JP2015031717A - 光学フィルム - Google Patents

光学フィルム Download PDF

Info

Publication number
JP2015031717A
JP2015031717A JP2013158932A JP2013158932A JP2015031717A JP 2015031717 A JP2015031717 A JP 2015031717A JP 2013158932 A JP2013158932 A JP 2013158932A JP 2013158932 A JP2013158932 A JP 2013158932A JP 2015031717 A JP2015031717 A JP 2015031717A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alignment
photo
layer
optical film
liquid crystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013158932A
Other languages
English (en)
Inventor
孝二 今吉
Koji Imayoshi
孝二 今吉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP2013158932A priority Critical patent/JP2015031717A/ja
Publication of JP2015031717A publication Critical patent/JP2015031717A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

【課題】基材に光配向層と液晶樹脂層を塗布し3D表示用の光学フィルムを形成する場合、基材の塗工面Aの凹凸により光配向層の配向規制力がバラツキ、配向不良が発生する問題があった。
【解決手段】ストライプ状に形成された配向領域の中で同一の配向方向を有する液晶樹脂層40の配向領域が、そのストライプの短辺方向に交互に異なる配向方向を有するように形成されている光学フィルム10であって、前記光学フィルムの基材20の上に光配向層30と液晶樹脂層40がこの順に積層されてなり、前記配向領域の配向方向の一方は前記ストライプの長辺方向に平行であり、隣接する配向領域の配向方向は前記ストライプの短辺方向に平行であり、前記光配向層の厚さはこの光配向層が積層される面の表面粗さに対応させて設定することを特徴とする光学フィルム。
【選択図】図1

Description

本発明は、3Dディスプレイ、印刷物を含めた立体表示物、位相差を利用した液晶表示装置、潜像表示体などに用いる3D表示用の光学フィルムに関する。
従来、長尺状のフィルムの塗工される面(以降、塗工面Aと称する。)に光配向樹脂を塗工し、複数のローラでフィルムを支持しながらフォトマスクを介して露光した後、液晶樹脂を光配向層の上に塗工してパターンを形成する技術が知られている(例えば、特許文献1)。
しかし、特許文献1の方法によれば、フィルムの塗工面Aにフィルムの製造工程で生じたナノオーダーの表面凹凸が存在し、光配向樹脂をある条件で塗工した場合、塗工面Aの表面凹凸に追従できず、広い面積で配向不良が発生する問題があった。
また、フィルムとして一方の面に反射防止膜やハードコート膜などを形成したものを使用し、その裏面(塗工面A)に光配向樹脂を塗工する構成もある。この構成では、反射防止膜やハードコート膜を形成する際、フィルム搬送で複数のローラが塗工面Aに接触することで、塗工面Aの表面凹凸が大きくなり、光配向樹脂をある条件で塗工した場合、広い面積で配向不良が発生する問題があった。ここで塗工面Aの裏面を塗工面Bと称すことにする。
更に、反射防止膜やハードコート膜を塗工形成して巻き取る際の塗工面Bとフィルム裏面の塗工面Aが接触することで、塗工面Bの凹凸が塗工面Aに転写し、塗工面Aの表面凹凸が大きくなり、光配向樹脂をある条件で塗工した場合、広い面積で配向不良が発生する問題があった。
一方、長尺状のフィルムを連続搬送しながら露光する為、光配向層の反応に必要な光量を、露光機の光源の照度と搬送速度の関係の中で得る為に、光配向層の膜厚に上限が存在するという問題もあった。
特開平4−97155号公報
上記の問題点に鑑み、本発明は、光配向層の厚さと使用するフィルムの表面凹凸の範囲を規定した材料を使用することにより配向不良を生じない光配向層からなる光学フィルムを提供することを課題とする。
上記の課題を解決する手段として、請求項1に記載の発明は、ストライプ状に形成された配向領域の中で同一の配向方向を有する液晶樹脂層の配向領域が、そのストライプの短辺方向に交互に異なる配向方向を有するように形成されている光学フィルムであって、前記光学フィルムの基材の上に光配向層と液晶樹脂層がこの順に積層されてなり、前記配向領域の配向方向の一方は前記ストライプの長辺方向に平行であり、隣接する配向領域の配向方向は前記ストライプの短辺方向に平行であり、前記光配向層の厚さはこの光配向層が
積層される面の表面粗さに対応させて設定することを特徴とする光学フィルムである。
請求項2に記載の発明は、前記光配向層の厚さが20nm以上、130nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルムである。
