JP2015018007A - フィルムマスク修正装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 フィルムマスクを部分的に修正できるフィルムマスク修正装置を提供する。【解決手段】フィルムマスク修正装置Aは箱本体1を備え、該箱本体1は箱形状をなし、一面が開放された開口10になっており、該開口10側をフィルムマスク5に被せてフィルムマスク5との間で密閉空間15を形成し、吸引装置2により密閉空間15を吸引して負圧にする。シャフト31を上下動、回転、傾動させ、擦り球30にフィルムマスク5に対して擦り動作を行わせ、フィルムマスク5の修正を行う。【選択図】 図1
Description
この発明は、プリント配線基板などの露光処理を行う露光装置に用いられるフィルムマスクの歪みを修正するフィルムマスク修正装置に関する。
フォトレジストなどの感光材料を塗布した基板表面に所定のパターンを露光装置により感光焼き付けし、その後エッチング工程により基板上にパターンを形成するフォトリソグラフィ法が種々の分野で広く応用されており、プリント配線基板も近年露光装置を用いて製造されている。このプリント配線基板の露光装置においては、パターン原画が描かれた原版として樹脂フィルムマスクが多く用いられている。
一方、スマートフォンに代表されるデジタル端末等は、小型軽量化と高機能高性能化の要求が高まっており、これに伴い電子部品を実装するプリント配線板も多層化、薄板化が進み、配線の高密度高精度化が進んでいる。
そのため、フィルムマスクを使用した密着式露光装置においても、従来以上の位置合わせ精度が要求されるようになった。
しかしながら、フィルムマスク作成時の描画ズレ、フィルムマスク自体の伸縮、フィルムマスク装着時の歪み、密着露光繰り返しによる伸縮及び歪み、あるいは基板自体の伸縮及び歪み等が複合的に重なりあい、回路パターンの一部分が、基板の下層回路パターンと合わない問題が多く発生しており、高い位置合わせ精度の要求に応えられなくなってきている。
このような問題を解決するために、特許文献1,2に示すようにフィルムマスク外周部を引っ張ることでフィルムマスク全体を弾性変形させて位置合わせを行い、この状態で露光を行うプリント配線基板用の露光装置が既に提案され、使用されている。しかし、このようなプリント配線基板用の露光装置は、新規な露光装置とするか或いは既存の露光装置を大幅に改良する必要がある。またフィルムマスク全体を変形させる構成のため、フィルムマスクの一部分の歪みには完全には対応できない問題がある。
従来のフィルムマスクを用いた密着式露光装置の要求も依然として高く、また既存の露光装置を継続して使用したいという要求も高いのが現状である。
一方、スマートフォンに代表されるデジタル端末等は、小型軽量化と高機能高性能化の要求が高まっており、これに伴い電子部品を実装するプリント配線板も多層化、薄板化が進み、配線の高密度高精度化が進んでいる。
そのため、フィルムマスクを使用した密着式露光装置においても、従来以上の位置合わせ精度が要求されるようになった。
しかしながら、フィルムマスク作成時の描画ズレ、フィルムマスク自体の伸縮、フィルムマスク装着時の歪み、密着露光繰り返しによる伸縮及び歪み、あるいは基板自体の伸縮及び歪み等が複合的に重なりあい、回路パターンの一部分が、基板の下層回路パターンと合わない問題が多く発生しており、高い位置合わせ精度の要求に応えられなくなってきている。
このような問題を解決するために、特許文献1,2に示すようにフィルムマスク外周部を引っ張ることでフィルムマスク全体を弾性変形させて位置合わせを行い、この状態で露光を行うプリント配線基板用の露光装置が既に提案され、使用されている。しかし、このようなプリント配線基板用の露光装置は、新規な露光装置とするか或いは既存の露光装置を大幅に改良する必要がある。またフィルムマスク全体を変形させる構成のため、フィルムマスクの一部分の歪みには完全には対応できない問題がある。
従来のフィルムマスクを用いた密着式露光装置の要求も依然として高く、また既存の露光装置を継続して使用したいという要求も高いのが現状である。
既存の露光装置を用いて、高精度の位置合わせを実現するためには、実際の生産現場においては、作業者がカメラのモニタ画像により基板とフィルムマスクの位置合わせ状態を記憶し、一旦フィルムマスクホルダを引き出し、ずれている部分をある程度弾力と摩擦力のある物質(樹脂等)で擦るなどを行い、フィルムマスクの一部分の歪みを修正し、補正しているのが現状である。
