JP2014534626A - ２機能活性電解質を有するハイブリッド・キャパシタバッテリ及びスーパーキャパシタ - Google Patents

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Abstract

【課題】蓄電装置の蓄電密度を向上させる。【解決手段】電極は、カーボンナノ構造体（ＣＮＳ）が配設された基材と、カーボンナノ構造体及び基材の周囲にコンフォーマルに配設された活物質を含むコーティングと、を含む。電極は、蓄電可能な２機能性電解質を有するハイブリッド・キャパシタバッテリに用いられる。【選択図】図１

Description

本発明は、電気化学的装置に関し、より具体的には、蓄電可能な電気装置に関する。
（関連出願の相互参照）
本願は、２０１１年１０月７日出願の米国仮特許出願第６１／５４５，０４９号「Hybrid Cap-Battery with Active Bi-Functional Electrolyte」、及び２０１２年９月２８日出願の米国仮特許出願第６１／７０７，７３８号「Carbon Nanostructures and Method of Making the Same」に基づき、合衆国法典３５巻（35 U.S.C.）第１１９条に従って優先権を主張するものであり、これら出願の開示事項は、全ての目的のために、参照により全内容が本明細書に組み込まれる。
従来のキャパシタ（capacitor）及びバッテリでは、電極は活物質である。電極はイオン移動の連続的な経路となる。静電容量（capacitance）／容量（capacity）を増大させるために、電極の量は比例して大きくなる。電極は、通常、イオン輸送を促進するために、高度に多孔質であるので、そのような電極の気孔率では、電解質の量も比例して増大する。しかし、電解質の量は、容量の増大には貢献しない。
総容量に貢献し得る活性電解質（active electrolyte）を備えた蓄電装置（energy storage device）を発展させることができれば有益である。このような電解質は、全体の蓄電に貢献するように、イオンを導き、かつ、電極表面上で反応する働きをする２機能要素（bi-functional element）として振る舞う。本発明は、このような蓄電装置を提供し、また、関連する利点をも提供する。
ある態様において、本明細書に開示された実施形態は、電解質及び電極物質（electrode material）に関する組成物を使用した蓄電装置に関し、これにより、電極が活物質としてその役割を果たすとともに、電解質が全体的な蓄電に貢献する。
ある態様において、本明細書に開示された実施形態は、カーボンナノ構造体（carbon nanostructure：ＣＮＳ）が配設された基材と、カーボンナノ構造体及び基材の周囲にコンフォーマルに（conformally）配設された活物質を含むコーティングと、を備えた電極に関する。
ある態様において、本明細書に開示された実施形態は、カーボンナノ構造体（ＣＮＳ）が配設された基材、並びに、カーボンナノ構造体及び基材の周囲にコンフォーマルに配設された活物質を含む任意のコーティングを備えた電極と、蓄電可能な２機能性電解質（bi functional electrolyte）と、を有する、ハイブリッド・キャパシタバッテリ（hybrid capacitor-battery）に関する。
ある態様において、本明細書に開示された実施形態は、基材上にカーボンナノ構造体（ＣＮＳ）を合成してＣＮＳを含む基材を提供すること、及び、ＣＮＳを含む基材を活物質でコンフォーマルにコーティングすること、を含む方法に関する。
一実施形態に従って、カーボンナノ構造体（ＣＮＳ）が配設された基材と、カーボンナノ構造体及び基材の周囲にコンフォーマルに配設された活物質を含むコーティングと、を備えた電極を示している。 本明細書に開示された実施形態に従って、カーボンナノ構造体（ＣＮＳ）又は「フレーク」構造体を、単純化されたレンダリングとして示している。 本明細書に開示された実施形態に従って、ＣＮＳ構造の基準試料について電子走査型電子顕微鏡写真（ＳＥＭ）の画像を示している。 基材上にＣＮＳを作製するためのプロセスのフロー図を示し、基材上にＣＮＳを蓄える、あるいは、合成後、直接ＣＮＳを分離する能力を示している。 本明細書に開示された実施形態に従って、基材及び／又は触媒からのＣＮＳの分離を促進する抗付着層を有する触媒を示している。 本明細書に開示された実施形態に従って、フレーク生成物としてのＣＮＳの湿式除去（wet removal）及び乾式除去（dry removal）と任意の分離後処理とに関する例示的な一般的プロセスのフロー図を示している。 本明細書に開示された実施形態に従って、エアノズル及びサイクロンフィルタを使用する基材からＣＮＳを除去するための例示的なプロセスのフロー図を示している。 本明細書に開示された実施形態に従って、基底のＣＮＳ成長が支配的なＣＮＳ成長モチーフにおいて、触媒粒子と基材との結合をせん断することによるＣＮＳネットワークの除去を示している。 本明細書に開示された実施形態に従って、基底のＣＮＳ成長が支配的なＣＮＳ成長モチーフにおいて、触媒粒子とＣＮＳとの結合をせん断することによるＣＮＳネットワークの除去を示している。 一実施形態に従って、図１に示される電極、及び２機能性電解質を含むハイブリッド・キャパシタバッテリを示している。
本発明は、一部には、電極として働く、カーボンナノ構造体（ＣＮＳ）を浸出させた繊維材料（以下、「ＣＮＳ浸出繊維材料」という）と、全体の蓄電に貢献するように、イオンを導き、かつ、電極表面上で反応する２機能性電解質と、を含む蓄電装置を対象とする。特定の実施形態において、ＣＮＳ浸出繊維材料は炭素繊維材料であるが、いかなる繊維組成物も本明細書で開示された蓄電装置に使用可能である。
電極は、例えば、キャパシタやバッテリなど、従来の蓄電装置において主要な活物質である。電解質はイオン伝導度を与える液体の電線（liquid wire）として機能するが、全体の蓄電には貢献しない。従来のシステムでは、電極物質を活性化するために、電解質は、多孔質の電極物質の全ての気孔に充填されるべきである。電極は、イオン抵抗性を低減し、ひいては、電力及び効率を向上させるために、高度に多孔質であることが望ましい。原理上は、高活性の多孔質電極で単位重量当たりのエネルギーを高くすることができる。しかしながら、かかる利点は、従来のキャパシタ及びバッテリにおいて、著しく減殺されている。なぜならば、電解質は、蓄電容量に貢献することなく、全体構造の重量を増加させつつ気孔を満たす必要があるからである。この問題は、一部において、キャパシタをバッテリと並列に配置して、これにより、ピークパワーの間、負荷を低減するという工学的解決方法により対処されてきた。しかしながら、この解決方法は、本発明の蓄電装置により提供されるように、不活性の液体イオン電線から全体の蓄電容量に貢献する活性成分へ電解質を変換させるという潜在力を活用していない。
