JP2015006697A - Processing device and processing method of plate-like object - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、板状物の加工装置及び加工方法に関する。 The present invention relates to a processing apparatus and a processing method for a plate-like object.
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等に使用されるFPD(Flat Panel Display)用のガラス板(板状物)は、溶融ガラスを板状に成形し、その後、切断装置によって所定の矩形サイズのガラス板に切断される。その後、ガラス板は、面取装置(加工装置)の面取用砥石によって、その端縁部が研削加工されることにより面取りされる。面取装置としては、特許文献1の如く公知である。 Glass plates (plates) for FPD (Flat Panel Display) used in liquid crystal displays, plasma displays, etc., are formed by forming molten glass into plates and then cutting them into glass plates of a predetermined rectangular size using a cutting device. Is done. Thereafter, the glass plate is chamfered by grinding the edge thereof with a chamfering grindstone of a chamfering device (processing device). As a chamfering device, it is known as in Patent Document 1.
また、特許文献2に記載された面取装置は、面取用砥石、及び冷却液(研削液)噴射ノズル等を備えている。前記面取用砥石は、ガラス板の平面に直交する軸と平行な軸を中心に回転されるとともに、その回転方向は、ガラス板の研削部においてガラス板の搬送方向と相対する方向に設定されている。また、面取用砥石の研削面となる外周面は、略凹状で円弧状の断面輪郭形状をなし、ガラス板の端縁部を断面円弧状に研削加工する。 The chamfering device described in Patent Document 2 includes a chamfering grindstone, a coolant (grinding fluid) injection nozzle, and the like. The chamfering grindstone is rotated around an axis parallel to an axis perpendicular to the plane of the glass plate, and the rotation direction is set to a direction opposite to the conveyance direction of the glass plate in the grinding portion of the glass plate. ing. Moreover, the outer peripheral surface used as the grinding surface of the chamfering grindstone is substantially concave and has an arcuate cross-sectional contour shape, and the edge of the glass plate is ground into an arcuate cross-sectional shape.
一方、前記冷却液噴射ノズルは、ガラス板と面取用砥石との接触部を基準として、面取用砥石の回転方向上流側から、前記接触部に向けて冷却液を噴射するように構成されている。 On the other hand, the coolant injection nozzle is configured to inject coolant toward the contact portion from the upstream side in the rotation direction of the chamfering grindstone with reference to the contact portion between the glass plate and the chamfering grindstone. ing.
また、特許文献3に記載された冷却液(クーラント)噴射ノズルは、ワークを挟んで両側に一対配置されるとともに、ワークと砥石との接触部に対して斜め上方に設置されており、前記接触部及びその近傍に向けて冷却液を斜め方向から噴射している。すなわち、特許文献3の加工装置では2本の冷却液噴射ノズルを備えている。 In addition, a pair of coolant (coolant) injection nozzles described in Patent Document 3 are disposed on both sides of the workpiece, and are disposed obliquely above the contact portion between the workpiece and the grindstone, and the contact Coolant is sprayed from an oblique direction toward the portion and the vicinity thereof. That is, the processing apparatus of Patent Document 3 includes two coolant injection nozzles.
しかしながら、従来の面取装置では、冷却液噴射ノズルが最適な位置に設置されていないため、冷却液噴射ノズルから噴射された冷却液が最適な位置に噴射されず、研削加工後のガラス板の端縁部に焼け、欠けが発生し、ガラス板の割れの要因になるとともに、生産性を阻害する要因になっていた。 However, in the conventional chamfering device, the coolant spray nozzle is not installed at the optimal position, so the coolant sprayed from the coolant spray nozzle is not sprayed to the optimal position, and the glass plate after grinding is not Burning and chipping occurred at the edge, causing cracks in the glass plate and inhibiting productivity.