しかし、フィルムマスクはフィルムマスクホルダとの真空密着により大気圧が掛かかった状態でフィルムマスクとフィルムマスクホルダが強固に密着している。露光装置からフィルムマスクホルダを引き出した状態でもフィルムマスクはフィルムマスクホルダに真空密着させているため、この状態からフィルムマスクを弾性変形させて動かすためには、作業者は力を加えて繰り返し擦る作業を行わなければならず、大きな負担となっている。
本発明は、このような従来の問題点を解決することを目的とし、フィルムマスクの回路パターンと基板の回路パターンとの部分的なズレを、容易に修正、補正できるフィルムマスク修正装置を提供することを目的とする。
しかし、フィルムマスクはフィルムマスクホルダとの真空密着により大気圧が掛かかった状態でフィルムマスクとフィルムマスクホルダが強固に密着している。露光装置からフィルムマスクホルダを引き出した状態でもフィルムマスクはフィルムマスクホルダに真空密着させているため、この状態からフィルムマスクを弾性変形させて動かすためには、作業者は力を加えて繰り返し擦る作業を行わなければならず、大きな負担となっている。
本発明は、このような従来の問題点を解決することを目的とし、フィルムマスクの回路パターンと基板の回路パターンとの部分的なズレを、容易に修正、補正できるフィルムマスク修正装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明のフィルムマスク修正装置は、フィルムマスクホルダに装着されたフィルムマスク上に装着され、フィルムマスクとの間に密閉空間を形成する空間形成体と、該空間形成体の密閉空間を負圧状態にする吸引装置と、前記空間形成体内において、前記フィルムマスクを変形させる加圧装置と、を有することを特徴とする。
前記吸引装置は、前記密閉空間の負圧状態を保持及び解除可能である、ように構成することが望ましい。また前記加圧装置は、フィルムマスクを任意方向に押圧しつつ擦る機構を備える、ことが望ましい。更に前記加圧装置は、前記空間形成体の外部から内部に貫通するシャフトと、該シャフトを上下動可能且つ360゜方向に傾動可能に保持する軸受と、前記シャフトの空間形成体の内部の先端に設けられ、フィルムマスクを擦るための擦り部と、を備えることが可能である。
前記吸引装置は、前記密閉空間の負圧状態を保持及び解除可能である、ように構成することが望ましい。また前記加圧装置は、フィルムマスクを任意方向に押圧しつつ擦る機構を備える、ことが望ましい。更に前記加圧装置は、前記空間形成体の外部から内部に貫通するシャフトと、該シャフトを上下動可能且つ360゜方向に傾動可能に保持する軸受と、前記シャフトの空間形成体の内部の先端に設けられ、フィルムマスクを擦るための擦り部と、を備えることが可能である。
上記構成のフィルムマスク修正装置によれば、空間形成体の内部の密閉空間を吸引装置により負圧状態にすることができるため、フィルムマスクを浮かせるか或いはマスクホルダとの吸着力を弱めることが出来る。そしてこの状態で加圧装置によりフィルムマスクを変形させるため、容易にフィルムマスクの一部分の歪みを修正、補正することが可能となる。その結果、擦る回数が減少し、作業者の負担が軽減され、フィルムマスクの損傷が抑えられ、更に摩擦による発塵等が低減される効果がある。
以下本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1にフィルムマスク修正装置Aの概略を示す。フィルムマスク修正装置Aは箱本体1を備え、該箱本体1は箱形状をなし、一面が開放された開口10になっており、該開口10側をフィルムマスク5の上面に被せてフィルムマスク5との間で密閉空間15を形成するように構成されている。開口10の周囲の端部11は平面度を高く加工されており、密閉空間15の減圧によりフィルムマスク5が周囲端部11に密着して真空漏れを防ぐ構成になっている。端部11に何らかのシール性を持たせることも可能である。
なお、箱本体1は修正部を確認できるような透明体が良く、少なくとも一部を透明に構成するのが望ましい。
図1にフィルムマスク修正装置Aの概略を示す。フィルムマスク修正装置Aは箱本体1を備え、該箱本体1は箱形状をなし、一面が開放された開口10になっており、該開口10側をフィルムマスク5の上面に被せてフィルムマスク5との間で密閉空間15を形成するように構成されている。開口10の周囲の端部11は平面度を高く加工されており、密閉空間15の減圧によりフィルムマスク5が周囲端部11に密着して真空漏れを防ぐ構成になっている。端部11に何らかのシール性を持たせることも可能である。
なお、箱本体1は修正部を確認できるような透明体が良く、少なくとも一部を透明に構成するのが望ましい。
