処理を行う;
第2規則;
前記第1から第4の処理室の中で、前記積算部でカウントされた前記基板の積算処理枚数が降順で2番目に大きい処理室の積算処理枚数が(N×5/6)枚未満(ただし、小数点以下は、繰上げ)であるとき、前記基板の積算処理枚数が降順で1番目、2番目及び4番目の処理室を使用して処理を行う;
第3規則;
前記第1規則及び第2規則のいずれにも該当しない場合、前記積算部でカウントされた前記基板の積算処理枚数が降順で1番目、3番目及び4番目の前記処理室を使用して処理を行う;
(ただし、第1規則、第2規則、第3規則の順に優先して適用される。また、各処理室の積算処理枚数が同じ場合は、第1の処理室、第2の処理室、第3の処理室、第4の処理室の順に適用する)
に基づき、次に基板の処理を行う処理室を決定する手順を繰り返し実行することによって、各処理室で行われるコンディショニングの時期が重ならず、かつ、いずれか1つの処理室でコンディショニングが実施され、他の処理室で基板の処理が行われている状態を実現させるものであってもよい。
各処理室において前回のクリーニング終了後もしくは前回のプリコート
本発明の第2の観点の基板処理システムにおいて、前記制御部は、前記搬送装置の動作を制御する搬送制御部と、各処理室への基板の搬送順序を設定する搬送
処理終了後に処理した前記基板の処理枚数又は成膜された薄膜の膜厚を積算する積算部と、
前記複数の処理室について、予め定められた規則に基づき、コンディショニングを行う優先順位を決定する処理室順位決定部と、各処理室でコンディショニングを実行させる実行指令部と、
を有している。そして、前記制御部は、前記基板処理システムに使用可能な状態で含まれる前記処理室の数をn(ここで、nは正の整数である)とし、1ロット内に含まれる前記基板の最大枚数を25枚とし、かつ全ての前記処理室について1回ずつコンディショニングを実施するまでを1サイクルとしたとき、該1サイクルの間に、全ての前記処理室で同時に基板の処理を行っている全処理室同時使用状態で前記処理室毎に処理される基板の数が25/n枚(ただし、小数点以下は、繰上げ)を超えないように制御する。
P=N/(n−1)(ただし、小数点以下は、繰上げまたは切捨て)
となるように、前記他の各処理室への前記搬送装置による1枚の前記基板の搬送時間、及び一つの前記処理室のコンディショニング時間を調節するものであってもよい。
前記基板処理システムに使用可能な状態で含まれる全ての前記処理室を使用して前記基板を処理した場合に、前記1ロットの処理が終了した時点で、各処理室内での積算処理枚数が最大の処理室でコンディショニングを実行する;
(ただし、1ロットの処理が終了した時点で各処理室の積算処理枚数が同じ場合は、第1の処理室、第2の処理室、第3の処理室、第4の処理室の順に適用する)
に基づき、次にコンディショニングを行う処理室を決定する手順を繰り返し実行することによって、全ての前記処理室について1回ずつコンディショニングを実施する1サイクルの間に、全ての前記処理室で同時に基板の処理を行っている全処理室同時使用状態で前記処理室毎に処理される基板の枚数が25/n枚(ただし、小数点以下は、繰上げ)を超えない状態を実現させるものであってもよい。
まず、図1を参照して、本発明の第1の実施の形態に係る基板処理システムの構成について説明する。図1は、本実施の形態に係る基板処理システムの概略の構成を示す平面図である。本実施の形態に係る基板処理システム1は、連続する複数の動作を伴って、例えば半導体デバイス製造用の基板Wに対して、成膜処理を施すシステムである。
(1)後述の第1規則、第2規則及び第3規則は、1ロットがX枚の基板Wを含むとして、全PMの累積処理枚数がXの倍数のタイミングで適用される。
(2)コンディショニングは、全PMの累積処理枚数がXの倍数のときに開始する。
(3)コンディショニング終了後は、すぐにコンディショニングが終了したPMを使用する。なお、本実施の形態では、1ロットが25枚の基板Wを含む(X=25)と仮定する。
P=N/(n−1)(ただし、小数点以下は、繰上げまたは切捨て)
となるように制御する。具体的には、制御部70は、処理可能な他の各PM10への第1の搬送装置21,第2の搬送装置25による1枚の基板Wの搬送時間、及び一つのPM10のコンディショニング時間などを調節する。
PM10A,10B,10C,10Dの中で、積算部132でカウントされた基板Wの積算処理枚数Mが降順で3番目に大きいPM10の積算処理枚数Mが(N×3/6)枚未満(ただし、小数点以下は、繰上げ)であるとき、基板Wの積算処理枚数Mが降順で1番目、2番目及び3番目のPM10を使用して処理を行う。
PM10A,10B,10C,10Dの中で、積算部132でカウントされた基板Wの積算処理枚数Mが降順で2番目に大きいPM10の積算処理枚数Mが(N×5/6)枚未満(ただし、小数点以下は、繰上げ)であるとき、基板Wの積算処理枚数Mが降順で1番目、2番目及び4番目のPM10を使用して処理を行う。
上記の第1規則及び第2規則のいずれにも該当しない場合、積算部132でカウントされた基板Wの積算処理枚数Mが降順で1番目、3番目及び4番目のPM10を使用して処理を行う。
PM10AとPM10BとPM10Cとの組み合わせ…使用比率3
第2規則に従う組み合わせ:
PM10AとPM10BとPM10Dとの組み合わせ…使用比率2
第3規則に従う組み合わせ:
PM10AとPM10CとPM10Dとの組み合わせ…使用比率1