請求項3に記載の発明は、JIS B 0601:2001によって求められる前記基材の十点平均粗さRzjisが、前記光配向層の厚さの2倍以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の光学フィルムである。
請求項4に記載の発明は、基材と光配向層との間に平滑化層を備えており、JIS B
0601:2001によって求められる前記基材の上に形成した平滑化層の十点平均粗さRzjisが、前記光配向層の厚さの2倍以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の光学フィルムである。
請求項5に記載の発明は、JIS K 7136によって求められる前記基材の表面凹凸による光散乱によるヘイズが1.5%以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の光学フィルムである。
請求項6に記載の発明は、JIS K 7136によって求められる、前記基材の上に平滑化層と光配向層をこの順に形成した材料の光散乱によるヘイズが1%以下であることを特徴とする請求項4に記載の光学フィルムである。
請求項7に記載の発明は、前記基材と前記平滑化層の内部位相差の合成が10nm以下であることを特徴とする請求項4または6に記載の光学フィルムである。
本発明になる光配向層の厚さと使用するフィルムの表面凹凸の範囲を規定した材料を使用することにより、配向不良を生じない光配向層からなる光学フィルムを提供することが可能となる。
本発明の第1の実施形態における光学フィルム10の構成を示す概略断面図。 本発明の第2の平滑化層を設けた実施形態における光学フィルム10の構成を示す概略断面図。 本発明の光学フィルム10を備える立体表示装置150の一例を示す分解斜視図を示す。 本発明の光学フィルム製造装置101の全体構成の一例を示す概略断面図。 本発明の光学フィルム10の製造工程の一例を説明するための概略断面図であり、(a)は基材20の断面図であり、(b)は基材20の表面に光配向層塗工部112が光配向樹脂28を塗布している状況を示す断面図であり、(c)は光配向樹脂28の一部にパターン露光している状況を示す断面図であり、(d)は光配向樹脂28の(c)で露光していない部位にパターン露光している状況を示す断面図であり、(e)は光配向層30の上に液晶樹脂38を塗布している状況を示す断面図であり、(f)は液晶樹脂層38の下地の光配向層の各光配向層の配向領域32、34に対応する領域が下地と同じ方向に配向した状況を示す断面図である。
以下、本発明の実施形態を、図面を用いて説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
図1は、第1の実施形態における光学フィルム10の構成を示す。光学フィルム10は、例えば、立体表示装置の画像光の出射側に設けられる。光学フィルム10の一例は位相差フィルムであって、入射した画像光を左目用偏光画像および右目用偏光画像に変換して出力する。
光学フィルム10は、基材20と、光配向層30と、液晶樹脂層40とをこの順に備える。基材20は、光配向層30を支持する長尺状のフィルムである。基材20は少なくとも可視光に対して透明であって、光学的に等方であることが好ましい。基材20としては、例えば、シクロオレフィンポリマー(COP)フィルムまたはトリアセチルセルロース(TAC)フィルムまたはアクリルフィルムを使用することができる。
光配向層30は、基材20の塗布層を形成する面である塗工面Aに塗工され硬化した光配向樹脂である。光配向層30は、例えば、光分解型、光二量型、または光異性型等の光配向樹脂の分子が直線偏光の紫外線により所定の方向に配向されて硬化したものであって、塗布層を構成する高分子の配向方向が互いに異なる光配向層の配向領域32および34を有する。図1に示す例において、光配向層30は、Y方向に伸びるストライプ状の光配向層の配向領域32および34がX方向に交互に繰り返し配されたパターンを有する。ここで、Y方向とはストライプ状の配向領域の長辺方向に平行な方向を、またX方向とは短辺方向に平行な方向を指す。
液晶樹脂層40は、光配向層30の上に積層された液晶樹脂からなる層であり、例えばネマティック液晶樹脂からなる。液晶樹脂層40に含まれる液晶樹脂の高分子は、光配向層の配向領域32および34の配向方向に沿って配向する。これにより、液晶樹脂層40は、高分子の配向方向が互いに異なる液晶樹脂層の配向領域42および44を有する。図1に示す例において、液晶樹脂層40は、Y方向に伸びるストライプ状の液晶樹脂層の配向領域42および44がX方向に交互に繰り返し配されたパターンを有する。液晶樹脂層の配向領域42の配向方向50および配向領域44の配向方向60は、XY平面内で互いに直交している。この様な構成からなる光学フィルム10は、例えば、1/4波長板として機能する。
図2は、第2の実施形態における光学フィルム10の構成を示す。光学フィルム10は、例えば、立体表示装置の画像光の出射側に設けられる。光学フィルム10の一例は位相差フィルムであって、入射した画像光を左目用偏光画像および右目用偏光画像に変換して出力する。
光学フィルム10は、基材20と、平滑化層70、光配向層30と、液晶樹脂層40とを備える。また基材20の平滑化層70の形成面の裏面に反射防止層80を備える。