本発明には多くの利点があるが、中でも、本明細書に開示された蓄電装置が、装置の蓄電密度を著しく向上させることができる電解質を含んでいる。通常の運転中、本明細書に開示された蓄電装置はバッテリのように動作する。パルス電力（pulse power）を必要とする場合、その装置は、キャパシタに類似した高いパルス電流を供給することができる。パルス負荷（pulse load）が除去されると、バッテリ容量がまだ残っている場合には、装置は、外部回路から電力を引き出すことなく、キャパシタを自己充電（self charge）する。従来の「不活性な（inactive）」電解質と比較すると、本明細書に開示されたように、２機能性電解質は、アノード側で酸化され、カソード側で還元されている。電解質が活性反応の一部であり、単に「液体の電線」として機能するだけではないので、セルレベル（cell level）のエネルギーを向上させることができる。また、固体に対し液体におけるイオン拡散が著しく速いことに起因して、２機能性電解質の液相レドックス反応は、固体電極反応よりもそもそも高速である。したがって、電力密度を向上させることができる。
充電／放電サイクルの間、活性種（active species）は電極表面に拡散する必要がある。酸化／還元の後、生成種（product species）は、バルク電解質（bulk electrolyte）に戻って拡散する必要がある。従来の活性炭（activated carbon）は、ナノメートル領域の気孔直径を有する気孔内面を大量に含んでいるので、その要求を満たすことができない。このような形態（morphology）は、拡散の大きな障壁となり、貧弱な電源容量や低い電流密度をもたらすことがある。対照的に、本発明に使用される電極は、ＣＮＳ浸出炭素繊維を用い、非常に大きな外部表面積を有している。このような大きな表面積はイオンと容易にアクセスすることが可能である。したがって、ＣＮＳ浸出繊維の構造体は、特に、繊維材料が炭素繊維材料である場合に、２機能性電解質と共に、高い電力密度を可能にしている。
さらに、従来のホイル（foil）をベースとした電極は、１つの寸法に沿って変形することしかできず、例えば、シリンダ（cylinder）／コーン（cone）など、単純な形状をした電極を構成することしかできない。例えば、球形など、二重に湾曲した表面はいずれも、機械的及び電気的な健全性を損なうしわ（wrinkle）／ひだ（fold）をもたらすことがある。対照的に、ＣＮＳ浸出炭素繊維が布地（fabric）である場合、その布地はこのような問題を未然に防ぐことができる。このようなＣＮＳ浸出炭素繊維の布地は、独特な形状に順応するバッテリ及び／又はキャパシタを作ることができる。
また、ＣＮＳ浸出炭素繊維は、電極として使用される金属ホイルと比較して、高重量により機械的強度を正常にして（normalize）いる。したがって、構造的要素としても働く多機能な蓄電装置を必要とする用途で、構造的に強いキャパシタ及びバッテリを開発することができる。
ある実施形態では、本発明は、カーボンナノ構造体（ＣＮＳ）が配設された基材と、カーボンナノ構造体及び基材の周囲にコンフォーマルに配設された活物質を含むコーティングと、を備えた電極を提供する。ここで図１を参照すると、ある実施形態に従って、電極１００が示されている。電極１００は、カーボンナノ構造体（ＣＮＳ）１２０がナノ粒子触媒１０５を用いて成長する基材１１０を含む。結果として得られるＣＮＳ浸出基材は、ＣＮＳ１２０及び基材１１０の周囲を活物質１３０でコンフォーマルにコーティングされている。ある実施形態では、活物質１３０は任意であり、とりわけ、電極１００と共に使用される電解質の選択により決定される。図１は、ナノ粒子触媒１０５からのＣＮＴウェブ構造（CNT web structure）の基底成長（basal growth）により生じるＣＮＳ１２０を示しているが、当業者であれば、ＣＮＳ成長が、基底成長、先端成長（tip growth）又は２つの成長モードの組み合わせでもたらされることを認識できる。さらに、ある実施形態では、ナノ粒子触媒１０５は、ＣＮＳ１２０の構造体中央の内部に存在してもよい。
電極の基材１１０は、例えば、活性炭、カーボンブラック、導電性高分子、又は金属酸化物など、従来のあらゆる種類のものであってもよいが、ある実施形態では、ＣＮＳ浸出繊維を基材１１０として使用することが望ましい。カーボンナノ構造体１２０は、以下でさらに詳細に説明されるように、繊維上で直接成長してもよい。ＣＮＳは、各繊維の周囲に放射状配列構造を形成する。浸出プロセスは、ＣＮＳと繊維との間に電気的接触をもたらす。ある実施形態では、ＣＮＳ物質は、電極の総重量の１％〜３３％となることがある。ある実施形態では、全表面積が、約１ｍ２／ｇから約１５００ｍ２／ｇの範囲（これらの全中間値及び端数を含む）で、他の実施形態では、約２０ｍ２／ｇから約２００ｍ２／ｇの範囲（これらの全中間値及び端数を含む）となる状態で、９０％より大きい表面積がＣＮＳに起因している。
ある実施形態では、電極の基材を炭素組成物に限定する必要はなく、したがって、基材は、ガラス、炭素、セラミック、金属、及び有機高分子からなる群より選択されたもので構成されうる。このような組成物のいずれも、必須のカーボンナノ構造体が表面に浸出するかぎり、基材の原料物質として適切である。同様に、電極の基材を単純な繊維形態に限定する必要はない。ある実施形態では、基材は、繊維、トウ（tow）、織物若しくは不織布（woven or non-woven fabric）、ホイル、プライ（ply）、短ストランドマット（chopped strand mat）、及びフェルト（felt）からなる群より選択された形態で構成することができる。単純な直線状の繊維から複雑な織物タイプの材料へ移行可能であることにより、複雑な形状を有するバッテリに対処でき、また、複雑な表面に一致させることができる。それでも、好ましい実施形態では、基材は炭素繊維を含み、特に、基材は炭素織物（carbon fabric）を含んでいる。