PM10A,10B,10C,10Dの中で、積算部132でカウントされた基板Wの積算処理枚数Mが降順で3番目に大きいPM10の積算処理枚数Mが250枚未満であるとき、基板Wの積算処理枚数Mが降順で1番目、2番目及び3番目のPM10を使用して処理を行う。
PM10A,10B,10C,10Dの中で、積算部132でカウントされた基板Wの積算処理枚数Mが降順で2番目に大きいPM10の積算処理枚数Mが417枚未満であるとき、基板Wの積算処理枚数Mが降順で1番目、2番目及び4番目のPM10を使用して処理を行う。
上記の第1規則及び第2規則のいずれにも該当しない場合、積算部132でカウントされた基板Wの積算処理枚数Mが降順で1番目、3番目及び4番目のPM10を使用して処理を行う。
区間1は、初期状態であり、どのPM10においても基板Wの処理は行われていない。
区間2では、第1規則により、PM10A,10B,10Cで基板Wの処理を行う。
区間3では、第2規則により、PM10A,10B,10Dで基板Wの処理を行う。
区間4では、第3規則により、PM10A,10C,10Dで基板Wの処理を行う。
区間5では、PM10Aでコンディショニングを実行する。その途中でPM10Bにおける基板Wの積算処理枚数Mが500枚に達する(つまり、M≧N)。
区間7では、PM10Cにおける基板Wの積算処理枚数Mが500枚を超過する(M≧N)。
区間8では、PM10Bのコンディショニング完了まで61枚の基板Wの処理を行う。
区間9では、PM10Dにおける基板Wの積算処理枚数Mが500枚を超過する(M≧N)。
区間10では、PM10Cのコンディショニング完了まで96枚の基板Wの処理を行う。
区間12では、第1規則により、PM10A,10B,PM10Cで基板Wの処理を行う。
区間13では、第2規則により、PM10A,10B,10Dで基板Wの処理を行う。
区間14では、第3規則により、PM10A,10C,10Dで基板Wの処理を行う。
区間15では、PM10Aでコンディショニングを実行する。その途中でPM10Bにおける基板Wの積算処理枚数Mが500枚を超過する(M≧N)。
区間17では、PM10Cにおける基板Wの積算処理枚数Mが500枚を超過する(M≧N)。
区間18では、PM10Bのコンディショニング完了まで6枚の基板Wを処理する。
区間19では、PM10Dにおける基板Wの積算処理枚数Mが500枚を超過する(M≧N)。
区間20では、PM10Cのコンディショニング完了まで48枚の基板Wを処理する。
区間22では、第1規則により、PM10A、PM10B、PM10Cで基板Wの処理を行う。
区間23では、第2規則により、PM10A,10B,10Dで基板Wの処理を行う。
区間24では、PM10Aでコンディショニングを実行する。その途中でPM10Bにおける基板Wの積算処理枚数Mが500枚を超過する(M≧N)。
区間25では、PM10Aのコンディショニング完了まで83枚又は84枚の基板Wを処理する。
区間27では、第1規則により、PM10A,10C,10Dで基板Wの処理を行う。
区間28では、PM10Cでコンディショニングを実行する。
区間29では、第1規則により、PM10A,10B,10Dで基板Wの処理を行う。
区間30では、PM10Dでコンディショニングを実行する。
区間32では、PM10Aでコンディショニングを実行する。その途中でPM10Bにおける基板Wの積算処理枚数Mが500枚に到達する(M≧N)。
区間33では、PM10Aのコンディショニング完了まで83枚又は84枚の基板Wを処理する。
区間34では、PM10Bのコンディショニング完了まで83枚又は84枚の基板Wを処理する。
区間35では、第1規則により、PM10A,10C,10Dで基板Wの処理を行う。
区間37では、第1規則により、PM10A,10B,10Dで基板Wの処理を行う。
区間38では、PM10Dでコンディショニングを実行する。
区間39では、PM10Aでコンディショニングを実行する。その途中でPM10Bにおける基板Wの積算処理枚数Mが500枚に到達する(M≧N)。
区間40では、PM10Aのコンディショニング完了まで9枚の基板Wを処理する。
区間42では、第1規則により、PM10A,10C,10Dで基板Wの処理を行う。
区間43では、PM10Cでコンディショニングを実行する。
区間44では、PM10Dでコンディショニングを実行する。
区間45では、PM10Aでコンディショニングを実行する。
区間47では、PM10Cでコンディショニングを実行する。
区間48では、PM10Dでコンディショニングを実行する。
次に、本発明の効果を確認したシミュレーション試験について説明する。基板処理システム1と同様の構成の基板処理システムを想定し、以下の条件で基板Wの処理と、処理室30のコンディショニングおよび従来の短時間プリコートを繰り返し実施した場合の処理効率をシミュレーションした。
プロセスレシピ時間:60秒
短時間プリコート周期:基板Wを25枚処理毎
短時間プリコート時間:87秒
コンディショニング周期:400枚
コンディショニング時間:5.25時間
次に、図8〜10を参照しながら、本実施の形態の基板処理システム1において行われる短時間プリコート方法について説明する。図8は、本実施の形態の基板処理システム1において行われる短時間プリコート方法の手順を説明するフローチャートである。図9は、本実施の形態の基板処理システム1において行われる長サイクルのプリコートの手順を説明するフローチャートである。図10は、本実施の形態の基板処理システム1において行われる短サイクルのプリコートの手順を説明するフローチャートである。
