JP2015029177A - Crystal device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a crystal device which reduces short circuits between a metal sealing lid and a wiring pattern provided on an upper surface of a substrate.SOLUTION: A crystal device includes: a rectangle substrate 110; an electrode pad 111 provided on an upper surface of the substrate 110; an external terminal 112 provided on a lower surface of the substrate 110; a crystal element 120 provided on the electrode pad 111; a metal sealing lid 130 joined to the substrate 110; a glass protection member 150 provided on a lower surface of the sealing lid; and a glass joint member 160 provided on a lower surface of the glass protection member 150. In the structure, even if pressure is applied to the sealing lid 130 and the substrate 110, a wiring pattern provided on the upper surface of the substrate 110 and the glass protection member 150 contact with each other and thus short circuits between the metal sealing lid 130 and the wiring pattern are reduced.

Description

本発明は、例えば電子機器等に用いられる水晶デバイスに関するものである。   The present invention relates to a crystal device used in, for example, an electronic apparatus.

水晶デバイスは、水晶素子の圧電効果を利用して、特定の周波数を発生させるものである。例えば、矩形状の基板の上面の一辺に沿って設けられた一対の電極パッドに導電性接着剤を介して実装された水晶素子と、基板の上面に接合部材を介して接合され、水晶素子を気密封止するための金属製の封止蓋体と、を備えた水晶振動子が提案されている(例えば、下記特許文献1参照)。接合部材は、ガラスが用いられ、熱を印加することで、金属製の封止蓋体と基板の上面とを接合することができる。また、水晶デバイスを構成する基板の下面の四隅には、外部端子が設けられており、電子機器等のマザーボードに実装されている。   The crystal device generates a specific frequency by using the piezoelectric effect of the crystal element. For example, a crystal element mounted on a pair of electrode pads provided along one side of the upper surface of a rectangular substrate via a conductive adhesive, and bonded to the upper surface of the substrate via a bonding member, A crystal resonator provided with a metal sealing lid for hermetically sealing has been proposed (see, for example, Patent Document 1 below). Glass is used for the bonding member, and by applying heat, the metal sealing lid and the upper surface of the substrate can be bonded. In addition, external terminals are provided at the four corners of the lower surface of the substrate constituting the crystal device, and are mounted on a motherboard such as an electronic device.

特開2009−141234号公報JP 2009-141234 A

上述した水晶デバイスは、金属製の封止蓋体と基板の配線パターンが、接合部材により絶縁されている。このような水晶デバイスは、封止蓋体と基板とを接合する際に、封止蓋体と基板に圧力が掛かり、接合部材が薄くなった状態で、封止蓋体と基板とが密着される場合には、基板の上面に設けられている配線パターンと、金属製の封止蓋体とが接触して短絡してしまう虞があった。   In the crystal device described above, the metal sealing lid and the wiring pattern of the substrate are insulated by the bonding member. In such a crystal device, when the sealing lid and the substrate are bonded, pressure is applied to the sealing lid and the substrate, and the sealing lid and the substrate are brought into close contact with each other in a state where the bonding member is thinned. In such a case, the wiring pattern provided on the upper surface of the substrate may come into contact with the metal sealing lid to cause a short circuit.

本発明は前記課題に鑑みてなされたものであり、金属製の封止蓋体と、基板の上面に設けられている配線パターンとの短絡を低減することが可能な水晶デバイスを提供することにある。   This invention is made | formed in view of the said subject, and is providing the crystal device which can reduce the short circuit with a metal sealing lid body and the wiring pattern provided in the upper surface of the board | substrate. is there.

本発明の一つの態様による水晶デバイスは、矩形状の基板と、基板の上面に設けられた電極パッドと、基板の下面に設けられた外部端子と、電極パッド上に設けられた水晶素子と、基板と接合された金属製の封止蓋体と、封止蓋体の下面に設けられたガラス保護部材と、ガラス保護部材の下面に設けられたガラス接合部材と、を備えていることを特徴とするものである。   A quartz crystal device according to one aspect of the present invention includes a rectangular substrate, an electrode pad provided on the top surface of the substrate, an external terminal provided on the bottom surface of the substrate, a crystal element provided on the electrode pad, A metal sealing lid bonded to the substrate, a glass protective member provided on the lower surface of the sealing lid, and a glass bonding member provided on the lower surface of the glass protective member. It is what.

本発明の一つの態様による水晶デバイスは、矩形状の基板と、基板の上面に設けられた電極パッドと、基板の下面に設けられた外部端子と、電極パッド上に設けられた水晶素子と、基板と接合された金属製の封止蓋体と、封止蓋体の下面に設けられたガラス保護部材と、ガラス保護部材の下面に設けられたガラス接合部材と、を備えている。このようにすることにより、水晶デバイスは、封止蓋体と基板とを接合する際に、封止蓋体と基板に圧力がかかったとしても、基板の上面に設けられている配線パターンと、ガラス保護部材が接触することになるので、金属製の封止蓋体と配線パターンとが短絡してしまうことを低減することができる。   A quartz crystal device according to one aspect of the present invention includes a rectangular substrate, an electrode pad provided on the top surface of the substrate, an external terminal provided on the bottom surface of the substrate, a crystal element provided on the electrode pad, A metal sealing lid bonded to the substrate, a glass protection member provided on the lower surface of the sealing lid, and a glass bonding member provided on the lower surface of the glass protection member are provided. By doing in this way, when the crystal device is bonded to the sealing lid and the substrate, even if pressure is applied to the sealing lid and the substrate, the wiring pattern provided on the upper surface of the substrate, Since the glass protective member comes into contact, it is possible to reduce the short circuit between the metal sealing lid and the wiring pattern.

本実施形態における水晶デバイスを示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows the crystal device in this embodiment. (a)図1に示された水晶デバイスのA−Aにおける断面図であり、(b)図1に示された水晶デバイスのB−Bにおける断面図であり、(c)図1に示された水晶デバイスのC−Cにおける断面図である。(A) It is sectional drawing in AA of the quartz crystal device shown in FIG. 1, (b) It is sectional drawing in BB of the quartz crystal device shown in FIG. 1, (c) It is shown in FIG. It is sectional drawing in CC of the obtained quartz crystal device. 本実施形態における水晶デバイスの水晶素子を実装した状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state which mounted the crystal element of the crystal device in this embodiment. (a)本実施形態における水晶デバイスを構成する基板を上面から見た平面図であり、(b)本実施形態における水晶デバイスを構成する基板を下面から見た平面図である。(A) It is the top view which looked at the board | substrate which comprises the crystal device in this embodiment from the upper surface, (b) The top view which looked at the board | substrate which comprises the crystal device in this embodiment from the lower surface. 本実施形態の第一変形例における水晶デバイスを示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows the quartz crystal device in the 1st modification of this embodiment. 本実施形態の第一変形例における水晶デバイスの水晶素子を実装した状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state which mounted the crystal element of the crystal device in the 1st modification of this embodiment. (a)本実施形態の第一変形例における水晶デバイスを構成する基板を上面から見た平面図であり、(b)本実施形態の第一変形例における水晶デバイスを構成する基板を下面から見た平面図である。(A) It is the top view which looked at the board | substrate which comprises the crystal device in the 1st modification of this embodiment from the upper surface, (b) The board | substrate which comprises the crystal device in the 1st modification of this embodiment is seen from a lower surface. FIG. (a)本実施形態の第二変形例における水晶デバイスを構成する基板を上面から見た平面図であり、(b)本実施形態の第二変形例における水晶デバイスを構成する基板を下面から見た平面図である。(A) It is the top view which looked at the board | substrate which comprises the crystal device in the 2nd modification of this embodiment from the upper surface, (b) The board | substrate which comprises the crystal device in the 2nd modification of this embodiment is seen from a lower surface. FIG. (a)本実施形態の第三変形例における水晶デバイス水晶素子を実装した状態を示す平面図であり、(b)本実施形態の第三変形例における水晶デバイスを構成する基板を下面から見た平面図である。(A) It is a top view which shows the state which mounted the crystal device crystal element in the 3rd modification of this embodiment, (b) The board | substrate which comprises the crystal device in the 3rd modification of this embodiment was seen from the lower surface. It is a top view.