ある実施形態では、ＣＮＳは電極物質に結合せず、ＣＮＳ自体は独立の電極である。図２を参照すると、フレーク（flake）様微細構造体としてのＣＮＳ２００の図が示されている。フレークは、適切な基材上におけるＣＮＳ２００の成長後、分離されて（isolated）、基材から除去される。基本的なフレークは、約１ナノメートル（ｎｍ）から約５００ｎｍの範囲（これらの全中間値及び端数を含む）の厚さである第１の寸法２１０を有している。基本的なフレークは、約１ミクロン（μｍ）から約７５０μｍの範囲（これらの全中間値及び端数を含む）の高さ（tall）である第２の寸法２２０を有している。基本的なフレークには、ＣＮＳ２００が成長する基材の長さに基づくサイズで限定されるだけで、数ミクロンから最大メートルオーダーに及ぶ第３の寸法２３０がある。例えば、基材上にＣＮＳ２００を成長させるプロセスを、繊維ベース材料のトウ又はロービング（roving）で遂行することができる。プロセスは連続的であり、ＣＮＳを繊維一巻（a spool of fiber）の全長にわたらせることが可能である。したがって、一例として、第３の寸法は、約１メートル（ｍ）から約１０，０００ｍの範囲の幅であってよい。さらに、この寸法は非常に長いものであるが、これは、第３の寸法が、ＣＮＳ２００が作製される基材の軸に沿って延びる寸法を示し、例えば、繊維トウ若しくはロービング、テープ、シートなど、連続的に供給される基材上で達成可能だからである。また、第３の寸法を１ｍ未満などの所望の長さに切断できることは明らかである。このように、ＣＮＳ高分子様構造体は、それが成長するどのようなタイプの基材上にも連続的な層として提供され、ひいては、非常に高い分子量の物質を提供できる。
ＣＮＳ２００は、約１５，０００ｇ／モルから約１５０，０００ｇ／モルの範囲（これらの全中間値及び端数を含む）の分子量を有するナノカーボン高分子（carbon nanopolymer）の形態で、ＣＮＴ２５０のウェブネットワーク（webbed network）を含む。分子量の上の方は、２００，０００ｇ／モル、５００，０００ｇ／モル、及び１，０００，０００ｇ／モルなど、さらに高くなりうる。ある実施形態では、分子量は、主に、カーボンンナノ構造体のウェブ内におけるＣＮＴの直径及び層数の関数であってよい。本明細書に開示されるＣＮＳ構造は、約２モル／ｃｍ３から約８０モル／ｃｍ３の範囲の架橋結合（cross link）密度を有する。架橋結合密度は、ＣＮＳの成長状態（CNS growth condition）だけでなく、基材の表面上におけるＣＮＳ成長密度の関数であってよい。
ＣＮＳ２００は、例えば、複合繊維などの基材上に強固なコーティングとして成長するカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）が、互いに高度に噛み合い（interdigitated）、絡み合い（entangled）、架橋結合された（cross-linked）ネットワークを含み、また、図２のレンダリング（rendering）、及び、図３のＣＮＳ３００の基準試料（authentic sample）のＳＥＭ画像に示されるように、フレーク様物質として抽出され（extracted）分離される。このＣＮＳフレークは、高度に整列したＣＮＴの絡み合い及び架橋結合に起因して、３次元微細構造体として存在する。その整列形態は基材上で行われた合成を反映している、すなわち、ＣＮＳは基材表面に対して垂直に成長する。理論に拘束されることなく、毎秒数ミクロンに迫りうる高速なＣＮＴ合成により、複雑なＣＮＳ形態に貢献できることが要求されている。
ＣＮＳ形態は、本明細書で以下にさらに詳述されるＣＮＴ成長状態を介してアクセス可能である。例えば、基材上に配設された触媒粒子の濃度など、ＣＮＴ成長状態により、ＣＮＳフレーク生成物（CNS flake product）の密度を厳密に変化させることができる。有利なことに、架橋結合には、ＣＮＴの有益な性質を損なう可能性がある、例えば、化学エッチングや他の化学修飾など、後に架橋結合をもたらすＣＮＴ修飾反応のいずれも必要としない。ＣＮＳ構造は、基材上におけるＣＮＳの急速な成長から生じると考えられる。
ＣＮＴフォレスト（forest）を生成するための従来のＣＮＴ成長プロセスは、最も多い成長法を用いて１ミクロン当たり通常数分かかるが、本明細書に開示されたＣＮＳプロセスでは、その場プロセス（in situ process）で連続的に、名目上、毎秒ミクロンオーダーのＣＮＴ成長速度を示しうる。結果として、その構造体は、高度に絡み合い、分岐し（branched）、かつ架橋結合したＣＮＴを含んで、より不完全（defective）である。当業者は、主に、より高温かつより長い合成時間を必要とする高純度成長（high purity growth）に着目してきたが、ＣＮＳ成長のためのその場の連続成長プロセスでは、分岐し、かつ、架橋結合したＣＮＴ、すなわちＣＮＳを作り出すほど急速にＣＮＴを合成している。また、基材上におけるＣＮＳ構造の連続的な成長を可能にすることで、従来のＣＮＴ作製によるアクセスでは困難な量のＣＮＳフレークへアクセスできるようにしている。基材上におけるＣＮＳの作製は、個々のＣＮＴを用いて行う場合に見られるＣＮＴの束化（bundling）を回避するのに有用である。ある実施形態では、束化は、基材上におけるＣＮＳの成長配列及びサイズ（長さ）により制御される。本明細書に開示された実施形態によれば、遊離ＣＮＳを利用して、あらゆる種類の独立電極に形成できる。
図４は、例示的なガラス又はセラミック基材４１０を使用するＣＮＳ成長プロセス４００のフロー図を示している。ガラス又はセラミック基材の選択は単に例示であり、基材を、例えば、金属、有機高分子（アラミドなど）、玄武岩繊維（basalt fiber）、又は炭素としてもよいことは当然である。また、ＣＮＳ成長プロセスでは、例えば、繊維、トウ、ヤーン（yarn）、並びに、織物及び不織布など、様々な形態の基材を使用してもよい。連続的な合成における便宜上、繊維タイプのトウ及びヤーンは特に便利である。
このような繊維は、図４に示されるように、繰り出しクリール（payout creel）を用いて工程４２０に提供され、任意のデサイジング工程（desizing station）に送られる。使用されているサイジングが、繊維に対する触媒／ＣＮＳの付着力を後の分離に役立つように弱める助けとなれば、デサイジング工程４３０を省略することができる。繊維基材と関連する多くのサイジング組成物は、主に耐摩耗効果を与えるバインダ（binder）及び結合剤（coupling agent）を含むが、通常、繊維表面に対して特別な付着力を示さない。かかる理由により、デサイジングを省略することが有益であることがある。ある実施形態において、図４に示されるプロセスは、工程４４０で、例えば、コロイド状のセラミック、ガラス、シラン（silane）、又はシロキサン（siloxane）など、追加的なコーティングの塗布により、基材に対する触媒及び／又はＣＮＳ構造の付着力を弱めてもよい。これは、基材からＣＮＳを除去する助けともなりうる。ある実施形態では、サイジング物質と追加的なコーティングの組み合わせが、ＣＮＳの分離を容易にするのに必要な抗付着（anti-adhesion）性をもたらす。ある実施形態では、サイジング物質単独で、ＣＮＳの分離を容易にするのに必要な抗付着性を提供する。ある実施形態では、追加のコーティングを塗布するだけで、ＣＮＳの分離に必要な抗付着性を提供する。さらに別の実施形態では、サイジング剤及び追加のコーティングのいずれも、ＣＮＳの分離を容易にするのに必要な抗付着性を提供せず、その代わりに、ＣＮＴの成長触媒ナノ粒子の賢明な選択によって付着力を弱めることができる。ある実施形態では、触媒塗布の工程において、触媒は、乏しい付着力を特徴としているという理由で特別に選択される。