次に、本発明の効果を確認したシミュレーション試験について説明する。基板処理システム1と同様の構成の基板処理システムを想定し、以下の条件で基板Wの処理と、処理室30の短時間プリコート及びコンディショニングを繰り返し実施した場合の処理効率をシミュレーションした。
プロセスレシピ時間:70秒
短時間プリコート時間:87秒
コンディショニング周期:400枚
コンディショニング時間:5.25時間
条件A(比較例);短時間プリコートを、基板Wを10枚処理毎に実施した。
条件B(実施例);短時間プリコートを、前回のコンディショニングからの基板Wの積算処理枚数Mが250枚までは25枚処理毎に実施し、積算処理枚数Mが250枚を超えてからは10枚処理毎に実施した。
なお、条件A、Bともに、順次コンディショニング状態が作られるように制御を行った。
次に、図11を参照しながら、本発明の第2の実施の形態の基板処理システムにおいて行われる基板処理方法について説明する。本実施の形態の基板処理方法は、図1に示したものと同様の構成の基板処理システム1において実施することができる。以下、適宜、図1〜5A、5Bも参照しながら説明する。図11は、本実施の形態の基板処理方法におけるPM10A,10B,10C,10DにおけるコンディショニングCの実施タイミングと、前回のコンディショニング終了後に処理した基板Wの積算処理枚数Mを示している。この積算処理枚数Mは、コンディショニングCの実施タイミングを基準にして、MC73の積算部132においてカウントされたものである。
(1)後述の第4規則は、1ロットがX枚の基板Wを含むとして、全PMの累積処理枚数がXの倍数のタイミングで適用される。
(2)コンディショニングは、全PMの累積処理枚数がXの倍数のときに開始する。
(3)コンディショニング終了後は、すぐにコンディショニングが終了したPMを使用する。本実施の形態では、1ロットが25枚の基板Wを含む(X=25)と仮定する。
P=N/(n−1)(ただし、小数点以下は、繰上げまたは切捨て)
となるように制御する。具体的には、処理可能な他の各PM10への第1の搬送装置21,第2の搬送装置25による1枚の基板Wの搬送時間、及び一つのPM10のコンディショニング時間などを調節する。
基板処理システム1に使用可能な状態で含まれる全てのPM10を使用して基板Wを処理した場合に、複数の基板Wによって構成される1ロットの処理が終了した時点で、各PM10内での積算処理枚数Mが最大の処理室でコンディショニングを実行する。
区間1は、初期状態であり、どのPM10においても基板Wの処理は行われていない。
区間2では、4つのPM10A,10B,10C,10Dで基板Wを処理する。
区間3では、第4規則により、PM10Aでコンディショニングを実行する。
区間4では、4つのPM10A,10B,10C,10Dで基板Wを処理する。
区間5では、PM10Bでコンディショニングを実行する。
区間7では、PM10Cでコンディショニングを実行する。その途中でPM10Dが500枚を超過する(M≧N)。
区間8では、PM10Cのコンディショニング完了まで17枚の基板Wの処理を行う。
区間9では、PM10Dのコンディショニング完了まで150枚の基板Wの処理を行う。
区間10では、4つのPM10A,10B,10C,10Dで基板Wを処理する。
区間12では、4つのPM10A,10B,10C,10Dで基板Wを処理する。
区間13では、PM10Bでコンディショニングを実行する。
区間14では、4つのPM10A,10B,10C,10Dで基板Wを処理する。
区間15では、PM10Cでコンディショニングを実行する。その途中でPM10Dが500枚に到達する(M≧N)。
区間17では、PM10Dのコンディショニング完了まで150枚の基板Wを処理する。
区間18では、4つのPM10A,10B,10C,10Dで基板Wを処理する。
区間19では、PM10Aでコンディショニングを実行する。
区間20では、4つのPM10A,10B,10C,10Dで基板Wを処理する。
区間22では、4つのPM10A,10B,10C,10Dで基板Wを処理する。
区間23では、PM10Cでコンディショニングを実施する。その途中でPM10Dが500枚に到達する(M≧N)。
Claims (8)
- 複数の基板を順次処理する基板処理システムであって、
前記基板に対し、同種の処理を施す複数の処理室と、
前記複数の処理室へ前記基板を搬送する搬送装置と、
前記複数の処理室及び前記搬送装置を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記搬送装置の動作を制御する搬送制御部と、
各処理室への基板の搬送順序を設定する搬送順序設定部と、
各処理室において前回のクリーニング終了後もしくは前回のプリコート処理終了後に処理した前記基板の処理枚数又は成膜された薄膜の膜厚を積算する積算部と、
前記複数の処理室について、予め定められた規則に基づき、前記基板の処理を行う優先順位を決定する処理室順位決定部と、
各処理室でコンディショニングを実行させる実行指令部と、
を有しており、
全ての前記処理室について1回ずつコンディショニングを実施する1サイクルの間に、全ての前記処理室で同時に基板の処理を行っている全処理室同時使用状態が発生しないように制御することを特徴とする基板処理システム。 - 前記制御部は、前記基板処理システムに使用可能な状態で含まれる前記処理室の数をn(ここで、nは正の整数である)とし、各処理室において前回のコンディショニング終了後、次のコンディショニングを行うまでの前記基板の処理枚数の設定値をN(ここで、Nは正の整数である)としたとき、一の処理室でコンディショニングを実施している間に、他の各処理室でそれぞれ処理される基板の枚数Pが、