基材20は、光配向層30を支持する長尺状のフィルムである。基材20は少なくとも可視光に対して透明であって、光学的に等方であることが好ましい。基材20としては、例えば、シクロオレフィンポリマー(COP)フィルムまたはトリアセチルセルロース(TAC)フィルムまたはアクリルフィルムを使用することができる。
平滑化層70は、少なくとも可視光に対して透明であって、光学的に等方であることが好ましい。
光配向層30は、基材20の面上に積層されて硬化した光配向樹脂である。光配向層30は、例えば、光分解型、光二量型、または光異性型等の光配向樹脂の分子が直線偏光の紫外線により所定の方向に配向されて硬化したものであって、高分子の配向方向が互いに異なる光配向層の配向領域32および34を有する。図2に示す例において、光配向層30は、Y方向に伸びるストライプ状の光配向層の配向領域32および34がX方向に繰り返し配されたパターンを有する。
液晶樹脂層40は、光配向層30の上に積層された液晶樹脂からなる層である。液晶樹脂層40は、例えばネマティック液晶樹脂からなる。液晶樹脂層40に含まれる液晶樹脂の高分子は、光配向層の配向領域32および34の配向方向に沿って配向する。これにより、液晶樹脂層40は、高分子の配向方向が互いに異なる液晶樹脂層の配向領域42および44を有する。図2に示す例において、液晶樹脂層40は、Y方向に伸びるストライプ状の液晶樹脂層の配向領域42および44がX方向に繰り返し配されたパターンを有する。液晶樹脂層の配向領域42の配向方向50および液晶樹脂層の配向領域44の配向方向60は、XY平面内で互いに直交している。この様な構成からなる光学フィルム10は、例えば、1/4波長板として機能する。
図3は、光学フィルム100を備える立体画像表示装置150の分解斜視図の一例を示す。立体画像表示装置150は、光源152と、画像出力部154と、光学フィルム100とをこの順に備えている。画像出力部154は、光源側偏光板164、画像生成部168および出射側偏光板174を備えている。観察者がこの立体画像表示装置150が表示する立体画像を観察する場合、図3における光学フィルム100よりも右側から観察する。
光源152は、観察者から見て立体画像表示装置150の最も奥側に配され、立体画像表示装置150を使用している状態(以下、「立体画像表示装置150の使用状態」と略称する。)において、白色の無偏光光を光源側偏光板164の一面に向けて出射する。
光源側偏光板164は、画像生成部168の光源152側に配される。光源側偏光板164は、光源152から出射した無偏光光が入射すると、その無偏光光のうち透過軸方向と平行な偏光方向の直線偏光光を透過すると共に、吸収軸方向と平行な偏光方向の直線偏光光を遮断する。光源側偏光板164の透過軸の方向は、図3に矢印で示すように、観察者が立体画像表示装置150を見たときの水平方向の右手から鉛直方向に45度立ち上がった方向である。
画像生成部168は、右目画像生成領域178および左目画像生成領域180を有する。これら右目画像生成領域178および左目画像生成領域180は、図3に示すように、画像生成部168を立体画像表示装置150の画面の水平方向にストライプ状に区切った領域であり、それらの右目画像生成領域178および左目画像生成領域180が立体画像表示装置150の画面の鉛直方向に交互に繰り返し配されている。
立体画像表示装置150の使用状態において、画像生成部168の右目画像生成領域178および左目画像生成領域180には、それぞれ右目用画像および左目用画像が生成される。このときに光源側偏光板164を透過した光が画像生成部168の右目画像生成領域178に入射すると、右目画像生成領域178の透過光は右目用画像の画像光(以下、「右目用画像光」と略称する)となる。同様に、光源側偏光板164を透過した光が画像生成部168の左目画像生成領域180に入射すると、左目画像生成領域180の透過光は左目用画像の画像光(以下、「左目用画像光」と略称する)となる。
なお、右目画像生成領域178を透過した右目用画像光および左目画像生成領域180を透過した左目用画像光は、例えば、後述する出射側偏光板174における透過軸と同じ方向の偏光方向を有する直線偏光光になる。このような画像生成部168としては、例えば立体画像表示装置150の画面の水平方向および鉛直方向に、二次元的に複数の小さなセルが配され、各セルにおいて配向膜間に液晶を封止したLCD(液晶ディスプレイ)が
用いられる。
出射側偏光板174は、画像生成部168より観察者側に配される。この出射側偏光板174は、上記右目画像生成領域178を透過した右目用画像光、および、上記左目画像生成領域180を透過した左目用画像光が入射すると、これらのうち偏光方向が透過軸と平行な直線偏光を透過すると共に、偏光方向が吸収軸と平行な直線偏光を遮断する。ここで、出射側偏光板174における透過軸の方向は、図3に矢印で示すように、観察者が立体画像表示装置150を見たときの水平方向の左手から鉛直方向に45度立ち上がった方向である。