本実施形態における水晶デバイスは、図1及び図2に示されているように、基板110と、基板110の上面に接合された水晶素子120と、水晶素子120を気密封止するための蓋体130と、を含んでいる。このような水晶デバイスは、電子機器等で使用する基準信号を出力するのに用いられる。   As shown in FIGS. 1 and 2, the crystal device according to the present embodiment includes a substrate 110, a crystal element 120 bonded to the upper surface of the substrate 110, and a lid for hermetically sealing the crystal element 120. 130. Such a crystal device is used to output a reference signal used in an electronic device or the like.

基板110は、矩形状であり、上面で実装された水晶素子120を実装するための実装部材として機能するものである。基板110の上面の対角の位置には、水晶素子120を接合するための一対の電極パッド111が設けられ、基板110の下面の四隅には、外部端子112が設けられている。また、四つの外部端子112の内の二つが、水晶素子120と電気的に接続されて、水晶素子120の入出力端子として用いられる。   The substrate 110 has a rectangular shape and functions as a mounting member for mounting the crystal element 120 mounted on the upper surface. A pair of electrode pads 111 for bonding the crystal element 120 are provided at diagonal positions on the upper surface of the substrate 110, and external terminals 112 are provided at the four corners of the lower surface of the substrate 110. Two of the four external terminals 112 are electrically connected to the crystal element 120 and used as input / output terminals of the crystal element 120.

基板110は、例えばアルミナセラミックス又はガラス−セラミックス等のセラミック材料である絶縁層からなる。基板110は、絶縁層を一層用いたものであっても、絶縁層を複数層積層したものであってもよい。基板110の上面及び下面には、上面に設けられた電極パッド111と下面の外部端子112とを電気的に接続するための配線パターン113がそれぞれ設けられている。   The substrate 110 is made of an insulating layer made of a ceramic material such as alumina ceramic or glass-ceramic. The substrate 110 may be one using an insulating layer or may be a laminate of a plurality of insulating layers. Wiring patterns 113 for electrically connecting the electrode pads 111 provided on the upper surface and the external terminals 112 on the lower surface are provided on the upper surface and the lower surface of the substrate 110, respectively.

基板110の電極パッド111は、図2に示すように、水晶素子120を実装するために用いられている。電極パッド111は、図3に示すように、基板110の上面の対角の位置に設けられている。電極パッド111は、基板110の上面及び下面に設けられた配線パターン113及び基板110の角部に設けられた導体部114を介して、電極パッド111と平面視して重なる位置に設けられた外部端子112と電気的に接続されている。
外部端子112は、基板110の下面の四隅に、基板110の外周縁に沿って設けられている。
The electrode pads 111 of the substrate 110 are used for mounting the crystal element 120 as shown in FIG. As shown in FIG. 3, the electrode pads 111 are provided at diagonal positions on the upper surface of the substrate 110. The electrode pad 111 is externally provided at a position overlapping the electrode pad 111 in a plan view via a wiring pattern 113 provided on the upper and lower surfaces of the substrate 110 and a conductor portion 114 provided on a corner portion of the substrate 110. The terminal 112 is electrically connected.
The external terminals 112 are provided along the outer peripheral edge of the substrate 110 at the four corners of the lower surface of the substrate 110.

電極パッド111は、図4(a)に示すように、第一電極パッド111a及び第二電極パッド111bによって構成されている。また、外部端子112は、図4(b)に示すように第一外部端子112a、第二外部端子112b、第三外部端子112c及び第四外部端子112dによって構成されている。配線パターン113は、図4に示すように、第一配線パターン113a及び第二配線パターン113bによって構成され、導体部114は、第一導体部114a及び第二導体部114bによって構成されている。第一電極パッド111aと第一外部端子112aとは、基板110の上面及び下面に設けられた第一配線パターン113aと、基板110の角部に設けられた第一導体部114aにより接続されており、第二電極パッド111bと第三外部端子112cとは、基板110の上面及び下面に設けられた第二配線パターン113bと、基板110の角部に設けられた第二導体部114bにより接続されている。また、第二外部端子112b及び第四外部端子112dは、どこにも接続されておらず、接続用端子として用いられている。   As shown in FIG. 4A, the electrode pad 111 includes a first electrode pad 111a and a second electrode pad 111b. As shown in FIG. 4B, the external terminal 112 includes a first external terminal 112a, a second external terminal 112b, a third external terminal 112c, and a fourth external terminal 112d. As shown in FIG. 4, the wiring pattern 113 is composed of a first wiring pattern 113a and a second wiring pattern 113b, and the conductor portion 114 is composed of a first conductor portion 114a and a second conductor portion 114b. The first electrode pad 111 a and the first external terminal 112 a are connected by a first wiring pattern 113 a provided on the upper surface and the lower surface of the substrate 110 and a first conductor portion 114 a provided at a corner of the substrate 110. The second electrode pad 111b and the third external terminal 112c are connected by the second wiring pattern 113b provided on the upper surface and the lower surface of the substrate 110 and the second conductor portion 114b provided on the corner portion of the substrate 110. Yes. The second external terminal 112b and the fourth external terminal 112d are not connected anywhere and are used as connection terminals.

外部端子112は、外部の電子機器等を構成する実装基板上に実装するために用いられている。外部端子112は、基板110の下面の四隅に設けられている。外部端子112の内の二つの端子は、基板110の上面に設けられた一対の電極パッド111とそれぞれ電気的に接続されている。また、電極パッド111に電気的に接続されている外部端子112は、基板110の下面の対角に位置するように設けられている。   The external terminal 112 is used for mounting on a mounting board constituting an external electronic device or the like. The external terminals 112 are provided at the four corners of the lower surface of the substrate 110. Two of the external terminals 112 are electrically connected to a pair of electrode pads 111 provided on the upper surface of the substrate 110, respectively. Further, the external terminals 112 that are electrically connected to the electrode pads 111 are provided so as to be located diagonally on the lower surface of the substrate 110.