特に、5000rpm以上の高速回転の面取用砥石は、回転中の面取用砥石の外周面に沿って層の厚い空気層が形成される。冷却液噴射ノズルを含む冷却液噴射装置では、前記空気層を貫通させるための冷却液の噴射圧力、噴射量が設定されているが、冷却液噴射ノズルが最適な位置に設置されていない場合には、前記噴射圧力、噴射量が無用に大きくなり、冷却液噴射装置の負荷が大きくなるという問題があった。 Particularly, in a chamfering grindstone rotating at a high speed of 5000 rpm or more, a thick air layer is formed along the outer peripheral surface of the rotating chamfering grindstone. In the coolant injection device including the coolant injection nozzle, the coolant injection pressure and the injection amount for penetrating the air layer are set, but the coolant injection nozzle is not installed at the optimum position. Has the problem that the injection pressure and the injection amount become unnecessarily large, and the load of the coolant injection device becomes large.
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、最適な位置に冷却液を噴射する噴射手段を備えた板状物の加工装置及び加工方法を提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of such a situation, and it aims at providing the processing apparatus and processing method of a plate-shaped object provided with the injection means which injects a cooling liquid to the optimal position.
本発明は、前記目的を達成するために、板状物を保持する定盤と、前記定盤に保持された前記板状物の端縁部を研削して面取りする円盤状又は円柱状の面取用砥石と、前記面取用砥石を回転させる回転手段と、前記面取用砥石の周縁部を前記板状物の外周面の研削面に接触させて前記面取用砥石、又は前記板状物を、前記板状物の端縁部に沿って移動させる移動手段と、前記面取用砥石の前記研削面と前記板状物の端縁部との接触箇所に冷却液を噴射するとともに、前記面取用砥石の回転軸に対して直交する面内方向に前記冷却液を噴射する噴射手段と、を備えたことを特徴とする板状物の加工装置を提供する。 In order to achieve the above object, the present invention provides a surface plate for holding a plate-like object, and a disk-like or columnar surface for chamfering by grinding an edge of the plate-like object held by the surface plate. A chamfering grindstone, a rotating means for rotating the chamfering grindstone, and a peripheral surface of the chamfering grindstone contacting a grinding surface of an outer peripheral surface of the plate-like object, or the chamfering grindstone or the plate shape A moving means for moving the object along the edge of the plate-like object, and spraying a coolant on the contact portion between the grinding surface of the chamfering grindstone and the edge of the plate-like object, and There is provided an apparatus for processing a plate-like object, comprising: an injection unit that injects the cooling liquid in an in-plane direction orthogonal to a rotation axis of the chamfering grindstone.
本発明は、前記目的を達成するために、板状体の端縁部に、回転する円盤状又は円柱状の面取用砥石の研削面を押し付けるとともに、前記板状体及び前記面取用砥石を、前記板状体の前記端縁部に沿って相対的に移動させながら、前記面取用砥石の前記研削面と前記板状物の前記端縁部との接触箇所に冷却液を噴射させることにより、前記板状体の端縁部を面取り加工する板状体の加工方法において、前記面取用砥石の回転軸に対して直交する面内方向に前記冷却液を噴射することを特徴とする板状物の加工方法を提供する。 In order to achieve the above object, the present invention presses the grinding surface of a rotating disk-shaped or columnar chamfering grindstone against the edge of the plate-shaped body, and the plate-shaped body and the chamfering grindstone Is moved relatively along the edge of the plate-like body, and a coolant is sprayed onto the contact portion between the grinding surface of the chamfering grindstone and the edge of the plate-like object. Thus, in the plate-like body processing method for chamfering the edge of the plate-like body, the coolant is jetted in an in-plane direction perpendicular to the rotation axis of the chamfering grindstone. Provided is a method for processing a plate-like product.