図４を参照すると、任意のデサイジング４３０及び任意のコーティング４４０の後、触媒は、工程４５０において基材に塗布され、また、ＣＮＳの成長は、工程４６０における小規模キャビティ（small cavity）のＣＶＤプロセスで生じる。発生期の（nascent）ＣＮＳを含む基材は、工程４７０に示されるように、保存のために巻き取られか、あるいは、ＣＮＳの分離プロセスに直ちに取り入れられる。ある実施形態では、ＣＮＳを含む基材は、ＣＮＳの除去なしで直接電極物質に形成される。このような実施形態では、基材自体が電極物質となる。他の実施形態では、除去されたＣＮＳが電極に形成される。ある実施形態では、基材は、基材上における合成及び任意の回収（harvesting）が、ＣＮＳを含んで成形された電極、又は予備成形された独立のＣＮＳ構造のいずれかを提供するように、予め指定された形状である。
ある実施形態では、触媒塗布の１つのモードは、例えば、液体又はコロイド状の前駆体をベースにした塗布など、触媒塗布における粒子吸収によるものである。適切な触媒物質には、ｄブロック遷移金属又はｄブロック遷移金属塩のあらゆるものも含まれる。ある実施形態では、金属塩は熱処理なしで塗布されうる。このような実施形態では、図５を参照すると、触媒５００が抗付着層５１０を伴って提供される。ある実施形態では、用いられるコロイド状粒子溶液における触媒ナノ粒子周囲の外層が、粒子に対する基材の付着力を促進するが、粒子に対するＣＮＳの付着力を抑制する。
ここで図６を参照すると、例示的なＣＮＳの分離プロセス６００のフロー図が示されている。ガス又は液体を用いた流体せん断（fluid shearing）工程６３０は、ＣＮＳ抽出のために使用される。除去されたＣＮＳは、工程６２０で、サイクロン（cyclonic）／メディア（media）フィルタにかけられ、これにより、繊維（または他の基材）を除去する。せん断のためにガスが用いられる場合、ＣＮＳは、工程６４５において、乾燥状態でフィルタ上から集められる。結果として得られる乾燥したフレーク物質には、任意の更なる化学的又は熱的精製６７０のいずれも行うことができる。液体せん断６３０を使用するプロセスでは、工程６４０において液体を集めて、工程６５０において溶液からＣＮＳを分離する。そして、分離されたＣＮＳは、工程６６０において乾燥され、工程６７０において前述のように生成される。任意的には、工程６８０において、ＣＮＳフレークを毛羽立て（fluff）たり、切断したりすることができる。さらに任意的には、工程６９０において、ＣＮＳフレークを機能化してもよい。ＣＮＳフレークを分離し、任意のあらゆる後処理の後、工程６９５において、保存のためのパッケージ（packaging）の準備がなされるか、あるいは、独立したＣＮＳ電極の形成を続行する。
ＣＮＳフレークは、工程６８０において、機械的なボールミル粉砕（ball milling）又は化学的プロセスのいずれかを介して、例えば、切断する／毛羽立たせるなど、追加の処理を受けることができる。ある実施形態では、工程６９０において、例えば、プラズマ処理、化学的エッチングなど、ＣＮＴを標準的に修飾する（modify）あらゆる方法でＣＮＳフレークを修飾してもよい。このような後処理の修飾は、さらなる修飾のための化学官能基のハンドル（handle）を提供することにより、ＣＮＳのネットワークを変化させることができる。
ここで図７を参照すると、更なる実施形態によるＣＮＳ分離プロセス７００が示されている。図７に示されるように、単一の又は複数のスプール（spool）７１０の、ＣＮＳを含む繊維タイプの基材は、繰り出し（pay-out）及び巻き取り（take-up）システムを用いて除去チャンバーへ送られる。ＣＮＳの分離は、例えば、エアナイフ（air knife）やエアノズル（air nozzle）など、単一の又は複数の加圧された空気源ツール７２０により達成可能である。このような空気源ツール７２０は、スプールに対して垂直に配置されて、空気がＣＮＳを担持する基材に向けられる。ある実施形態では、空気源ツールは固定されているが、他の実施形態では、空気源ツールは移動可能である。ある実施形態において、空気源ツールが移動可能である場合、空気源ツールがＣＮＳを含む繊維の表面に沿って振動するように構成されて、これにより、抽出効率を向上させてもよい。また、大気影響時に（upon air impact）、繊維トウ、及び、他の束化した（bundled）タイプの繊維基材を開繊して（spread）ＣＮＳを含む基材の表面をさらし、ＣＮＳの除去を向上させるとともに、機械的接触を有利に回避することができる。ある実施形態では、基材の健全性は、合成とＣＮＳ除去との連続サイクルにおけるＣＮＳプロセスを通して再生利用するのに十分である。
ある実施形態では、基材の健全性は低下するかもしれないが、分裂した基材は、図７に示されるように、例えば、サイクロンフィルタ７３０を用いて除去可能である。したがって、単一の又は複数の真空及びサイクロン技術を直列若しくは並列に、又は、直列と並列の組み合わせで用いることで、意図せず除去された基材から浮遊性のＣＮＳを分離可能である。このような技術では、ＣＮＳをＣＮＳ回収管（CNS collection vessel）へ移動させている間、複数段階の速度／繊維材料を選択的に捕捉するろ過媒体を使用できる。結果として得られるＣＮＳは、図７に示されるように、集められた乾燥物７４０、又は、スラッジとして集められる含水物７５０のいずれかである。ある実施形態では、ＣＮＳは、真空容器から直接除去され、船積み可能な容器にパック（pack）される。ある実施形態では、含水スラッジとしてのＣＮＳは電極物質を成形するための型（mold）に送られ、溶媒は除去され、これにより、独立したＣＮＳ電極を提供する。
ある実施形態において、湿式処理が用いられる場合、ＣＮＳは、約１％から約４０％の水溶媒と混合され、さらにフィルタを通過して、これによりＣＮＳを流体から分離することができる。結果として得られる分離されたＣＮＳ物質は、乾燥されてパックされ、あるいは、分散系（dispersion）として「含水状態（wet）」で保存される。個別化したＣＮＴの溶液と異なり、ＣＮＳ構造が安定した分散系を有利に形成することが認められている。ある実施形態において、これは、水を溶媒としても、界面活性剤で安定化させることなく達成可能である。湿式処理に関連して、適切な溶媒は、限定するものではないが、イソプロパノール（ＩＰＡ）、エタノール、メタノール、及び水を含む。