また、電極パッド111及び外部端子112は、基板110に沿って設けられた形状となっている。ここで基板110を平面視したときの長辺の寸法が、1.2〜2.5mmであり、短辺の寸法が、1.0〜2.0mmである場合を例にして、電極パッド111及び外部端子112の大きさを説明する。電極パッド111の長辺の長さは、0.30〜0.90mmであり、短辺の長さは、0.20〜0.60mmとなっている。外部端子112の長辺の長さは、0.30〜0.90mmであり、短辺の長さは、0.20〜0.60mmとなっている。   Further, the electrode pad 111 and the external terminal 112 have a shape provided along the substrate 110. Here, taking the case where the long side dimension of the substrate 110 in plan view is 1.2 to 2.5 mm and the short side dimension is 1.0 to 2.0 mm, the electrode pad 111 is taken as an example. The size of the external terminal 112 will be described. The long side length of the electrode pad 111 is 0.30 to 0.90 mm, and the short side length is 0.20 to 0.60 mm. The long side length of the external terminal 112 is 0.30 to 0.90 mm, and the short side length is 0.20 to 0.60 mm.

配線パターン113は、基板110の上下面に設けられ、電極パッド111及び外部端子112から近傍の基板110の角部に向けて引き出されている。第一配線パターン113aの長さと第二配線パターン113bの長さは、略等しい長さとなる。ここで、略等しい長さとは、基板110の上下面に設けられた第一配線パターン113aの長さと基板110の上下面に設けられた第二配線パターン113bの長さとの差が0〜200μm異なるものを含むものとする。配線パターン113の長さは、各配線パターン113の中心を通る直線の長さを測定したものとする。また、配線パターンの上下方向の厚みは、10〜25μmとなっている。   The wiring pattern 113 is provided on the upper and lower surfaces of the substrate 110 and is drawn out from the electrode pads 111 and the external terminals 112 toward the corners of the substrate 110 in the vicinity. The length of the first wiring pattern 113a and the length of the second wiring pattern 113b are substantially equal. Here, the substantially equal length means that the difference between the length of the first wiring pattern 113a provided on the upper and lower surfaces of the substrate 110 and the length of the second wiring pattern 113b provided on the upper and lower surfaces of the substrate 110 is different by 0 to 200 μm. Including things. As for the length of the wiring pattern 113, the length of a straight line passing through the center of each wiring pattern 113 is measured. Moreover, the thickness of the wiring pattern in the vertical direction is 10 to 25 μm.

導体部114は、基板110の角部に設けられた切れ込みの内部に設けられている。導体部114の両端は、配線パターン113と接続されている。このようにすることで、電極パッド111は、配線パターン113及び導体部114を介して外部端子112と電気的に接続されている。   The conductor portion 114 is provided inside a notch provided in a corner portion of the substrate 110. Both ends of the conductor portion 114 are connected to the wiring pattern 113. By doing so, the electrode pad 111 is electrically connected to the external terminal 112 via the wiring pattern 113 and the conductor portion 114.

ここで、基板110の作製方法について説明する。基板110がアルミナセラミックスから成る場合、まず所定のセラミック材料粉末に適当な有機溶剤等を添加・混合して得た複数のセラミックグリーンシートを準備する。また、セラミックグリーンシートの表面或いはセラミックグリーンシートに打ち抜き等を施して予め穿設しておいた貫通孔内に、従来周知のスクリーン印刷等によって所定の導体ペーストを塗布する。さらに、これらのグリーンシートを積層してプレス成形したものを、高温で焼成する。最後に、導体パターンの所定部位、具体的には、電極パッド111、外部端子112、配線パターン113及び導体部114となる部位にニッケルメッキ又、金メッキ、銀パラジウム等を施すことにより作製される。また、導体ペーストは、例えばタングステン、モリブデン、銅、銀又は銀パラジウム等の金属粉末の焼結体等から構成されている。   Here, a method for manufacturing the substrate 110 is described. When the substrate 110 is made of alumina ceramic, first, a plurality of ceramic green sheets obtained by adding and mixing an appropriate organic solvent or the like to a predetermined ceramic material powder is prepared. In addition, a predetermined conductor paste is applied to the surface of the ceramic green sheet or a through-hole previously punched by punching the ceramic green sheet by screen printing or the like. Further, these green sheets are laminated and press-molded and fired at a high temperature. Finally, it is manufactured by applying nickel plating, gold plating, silver palladium, or the like to a predetermined portion of the conductor pattern, specifically, the portion that becomes the electrode pad 111, the external terminal 112, the wiring pattern 113, and the conductor portion 114. Moreover, the conductor paste is comprised from the sintered compact etc. of metal powders, such as tungsten, molybdenum, copper, silver, or silver palladium, for example.

水晶素子120は、図2に示されているように、導電性接着剤140を介して電極パッド111上に接合されている。水晶素子120は、安定した機械振動と圧電効果により、電子装置等の基準信号を発振する役割を果たしている。   As shown in FIG. 2, the crystal element 120 is bonded onto the electrode pad 111 via a conductive adhesive 140. The crystal element 120 plays a role of oscillating a reference signal of an electronic device or the like by stable mechanical vibration and a piezoelectric effect.

水晶素子120は、図2に示されているように、水晶素板121の上面及び下面のそれぞれに励振用電極122及び引き出し電極123を被着させた構造を有している。励振用電極122は、水晶素板121の上下面のそれぞれに金属を所定のパターンで被着・形成したものである。励振用電極122は、上面に第一励振用電極122aと、下面に第二励振用電極122bを備えている。引き出し電極123は、励振用電極122から水晶素板121の向かい合う辺に向かってそれぞれ延出されている。引き出し電極123は、上面に第一引き出し電極123aと、下面に第二引き出し電極123bとを備えている。第一引き出し電極123aは、第一励振用電極122aから引き出されており、水晶素板121の一方の辺に向かって延出するように設けられている。第二引き出し電極123bは、第二励振用電極122bから引き出されており、水晶素板121の他方の辺に向かって延出するように設けられている。   As shown in FIG. 2, the crystal element 120 has a structure in which an excitation electrode 122 and an extraction electrode 123 are attached to an upper surface and a lower surface of a crystal base plate 121, respectively. The excitation electrode 122 is formed by depositing and forming a metal in a predetermined pattern on the upper and lower surfaces of the quartz base plate 121. The excitation electrode 122 includes a first excitation electrode 122a on the upper surface and a second excitation electrode 122b on the lower surface. The extraction electrode 123 extends from the excitation electrode 122 toward the opposite sides of the crystal base plate 121. The extraction electrode 123 includes a first extraction electrode 123a on the upper surface and a second extraction electrode 123b on the lower surface. The first extraction electrode 123 a is extracted from the first excitation electrode 122 a and is provided so as to extend toward one side of the crystal base plate 121. The second extraction electrode 123 b is extracted from the second excitation electrode 122 b and is provided so as to extend toward the other side of the crystal base plate 121.