本発明によれば、面取用砥石の研削面と板状物の端縁部との接触箇所に冷却液を噴射するとともに、面取用砥石の回転軸に対して直交する面内方向に前記冷却液を噴射する位置に噴射手段を設置した。これにより、冷却液が最適な位置に噴射されるので、面取用砥石によって板状物の端縁部を良好に面取りできるとともに、冷却液噴射量を低減できる。また、本発明は、1つの噴射手段を用いて冷却液を最適な位置に噴射しているので、2本の冷却液噴射ノズルを用いる特許文献3の装置と比較して、冷却水の使用量を削減できる。なお、板状物がガラス板の場合には、ガラス板の端縁部に生じる焼け、欠けの発生を低減できる。 According to the present invention, the coolant is injected to the contact portion between the grinding surface of the chamfering grindstone and the edge of the plate-like object, and the in-plane direction orthogonal to the rotation axis of the chamfering grindstone is An injection means was installed at a position for injecting the coolant. Thereby, since the coolant is sprayed to the optimum position, the edge portion of the plate-like object can be well chamfered by the chamfering grindstone, and the coolant spray amount can be reduced. Further, since the present invention injects the cooling liquid to the optimum position using one injection means, the amount of cooling water used is compared with the apparatus of Patent Document 3 using two cooling liquid injection nozzles. Can be reduced. In addition, when a plate-shaped object is a glass plate, generation | occurrence | production of the burning and chipping which arise in the edge part of a glass plate can be reduced.
本発明の前記噴射手段は、前記面取用砥石の前記研削面の接線方向に前記冷却液を噴射することが好ましい。 It is preferable that the injection means of the present invention injects the cooling liquid in a tangential direction of the grinding surface of the chamfering grindstone.
本発明によれば、冷却液の噴射圧力によって面取用砥石に回転負荷をかけることなく、冷却液を最適な位置に噴射することができる。 According to the present invention, the coolant can be sprayed to the optimum position without applying a rotational load to the chamfering grindstone by the spray pressure of the coolant.
本発明の前記面取用砥石は、該面取用砥石の前記研削面の形状が扁平である円盤状又は円柱状であって、前記板状物の端縁部が接触されると、接触圧によって該端縁部の形状に沿って、前記面取用砥石の厚さ方向の断面形状が凹状に弾性変形することが好ましい。 The chamfering grindstone of the present invention is a disk or columnar shape in which the shape of the grinding surface of the chamfering grindstone is flat, and when the edge of the plate-like object is contacted, the contact pressure Accordingly, it is preferable that the cross-sectional shape of the chamfering grindstone is elastically deformed into a concave shape along the shape of the edge portion.
本発明の前記面取用砥石は、その外周面に環状溝(研削面)が形成された溝付きの面取用砥石ではなく、外周面が扁平であり、板状物の端縁部が接触されると、接触圧によって端縁部の形状に沿って、前記面取用砥石の厚さ方向の断面形状が凹状に弾性変形する面取用砥石である。この場合、弾性変形した凹部の底部に冷却液を噴射するように、噴射手段の位置を設定すればよい。 The chamfering grindstone of the present invention is not a grooved chamfering grindstone in which an annular groove (grinding surface) is formed on the outer peripheral surface thereof, but the outer peripheral surface is flat and the edge of the plate-like object is in contact Then, the chamfering grindstone whose cross-sectional shape in the thickness direction of the chamfering grindstone is elastically deformed into a concave shape along the shape of the edge portion by contact pressure. In this case, the position of the injection means may be set so that the cooling liquid is injected to the bottom of the elastically deformed recess.
本発明によれば、板状物の端縁部のうち、板状物の端面と主面との境界面に面取用砥石が接触するので、前記境界面を円滑に研削加工できる。板状物がガラス板の場合には、前記境界面に生じる微小なチッピング(欠け)を低減できる。 According to the present invention, since the chamfering grindstone contacts the boundary surface between the end surface of the plate-like object and the main surface among the edge portions of the plate-like object, the boundary surface can be smoothly ground. In the case where the plate-like object is a glass plate, minute chipping (chips) generated on the boundary surface can be reduced.
本発明の前記面取用砥石は、前記外周面に1本又は複数本の環状溝を備えていることが好ましい。 The chamfering grindstone of the present invention preferably includes one or a plurality of annular grooves on the outer peripheral surface.
本発明に係る板状物の加工装置によれば、最適な位置に冷却液を噴射することができるので、面取用砥石によって板状物の端縁部を良好に面取りできるとともに、冷却液噴射量を低減できる。 According to the plate-like material processing apparatus of the present invention, the coolant can be sprayed to an optimum position, so that the edge portion of the plate-like material can be well chamfered by the chamfering grindstone, and the coolant is sprayed. The amount can be reduced.