光学フィルム100は、出射側偏光板174に対して観察者側に配される。光学フィルム100は、第1偏光変調部104および第2偏光変調部106を有し、1/4波長板として機能する。この光学フィルム100における第1偏光変調部104および第2偏光変調部106の位置および大きさは、図3に示すように、画像生成部168の右目画像生成領域178および左目画像生成領域180の位置および大きさに対応している。したがって、立体画像表示装置150の使用状態において、右目用の第1偏光変調部104には、上記右目画像生成領域178を透過した右目用画像光が入射するとともに、左目用の第2偏光変調部106には、上記左目画像生成領域180を透過した左目用画像光が入射する。
第1偏光変調部104は、入射した右目用画像光を右回り円偏光に変換して透過する。また、第2偏光変調部106は、入射した左目用画像光を左回り円偏光に変換して透過する。したがって、第1偏光変調部104を透過した右目用画像光の円偏光の回転方向と、第2偏光変調部106を透過した左目用画像光の円偏光の回転方向は逆になる。
観察者のかける偏光眼鏡190の左目用レンズ194および右目用レンズ192は、この回転方向の異なる円偏光をそれぞれ選択的に透過させる。そして、観察者は、それぞれのレンズを通過した画像を左目および右目で観察することにより、立体画像を視認することができる。
図4は、本発明の3D表示用光学フィルムを製造するための光学フィルム製造装置101の全体構成の一例を示す。光学フィルム製造装置101は、長尺状の基材20をロールトゥロール方式で連続的に搬送しながら、塗布、乾燥、および露光等の工程を経て、複数の配向領域を有する光学フィルム10を製造する。以下の説明において、上流側とはフィルムの搬送方向の逆方向にあることを意味し、下流側とはフィルムの搬送方向と同じ方向にあることを意味する。図4の光学フィルム製造装置101は、供給部108、光配向層塗工部112、光配向層乾燥部114、配向処理部116、液晶樹脂層塗工部120、液晶樹脂層乾燥部122、液晶樹脂層硬化部124および巻取部110を備えている。
供給部108は、基材20の搬送方向における最も上流側に配され、光学フィルム10の支持体となる基材20を供給する。供給部108の一例は、送出ロールである。この場合、送出ロールの外周には基材20が予め巻かれていて、送出ロールが回転することにより基材20が巻き出される。
光配向層塗工部112は、供給部108の下流側に配され、基材20の塗工面Aに光配向樹脂28を塗布する。光配向層塗工部112は、搬送中の基材20に対して塗工が可能な塗工装置であればよく、例えば、ダイコータ、マイクログラビアコータまたはロールコータ等を使用することが可能である。
光配向層乾燥部114は、光配向層塗工部112の下流側に配され、基材20に塗布さ
れた光配向樹脂28を乾燥する。光配向層乾燥部114は、例えば、搬送中のフィルムを乾燥可能なオーブンまたは送風装置等の乾燥装置を使用することが可能である。
光配向処理部116は、光配向層乾燥部114の下流側に配され、基材20を長手方向に連続的に搬送しながら、乾燥された光配向樹脂28を直線偏光の紫外線で露光する。これにより、光配向処理部116は、所定の配向パターンを有する光配向層30を形成する(図1参照)。
液晶樹脂層塗工部120は、光配向処理部116の下流側に配され、光配向層30の上に液晶樹脂38を塗布する。液晶樹脂層塗工部120は、搬送中の基材20に対して塗工が可能な塗工装置であればよく、例えば、ダイコータ、マイクログラビアコータまたはロールコータ等が使用可能である。
液晶樹脂層乾燥部122は、液晶樹脂層塗工部120の下流側に配され、光配向層30の上に塗布された液晶樹脂38を乾燥する。液晶樹脂層乾燥部122は、例えば、搬送中の基材20上の塗布物を乾燥可能なオーブンまたは送風装置等の乾燥装置を使用可能である。
液晶樹脂層硬化部124は、液晶樹脂層乾燥部122の下流側に配され、乾燥された液晶樹脂38に紫外線を照射することにより硬化する。これにより液晶樹脂層硬化部124は、光配向層30に沿って配向した液晶樹脂層40を形成する(図1参照)。液晶樹脂38が熱硬化性である場合は、液晶樹脂層硬化部124は、オーブン等の加熱装置を使用すれば良い。
巻取部110は、光学フィルム製造装置101の最も下流側に配され、上流の各段階を経て製造された光学フィルム10を巻き取る。巻取部110は、例えば巻取ロールを使用することができる。巻取部110が回転することにより、巻取部110の外周に光学フィルム10が巻き取られる。
供給部108と巻取部110が同期して回転する手段を備えている場合は、少なくともいずれかがモータ等の回転駆動装置を備えていれば良く、いずれか一方のロールに回転駆動装置を有する場合、回転駆動装置を有するロールがフィルムの搬送を主動し、回転駆動装置がないロールは回転駆動装置を有するロールに従動して回転する。また両方のロールに回転駆動装置を有する場合は、供給部108と巻取部110は、送出速度および巻取速度を同期させて、フィルムの搬送を安定させることができる。また、供給部108と巻取部110は、同期させずに独立した回転速度で回転してもよい。また、光学フィルム製造装置101は、フィルム搬送経路中に別のモータ付ロール等のフィルム駆動装置を有してもよい。
図5は、本発明の光学フィルム10の製造工程の一例を説明するための概略断面図である。光学フィルム10は、基材20と、光配向樹脂からなる光配向層30と、液晶樹脂からなる液晶樹脂層40の積層構造物である。
まず、光配向層30の形成について説明する。