ここで図８を参照すると、ＣＮＳの抽出８００は、機械的なせん断力８１０を使用して、基材８３０から、モノリシックな物質（monolithic entity）としてのＣＮＳ及びナノ粒子触媒８２０のいずれも除去できる。このような実施形態では、サイジングの化学的性質、及び／又は追加のコーティングが粒子の繊維に対する付着力を抑制して、ガス法又は液体法によりＣＮＳ／触媒構造体をせん断可能にしてもよい。ある実施形態では、ナノ粒子触媒は、基材８３０をエッチングしてＣＮＳ／触媒８２０の除去を容易にするために選択される対アニオンを伴った遷移金属塩である。ある実施形態では、化学エッチングは、触媒の選択とは独立して使用されうる。例えば、ガラス基材を使用する場合、ＣＮＳ及び／又はナノ粒子触媒の基材に対する付着力を弱めるためにフッ化水素を用いてもよい。これとは別に、図９に示されるように、ナノ粒子触媒９２０のないＣＮＳ９１０の抽出は、繊維基材９３０の表面に埋め込まれたナノ粒子触媒を用いて、ナノ粒子からＣＮＳをせん断除去９４０することにより達成される。このような実施形態では、層状の触媒９２０が、ナノ粒子触媒９２０に対するＣＮＳ９１０の付着を抑制しつつ、繊維基材９３０の表面に対する付着を促進することができる。
図８及び図９は、基底の触媒における成長（basal catalyst growth）を含むモチーフでＣＮＳ成長を示しているが、当業者であれば、触媒が、ＣＮＳ構造の表面上における基材より遠位に（先端成長）、あるいは、先端と基底との間のいずれかに存在するように、ＣＮＳと繊維とが直接接触することを理解できる。ある実施形態では、基材からのＣＮＳの除去に役立てるために主に基底成長を選択する。
本明細書に開示されたカーボンナノ構造体は、複雑な形態を有するネットワークにカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）を含んで構成されている。理論に拘束されることなく、この複雑な形態は、毎秒数ミクロンオーダーの急速なＣＮＴ成長状態下で、基材上にＣＮＳネットワークを作製した結果であることが示されている。発生期ＣＮＴの近接近（close proximity）と相まって、この急速なＣＮＴ成長速度により、分岐、架橋結合、及び共有壁モチーフ（shared wall motif）が見られる。以下の解説において、繊維基材へ結合されるＣＮＳへのアクセスを説明するが、ＣＮＴは、ＣＮＳネットワークの主要な構造的要素を構成するので、便宜上、本解説は、ＣＮＴと同じ意味で、基材上に配設されたＣＮＳに言及するものとする。
ＣＮＳを形成するための適切な基材には、ロービング、トウなどの形態の繊維や、テープ、シート、及び成形されたＣＮＳ電極を提供するのに用いられる３次元形態でさえも含まれる。本明細書で説明されるプロセスは、ＣＮＳネットワークを構成するカーボンナノチューブが、巻き取り可能な長さの、トウ、テープ、織物、及び３次元織物構造体（3D woven structure）に沿って均一な長さかつ均一な分布を有しつつ連続生産されることを可能としている。
ある実施形態では、前述の電極のいずれも、すなわち、電極物質に結合されたＣＮＳ又は独立のＣＮＳ電極のいずれかを、金属酸化物、金属リン酸塩、導電性高分子、及び半導体からなる群より選択されたものを含んで構成される活物質でコーティングすることができる。例えば、活物質は、酸化リチウム、リン酸リチウム、酸化マンガン、酸化ルテニウム、ポリピロール、及びシリコンからなる群より選択されたものを含んで構成されうる。非有機電解質を含む場合には、任意の活物質コーティングがあってよい。有機電解質を使用する場合には、任意の活物質コーティングを含めなくてよい。ある実施形態では、例えば、リチウム金属酸化物、リチウム金属リン酸塩、導電性高分子（ポリピロール）、金属酸化物（例えば、酸化バナジウム、酸化ニッケルなど）、及び大容量の半導体（シリコン、酸化マンガン（ＭｎＯｘ）、ＲｕＯｘ）などの活物質を、ナノスケールでＣＮＳ上へ直接的に付着させて、コアシェル構造（core-shell structure）を形成することができる。
ある実施形態において、本発明は、基材上でカーボンナノ構造体（ＣＮＳ）を合成してＣＮＳを含む基材を提供すること、及び、ＣＮＳを含む基材に活物質をコンフォーマルにコーティングすること、を含む方法を提供する。活物質は、個々のＣＮＳだけでなく、ＣＮＳが基材を完全に被覆しない場合には欠落部分における基材にも、コンフォーマルにコーティングされる。このような構造体を製造するためのコーティング方法には、限定するものではないが、例えば、化学蒸着（chemical vapor deposition）、物理蒸着（physical vapor deposition）、電気化学析出、溶液浸漬（solution dipping）、又は溶液スプレーが含まれる。特定の実施形態では、活物質は、酸化リチウム、リン酸リチウム、酸化マンガン、酸化ルテニウム、ポリピロール、及びシリコンからなる群より選択されたものを含んで構成される。
ある実施形態では、本明細書に示された方法は、繊維、トウ、織物又は不織布、ホイル、プライ、短ストランドマット、及びフェルトからなる群より選択された形態の基材に適用できる。例えば、ＣＮＳの合成を、トウ、織物、及び類似のより高秩序な基材上で直接行うことができる。ある実施形態では、ＣＮＳ合成を繊維上で行い、その後、ＣＮＳを含んだ繊維を、織物及び他のより高秩序な構造体に形成することができる。
コーティングプロセスの間、ＣＮＳの放射状配列構造は保たれる。したがって、連続的な電子経路は維持される。ナノスケールのコーティングは、イオンの拡散経路が非常に短くなるように充分薄い。ある実施形態では、コーティングの厚さは、約５オングストロームから約１０ミクロンの範囲となる。コーティングが直接ＣＮＳ上にあるので、電子は容易に外部回路へ運ばれて、電極を高伝導率にする。このような構造体により、イオン及び電子のいずれも、直接的に／連続的に活物質へアクセスする。結果的に、この構造体を共連続性構造体（bi-continuous structure）と呼ぶことができる。
ある実施形態では、本明細書に開示された電極を、ハイブリッド・キャパシタバッテリに用いることができる。このような実施形態において、ハイブリッド・キャパシタバッテリには、カーボンナノ構造体（ＣＮＳ）が配設された基材、並びに、カーボンナノ構造体及び基材の周囲にコンフォーマルに配設された活物質を含む任意のコーティング、を備えた電極と、蓄電可能な２機能性電解質と、が含まれている。本明細書で使用する「２機能性電解質」は、その電解質が電線として機能するだけでなく、化学ポテンシャルの反応性により蓄電をもたらす能力をも有することを意味している。ハイブリッド構造体（hybrid structure）は、例えば、水など、標準的な溶液中の電解質とともにセル内に含まれる。