ここで、水晶素子120の動作について説明する。水晶素子120は、外部からの交番電圧が引き出し電極123から励振用電極122を介して水晶素板121に印加されると、水晶素板121が所定の振動モード及び周波数で励振を起こすようになっている。また、水晶素子120は、電極パッド111と接続されている水晶素子120の両端を基板110の上面と接続した両持ち支持構造にて基板110上に固定されている。   Here, the operation of the crystal element 120 will be described. In the crystal element 120, when an alternating voltage from the outside is applied from the extraction electrode 123 to the crystal base plate 121 via the excitation electrode 122, the crystal base plate 121 is excited in a predetermined vibration mode and frequency. ing. Further, the crystal element 120 is fixed on the substrate 110 by a both-end support structure in which both ends of the crystal element 120 connected to the electrode pad 111 are connected to the upper surface of the substrate 110.

ここで、水晶素子120の作製方法について説明する。まず、水晶素子120は、人工水晶体から所定のカットアングルで切断し、水晶素板121の外周の厚みを薄くし、水晶素板121の外周部と比べて水晶素板121の中央部が厚くなるように設けるベベル加工を行う。そして、水晶素子120は、水晶素板121の両主面にフォトリソグラフィー技術、蒸着技術又はスパッタリング技術によって、金属膜を被着させることにより、励振用電極122、引き出し電極123を形成することにより作製される。   Here, a manufacturing method of the crystal element 120 will be described. First, the crystal element 120 is cut from the artificial crystalline lens at a predetermined cut angle to reduce the thickness of the outer periphery of the crystal base plate 121, and the central portion of the crystal base plate 121 is thicker than the outer peripheral portion of the crystal base plate 121. The bevel processing provided is performed. The crystal element 120 is manufactured by forming the excitation electrode 122 and the extraction electrode 123 by depositing a metal film on both main surfaces of the crystal base plate 121 by a photolithography technique, a vapor deposition technique, or a sputtering technique. Is done.

水晶素子120の基板110への接合方法について説明する。まず、導電性接着剤140は、例えばディスペンサによって電極パッド111上に塗布される。水晶素子120は、導電性接着剤140上に搬送され、導電性接着剤140上に載置される。そして導電性接着剤140は、加熱硬化させることによって、硬化収縮される。水晶素子120は、電極パッド111に接合される。つまり、水晶素子120の第一引き出し電極123a及び第二引き出し電極123bは、第一電極パッド111a及び第二電極パッド111bと接合される。これによって、第一外部端子112aと第三外部端子112cが水晶素子120と電気的に接続されることになる。   A method for bonding the crystal element 120 to the substrate 110 will be described. First, the conductive adhesive 140 is applied onto the electrode pad 111 by, for example, a dispenser. The crystal element 120 is transported onto the conductive adhesive 140 and placed on the conductive adhesive 140. The conductive adhesive 140 is cured and contracted by being heated and cured. The crystal element 120 is bonded to the electrode pad 111. That is, the first extraction electrode 123a and the second extraction electrode 123b of the crystal element 120 are joined to the first electrode pad 111a and the second electrode pad 111b. As a result, the first external terminal 112 a and the third external terminal 112 c are electrically connected to the crystal element 120.

導電性接着剤140は、シリコーン樹脂等のバインダーの中に導電フィラーとして導電性粉末が含有されているものであり、導電性粉末としては、アルミニウム、モリブデン、タングステン、白金、パラジウム、銀、チタン、ニッケル又はニッケル鉄のうちのいずれか、或いはこれらの組み合わせを含むものが用いられている。また、バインダーとしては、例えばシリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂又はビスマレイミド樹脂が用いられる。   The conductive adhesive 140 contains conductive powder as a conductive filler in a binder such as silicone resin, and the conductive powder includes aluminum, molybdenum, tungsten, platinum, palladium, silver, titanium, One containing either nickel or nickel iron, or a combination thereof is used. Moreover, as a binder, a silicone resin, an epoxy resin, a polyimide resin, or a bismaleimide resin is used, for example.

封止蓋体130は、矩形状の封止基部130aと、封止基部の下面の外周縁に沿って設けられている封止枠部130bとで構成されており、封止基部130aの下面と封止枠部130bの内側側面とで収容空間Kが形成されている。封止枠部130bは、封止基部130aの下面に収容空間Kを形成するためのものである。封止枠部130bは、封止基部130aの下面の外縁に沿って設けられている。   The sealing lid 130 includes a rectangular sealing base portion 130a and a sealing frame portion 130b provided along the outer peripheral edge of the lower surface of the sealing base portion. An accommodation space K is formed with the inner side surface of the sealing frame portion 130b. The sealing frame part 130b is for forming the accommodation space K on the lower surface of the sealing base part 130a. The sealing frame part 130b is provided along the outer edge of the lower surface of the sealing base part 130a.

封止基部130a及び封止枠部130bは、例えば、鉄、ニッケル又はコバルトの少なくともいずれかを含む合金からなり、一体的に形成されている。このような封止蓋体130は、真空状態にある収容空間K又は窒素ガスなどが充填された収容空間Kを気密的に封止するためのものである。具体的には、封止蓋体130は、所定雰囲気で、基板110の上面に載置され、基板110の上面とガラス保護部材150の下面との間に設けられたガラス接合部材160とが熱が印加されることで、溶融接合される。封止枠部130bの下面には、ガラス保護部材150が環状に設けられている。   The sealing base portion 130a and the sealing frame portion 130b are made of, for example, an alloy containing at least one of iron, nickel, and cobalt, and are integrally formed. Such a sealing lid 130 is for hermetically sealing the housing space K in a vacuum state or the housing space K filled with nitrogen gas or the like. Specifically, the sealing lid 130 is placed on the upper surface of the substrate 110 in a predetermined atmosphere, and the glass bonding member 160 provided between the upper surface of the substrate 110 and the lower surface of the glass protection member 150 is heated. Is applied to melt-bond. A glass protective member 150 is annularly provided on the lower surface of the sealing frame portion 130b.

ガラス保護部材150は、配線パターン113が金属製の封止蓋体130と接触して短絡することを低減するために用いられている。また、ガラス保護部材150は、図1及び図3に示すように、封止蓋体130の封止枠部130bの下面に環状で設けられている。ガラス保護部材150は、ガラス接合部材160よりも融点が高くなるように設けられ、その融点が500〜800℃のものを用いている。これにより、ガラス接合部材160で接合する際には、ガラス保護部材150は、溶融せずに形成時の形状を保ち、上下方向の厚みを確保することができる。よって、金属製の封止蓋体130又は基板110に圧力がかかり押し付けられても、ガラス保護部材150の上下方向の厚み分確保されているので、ガラス保護部材150と基板110の配線パターン113とが接触することになる。このようにすることで、金属製の封止蓋体130と基板110の配線パターン113とが接触することを抑えつつ、この接触による金属製の封止蓋体130と配線パターン113との短絡を低減することが可能となる。   The glass protection member 150 is used to reduce the short circuit caused by the wiring pattern 113 coming into contact with the metal sealing lid 130. Further, as shown in FIGS. 1 and 3, the glass protection member 150 is provided in an annular shape on the lower surface of the sealing frame portion 130 b of the sealing lid 130. The glass protective member 150 is provided so that the melting point is higher than that of the glass bonding member 160, and the one having a melting point of 500 to 800 ° C. is used. Thereby, when joining by the glass joining member 160, the glass protective member 150 can maintain the shape at the time of formation, without melt | dissolving, and can ensure the thickness of an up-down direction. Therefore, even if pressure is applied to the metal sealing lid 130 or the substrate 110 and the glass protective member 150 is secured in the vertical direction, the glass protective member 150 and the wiring pattern 113 of the substrate 110 are secured. Will come into contact. By doing so, the metal sealing lid 130 and the wiring pattern 113 of the substrate 110 are prevented from coming into contact with each other, and a short circuit between the metal sealing lid 130 and the wiring pattern 113 due to this contact is prevented. It becomes possible to reduce.