以下、添付図面に従って本発明に係る板状物の加工装置及び加工方法の好ましい実施の形態を詳説する。 Hereinafter, preferred embodiments of a processing apparatus and a processing method for a plate-like object according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
図1は、本発明の板状物の加工装置が適用された、実施の形態の面取装置10の平面図である。この面取装置10は、厚さが0.7mm以下の液晶ディスプレイ用ガラス板(板状物)12の端縁部を面取りする装置である。なお、本発明の加工装置に適用できる板状物は、液晶ディスプレイ用ガラス板に限定されず、プラズマディスプレイ用ガラス板、LEDディスプレイ用ガラス板等のFPD用ガラス板、建材用やミラー用等の一般的なガラス板、金属製、又は樹脂製の板状物に適用してもよい。また板状物の厚さも0.7mm以下に限定されず、0.7mmを超える厚さであってもよい。
FIG. 1 is a plan view of a
面取装置10は、矩形状のガラス板12を吸着保持する定盤14、定盤14を矢印A−B方向に往復移動させる移動装置(移動手段)16、ガラス板12の端縁部を研削加工して面取りする円盤状又は円柱状の一対の面取用砥石18、20、面取用砥石18、20を高速回転させるモータ(回転手段)22、24、及び冷却液を噴射するノズル(噴射手段)26、28等から構成される。
The
実施の形態の面取装置10は、定盤14の搭載面にガラス板12の主面を吸着保持させ、定盤14を移動装置16によって矢印A方向に移動させながら、その移動中にガラス板12の対向する端縁部12A、12Bを、ガラス板12の移動方向に対して対向する方向に回転(自転)している面取用砥石18、20によって研削加工する。これによって、ガラス板12の端縁部12A、12Bが面取りされる。また、前記研削加工時には、面取用砥石18とガラス板12の端縁部12Aとの接触箇所に、ノズル26から冷却液が噴射されるとともに、面取用砥石20とガラス板12の端縁部12Bとの接触箇所に、ノズル28から冷却液が噴射される。これにより、前記接触箇所が前記冷却液によって冷却されるので、ガラス板12の端縁部12Aに生じる焼け、欠け等の発生が低減され、また、ガラス板12の前記主面と研削された端面との境界部に生じるチッピングが低減される。前記ノズル26、28については後述する。
The
冷却液の材料は特に限定されず、純水、研削油、及びこれらの混合物でよい。 The material of the coolant is not particularly limited, and may be pure water, grinding oil, or a mixture thereof.
面取装置10では、ガラス板12の対向する一対の端縁部12A、12Bを同時に面取りするために、面取用砥石18が端縁部12Aに対向して配置されるとともに、面取用砥石20が端縁部12Bに対向して配置されている。
In the
図1において面取用砥石18は、モータ22によって反時計方向に回転され、面取用砥石20は、モータ24によって時計方向に回転される。また、面取用砥石18、20の回転数は、5000rpm以上に設定されている。
In FIG. 1, the
なお、同図では、ガラス板12を矢印A方向に移動させながら、固定された面取用砥石18、20によって端縁部12A、12Bを研削加工する面取装置10を示しているが、これに限定されるものではなく、ガラス板12を固定し、面取用砥石18、20をガラス板12の端縁部12A、12Bに沿って移動させる面取装置でもよく、ガラス板12及び面取用砥石18、20の双方をガラス板12の端縁部12A、12Bに沿って互いに近づく方向に移動させる面取装置でもよい。また、ガラス板12の他の対向する端縁部12C、12Dは、図1の面取用砥石18、20の後段に配置された不図示の一対の面取用砥石によって研削加工してもよい。又は、ガラス板12を定盤14によってB方向に移動させて元の位置に復帰させ、次に、ガラス板12を定盤14によって、ガラス板12の主面方向の垂線を軸にして90度回転させた後、定盤14によってガラス板12をA方向に移動させながら、間隔が変更された面取用砥石18、20によって端縁部12C、12Dを研削加工してもよい。