基材20の塗工面Aに、光配向層塗工部112にて光配向樹脂28を塗布し(図5(b)参照)、次いで光配向層乾燥部114にて光配向樹脂28に含まれる溶剤分を揮発させ、固化した光配向層30(図1参照)を得る。次いで光配向処理部116にて直線偏光の紫外線で所望のパターンで露光することにより、異なる配向方向を持った光配向層の配向領域32、34を得ることができる(図5(c)〜(d)参照)。具体的には、例えば図4にあるように、光配向層の配向領域32を露光するための第一露光部134および光配向層の配向領域34を露光するための第二露光部136により直線偏光の紫外線をそれぞれの所望の角度を持たせて露光することでこの工程を実施することが可能である。
光配向層30の膜厚は20nm以上であることが必要であり、更には25nm以上が好ましい。20nm以下では液晶樹脂層40の配向規制力が不足する為、光配向膜として機能しない。一方、前記光配向層30の膜厚の上限は、150nm以下である必要があり、更には130nm以下が好ましい。150nm以上の膜厚では、露光不足による配向不良が発生する。
光配向層30の膜厚の範囲が130nm以下と規定された場合、光配向層30が基材20の塗工面Aの表面凹凸に追従できる為には、塗工面AのJIS B 0601:2001で規定されている十点平均粗さRzjisは、光配向層30の最低膜厚の2倍以下の260nm以下が好ましい。基材20に光配向層30を塗工する際、塗膜のレベリングにより、表面凹凸の凸部で若干薄く、凹部で若干厚くなる。十点平均粗さRzjisが光配向層30の膜厚の2倍より大きくなると、塗工面Aの凸部と凹部との光配向層30の膜厚差で配向規制力に差が現れ、配向ムラの原因となる。
同様に、光配向層30の膜厚の範囲が20nm以上と規定された場合、十点平均粗さRzjisは光配向層30の最低膜厚の2倍の40nm以下が好ましい。十点平均粗さRzjisが光配向層30の膜厚の2倍より大きくなると、塗工面Aの凸部と凹部との光配向層30の膜厚差で、配向規制力に差が現れ、配向ムラの原因となる。
この為、基材20の塗工面Aの表面凹凸は、十点平均粗さRzjisで260nm以下が好ましい。
光配向層30にはアゾベンゼン、桂皮酸エステル、カルコン、クマリン、ベンゾフェノン、ポリイミド等、あるいはその誘導体、もしくはこれらの官能基を測鎖に有する高分子等を使用することができる。
アゾベンゼン等の光異性化反応により異方性を付与するものであり、比較的高感度で、繰り返しの偏光露光で異方性を変化させることができる。すなわち可逆的あることが特徴である。桂皮酸エステル、カルコン、クマリン、ベンゾフェノン等の光二量化、架橋反応によるものは、配向規制力は小さいが、配向の安定性が高いことが特徴である。ポリイミド等の光分解反応によるものは、比較的低感度であるが、熱安定性が高いことが特徴である。
次に液晶樹脂層40の形成について説明する。
異なる配向方向を持った複数の光配向層の配向領域32、34が形成された光配向層30の上に、光重合性または光架橋性のサーモトロピック液晶樹脂を含んだコーティング液である液晶樹脂38を液晶樹脂塗工部120により塗布し、固化していない乾燥前の液晶樹脂層を形成する。固化していない乾燥前の液晶樹脂は光配向層30の異方性に従って、領域毎に一方向に配向する。そして、この固化していない乾燥前の液晶樹脂層を、液晶樹脂層乾燥部122及び液晶樹脂層硬化部124に通すことで、領域毎で異なる光学異方性を持った固化した液晶樹脂層40が得られる。必要に応じて、追加熱乾燥工程や露光工程および検査工程などを行うことができる。
サーモトロピック液晶樹脂としては、例えば、アルキルシアノビフェニル、アルコキシビフェニル、アルキルターフェニル、フェニルシクロヘキサン、ビフェニルシクロヘキサン、フェニルビシクロヘキサン、ピリミジン、シクロヘキサンカルボン酸エステル、ハロゲン化シアノフェノールエステル、アルキル安息香酸エステル、アルキルシアノトラン、ジアルコキシトラン、アルキルアルコキシトラン、アルキルシクロヘキシルトラン、アルキルビシクロヘキサン、シクロヘキシルフェニルエチレン、アルキルシクロヘキシルシクロヘキセン、アルキルベンズアルデヒドアジン、アルケニルベンズアルデヒドアジン、フェニルナフタレン、フェニルテトラヒドロナフタレン、フェニルデカヒドロナフタレン、これらの誘導体、またはそれら化合物のアクリレートなどを使用することができる。
図2に示す如く、基材20の光配向層30を形成する面に平滑化層70を形成し、十点平均粗さRzjisを低減した表面に、光配向層30を形成する事も可能である。平滑化層70を1層形成することで基材20の表面の十点平均粗さRzjisは半分程度に低減することが可能である。基材20の表面の十点平均粗さRzjisが低減することより、基材20の表面の十点平均粗さRzjisが260μmを超える材料を使用しても、光配向層30を本発明の膜厚の範囲で形成することが可能になる。
この場合、平滑化層70の十点平均粗さRzjisは光配向層30の2倍以下が好ましい。十点平均粗さRzjisが光配向層30の膜厚の2倍より大きくなると、凸部と凹部との光配向層30の膜厚差で、配向規制力に差が現れ配向ムラの原因となる。
平滑化層70の膜厚は、特に規定するものでは無いが、1μmから4μmの厚さで形成することで平滑化効果が得られる。