また、ガラス保護部材150の上下方向の厚みは、10〜30μmとなっている。このようにすることにより、金属製の封止蓋体130又は基板110に圧力がかかり押し付けられても、封止枠部130bの下面が露出することを低減することができる。また、ガラス保護部材150は、例えば、ガラスフリットペーストがスクリーン印刷法で封止枠部130bの下面の外周縁に沿って環状に塗布され乾燥することで設けられる。ガラス保護部材150が封止蓋体130の封止枠部130bの下面に設けられていることにより、封止蓋体を基板の上面に載置する際に、ガラス保護部材150が緩衝する役割を果たすため、封止枠部130bに欠けが生じることを低減することができる。   Moreover, the thickness of the glass protective member 150 in the vertical direction is 10 to 30 μm. By doing in this way, even if a pressure is applied and pressed to the metal sealing lid 130 or the substrate 110, it is possible to reduce the exposure of the lower surface of the sealing frame portion 130b. Further, the glass protection member 150 is provided by, for example, applying glass frit paste in a ring shape along the outer peripheral edge of the lower surface of the sealing frame portion 130b by screen printing and drying. Since the glass protective member 150 is provided on the lower surface of the sealing frame portion 130b of the sealing lid body 130, the glass protective member 150 serves as a buffer when the sealing lid body is placed on the upper surface of the substrate. As a result, the occurrence of chipping in the sealing frame portion 130b can be reduced.

ガラス接合部材160は、封止蓋体130の下面と基板110の上面の外周縁とを接合するために用いられている。ガラス接合部材160は、図2に示すように、ガラス保護部材150の下面から基板110上の外周縁上にかけて設けられている。ガラス接合部材160は、300℃〜400℃で溶融するガラスである例えばバナジウムを含有した低融点ガラス又は酸化鉛系ガラスから構成されている。ガラスは、バインダーと溶剤とが加えられペースト状であり、溶融された後固化されることで他の部材と接着する。ガラス接合部材160は、例えば、ガラスフリットペーストをスクリーン印刷法で基板110の外周縁に沿って塗布され乾燥することで設けられる。また、この酸化鉛系ガラスの組成は、酸化鉛、フッ化鉛、二酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化亜鉛、酸化第二鉄、酸化銅及び酸化カルシウムとから構成されている。また、ガラス接合部材160の上下方向の厚みは、10〜50μmとなっている。この厚みにすることにより、収容空間内の気密封止性を維持することができる。   The glass bonding member 160 is used to bond the lower surface of the sealing lid 130 and the outer peripheral edge of the upper surface of the substrate 110. As shown in FIG. 2, the glass bonding member 160 is provided from the lower surface of the glass protection member 150 to the outer peripheral edge on the substrate 110. The glass bonding member 160 is made of, for example, low melting glass or lead oxide glass containing vanadium that is a glass that melts at 300 ° C to 400 ° C. Glass is pasty with a binder and a solvent added, and is melted and then solidified to adhere to other members. The glass bonding member 160 is provided by, for example, applying glass frit paste along the outer peripheral edge of the substrate 110 by a screen printing method and drying it. The composition of the lead oxide glass is composed of lead oxide, lead fluoride, titanium dioxide, niobium oxide, bismuth oxide, boron oxide, zinc oxide, ferric oxide, copper oxide and calcium oxide. Moreover, the thickness of the glass bonding member 160 in the vertical direction is 10 to 50 μm. By using this thickness, the hermetic sealability in the accommodation space can be maintained.

本実施形態における水晶デバイスは、矩形状の基板110と、基板110の上面に設けられた電極パッド111と、基板110の下面に設けられた外部端子112と、電極パッド111上に設けられた水晶素子120と、基板110と接合された金属製の封止蓋体130と、封止蓋体130の下面に設けられたガラス保護部材150と、ガラス保護部材150の下面に設けられたガラス接合部材160と、を備えている。このようにすることにより、水晶デバイスは、封止蓋体130と基板110とを接合する際に、封止蓋体130又は基板110に圧力がかかったとしても、基板110の上面に設けられている配線パターン113と、封止枠部130bの下面に設けられたガラス保護部材150が接触することになるので、金属製の封止蓋体130と配線パターン113とが短絡してしまうことを低減することができる。   The crystal device according to the present embodiment includes a rectangular substrate 110, an electrode pad 111 provided on the upper surface of the substrate 110, an external terminal 112 provided on the lower surface of the substrate 110, and a crystal provided on the electrode pad 111. The element 120, a metal sealing lid 130 bonded to the substrate 110, a glass protection member 150 provided on the lower surface of the sealing lid 130, and a glass bonding member provided on the lower surface of the glass protection member 150 160. By doing so, the crystal device is provided on the upper surface of the substrate 110 even when pressure is applied to the sealing lid 130 or the substrate 110 when the sealing lid 130 and the substrate 110 are joined. Since the wiring pattern 113 and the glass protective member 150 provided on the lower surface of the sealing frame portion 130b are in contact with each other, the short circuit between the metal sealing lid 130 and the wiring pattern 113 is reduced. can do.

(第一変形例)
以下、本実施形態の第一変形例における水晶デバイスについて説明する。なお、本実施形態の第一変形例における水晶デバイスのうち、上述した水晶デバイスと同様な部分については、同一の符号を付して適宜説明を省略する。本実施形態の第一変形例における水晶デバイスは、図5〜図7に示されているように、電極パッド211が、基板210の上面の四隅に設けられており、外部端子212が、基板210の下面の四隅に設けられていること点において本実施形態と異なる。
(First modification)
Hereinafter, the crystal device according to the first modification of the present embodiment will be described. Note that, in the quartz crystal device according to the first modification of the present embodiment, the same portions as those of the quartz crystal device described above are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate. As shown in FIGS. 5 to 7, in the crystal device according to the first modification of the present embodiment, the electrode pads 211 are provided at the four corners of the upper surface of the substrate 210, and the external terminals 212 are the substrate 210. The present embodiment is different from the present embodiment in that it is provided at the four corners of the lower surface.