ここで図１０を参照すると、一実施形態によるハイブリッド・キャパシタバッテリ１０００が示されている。ハイブリッド・キャパシタバッテリ１０００は、本明細書において前述したように、ＣＮＳ１０２０が浸出した基材１０１０を含む電極１０１５を備えており、ＣＮＳ１０２０のネットワークは、ナノ粒子触媒１００５を介して基材１０１０上で成長している。さらに前述したように、非有機金属である電解質１０４０を使用する場合、任意の活物質１０３０を、基材１０１０及びＣＮＳ１０２０の周囲におけるコンフォーマルなコーティングとして用いることができる。有機金属の電解質であれば、活物質１０３０の使用を省略してもよい。電極１０１５はアノード、カソード、又はその両方として提供されうる（図２参照）。ある実施形態では、電解質１０４０は、化学的レドックス反応の形態で蓄電能力を有するように選択される。この場合、電極１０１５と電解質１０４０は共に、蓄電能力を向上させるように作用する。
ある実施形態では、ハイブリッド・キャパシタバッテリは、前述のように、ガラス、炭素、セラミック、金属、及び有機高分子からなる群より選択されたものを、繊維、トウ、織物又は不織布、ホイル、プライ、短ストランドマット、及びフェルトからなる群より選択された形態で含む電極基材を備えている。特定の実施形態では、電極基材は炭素繊維を含み、より具体的には、基材は炭素織物を含んでいる。
ハイブリッド・キャパシタバッテリにおいて、電極をコーティングする活物質は、金属酸化物、金属リン酸塩、導電性高分子、及び半導体からなる群より選択されたものを含む。特に、活物質は、酸化リチウム、リン酸リチウム、酸化マンガン、酸化ルテニウム、ポリピロール、及びシリコンからなる群より選択されたものを含む。
ある実施形態では、ハイブリッド・キャパシタバッテリは、２機能性電解質が、例えば、バナジウムイオンなど、非有機イオンを含んで構成される場合に、任意のコーティングを含んでもよい。ある実施形態では、２機能性電解質は、例えば、Ｖ２＋／Ｖ３＋（アノード側）−Ｖ４＋／Ｖ５＋（カソード側）というバナジウムをベースとしたシステムなど、作動電圧（operating potential）でレドックス反応を有するように選択される。他のレドックス対には、限定なしに、Ｚｎ（アノード）−臭素（カソード）や鉄（アノード）−クロム（カソード）が含まれる。
ある実施形態では、ハイブリッド・キャパシタバッテリは、２機能性電解質が有機電解質を含む場合であれば、任意のコーティングを省略することができる。適切な有機電解質には、限定なしに、テトラフルオロホウ酸テトラエチルアンモニウム／炭酸プロピレン（tetraethylammonium tetraf1uoroborate/propylene carbonate：ＴＥＡＢＦ４／ＰＣ）、アセトニトリルに溶解したＴＥＡＢＦ４、炭酸エチレン／炭酸プロピレン、又は炭酸エチレン／炭酸ジメチルに溶解した六フッ化リン酸リチウムが含まれる。
本発明の蓄電装置は小型のコイン電池式のキャパシタ、バッテリから大型の蓄電装置にまで提供可能である。以下に説明された方法により作製されたＣＮＳ浸出繊維の使用は、実質的なスケールアップに適している。
以下の説明は、本発明の蓄電装置で電極として使用する炭素繊維に、カーボンナノ構造体（ＣＮＳ）を浸出させて生成するための当業者に対するガイダンスとして提供される。当業者であれば、蓄電装置における電極要素を構成すべく炭素繊維上でカーボンナノ構造体を作製することを説明する実施形態が単なる例示であることを認識できる。例えば、カーボンナノ構造体を有する類似の電極物質は、類似の方法により、例えば、金属繊維など、他の繊維材料上で作製可能である。
本開示は、一部には、カーボンナノ構造体（ＣＮＳ）が配設されてこれを有し、本発明の蓄電装置における電極の役割で機能を構築する炭素繊維材料を対象とする。ある実施形態において、カーボンナノ構造体は、本明細書において説明されるように、複雑な形態を有するネットワークにおいてカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）を含む。ＣＮＴはネットワークの主要な構造的要素を構成するので、便宜上、以下の解説では、炭素繊維材料上に配設されたＣＮＳを単にＣＮＴと呼ぶ。ＣＮＴに対する言及は、高度に分岐し、噛み合い、架橋結合し、かつ、壁を共有する（shared-wall）ＣＮＴのＣＮＳ形態を有するＣＮＴ配列を意味するものであることを理解されたい。
炭素繊維材料上に浸出したＣＮＴは、例えば、熱・電気伝導性、及び／又は引張強度など、炭素繊維材料の様々な性質を変化させることができる。炭素繊維上で作製されたＣＮＳは、ＣＮＳ構造を有する基材の実施形態のうち一例を提供する。ガラス繊維、セラミック繊維、アラミド繊維、及び金属繊維などの他の繊維種を含む他の基材も基材として用いられることを理解されたい。また、基材は繊維形態であることを必要としない。しかし、以下に説明されるように、繊維タイプの基材の作製は、処理に容易な拡張性（facile scalability）をもたらす。ＣＮＴ浸出炭素繊維材料を作製するために使用されるプロセスは、実質的に均一な長さかつ均一な分布のＣＮＴを提供して、これにより、改良される炭素繊維材料の表面に対して有用な性質を均一に付与することができる。さらに、本明細書に開示されるプロセスは、巻き取り可能な寸法のＣＮＴ浸出炭素繊維材料を生成するのに適している。
本明細書で開示されるプロセスは、典型的なサイジング溶液を炭素繊維材料に塗布する前に、又はその代わりに、新規に生成される発生期繊維材料に適用可能である。あるいは、本明細書で開示されるプロセスは、既に表面に塗布されたサイジング剤を有する商用炭素繊維材料（例えば、炭素トウ）を利用することができる。このような実施形態では、サイジング剤を除去して、繊維材料と合成されたＣＮＴとの間に直接的な界面を提供することができるが、バリアコーティング（barrier coating）及び／又は遷移金属粒子が、以下でさらに説明するように、間接的な浸出を提供する中間層として働くことができる。ＣＮＴの合成後、所望に応じて他のサイジング剤を繊維材料に塗布することができる。
本明細書で説明されるプロセスは、巻き取り可能な長さの、トウ、テープ、布地（fabrics）及び他の３次元織物構造体に沿って均一な長さ及び分布のカーボンナノチューブの連続生産を可能にする。様々なマット、織物及び不織布などを本発明のプロセスによって機能化する（functionalize）ことができるが、このようなさらに高秩序の構造体は、原トウ（parent tow）、原ヤーン（parent yarn）などから、これらの原材料をＣＮＴで機能化した後に、生成することも可能である。例えば、ＣＮＴ浸出繊維織物（CNT-infused woven fabric）をＣＮＴ浸出炭素繊維トウから生成することができる。
本明細書で使用する「炭素繊維材料」という用語は、その基本構造成分として炭素繊維を有する任意の材料を指す。この用語は、繊維、フィラメント（filament）、ヤーン、トウ、テープ、織物及び不織布、プライ、マットなどを含む。