平滑化層70の材料としてはPVA樹脂、変性エポキシアクリレート樹脂、アクリルアクリレート樹脂、クレタンアクリレート樹脂などのアクリル樹脂、(メタ)アクリロイルオキシ基を含有する多官能モノマーを主成分とする重合物などの熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂などが使用可能である。
光配向膜30と液晶樹脂層40とを合わせた材料のヘイズが約1.5%である為、基材20のヘイズは1.5%以下であることが好ましい。基材20のヘイズの原因として、基材20の内部散乱と表面散乱とが有り、内部散乱と表面散乱の合成によるヘイズが1.5以下であることが必要である。
本発明で規定した基材20の表面凹凸を表す指標として、十点平均粗さRzjisが260nmより大きくなると表面散乱が1%より大きくなってくる。このため、基材20に塗布する光配向層30の表面凹凸による光散乱によるヘイズは、光学特性の観点と基材20の平滑性の観点より1.5%以下であること好ましく、更には1%以下であることがより好ましい。
また図2に示した平滑化層70を形成した場合の光学フィルム10のヘイズも、光学特性の観点より3%以下が求められる。光配向膜30と液晶樹脂層40とを合わせた材料のヘイズが約1.5%である為、基材20と平滑化層70とを合わせたヘイズは1.5%以下であることが好ましい。ヘイズの原因として、基材20の内部散乱と表面散乱、平滑化層70の内部散乱と表面散乱が挙げられる。但し、基材20の表面散乱は、基材20と平滑化層70との屈折率差が0.1%から0.2%と小さい為、無視できるレベルに低減される。
平滑化層70を形成した場合、本発明で規定した平滑化層70の表面凹凸が十点平均粗さRzjisで260nmより大きくなると表面散乱が1%より大きくなってくる。このため、平滑化層70の表面凹凸による光散乱によるヘイズは、光学特性の観点と基材の平滑性の観点より1.5%以下であること好ましく、1%以下であることがより好ましい。
本発明の光学フィルム10は、図1に示すように、Y方向に伸びるストライプ状の光配向層の配向領域32および34が、X方向に交互に繰り返し配された構成を成している。光配向層の配向領域32および34の配向角は、液晶パネルの設計により、例えば45°/135°あるいは、0°/90°のように使い分けている。
また、光配向層の配向領域32および34の位相差は、3D視において右目画像と左目画像のシャッター効果を得る為に、例えば位相差(波長550nm)Reは135±10nmの範囲で制御が求められている。ここでReは、面内方向のリタデーションを指す。設計上は±15nm迄のバラツキは3D視への影響は少ない。
基材20としては、TACフィルムやCOPフィルムやアクリルフィルムが使用可能であり、基材20自体に内部位相差がある場合、基材20の製造時の搬送方向に対して何れか
の方向に遅相軸が現れる為、光配向層の配向領域32および34の配向角と基材20の遅相軸が合成され、相差のバラツキの原因となる。
例えば内部位相差が8nm、遅相軸が0°方向に有る基材の上に、配向角0°/90°位相差(波長550nm)Reが135nmの基材を形成する場合、光配向層の配向領域32と34で位相差(波長550nm)Re=143nm、127nmと位相差のバラツキが発生し、規格±10nmに対して製造時の工程マージンが狭く、製造するのが困難となる。
この為、基材20の内部位相差は、光学フィルム10にて3D視を阻害しない範囲15nm以下であることが必要であり、一般的な製品規格の10nm以下であることがより好ましい。
同様に、平滑化層70を形成した場合も、基材20と平滑化層70を合わせた内部位相差は、光学フィルム10にて3D視を阻害しない範囲15nm以下であることが必要であり、一般的な製品規格の10nm以下であることがより好ましい。なお、内部位相差は位相差測定装置KOBRA(王子計測機器株式会社製)を用いて測定した。
<実施例1>
基材20として市販の光学用のTACフィルムを使用し、基材20の上に光配向膜30を形成し、更に重ねて液晶樹脂層40を形成した。
光配向膜30は2量化型光配向樹脂、液晶樹脂層40は複屈折率△n=0.11のAプレート型の重合性液晶をRe=135nm(波長550nm)を狙ってダイコータで塗工して形成した。
光配向膜30の偏光露光は配向ムラを視認しやすい様に、配向角を1方向に固定したベタ露光で実施した。このようにして、表1〜表3で評価結果を示した各サンプルを作製した。
液晶樹脂層40の塗工液組成を下記に示す。
水平配向重合性液晶 19.5質量部
(BASFジャパン製「Paliocolor LC−242」)
光重合開始剤 0.5質量部
(BASFジャパン製「イルガキュアーOXE01」)
界面活性剤 0.7質量部
(ビックケミー社製「BYK330」3%酢酸ブチル溶液)
酢酸ブチル 79.3質量部
表1は、基材の十点平均粗さRzjisが65nmの時の光配向層の膜厚と配向性の評価結果を示している。表2は、基材の十点平均粗さRzjisが243nmの時の光配向層の膜厚と配向性の評価結果を示している。表3は、基材の十点平均粗さRzjisが23nmの時の光配向層の膜厚と配向性の評価結果を示している。
Figure 2015031717
Figure 2015031717
Figure 2015031717
表1〜表3の配向性(目視検査)の評価結果は、白色の面光源の上に直線偏光フィルム、本発明の光学フィルム10、更に直線偏光フィルムをクロスニコルで重ね、広い面積で配向不良による透過光のムラの発生の有無を官能評価で実施し、○は良好、△はムラが見える、×はムラが顕著に見える、という形で評価した。