基板210の上面の四隅には、水晶素子120を接合するための電極パッド211が設けられ、基板210の下面の四隅には、外部端子212が設けられている。また、四つの外部端子212の内の二つが、水晶素子120と電気的に接続されて、水晶素子120の入出力端子として用いられる。   Electrode pads 211 for bonding the crystal element 120 are provided at the four corners of the upper surface of the substrate 210, and external terminals 212 are provided at the four corners of the lower surface of the substrate 210. Further, two of the four external terminals 212 are electrically connected to the crystal element 120 and used as input / output terminals of the crystal element 120.

電極パッド211は、図5〜図7に示すように、基板210の上面の四隅に設けられている。電極パッド211は、基板210に上下面に設けられた配線パターン213と側面に設けられた導体部214を介して、電極パッド211と平面視して重なる位置に設けられた外部端子212と電気的に接続されている。   The electrode pads 211 are provided at the four corners of the upper surface of the substrate 210 as shown in FIGS. The electrode pad 211 is electrically connected to the external terminal 212 provided at a position overlapping the electrode pad 211 in plan view via the wiring pattern 213 provided on the upper and lower surfaces of the substrate 210 and the conductor portion 214 provided on the side surface. It is connected to the.

電極パッド211は、図7(a)に示すように、第一電極パッド211a、第二電極パッド211b、第三電極パッド211c及び第四電極パッド211dによって構成されている。また、外部端子212は、図7(b)に示すように、第一外部端子212a、第二外部端子212b、第三外部端子212c及び第四外部端子212dによって構成されている。配線パターン213は、図7に示すように、第一配線パターン213a、第二配線パターン213b、第三配線パターン213c及び第四配線パターン213dによって構成されている。導体部214は、図7に示すように、第一導体部214a、第二導体部214b、第三導体部214c及び第四導体部214dによって構成されている。第一電極パッド211aと第一外部端子212aとは、基板210の上下面に設けられた第一配線パターン213aと、基板210の角の一つに設けられた第一導体部214aにより接続されており、第二電極パッド211bと第二外部端子212bとは、基板210の上下面に設けられた第二配線パターン213bと、基板210の角の一つに設けられた第二導体部214bにより接続されている。また、第三電極パッド211cと第三外部端子212cとは、基板210上下面に設けられた第三配線パターン213cと、基板210の角の1つに設けられた第三導体部214cにより接続されており、第四電極パッド211dと第四外部端子212dとは、基板210上下面に設けられた第四配線パターン213dと、基板210の角の1つに設けられた第四導体部214dにより接続されている。   As shown in FIG. 7A, the electrode pad 211 includes a first electrode pad 211a, a second electrode pad 211b, a third electrode pad 211c, and a fourth electrode pad 211d. Further, as shown in FIG. 7B, the external terminal 212 includes a first external terminal 212a, a second external terminal 212b, a third external terminal 212c, and a fourth external terminal 212d. As shown in FIG. 7, the wiring pattern 213 includes a first wiring pattern 213a, a second wiring pattern 213b, a third wiring pattern 213c, and a fourth wiring pattern 213d. As shown in FIG. 7, the conductor portion 214 is composed of a first conductor portion 214a, a second conductor portion 214b, a third conductor portion 214c, and a fourth conductor portion 214d. The first electrode pad 211 a and the first external terminal 212 a are connected by a first wiring pattern 213 a provided on the upper and lower surfaces of the substrate 210 and a first conductor portion 214 a provided at one corner of the substrate 210. The second electrode pad 211b and the second external terminal 212b are connected by a second wiring pattern 213b provided on the upper and lower surfaces of the substrate 210 and a second conductor portion 214b provided at one corner of the substrate 210. Has been. The third electrode pad 211 c and the third external terminal 212 c are connected by a third wiring pattern 213 c provided on the upper and lower surfaces of the substrate 210 and a third conductor portion 214 c provided on one corner of the substrate 210. The fourth electrode pad 211d and the fourth external terminal 212d are connected by a fourth wiring pattern 213d provided on the upper and lower surfaces of the substrate 210 and a fourth conductor portion 214d provided at one of the corners of the substrate 210. Has been.

また、電極パッド211と外部端子212とが、それぞれ平面視して重なる位置に配置され、重なる位置にある電極パッド211と外部端子212とが電気的に接続されている。このようにすることにより、基板210の上面と下面との熱膨張係数が近似することになるので、基板210の反りを低減することができる。また、仮に、基板210が反ったとしても、水晶素子120を対角にて保持することにより、水晶素子120にかかる応力を両保持により均等にすることができる。よって、導電性接着剤140にかかる応力が水晶素子120に伝わることにより生じる水晶素子120の発振周波数の変動を低減することができる。   Further, the electrode pad 211 and the external terminal 212 are arranged at positions where they overlap each other in plan view, and the electrode pad 211 and the external terminal 212 at the overlapping positions are electrically connected. By doing so, the thermal expansion coefficients of the upper surface and the lower surface of the substrate 210 are approximated, so that the warpage of the substrate 210 can be reduced. Even if the substrate 210 is warped, by holding the crystal element 120 diagonally, the stress applied to the crystal element 120 can be equalized by both holding. Therefore, it is possible to reduce fluctuations in the oscillation frequency of the crystal element 120 caused by the stress applied to the conductive adhesive 140 being transmitted to the crystal element 120.

また、水晶デバイスに構成されている基板210は、上面及び下面に設けられている電極パッド211と外部端子212が平面透視して重なる位置に設けられている。また、基板210の上面及び下面は、基板210の長辺の中間点を通る軸線に対して左右対称となっている。この基板210を製造装置に搬入させる際に、整列治具に整列させると、基板210の上面及び下面の確認や基板210の方向の確認を画像処理で確認する必要がない。仮に、従来の水晶デバイスで使用されている基板を用いた場合、製造装置に搬入する際に、整列治具に基板を整列させると、基板の上面及び下面の確認や基板の方向の確認を画像処理等で行う必要があり、生産性が低下してしまう。このようにすることで、整列させた基板210を画像処理で確認する必要がないので、水晶デバイスの生産性を向上させることができる。   In addition, the substrate 210 formed in the quartz device is provided at a position where the electrode pads 211 provided on the upper surface and the lower surface overlap with the external terminals 212 in a plan view. Further, the upper surface and the lower surface of the substrate 210 are symmetric with respect to an axis passing through the midpoint of the long side of the substrate 210. When the substrate 210 is carried into the manufacturing apparatus, it is not necessary to confirm the upper and lower surfaces of the substrate 210 and the direction of the substrate 210 by image processing if they are aligned with an alignment jig. If a substrate used in a conventional crystal device is used, when the substrate is aligned with an alignment jig when it is carried into a manufacturing apparatus, confirmation of the upper and lower surfaces of the substrate and confirmation of the direction of the substrate is possible. It is necessary to carry out by processing etc., and productivity will fall. By doing so, it is not necessary to confirm the aligned substrates 210 by image processing, so that the productivity of the crystal device can be improved.