箱本体1には吸引装置2が設けられており、吸引装置2の吸引ポンプ20により密閉空間15を吸引して負圧にするように構成されている。吸引ポンプ20と密閉空間15の間にはハンドバルブ21が設けられており、作業者がハンドバルブ21を操作して、吸引ポンプ20のオンオフ、密閉空間15の負圧状態の保持、密閉空間15の負圧状態の解除を行うことができるようになっている。
箱本体1の開口10に対向する上面12には加圧装置3が設けられている。加圧装置3は樹脂製の擦り球30と、該擦り球30を支持するシャフト31を備えている。擦り球30は密閉空間15内部に位置し、シャフト31は上面12において箱本体1外部から密閉空間15内部に貫通している。シャフト31は球面軸受32を介して貫通しており、シャフト31は上下動可能、回転可能、且つ上面12側から見て360度方向に傾動可能になっている。この構成により擦り球30はフィルムマスク5に対して任意の圧力で接触可能で、且つ任意の方向に移動可能であり、その結果任意の方向にフィルムマスク5を擦ることが可能になっている。
シャフト31の上端部には取手33が設けられており、操作者は取手33により、シャフト31を上下動、回転、傾動させ、擦り球30にフィルムマスク5に対して擦り動作を行わせるように構成されている。
シャフト31には圧縮コイルばね34が設けられており、シャフト31は上方向に付勢されている。
擦り球30はある程度の弾力と摩擦力のある物質で、ズレを修正する方向にフィルムマスクを擦り、位置ズレを修正することが可能な材質とする。フィルムマスク5の材質は主にポリエステル製であり、擦り球30が金属等の硬いものだとフィルムマスクを傷つけてしまう。逆に擦り球30が軟らか過ぎると擦る物質のみが大きく弾性変形するだけでフィルムマスク5に対して十分な押し付け力を加えることが出来ないため、フィルムマスクを擦って弾性変形させるための摩擦力が得られにくい。そのためフィルムマスクを擦る材質はウレタン等の樹脂が好ましい。
シャフト31の箱本体1から外部に突出している部分及び球面軸受32はシールカバー35により覆われており、密閉空間15の密閉性を維持するように構成されている。
シャフト31の上端部には取手33が設けられており、操作者は取手33により、シャフト31を上下動、回転、傾動させ、擦り球30にフィルムマスク5に対して擦り動作を行わせるように構成されている。
シャフト31には圧縮コイルばね34が設けられており、シャフト31は上方向に付勢されている。
擦り球30はある程度の弾力と摩擦力のある物質で、ズレを修正する方向にフィルムマスクを擦り、位置ズレを修正することが可能な材質とする。フィルムマスク5の材質は主にポリエステル製であり、擦り球30が金属等の硬いものだとフィルムマスクを傷つけてしまう。逆に擦り球30が軟らか過ぎると擦る物質のみが大きく弾性変形するだけでフィルムマスク5に対して十分な押し付け力を加えることが出来ないため、フィルムマスクを擦って弾性変形させるための摩擦力が得られにくい。そのためフィルムマスクを擦る材質はウレタン等の樹脂が好ましい。
シャフト31の箱本体1から外部に突出している部分及び球面軸受32はシールカバー35により覆われており、密閉空間15の密閉性を維持するように構成されている。
次に上記実施形態のフィルムマスク修正装置Aの使用方法を説明する。
図5に露光装置の一般的な構成を示す。
プリント配線基板などの基板8はプラテン9上に真空吸着されており、該プラテン9はXYθステージ90によりXYθ方向に移動可能で、Z軸91により上下方向移動可能に構成されている。
図5に露光装置の一般的な構成を示す。
プリント配線基板などの基板8はプラテン9上に真空吸着されており、該プラテン9はXYθステージ90によりXYθ方向に移動可能で、Z軸91により上下方向移動可能に構成されている。
プラテン9の上方に設けられたフィルムマスクホルダ6はホルダフレーム61のガラス板60に吸着装置62により吸着されたフィルムマスク5が装着されており、該フィルムマスク5はホルダフレーム61の下側に基板8に対向して設置されている。
ガラス押さえ63はガラス板60の押さえである。
ガラス押さえ63はガラス板60の押さえである。
露光に際しては、図5(B)に示すように最初にカメラ7によりマスクマーク50と基板マーク80の位置合わせを行い、次に図6に示すようにZ軸91によりプラテン9を上昇させ、フィルムマスク5と基板8を密着させ、吸引装置(図示せず)により真空密着させる。そして、図7に示すようにカメラ7によりフィルムマスク5のマスク回路パターン51と基板回路パターン81の合わせ状態を確認する。図7の(B)に示すようにマスク回路パターン51と基板回路パターン81がずれている場合には、フィルムマスク5の修正が必要と判断する。