表1、表2から、光配向層30の膜厚が、十点平均粗さRzjisの1/2以上の領域で配向不良が抑えられることが確認された。
表3から、光配向層30の膜厚が十点平均粗さRzjisの1/2付近では、配向規制力が得られない領域である為、配向不良が発生することが分かった。また光配向層30の膜厚の配向規制力が得られる25nm以上の領域で、配向不良が抑えられることが確認された。
<実施例2>
基材20として、実施例1の表1の十点平均粗さRzjisが65nmであるTACフィルムを使用した。基材20のヘイズは0.2%、内部位相差は8nmで遅相軸は0°である。
基材20の上に光配向層30が形成され、重ねて液晶樹脂層40が形成された構成である。基材20の光配向層30が形成される反対の塗工面には反射防止層としてAG層ないしLRが設けられている。つまり、(光配向層)/TAC/反射防止層の層構成で評価した。
光配向層30は2量化型光配向樹脂を乾燥膜厚33nmで形成し、液晶樹脂層40は複屈折率△n=0.11のAプレート型の重合性液晶をRe=135nm(波長550nm)を狙いダイコータで塗工して形成した。
光配向層30の偏光露光は、基材20の内部位相差の影響を受けにくい配向角45°/135°にてパターン露光した。このようにして、評価するサンプルを作製した。
液晶樹脂層40の塗工液組成を下記に示す。
水平配向重合性液晶 19.5質量部
(BASFジャパン製「Paliocolor LC−242」)
光重合開始剤 0.5質量部
(BASFジャパン製「イルガキュアーOXE01」)
界面活性剤 0.7質量部
(ビックケミー社製「BYK330」3%酢酸ブチル溶液)
酢酸ブチル 79.3質量部
実施例2にて作製された光学フィルムは、白色の面光源の上に直線偏光フィルム、本発明の光学フィルム10、更に直線偏光フィルムをクロスニコルで重ねての観察にて、広い面積で配向不良による透過光のムラの発生もないことを確認した。
また、光配向層の配向領域32および34ともに位相差がRe=132nmで面内バラツキも3σで5nmであり、Re=135±10nmの目標規格をクリアした。
ヘイズも、光学フィルムとして2%以下を実現することができた。
以上、本発明を説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載した範囲には限定されない。上記実施形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
本発明の3D表示用光学フィルムは、液晶、有機EL、プラズマ方式からなるテレビ、モニター、携帯タブレットなどに展開でき、これらの画像表示装置で容易に3D表示が可能になると共に、表示ムラの抑制された3D画像表示が可能になる。また、位相差を利用した液晶表示装置、印刷物を含めた立体表示物、偏光板をかざすと絵柄が表示される潜像表示体などへの利用も可能である。
10、100 光学フィルム
20 基材
28 光配向樹脂
30 光配向層
32、34 光配向層の配向領域
38 液晶樹脂
40 液晶樹脂層
42、44 液晶樹脂層の配向領域
50、60 配向方向
70 平滑化層
80 反射防止層
101 光学フィルム製造装置
102 基材
104 第1偏光変調部
106 第2偏光変調部
108 供給部
110 巻取部
112 光配向層塗工部
114 光配向層乾燥部
116 光配向処理部
120 液晶樹脂層塗工部
122 液晶樹脂層乾燥部
124 液晶樹脂層硬化部
130 遮光部
134 第一露光部
136 第二露光部
140 ガラスマスク
150 立体画像表示装置
152 光源
154 画像出力部
158 光学機能膜
164 光源側偏光板
166 保持基板
168 画像生成部
170 保持基板
174 出射側偏光板
178 右目用画像生成部
180 左目用画像生成部
190 偏光眼鏡
192 右目用レンズ
194 左目用レンズ

Claims (7)

  1. ストライプ状に形成された配向領域の中で同一の配向方向を有する液晶樹脂層の配向領域が、そのストライプの短辺方向に交互に異なる配向方向を有するように形成されている光学フィルムであって、前記光学フィルムの基材の上に光配向層と液晶樹脂層がこの順に積層されてなり、前記配向領域の配向方向の一方は前記ストライプの長辺方向に平行であり、隣接する配向領域の配向方向は前記ストライプの短辺方向に平行であり、前記光配向層の厚さはこの光配向層が積層される面の表面粗さに対応させて設定することを特徴とする光学フィルム。
  2. 前記光配向層の厚さが20nm以上、130nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルム。
  3. JIS B 0601:2001によって求められる前記基材の十点平均粗さRzjisが、前記光配向層の厚さの2倍以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の光学フィルム。
  4. 基材と光配向層との間に平滑化層を備えており、JIS B 0601:2001によって求められる前記基材の上に形成した平滑化層の十点平均粗さRzjisが、前記光配向層の厚さの2倍以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の光学フィルム。