また、水晶素子120の第一引き出し電極123a及び第二引き出し電極123bと、第一電極パッド211a及び第三電極パッド211cとが接合している箇所を軸として傾いても、水晶素子120の接合していない角が第二電極パッド211b又は第四電極パッド211dに接触するので、基板210の上面に水晶素子120の接合していない角が接触することを抑制することできる。仮に、水晶素子120の接合していない角が基板210に接触した状態で、落下試験等を行うと、水晶素子120の接合していない角が欠けてしまう虞がある。このようにすることで、水晶素子120の角が欠けてしまうことを抑え、水晶素子120の発振周波数が変動することを低減することができる。   In addition, even if the first lead electrode 123a and the second lead electrode 123b of the crystal element 120 are inclined about the place where the first electrode pad 211a and the third electrode pad 211c are joined, the crystal element 120 is bonded. Since the corners that are not in contact with the second electrode pad 211b or the fourth electrode pad 211d, it is possible to prevent the corners of the crystal element 120 that are not bonded from coming into contact with the upper surface of the substrate 210. If a drop test or the like is performed in a state where the corner where the crystal element 120 is not bonded is in contact with the substrate 210, the corner where the crystal element 120 is not bonded may be lost. By doing in this way, it can suppress that the angle | corner of the crystal element 120 is missing, and can reduce that the oscillation frequency of the crystal element 120 fluctuates.

(第二変形例)
以下、本実施形態の第二変形例における水晶デバイスについて説明する。なお、本実施形態の第二変形例における水晶デバイスのうち、上述した水晶デバイスと同様な部分については、同一の符号を付して適宜説明を省略する。本実施形態の第二変形例における水晶デバイスは、図8に示されているように、電極パッド311は矩形状であり、平面視して、励振用電極122と重なる位置にある電極パッド311に面取り部315が設けられている点において本実施形態と異なる。
(Second modification)
Hereinafter, the quartz crystal device according to the second modification of the present embodiment will be described. Of the quartz crystal device according to the second modification of the present embodiment, the same portions as those of the quartz crystal device described above are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted as appropriate. In the crystal device according to the second modification of the present embodiment, as illustrated in FIG. 8, the electrode pad 311 has a rectangular shape, and the electrode pad 311 in a position overlapping the excitation electrode 122 in a plan view. The present embodiment is different from the present embodiment in that a chamfered portion 315 is provided.

面取り部315は、励振用電極122側を向いている角に、電極パッド311の一辺から一辺と隣接する一辺にかけて横断するようにして直線状に設けられている。このようにすることによって、励振用電極122と電極パッド311との間で十分な距離が確保できているため、励振用電極122と電極パッド311との接触を低減することができる。   The chamfered portion 315 is provided in a straight line at a corner facing the excitation electrode 122 side so as to cross from one side of the electrode pad 311 to one side adjacent to the one side. By doing so, a sufficient distance can be secured between the excitation electrode 122 and the electrode pad 311, so that the contact between the excitation electrode 122 and the electrode pad 311 can be reduced.

また、電極パッド311は、基板310に沿って設けられた形状となっている。ここで基板310を平面視したときの長辺の寸法が、1.2〜2.5mmであり、短辺の寸法が、1.0〜2.0mmである場合を例にして、電極パッド311の大きさを説明する。電極パッド311の長辺の長さは、0.40〜0.90mmであり、短辺の長さは、0.30〜0.60mmとなっている。また、面取り部315は、矩形状の電極パッド311の角を三角形状に除去したものであり、電極パッド311を平面視したときの縦寸法と平行となる寸法が0.05〜0.15mmであり、平面視したときの横寸法が0.05〜0.15mmである。また、面取り部315が設けられた電極パッド311は、矩形状の電極パッド311に比べて、その面積が97〜99%となるように形成されている。   The electrode pad 311 has a shape provided along the substrate 310. Here, taking the case where the long side dimension of the substrate 310 in plan view is 1.2 to 2.5 mm and the short side dimension is 1.0 to 2.0 mm, the electrode pad 311 is taken as an example. Explain the size of. The long side length of the electrode pad 311 is 0.40 to 0.90 mm, and the short side length is 0.30 to 0.60 mm. The chamfered portion 315 is obtained by removing the corners of the rectangular electrode pad 311 in a triangular shape, and the dimension parallel to the vertical dimension when the electrode pad 311 is viewed in plan is 0.05 to 0.15 mm. Yes, and the horizontal dimension when viewed in plan is 0.05 to 0.15 mm. Further, the electrode pad 311 provided with the chamfered portion 315 is formed to have an area of 97 to 99% as compared with the rectangular electrode pad 311.

本実施形態の第二変形例における水晶デバイスは、電極パッド311及び外部端子312は矩形状であり、電極パッド311に面取り部315が設けられている。このようにすることによって、励振用電極122と電極パッド311との間で十分な距離が確保できているため、励振用電極122と電極パッド311との接触を低減することができる。よって、水晶デバイスは、水晶素子120の発振周波数が変動することを低減することができる。   In the crystal device according to the second modification of the present embodiment, the electrode pad 311 and the external terminal 312 are rectangular, and the electrode pad 311 is provided with a chamfered portion 315. By doing so, a sufficient distance can be secured between the excitation electrode 122 and the electrode pad 311, so that the contact between the excitation electrode 122 and the electrode pad 311 can be reduced. Therefore, the crystal device can reduce the fluctuation of the oscillation frequency of the crystal element 120.

(第三変形例)
以下、本実施形態の第三変形例における水晶デバイスについて説明する。なお、本実施形態の第三変形例における水晶デバイスのうち、上述した水晶デバイスと同様な部分については、同一の符号を付して適宜説明を省略する。本実施形態の第三変形例における水晶デバイスは、図9に示されているように、水晶素子220が片持ち支持構造であり、基板410の電極パッド411も基板410の短辺に隣接して設けられている点において本実施形態と異なる。
(Third modification)
Hereinafter, the quartz crystal device according to the third modification of the present embodiment will be described. Note that, in the quartz crystal device according to the third modification of the present embodiment, the same parts as those of the quartz crystal device described above are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate. As shown in FIG. 9, in the crystal device in the third modification of the present embodiment, the crystal element 220 has a cantilever support structure, and the electrode pad 411 of the substrate 410 is adjacent to the short side of the substrate 410. It differs from the present embodiment in that it is provided.

電極パッド411は、基板410の上面に一対で設けられており、基板410の一辺に沿うように隣接して設けられている。電極パッド411は、基板410の上下面に設けられた配線パターン413及び基板410の側面に設けられた導体部414を介して、外部端子412と電気的に接続されている。外部端子412は、基板410の下面の四隅に、基板410の外周縁に沿って設けられている。   A pair of electrode pads 411 are provided on the upper surface of the substrate 410, and are provided adjacently along one side of the substrate 410. The electrode pad 411 is electrically connected to the external terminal 412 via a wiring pattern 413 provided on the upper and lower surfaces of the substrate 410 and a conductor portion 414 provided on the side surface of the substrate 410. The external terminals 412 are provided along the outer peripheral edge of the substrate 410 at the four corners of the lower surface of the substrate 410.