In addition, although the figure shows the
面取用砥石18、20は、図2の如くガラス板12の端面12Eに対向して配置されている。ここで端面12Eとは、ガラス板12の主面12Fに対して直交する方向の面であり、面取り前の面である。この端面12Eと主面12Fとの境界部、及び端面12Eを含む部分を端縁部12A〜12Dと称し、端縁部12A〜12Dを面取用砥石18、20によって研削加工する。なお、特許文献1に記載の如く、面取用砥石18、20の回転軸を、ガラス板12の主面に立てた垂線に対して所定角度傾斜させてもよい。
The chamfering grindstones 18 and 20 are arranged to face the
面取用砥石18、20は同時に回転駆動され、図1の移動装置16によるガラス板12の移動によって、ガラス板12の対向する端縁部12A、12Bが面取用砥石18、20によって同時に研削加工される。
The chamfering grindstones 18 and 20 are simultaneously driven to rotate, and the opposing
図3A、図3Bは、面取用砥石18、20の外周面30、32の要部拡大断面図である。なお、面取用砥石18、20は同一構成なので、ここでは面取用砥石18について説明し、面取用砥石20の説明は省略する。
3A and 3B are enlarged cross-sectional views of main parts of the outer
面取用砥石18の外周面30には、研削面である複数本の環状溝34が水平方向に形成され、この環状溝34が図4Aの側面図の如く上下方向に複数本平行に備えられている。なお、環状溝34の面取用砥石18の厚さ方向の断面形状は、図3A、図3Bに記載のU字状に限定されず、V字状、凹状であってもよい。また、環状溝34の本数は1本でもよいが、面取用砥石18の交換作業を省くため、図4Aの如く複数本備えることが好ましい。環状溝34が面取用砥石18に複数本備えられているため、使用中の環状溝34が寿命になったとき、図示しない制御装置で面取用砥石18を環状溝34のピッチ単位で上下方向(面取用砥石18の厚さ方向)に昇降させれば、面取用砥石18の交換作業をせずに新しい環状溝34で面取りできる。また、環状溝34の形状は、単一の曲率半径を有する形状でもよく、端面12Eを研削する部分、及び図3Cに示すように研削終了した端面12E′と主面12Fとの境界面12Gを研削する部分が異なる曲率半径を有する形状のものでもよい。
On the outer
図3Aに示すように、ガラス板12の端縁部12Aは、環状溝34に対向され、図3Bの如く、面取用砥石18が研削代分だけ端縁部12Aに向けて送られることにより、端縁部12Aに面取用砥石18の環状溝34が押圧当接される。これにより、図3Cの如く、端縁部12Aが環状溝34によって研削加工される。なお、図3Aの破線で示すように、端面12Eのガラス板12の厚さ方向の中心部が環状溝34の最深部に当接するように面取用砥石18が端縁部12Aに向けて送られる。
As shown in FIG. 3A, the
面取用砥石18、20としては、鉄系、銅系、コバルト系、真鍮系等の金属の結合剤で砥粒を保持したメタルボンド砥石、熱硬化性樹脂の結合剤で砥粒を保持したレジンボンド砥石、ガラス等の磁器質の結合剤で砥粒を保持したビトリファイドボンド砥石、砥石の台座表面にメッキ層をつくり、前記メッキ層に砥粒を固着した電着砥石が挙げられる。
As the
結合剤に配される研磨砥粒としては、ダイヤモンド、炭化ケイ素(SiC)、アルミナ(Al2O3)等を挙げることができる。 Examples of the abrasive grains arranged in the binder include diamond, silicon carbide (SiC), and alumina (Al 2 O 3 ).