P=N/(n−1)(ただし、小数点以下は、繰上げまたは切捨て)
となるように、前記他の各処理室への前記搬送装置による1枚の前記基板の搬送時間、及び一つの前記処理室のコンディショニング時間を調節する請求項1に記載の基板処理システム。 - 前記処理室は、使用可能な状態の第1の処理室、第2の処理室、第3の処理室及び第4の処理室を含み、
前記処理室順位決定部は、以下の第1規則、第2規則及び第3規則、
第1規則:
前記第1から第4の処理室の中で、前記積算部でカウントされた前記基板の積算処理枚数が降順で3番目に大きい処理室の積算処理枚数が(N×3/6)枚未満(ただし、小数点以下は、繰上げ)であるとき、前記基板の積算処理枚数が降順で1番目、2番目及び3番目の処理室を使用して処理を行う;
第2規則;
前記第1から第4の処理室の中で、前記積算部でカウントされた前記基板の積算処理枚数が降順で2番目に大きい処理室の積算処理枚数が(N×5/6)枚未満(ただし、小数点以下は、繰上げ)であるとき、前記基板の積算処理枚数が降順で1番目、2番目及び4番目の処理室を使用して処理を行う;
第3規則;
前記第1規則及び第2規則のいずれにも該当しない場合、前記積算部でカウントされた前記基板の積算処理枚数が降順で1番目、3番目及び4番目の前記処理室を使用して処理を行う;
(ただし、第1規則、第2規則、第3規則の順に優先して適用される。また、各処理室の積算処理枚数が同じ場合は、第1の処理室、第2の処理室、第3の処理室、第4の処理室の順に適用する)
に基づき、次に基板の処理を行う処理室を決定する手順を繰り返し実行することによって、各処理室で行われるコンディショニングの時期が重ならず、かつ、いずれか1つの処理室でコンディショニングが実施され、他の処理室で基板の処理が行われている状態を実現させる請求項2に記載の基板処理システム。 - 前記制御部は、
各処理室でプリコート処理を実行させるコンディショニング実行指令部と、
前記プリコート処理の種類を選択するプリコート選択部と、
をさらに備えており、
前記プリコート選択部は、各処理室において前回のコンディショニング終了後、次のコンディショニングを行うまでの間に前記積算部でカウントされた前記基板の積算処理枚数が所定の基準値以下のときは、前記処理室に対して、前記基板をa枚処理する毎に前記処理室の短時間プリコート処理を行う長サイクルのプリコート処理を選択し、前記所定の基準値を超えているときは、前記a枚よりも少ないb枚毎に前記処理室の短時間プリコート処理を行う短サイクルのプリコート処理を選択する、請求項1から3のいずれか1項に記載の基板処理システム。 - 複数の基板を順次処理する基板処理システムであって、
前記基板に対し、同種の処理を施す複数の処理室と、
前記複数の処理室へ前記基板を搬送する搬送装置と、
前記複数の処理室及び前記搬送装置を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記搬送装置の動作を制御する搬送制御部と、
各処理室への基板の搬送順序を設定する搬送順序設定部と、
各処理室において前回のクリーニング終了後もしくは前回のプリコート処理終了後に処理した前記基板の処理枚数又は成膜された薄膜の膜厚を積算する積算部と、
前記複数の処理室について、予め定められた規則に基づき、コンディショニングを行う優先順位を決定する処理室順位決定部と、
各処理室でコンディショニングを実行させる実行指令部と、
を有しており、
前記制御部は、前記基板処理システムに使用可能な状態で含まれる前記処理室の数をn(ここで、nは正の整数である)とし、1ロット内に含まれる前記基板の最大枚数を25枚とし、かつ、全ての前記処理室について1回ずつコンディショニングを実施するまでを1サイクルとしたとき、該1サイクルの間に、全ての前記処理室で同時に基板の処理を行っている全処理室同時使用状態で前記処理室毎に処理される基板の数が25/n枚(ただし、小数点以下は、繰上げ)を超えないように制御することを特徴とする基板処理システム。 - 前記制御部は、各処理室において前回のコンディショニング終了後、次のコンディショニングを行うまでの前記基板の処理枚数の設定値をN(ここで、Nは正の整数である)としたとき、一の処理室でコンディショニングを実施している間に、他の各処理室でそれぞれ処理される基板の枚数Pが、
P=N/(n−1)(ただし、小数点以下は、繰上げまたは切捨て)
となるように、前記他の各処理室への前記搬送装置による1枚の前記基板の搬送時間、及び一つの前記処理室のクリーニング時間を調節する請求項5に記載の基板処理システム。 - 前記処理室は、使用可能な状態の第1の処理室、第2の処理室、第3の処理室及び第4の処理室を含み、以下の規則;
前記基板処理システムに使用可能な状態で含まれる全ての前記処理室を使用して前記基板を処理した場合に、前記1ロットの処理が終了した時点で、各処理室内での積算処理枚数が最大の処理室でコンディショニングを実行する;
(ただし、1ロットの処理が終了した時点で各処理室の積算処理枚数が同じ場合は、第1の処理室、第2の処理室、第3の処理室、第4の処理室の順に適用する)