本明細書で使用する「巻き取り可能な寸法（spoolabledimension）」という用語は、長さに制限のない少なくとも１つの寸法を有し、材料をスプール（spool）又はマンドレル（mandreal）上に保存しておくことが可能な炭素繊維材料を指す。「巻き取り可能な寸法」の炭素繊維材料は、本明細書で説明するように、ＣＮＴ浸出のためにバッチ処理又は連続処理のいずれを使用するかを示す少なくとも１つの寸法を有する。市販されている巻き取り可能な寸法の１つの炭素繊維材料は、テックス値８００（１テックス＝１ｇ／１，０００ｍ）又は６２０ヤード／ポンドのＡＳ４ １２ｋ炭素繊維のトウ（グラフィル社、カリフォルニア州サクラメント）で例示される。特に、商用の炭素繊維トウは、例えば５、１０、２０、５０及び１００ポンドのスプール（高重量を有するスプールの場合は、通常、３ｋ／１２Ｋのトウ）で得ることができるが、より大きいスプールには特別注文を必要とすることがある。本発明のプロセスは、５〜２０ポンドのスプールで容易に行われるが、より大きなスプールも使用可能である。さらに、例えば１００ポンド以上の非常に大きい巻き取り可能な長さを、取り扱いが容易な寸法、例えば、５０ポンドのスプールに分割する前処理工程を組み込むことができる。
本明細書で使用する「カーボンナノチューブ」（ＣＮＴ）という用語は、単層カーボンナノチューブ（ＳＷＮＴ）、２層カーボンナノチューブ（ＤＷＮＴ）、多層カーボンナノチューブ（ＭＷＮＴ）などのフラーレン群からなる多数の円筒形状の炭素同素体のあらゆるものをいう。ＣＮＴは、フラーレン様構造体により閉塞されるか、又は開口端を有してもよい。ＣＮＴは、他の物質を封入するものを含む。ＣＮＴは、分岐したネットワーク、絡み合ったネットワーク、あるいは、これらの組み合わせで生じる。また、ＣＮＴは架橋結合（cross-linking）も示す。複雑なウェブ様形態（web-like morphology）は、本明細書では、「カーボンナノ構造体（carbon nanostructure）」又は「ＣＮＳ」と呼ばれる。したがって、「カーボンナノ構造体」は、個々のカーボンナノチューブの配列とは明確に区別される。
本明細書で使用する「長さが均一」という用語は、反応器（reactor）内で成長したＣＮＴの長さについて言及するものである。「均一な長さ」とは、約１ミクロンから約５００ミクロンに及ぶＣＮＴの長さに関して、全てのＣＮＴの長さが±約２０％以内の許容誤差となるような長さとなることを意味する。１〜４ミクロンなどの非常に短い長さでは、この誤差は、全てのＣＮＴの長さが約±２０％から最大で約±１ミクロンまでの範囲内となり、全てのＣＮＴの長さが約２０％よりも若干大きくなる。
本明細書で使用する「分布が均一」とは、炭素繊維材料上におけるＣＮＴ密度の不変性（consistency）について言及するものである。「均一な分布」とは、ＣＮＴの炭素繊維材料上における密度について、ＣＮＴによって被覆される繊維の表面積の割合として定義される被覆率の誤差が±約１０％となることを意味する。これは、直径８ｎｍの５層ＣＮＴでは、±１５００ＣＮＴ／μｍ２に相当する。このような形状では、ＣＮＴの内部空間を充填可能であると仮定している。
本明細書で使用する「浸出する（infused）」という用語は、結合するという意味であり、「浸出」とは結合のプロセスを意味する。このような結合としては、直接の共有結合、イオン結合、π−π相互作用、及び／又はファンデルワールス力が仲介する物理吸着を挙げることができる。例えば、ある実施形態では、ＣＮＴは炭素繊維材料に直接的に結合される。結合は、例えば、バリアコーティング、及び／又はＣＮＴと炭素繊維材料の間にはさまれて配設された遷移金属ナノ粒子による炭素繊維材料へのＣＮＴ浸出など、間接的であってもよい。本明細書で開示されたＣＮＴ浸出炭素繊維材料では、カーボンナノチューブを前述したように直接的又は間接的に炭素繊維材料に「浸出」させることができる。ＣＮＴを炭素繊維材料に「浸出」させる特定の方法を「結合モチーフ」と呼ぶ。また、浸出したＣＮＴは、分岐したり絡み合ったりしている。
本明細書で使用する「遷移金属」という用語は、周期表のｄブロックにある任意の元素又は元素の合金を指す。「遷移金属」という用語は、塩基性遷移金属元素の塩形態（例えば、酸化物、炭化物、窒化物など）も含む。
本明細書において、「ナノ粒子」という用語若しくはＮＰ、又は文法的にそれと同等の用語は、相当球径で約０．１から約１００ナノメートルのサイズの粒子を指すが、ＮＰは球形である必要はない。遷移金属ＮＰは、特に、炭素繊維材料上でＣＮＴが成長するための触媒として機能する。
本明細書で使用する「サイジング剤」、「繊維サイジング剤」、又は単に「サイジング」という用語は、炭素繊維の健全性を保護し、複合材料における炭素繊維とマトリックス材との間の界面相互作用（interfacial interaction）を強化し、及び／又は、炭素繊維の特定の物理的性質を変化させる又は高めるためのコーティングとして、炭素繊維の製造に用いられる材料を総称するものである。ある実施形態では、炭素繊維材料に浸出したＣＮＴはサイジング剤として作用する。
本明細書で使用する「材料滞留時間」という用語は、巻き取り可能な寸法の繊維材料に沿った各ポイントが、本明細書で説明されるＣＮＴ浸出プロセス中にＣＮＴ成長状態にさらされる時間量を指す。この定義は、複数のＣＮＴ成長チャンバーを使用する場合の滞留時間を含む。
本明細書で使用する「ラインスピード」という用語は、本明細書で説明されるＣＮＴ浸出プロセスにより、巻き取り可能な寸法の繊維材料を供給できる速度を指し、ラインスピードは、ＣＮＴチャンバー長を材料滞留時間で除算して決定される速度である。
ある実施形態において、本発明は、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）浸出炭素繊維材料など、蓄電装置の電極として利用可能な組成物を提供する。ＣＮＴ浸出繊維材料は、巻き取り可能な寸法の繊維材料、繊維材料の周囲にコンフォーマルに配設されたバリアコーティング、及び繊維材料に浸出したカーボンナノチューブを含む。繊維材料に対するＣＮＴの浸出は、炭素繊維材料に対して個々のＣＮＴを直接結合させる、あるいは、遷移金属ＮＰ、バリアコーティング若しくはその両者を介して間接的に結合させる、結合モチーフを含みうる。特定の実施形態では繊維材料は炭素繊維材料である。