図5は、他の面取用砥石40を示した全体斜視図であり、図6A〜図6Cは、図5の面取用砥石40によるガラス板12の研削の説明図である。
FIG. 5 is an overall perspective view showing another
同図に示す面取用砥石40は、円盤状又は円柱状に構成されるとともに、外周面の研削面42が実質的に扁平な面取用砥石である。また、面取用砥石40の研削面42は、図6Aの如く、ガラス板12の端縁部12Aに対向配置され、図6Bに示すように、ガラス板12の端縁部12Aが研削面42に接触されると、その接触圧により、端縁部12Aの形状に沿って、面取用砥石40の厚さ方向の断面形状が凹状に弾性変形するゴム製等の弾性体である。
The
この面取用砥石40によれば、ガラス板12の端縁部12A〜12Dが面取用砥石40の扁平な研削面42に接触すると、研削面42は端縁部12A〜12Dの輪郭形状に略一致する凹状に凹まされる。この時、ガラス板12の端面12Eと主面12Fとの境界部12G、12Gに接触による圧力が集中するので、境界部12G、12Gが他の部分よりも多めに研削されていき、ガラス板12の端縁部12Aが図6Cの如く研削される。
According to this
図7は、ガラス板12の端縁部12Aが図5の面取用砥石40によって研削されている側面図である。図7の如く、ガラス板12の端縁部12Aに押されて膨らむ面取用砥石40の研削面42の凹部44の上下のエッジ部分46、46が、ガラス板12の上下の境界部12G、12Gに低圧で接触するため、境界部12G、12Gがエッジ部分46、46によって円滑に研削され、境界部12G、12Gに生じるチッピングの発生が低減される。
FIG. 7 is a side view in which the
面取用砥石40は、弾性体内に研磨砥粒を分散することにより構成される。弾性体としては、ブチルゴム、シリコーン、ポリウレタン、天然ゴムを挙げることができる。前記研磨砥粒としては、ダイヤモンド、アルミナ(Al2O3)、炭化ケイ素(SiC)、軽石、ガーネット等を挙げることができる。
The
次に、実施の形態のノズル26、28について図2、及び図4A、Bを参照して説明する。なお、ノズル26、28は同一部材であり、配置位置の概念も同一なので、ここではノズル26について説明し、ノズル28の説明は省略する。
Next, the
前述の如く、ノズル26は、面取用砥石18(面取用砥石40も同様)の研削面(面取用砥石18の場合には環状溝34、面取用砥石40の場合には凹んだ凹部44)とガラス板12の端縁部12Aとの接触位置P1に対して面取用砥石18の回転方向上流側の位置P2であって、図2の如く、面取用砥石18(40)の回転方向の上流側の位置から位置P2(図4B)に向けて冷却液を噴射する位置に設置されている。また、位置P2は、面取用砥石18の環状溝34の直径d及び接触位置P1と位置P2との距離xの比x/dが、0.04(4%)〜0.05(5%)の範囲内(0.04(4%)≦x/d≦0.05(5%))となるように設定される。
As described above, the
また、ノズル26は、図4Aの如く、面取用砥石18の回転軸19に対して直交する面内方向に冷却液を噴射する位置に設置されている。すなわち、実施の形態のノズル26は、図4Bの矢印Cの如く、位置P2に向けて冷却液を、ガラス板12の主面Fの面内方向と平行方向に噴射する。
Moreover, the
これにより、実施の形態のノズル26によれば、冷却液が面取用砥石18(40)の最適な位置、すなわち回転中の面取用砥石18の外周面に沿って形成された、空気層を貫通できる位置に噴射されるので、面取用砥石18(40)によってガラス板12の端縁部12Aを良好に面取りできるとともに、冷却液の噴射量を低減できる。なお、良好に面取りできるとは、ガラス板12の端縁部12Aに生じる焼け、欠けの発生を低減でき、境界面12Gに発生するチッピングを軽減できるという意味である。また、面取用砥石18(40)からノズル26(28)の噴射口までの距離は特に限定されず、それぞれが接しない程度に近接する距離であってもよい。当該距離に設置されたノズル26(28)から噴射された冷却液は、面取用砥石18(40)の回転に伴って位置P2に瞬時に供給されるので、ガラス板12の良好な研削加工に支障は生じない。
As a result, according to the
また、ノズル26は、図4Bの如く、面取用砥石18(40)の前記研削面(環状溝34、凹部44)の接線方向に冷却液を噴射する位置に設置されることが好ましい。これにより、ノズル26から噴射された冷却液の噴射圧力によって面取用砥石18(40)に回転負荷をかけることなく、冷却液を面取用砥石18(40)の最適な位置に噴射することができる。また、実施の形態では、1本のノズル26(28)を用いて冷却液を最適な位置に噴射しているので、2本の冷却液噴射ノズルを用いる特許文献3の装置と比較して、冷却水の使用量を削減できる。
Moreover, it is preferable that the
なお、高速回転中の面取用砥石18(40)の外周面に形成される空気層に、ノズル26から噴射される冷却液を貫通させる好適な条件は、ノズル26の噴射口の径が2〜3mm、位置P2からノズル26の噴射口までの距離が10〜20mm、冷却液の流速が10〜20m/sec、及び面取用砥石18(40)による面取り加工速度(ガラス板12の面取用砥石18、20に対する相対速度)が12m/minであることが好ましい。このような条件下で面取り加工を行うことにより、冷却液を前記空気層に貫通させることができるとともに、冷却液の供給量を3〜5L/minに低減できる。
A preferable condition for allowing the coolant injected from the