に基づき、次にコンディショニングを行う処理室を決定する手順を繰り返し実行することによって、全ての前記処理室について1回ずつコンディショニングを実施する1サイクルの間に、全ての前記処理室で同時に基板の処理を行っている全処理室同時使用状態で前記処理室毎に処理される基板の枚数が25/n枚(ただし、小数点以下は、繰上げ)を超えない状態を実現させる請求項6に記載の基板処理システム。 - 前記制御部は、
各処理室でプリコート処理を実行させるコンディショニング実行指令部と、
前記プリコート処理の種類を選択するプリコート選択部と、
をさらに備えており、
前記プリコート選択部は、各処理室において前回のコンディショニング終了後、次のコンディショニングを行うまでの間に前記積算部でカウントされた前記基板の積算処理枚数が所定の基準値以下のときは、前記処理室に対して、前記基板をa枚処理する毎に前記処理室の短時間プリコート処理を行う長サイクルのプリコート処理を選択し、前記所定の基準値を超えているときは、前記a枚よりも少ないb枚毎に前記処理室の短時間プリコート処理を行う短サイクルのプリコート処理を選択する、請求項5から7のいずれか1項に記載の基板処理システム。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013166260A JP6105436B2 (ja) | 2013-08-09 | 2013-08-09 | 基板処理システム |
TW103127018A TWI631615B (zh) | 2013-08-09 | 2014-08-07 | Substrate processing system |
KR1020140101534A KR101742356B1 (ko) | 2013-08-09 | 2014-08-07 | 기판 처리 시스템 |
US14/455,795 US9845531B2 (en) | 2013-08-09 | 2014-08-08 | Substrate processing system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013166260A JP6105436B2 (ja) | 2013-08-09 | 2013-08-09 | 基板処理システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015035530A true JP2015035530A (ja) | 2015-02-19 |
JP6105436B2 JP6105436B2 (ja) | 2017-03-29 |
Family
ID=52447489
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013166260A Active JP6105436B2 (ja) | 2013-08-09 | 2013-08-09 | 基板処理システム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9845531B2 (ja) |
JP (1) | JP6105436B2 (ja) |
KR (1) | KR101742356B1 (ja) |
TW (1) | TWI631615B (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6089082B1 (ja) * | 2015-09-29 | 2017-03-01 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、プログラムおよび記録媒体 |
TWI575638B (zh) * | 2015-08-27 | 2017-03-21 | Hitachi Int Electric Inc | A substrate processing apparatus, a manufacturing method, a program, and a recording medium of a semiconductor device |
US9974154B2 (en) | 2013-08-26 | 2018-05-15 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Power supply device and method for plasma generation |
JP2019169663A (ja) * | 2018-03-26 | 2019-10-03 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7348440B2 (ja) * | 2018-03-20 | 2023-09-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 統合的な半導体処理モジュールを組み込んだ自己認識及び補正異種プラットフォーム及びその使用方法 |
JP6719523B2 (ja) * | 2018-09-18 | 2020-07-08 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体 |
KR102634948B1 (ko) * | 2020-08-26 | 2024-02-08 | 삼성전자주식회사 | 기판 처리 시스템 및 기판 처리 장치 |