水晶素子220は、図9に示されているように、水晶素板221の上面及び下面のそれぞれに励振用電極222及び引き出し電極223を被着させた構造を有している。励振用電極222は、水晶素板221の上面及び下面のそれぞれに金属を所定のパターンで被着・形成したものである。引き出し電極223は、励振用電極222から水晶素板221の短辺に向かって延出されており、水晶素板221の長辺又は短辺に沿った形状で設けられている。また、本実施形態においては、電極パッド411と接続されている水晶素子220の一端を基板410の上面と接続した固定端とし、他端を基板410の上面と間を空けた自由端とした片持ち支持構造にて水晶素子220が基板410上に固定されている。   As shown in FIG. 9, the crystal element 220 has a structure in which the excitation electrode 222 and the extraction electrode 223 are attached to the upper surface and the lower surface of the crystal base plate 221, respectively. The excitation electrode 222 is formed by depositing and forming a metal in a predetermined pattern on each of the upper and lower surfaces of the quartz base plate 221. The extraction electrode 223 extends from the excitation electrode 222 toward the short side of the crystal base plate 221 and is provided in a shape along the long side or the short side of the crystal base plate 221. In the present embodiment, one end of the crystal element 220 connected to the electrode pad 411 is a fixed end connected to the upper surface of the substrate 410, and the other end is a free end spaced from the upper surface of the substrate 410. The crystal element 220 is fixed on the substrate 410 by a holding support structure.

本実施形態の第三変形例における水晶デバイスは、金属製の封止蓋体130と基板410に圧力がかかったとしても、ガラス保護部材150の上下方向の厚みが確保されているので、金属製の封止蓋体130とガラス保護部材150とが密着されることになり、金属製の封止蓋体130と基板410の上面に設けられている配線パターン413とが短絡してしまうことを低減することができる。   Even if pressure is applied to the metal sealing lid 130 and the substrate 410, the quartz device in the third modification of the present embodiment has a vertical thickness of the glass protection member 150. The sealing lid body 130 and the glass protective member 150 are brought into close contact with each other, and a short circuit between the metallic sealing lid body 130 and the wiring pattern 413 provided on the upper surface of the substrate 410 is reduced. can do.

尚、本実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良等が可能である。上記の実施形態では、水晶素子は、AT用水晶素子を用いた場合を説明したが、基部と、基部の側面より同一の方向に延びる二本の平板形状の振動腕部とを有する音叉型屈曲水晶素子を用いても構わない。   In addition, it is not limited to this embodiment, A various change, improvement, etc. are possible in the range which does not deviate from the summary of this invention. In the above embodiment, the case where an AT crystal element is used as the crystal element has been described. However, a tuning fork-type bending having a base and two flat-plate-shaped vibrating arms extending in the same direction from the side surface of the base is described. A crystal element may be used.

また、水晶素子120のベベル加工方法について説明する。所定の粒度のメディアと砥粒とを備えた研磨材と、所定の大きさに形成された水晶素板121とを用意する。円筒体に用意した研磨材と水晶素板121とを入れ、円筒体の開口した端部をカバーで塞ぐ。研磨材と水晶素板121とを入れた円筒体を、円筒体の中心軸線を回転軸として回転させる水晶素板121が研磨材で研磨されてベベル加工が行われる。   A bevel processing method for the crystal element 120 will be described. A polishing material provided with media and abrasive grains having a predetermined particle size and a quartz base plate 121 having a predetermined size are prepared. The abrasive prepared in the cylindrical body and the quartz base plate 121 are placed, and the open end of the cylindrical body is closed with a cover. The quartz base plate 121 that rotates the cylindrical body containing the abrasive and the quartz base plate 121 with the central axis of the cylindrical body as the rotation axis is polished with the abrasive and beveled.

上記の実施形態では、ガラス接合部材160が基板110上に設けられた場合を説明したが、ガラス接合部材160が封止蓋体130の封止枠部130bの下面に設けられるようにしても構わない。このようなガラス接合部材160は、例えば、ガラスフリットペーストがスクリーン印刷法で封止枠部130bの下面に沿って環状に塗布され乾燥することで設けられる。   In the above embodiment, the case where the glass bonding member 160 is provided on the substrate 110 has been described. However, the glass bonding member 160 may be provided on the lower surface of the sealing frame portion 130 b of the sealing lid 130. Absent. Such a glass joining member 160 is provided by, for example, applying glass frit paste in a ring shape along the lower surface of the sealing frame portion 130b by a screen printing method and drying it.

110、210、310、410・・・基板
111、211、311、411・・・電極パッド
112、212、312、412・・・外部端子
113、213、313、413・・・配線パターン
114、214、314、414・・・導体部
315・・・面取り部
120・・・水晶素子
121・・・水晶素板
122・・・励振用電極
123・・・引き出し電極
130・・・封止蓋体
130a・・・封止基部
130b・・・封止枠部
140・・・導電性接着剤
150・・・ガラス保護部材
160・・・ガラス接合部材
K・・・収容空間
110, 210, 310, 410 ... substrate 111, 211, 311, 411 ... electrode pads 112, 212, 312, 412 ... external terminals 113, 213, 313, 413 ... wiring patterns 114, 214 314, 414 ... Conductor part 315 ... Chamfered part 120 ... Crystal element 121 ... Crystal base plate 122 ... Excitation electrode 123 ... Lead-out electrode 130 ... Sealing lid 130a ... Sealing base part 130b ... Sealing frame part 140 ... Conductive adhesive 150 ... Glass protective member 160 ... Glass bonding member K ... Storage space

Claims (3)

矩形状の基板と、
前記基板の上面に設けられた電極パッドと、
前記基板の下面に設けられた外部端子と、
前記電極パッド上に設けられた水晶素子と、
前記基板と接合された金属製の封止蓋体と、
前記封止蓋体の下面に設けられたガラス保護部材と、
前記ガラス保護部材の下面に設けられたガラス接合部材と、を備えたことを特徴とする水晶デバイス。
A rectangular substrate;
An electrode pad provided on the upper surface of the substrate;
An external terminal provided on the lower surface of the substrate;
A crystal element provided on the electrode pad;
A metal sealing lid bonded to the substrate;
A glass protective member provided on the lower surface of the sealing lid;
And a glass bonding member provided on the lower surface of the glass protective member.
請求項1に記載の水晶デバイスであって、
前記封止蓋体は、矩形状の封止基部と、前記封止基部の外周縁に沿って設けられた封止枠部とを備え、
前記ガラス保護部材が、前記封止枠部の下面に沿って設けられていることを特徴とする水晶デバイス。
The crystal device according to claim 1,
The sealing lid includes a rectangular sealing base and a sealing frame provided along an outer peripheral edge of the sealing base,
The crystal device, wherein the glass protective member is provided along a lower surface of the sealing frame portion.
請求項1乃至請求項2記載の水晶デバイスであって、
前記電極パッドは矩形状であり、
平面視して、前記電極パッドの角に面取り部が設けられていることを特徴とする水晶デバイス。
A quartz crystal device according to claim 1 or 2, wherein
The electrode pad has a rectangular shape,
A crystal device, wherein a chamfered portion is provided at a corner of the electrode pad in plan view.
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