本発明の板状物の加工装置による加工対象物は、高い面取り精度が要求される液晶ディスプレイ等のFPD用ガラス板に限定されず、建材用やミラー用等の一般的なガラス板でもよい。また、ガラス板に限定されず、金属製、又は樹脂製の板状物であってもよい。 The object to be processed by the plate-like material processing apparatus of the present invention is not limited to a glass plate for FPD such as a liquid crystal display that requires high chamfering accuracy, and may be a general glass plate for building materials or mirrors. Moreover, it is not limited to a glass plate, A metal-made or resin-made plate-shaped object may be sufficient.
10…面取装置、12…ガラス板、12A〜12D…端縁部、12E…端面、12E′…端面、12F…主面、12G…境界面、14…定盤、16…移動装置、18、20…面取用砥石、19…回転軸、22、24…モータ、26、28…ノズル、30、32…外周面、40…面取用砥石、42…研削面、44…凹部、46…エッジ部
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記定盤に保持された前記板状物の端縁部を研削して面取りする円盤状又は円柱状の面取用砥石と、
前記面取用砥石を回転させる回転手段と、
前記面取用砥石の周縁部を前記板状物の外周面の研削面に接触させて前記面取用砥石、又は前記板状物を、前記板状物の端縁部に沿って移動させる移動手段と、
前記面取用砥石の前記研削面と前記板状物の端縁部との接触箇所に冷却液を噴射するとともに、前記面取用砥石の回転軸に対して直交する面内方向に前記冷却液を噴射する噴射手段と、
を備えたことを特徴とする板状物の加工装置。 A surface plate for holding a plate-like object;
A disc-shaped or column-shaped chamfering grindstone for grinding and chamfering the edge of the plate-like object held by the surface plate;
Rotating means for rotating the chamfering grindstone,
Moving the chamfering grindstone or the plate-like object along the edge of the plate-like object by bringing the peripheral part of the chamfering grindstone into contact with the grinding surface of the outer peripheral surface of the plate-like object Means,
The coolant is sprayed to a contact portion between the grinding surface of the chamfering grindstone and the edge of the plate-like object, and the coolant is in an in-plane direction orthogonal to the rotation axis of the chamfering grindstone. Injection means for injecting
An apparatus for processing a plate-like object.
前記面取用砥石の回転軸に対して直交する面内方向に前記冷却液を噴射することを特徴とする板状物の加工方法。 While pressing the grinding surface of the rotating disk-shaped or column-shaped chamfering grindstone against the edge of the plate-like body, the plate-like body and the chamfering grindstone are pressed against the edge of the plate-like body. The edge of the plate-like body is moved by spraying a cooling liquid onto the contact portion between the grinding surface of the chamfering grindstone and the edge of the plate-like object while relatively moving along the chamfering grindstone. In the processing method of the plate-like body to be chamfered,
A processing method for a plate-like object, wherein the cooling liquid is sprayed in an in-plane direction orthogonal to a rotation axis of the chamfering grindstone.
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