US11823932B2 (en) * | 2020-08-26 | 2023-11-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Substrate processing system and substrate processing apparatus |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003045766A (ja) * | 2001-08-02 | 2003-02-14 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体製造装置及び半導体製造装置の保守判断方法 |
JP2003209058A (ja) * | 2002-01-15 | 2003-07-25 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体製造装置 |
JP2012079922A (ja) * | 2010-10-01 | 2012-04-19 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
JP2012216630A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Tokyo Electron Ltd | コンディショニング方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体及び基板処理装置 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2644912B2 (ja) * | 1990-08-29 | 1997-08-25 | 株式会社日立製作所 | 真空処理装置及びその運転方法 |
USRE39824E1 (en) * | 1990-08-29 | 2007-09-11 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus and operating method with wafers, substrates and/or semiconductors |
US6650409B1 (en) * | 1991-04-02 | 2003-11-18 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device producing method, system for carrying out the same and semiconductor work processing apparatus included in the same system |
JPH053174A (ja) | 1991-06-26 | 1993-01-08 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
US5565034A (en) * | 1993-10-29 | 1996-10-15 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for processing substrates having a film formed on a surface of the substrate |
US5551165A (en) * | 1995-04-13 | 1996-09-03 | Texas Instruments Incorporated | Enhanced cleansing process for wafer handling implements |
DE10103253A1 (de) * | 2001-01-25 | 2002-08-01 | Leica Microsystems | Verfahren und Anordnung zum Transportieren und Inspizieren von Halbleitersubstraten |
JP2002313789A (ja) * | 2001-04-13 | 2002-10-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子デバイス製造装置の反応室クリーニング方法 |
US20030045098A1 (en) * | 2001-08-31 | 2003-03-06 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for processing a wafer |
JP2003277935A (ja) | 2002-03-19 | 2003-10-02 | Seiko Epson Corp | プラズマ処理方法、クリーニング判断システム、クリーニングレシピ選択システム、プログラムおよび情報記憶媒体 |
US7113253B2 (en) * | 2003-09-16 | 2006-09-26 | Asml Netherlands B.V. | Method, apparatus and computer product for substrate processing |
JP4492963B2 (ja) * | 2005-06-14 | 2010-06-30 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 薄膜の成膜方法、気相成長装置、プログラム |
JP5294681B2 (ja) * | 2008-04-28 | 2013-09-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及びその基板搬送方法 |