  5. JIS K 7136によって求められる前記基材の表面凹凸による光散乱によるヘイズが1.5%以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の光学フィルム。
  6. JIS K 7136によって求められる、前記基材の上に平滑化層と光配向層をこの順に形成した材料の光散乱によるヘイズが1%以下であることを特徴とする請求項4に記載の光学フィルム。
  7. 前記基材と前記平滑化層の内部位相差の合成が10nm以下であることを特徴とする請求項4または6に記載の光学フィルム。
JP2013158932A 2013-07-31 2013-07-31 光学フィルム Pending JP2015031717A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013158932A JP2015031717A (ja) 2013-07-31 2013-07-31 光学フィルム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013158932A JP2015031717A (ja) 2013-07-31 2013-07-31 光学フィルム

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2015031717A true JP2015031717A (ja) 2015-02-16

Family

ID=52517113

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013158932A Pending JP2015031717A (ja) 2013-07-31 2013-07-31 光学フィルム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2015031717A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4645772B1 (ja) 位相差素子用配向膜およびその製造方法、位相差素子およびその製造方法、表示装置
US8223280B2 (en) Phase difference element and display device
US8748084B2 (en) Method for producing optical orientation film, method for producing retardation film, system for producing optical orientation film, optical orientation film and retardation film
JP5995085B2 (ja) 光学フィルタ製造用積層フィルム、及び、光学フィルタの製造方法
WO2013102981A1 (ja) 光学フィルム製造装置、光学フィルムの製造方法、および光学フィルム
JP5660786B2 (ja) パターニング位相差フィルムとその製造方法、偏光眼鏡、映像表示システムとその製造方法
JP2010271727A (ja) 表示装置の製造方法
WO2013137188A1 (ja) 立体画像表示装置、その製造方法及び境界ムラの低減方法、立体画像表示システム並びにパターン位相差板
JP5915530B2 (ja) 配向フィルムおよびその製造方法、位相差フィルムおよびその製造方法、ならびに表示装置
JP6586882B2 (ja) 位相差フィルム、位相差フィルムの製造方法、この位相差フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置、この画像表示装置を使用した3d画像表示システム
WO2015008850A1 (ja) 光学フィルム、円偏光フィルム、3d画像表示装置
JP2015031717A (ja) 光学フィルム
JP6064627B2 (ja) 光学フィルムの製造方法
JP6154750B2 (ja) 光学フィルムの製造方法
US20130107194A1 (en) Patterned phase retardation film and the method for manufacturing the same
JP5711071B2 (ja) 積層体、低反射性積層体、偏光板、画像表示装置、及び3d画像表示システム
JP2015060148A (ja) 位相差フィルムの製造方法
JP2014126817A (ja) 光学フィルム、画像表示装置、及び光学フィルムの製造方法
JP2014016448A (ja) 光学素子、その製造方法、並びにそれを用いた偏光板、画像表示装置及び立体画像表示システム
JP2015049389A (ja) 光学フィルムの製造方法、露光装置及びマスク
JP2015018075A (ja) 位相差素子およびその製造方法
JP2012068322A (ja) パターン位相差部材、3d液晶パネル及び3d液晶表示装置
JP2014191308A (ja) パターン位相差フィルムの製造装置及び製造方法
JP2014044251A (ja) 光学フィルム、画像表示装置及び光学フィルムの製造方法