そして、図8に示すように、フィルムマスクホルダ6を露光装置から引き出し、反転させて、フィルムマスク5を上側に位置させ、この状態でフィルムマスク修正装置Aをフィルムマスク5上に装着する。
即ち図2に示すように、フィルムマスク5の位置ズレを修正したい箇所の上にフィルムマスク修正装置Aを装着し、フィルムマスク5の上面との間に密閉空間15を形成する。そしてハンドバルブ21を開いて箱本体1内の密閉空間15の減圧を行う。密閉空間15を負圧状態にすることでフィルムマスク5をわずかに浮き上がらせることができる。またはガラス板60との真空密着による吸着力を弱めることでフィルムマスクを動かしやすい状態にすることが可能である。
この状態で、図3に示すように、操作者は取手33を押して、擦り球30をフィルムマスク5に押し付け、取手33によりシャフト31を傾動させ、フィルムマスク5を任意の方向へ擦り、フィルムマスク5を弾性変形させる。この際、操作者は図3(B)に示すように、事前に確認したマスク回路パターン51と基板回路パターン81のズレを解消するように、フィルムマスク5を擦って弾性変形させる。
そして擦り球30でフィルムマスク5を擦った状態(取手33を手で押し込んだ状態)でハンドバルブ21を閉じて、ハンドバルブ21から圧力を抜いて、箱本体1の負圧状態を解除(大気開放)させれば、フィルムマスク5はガラス板60に再び真空密着し、フィルムマスク5は弾性変形して修正された位置でガラス板60に密着される。即ち位置ズレ修正によるフィルムマスクの弾性変形の状態が保持される。
次いで図4に示すように操作者が取手33を放すと圧縮コイルばね34のばね力により擦り球30とシャフト31は上方に戻る。
そして擦り球30でフィルムマスク5を擦った状態(取手33を手で押し込んだ状態)でハンドバルブ21を閉じて、ハンドバルブ21から圧力を抜いて、箱本体1の負圧状態を解除(大気開放)させれば、フィルムマスク5はガラス板60に再び真空密着し、フィルムマスク5は弾性変形して修正された位置でガラス板60に密着される。即ち位置ズレ修正によるフィルムマスクの弾性変形の状態が保持される。
次いで図4に示すように操作者が取手33を放すと圧縮コイルばね34のばね力により擦り球30とシャフト31は上方に戻る。
次いで、フィルムマスク修正装置Aをフィルムマス5から離し、フィルムマスクホルダ6を再び露光装置に挿入し、図7に示すようにフィルムマスク5と基板8を密着させ、カメラ7によりフィルムマスク5のマスク回路パターン51と基板回路パターン81の合わせ状態を再確認し、フィルムマスク5に描画された回路パターン51が意図した位置に移動し、修正が完了しているか確認する。
修正が完了していれば、露光工程に移行する。完了していなければ、再度フィルムマスクホルダ6を取り外して、フィルムマスク修正装置Aによる再修正作業を行う。
修正が完了していれば、露光工程に移行する。完了していなければ、再度フィルムマスクホルダ6を取り外して、フィルムマスク修正装置Aによる再修正作業を行う。
1:箱本体、2:吸引装置、3:加圧装置、5:フィルムマスク、6:フィルムマスクホルダ、7:カメラ、8:基板、9:プラテン、10:開口、11:端部、12:上面、15:密閉空間、20:吸引ポンプ、21:ハンドバルブ、30:擦り球、31:シャフト、32:球面軸受、33:取手、34:圧縮コイルばね、35:シールカバー、50:マスクマーク、51:マスク回路パターン、60:ガラス板、61:ホルダフレーム、62:吸着装置、63:ガラス押さえ、80:基板マーク、81:基板回路パターン、90:XYθステージ、91:Z軸。
Claims (4)
- フィルムマスクホルダに装着されたフィルムマスク上に装着され、フィルムマスクとの間に密閉空間を形成する空間形成体と、
該空間形成体の密閉空間を負圧状態にする吸引装置と、
前記空間形成体内において、前記フィルムマスクを変形させる加圧装置と、
を有することを特徴とするフィルムマスク修正装置。 - 前記吸引装置は、前記密閉空間の負圧状態を保持及び解除可能である、
請求項1のフィルムマスク修正装置。 - 前記加圧装置は、フィルムマスクを任意方向に押圧しつつ擦る機構を備える、
請求項1のフィルムマスク修正装置。 - 前記加圧装置は、
前記空間形成体の外部から内部に貫通するシャフトと、
該シャフトを上下動可能且つ傾動可能に保持する軸受と、
前記シャフトの空間形成体の内部の先端に設けられ、フィルムマスクを擦るための擦り部と、
を備えたことを特徴とする請求項1のフィルムマスク修正装置。
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