JP5616591B2 (ja) * | 2008-06-20 | 2014-10-29 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法及び基板処理装置 |
KR102002042B1 (ko) * | 2012-05-29 | 2019-07-19 | 주성엔지니어링(주) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
JP5571122B2 (ja) * | 2012-06-06 | 2014-08-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理装置の制御方法 |
-
2013
- 2013-08-09 JP JP2013166260A patent/JP6105436B2/ja active Active
-
2014
- 2014-08-07 KR KR1020140101534A patent/KR101742356B1/ko active IP Right Grant
- 2014-08-07 TW TW103127018A patent/TWI631615B/zh active
- 2014-08-08 US US14/455,795 patent/US9845531B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003045766A (ja) * | 2001-08-02 | 2003-02-14 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体製造装置及び半導体製造装置の保守判断方法 |
JP2003209058A (ja) * | 2002-01-15 | 2003-07-25 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体製造装置 |
JP2012079922A (ja) * | 2010-10-01 | 2012-04-19 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
JP2012216630A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Tokyo Electron Ltd | コンディショニング方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体及び基板処理装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9974154B2 (en) | 2013-08-26 | 2018-05-15 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Power supply device and method for plasma generation |
TWI575638B (zh) * | 2015-08-27 | 2017-03-21 | Hitachi Int Electric Inc | A substrate processing apparatus, a manufacturing method, a program, and a recording medium of a semiconductor device |
JP6089082B1 (ja) * | 2015-09-29 | 2017-03-01 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、プログラムおよび記録媒体 |
CN106558516A (zh) * | 2015-09-29 | 2017-04-05 | 株式会社日立国际电气 | 衬底处理装置及半导体器件的制造方法 |
JP2017069315A (ja) * | 2015-09-29 | 2017-04-06 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、プログラムおよび記録媒体 |
US9728431B2 (en) | 2015-09-29 | 2017-08-08 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Method of manufacturing semiconductor device |
JP2019169663A (ja) * | 2018-03-26 | 2019-10-03 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101742356B1 (ko) | 2017-05-31 |
TW201521110A (zh) | 2015-06-01 |
US9845531B2 (en) | 2017-12-19 |
TWI631615B (zh) | 2018-08-01 |
KR20150018450A (ko) | 2015-02-23 |
JP6105436B2 (ja) | 2017-03-29 |
US20150040828A1 (en) | 2015-02-12 |
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