理論に拘束されることなく、ＣＮＴを形成する触媒として働く遷移金属ＮＰは、ＣＮＴ成長の種晶構造（seed structure）を形成することによってＣＮＴ成長に触媒作用を及ぼすことができる。一実施形態において、ＣＮＴ形成触媒（CNT-forming catalyst）は、バリアコーティングによって固定されて、炭素繊維材料の表面に浸出することで、炭素繊維材料の基部に留まることができる。このような場合、最初に遷移金属ナノ粒子触媒によって形成された種晶構造は、当技術分野で頻繁に観察されるように、ＣＮＴ成長の先端に沿って触媒が移動できなくても、触媒によらないＣＮＴの種晶成長を継続するのに十分である。このような場合、ＮＰはＣＮＴが炭素繊維材料に付着する場所として働く。また、バリアコーティングの存在も、他の間接的な結合モチーフとなることがある。例えば、ＣＮＴ形成触媒は、前述したようにバリアコーティング内に固定されるが、炭素繊維材料との表面接触はない。このような場合、ＣＮＴ形成触媒と炭素繊維材料との間にバリアコーティングが配設された積層構造となる。いずれの場合も、形成されるＣＮＴは炭素繊維材料に浸出する。ある実施形態において、バリアコーティングの中には、ＣＮＴ成長触媒が、成長するナノチューブの先端になお追随することを可能にするものがある。このような場合、これは、炭素繊維材料、又は任意的にバリアコーティングに対するＣＮＴの直接的な結合となる。カーボンナノチューブと炭素繊維材料との間に形成される実際の結合モチーフの性質にかかわらず、浸出したＣＮＴは、強固であり、また、ＣＮＴ浸出炭素繊維材料がカーボンナノチューブの性質及び／又は特性を示すことを可能にする。
再度、理論に拘束されることなく、炭素繊維材料上でＣＮＴを成長させる場合、反応チャンバー内に存在し得る高温及び／又はいかなる残留酸素及び／又は水分も、炭素繊維材料に損傷を与えることがある。さらに、炭素繊維材料自体が、ＣＮＴ形成触媒自体との反応で損傷を受けることがある。すなわち、炭素繊維材料は、ＣＮＴ合成に使用する反応温度での触媒に対する炭素原料として機能する。このような過量の炭素は、炭素原料ガスの制御された導入を阻害するとともに、触媒に炭素を過度に担持させることにより、触媒を被毒化する働きさえすることがある。
理論に拘束されることなく、バリアコーティングは、熱分解に対する遮熱層を提供したり、炭素繊維材料を高温環境にさらすことを防止する物理的障壁となったりする。代替的又は追加的に、バリアコーティングは、ＣＮＴ形成触媒と炭素繊維材料と間の接触表面積を最小化したり、ＣＮＴ成長温度で炭素繊維材料をＣＮＴ形成触媒にさらすことを抑制したりすることができる。
ＣＮＴ浸出炭素繊維材料を有する組成物は、ＣＮＴの長さが略均一な状態で提供される。本明細書で説明される連続プロセスでは、ＣＮＴ成長チャンバー内の炭素繊維材料の滞留時間が調節されて、これによりＣＮＴの成長、ひいてはＣＮＴの長さを制御することができる。これは、成長するＣＮＴの特定の性質を制御する手段を提供する。また、ＣＮＴの長さは、炭素原料ガス及びキャリアガス流量並びに反応温度の調節によっても制御できる。ＣＮＴの性質の更なる制御は、例えば、ＣＮＴを作製するために用いられる触媒のサイズを制御することにより可能となる。例えば、１ｎｍの遷移金属ナノ粒子触媒を使用して、特にＳＷＮＴを提供することができる。より大きな触媒は、主にＭＷＮＴを作製するために用いられる。
また、使用するＣＮＴ成長プロセスは、予備形成されたＣＮＴを溶媒溶液中に懸濁又は分散して炭素繊維材料に手作業で塗布するプロセスで起こるＣＮＴの束化（bundling）及び／又は凝集を回避しつつ、炭素繊維材料上に均一に分布したＣＮＴを有するＣＮＴ浸出炭素繊維材料を提供する上で有用である。このように凝集したＣＮＴは、炭素繊維材料への付着が弱くなる傾向があり、特徴的なＣＮＴの性質は、仮に現れたとしても僅かである。ある実施形態では、パーセント被覆率（percent coverage）、すなわち、被覆された繊維の表面積として表される最大分布密度は、直径約８ｎｍの５層ＣＮＴを仮定すると、約５５％もの高率となることがある。この被覆率は、ＣＮＴの内部空間を「充填可能な（fillable）」空間とみなして算出される。様々な分布／密度の値は、表面上における触媒の分散を変化させ、さらにガス組成及びプロセス速度を制御することにより達成できる。通常、ある１組のパラメータでは、繊維表面全体で約１０％以内のパーセント被覆率を達成できる。密度が高くなりＣＮＴが短くなると機械的性質の向上に有用となるのに対し、密度の増大が好ましいことに変わりはないが、密度が低くなりＣＮＴが長くなると、熱的性質及び電気的性質の向上に有用となる。密度が低くなるのは、より長いＣＮＴが成長したときであるが、これは、触媒粒子収量（catalyst particle yield）を低下させる高温かつ急速な成長によるものである。
ＣＮＴ浸出炭素繊維材料を有する本発明の組成物としては、例えば、炭素フィラメント、炭素繊維ヤーン、炭素繊維トウ、炭素テープ、炭素繊維編組（carbon fiber-braid）、炭素織物（woven carbon fabric）、不織炭素繊維マット、炭素繊維プライ、及び他の３Ｄ織物構造体などの炭素繊維材料を挙げることができる。炭素フィラメントは、約１ミクロンから約１００ミクロンに及ぶ直径を有する高アスペクト比の炭素繊維を含む。炭素繊維トウは、一般的にフィラメントを密に結合した束（bundle）であり、通常は相互に撚り合わされてヤーンとなる。
ヤーンは、撚り合わされたフィラメントを密に結合した束である。ヤーンの各フィラメントの直径は比較的均一である。ヤーンは、１０００リニアメートル当たりのグラム重量として示される「テックス」、又は１０，０００ヤード当たりのポンド重量として示される「デニール」によって記述される様々な重量を有し、標準的なテックスの範囲は、一般的に、約２００テックスから約２０００テックスの間である。
トウは、撚り合わされていないフィラメントを緩く結合した束を含む。ヤーンの場合と同様に、トウのフィラメント直径は一般的に均一である。トウも様々な重量を有し、テックスの範囲は、通常、約２００テックスから約２０００テックスの間である。トウは、例えば、１２Ｋトウ、２４Ｋトウ、４８Ｋトウなどの、トウ内にある数千のフィラメント数により特徴付けられる。
炭素テープは、織布として組み立てられるか、あるいは、平坦な不織トウを示すことがある材料である。炭素テープは様々な幅にすることができ、一般的にリボンと同様の両面構造である。本発明のプロセスは、テープの片側又は両側でのＣＮＴ浸出に適合させることができる。ＣＮＴ浸出テープは、平坦な基材表面上の「カーペット」又は「森」に似ていることがある。この場合も、本発明のプロセスは連続モードで実行されて、複数スプールのテープを機能化することができる。
炭素繊維編組は、炭素繊維が高密度に詰め込まれたロープ状構造を表す。このような構造は、例えば炭素ヤーンから組み立てることができる。編組構造は中空部分を含むことができる、あるいは、編組構造は別のコア材料の周囲に組み立てることができる。
ある実施形態では、多数の基本的な炭素繊維材料構造を組織化して、布地又はシート状構造体にすることができる。これには、前述したテープに加えて、例えば、炭素織物、不織炭素繊維マット及び炭素繊維プライが含まれる。このようなより高秩序の構造は、ＣＮＴが既に原繊維に浸出した状態で、原トウ、原ヤーン、原フィラメントなどから組み立てることができる。あるいは、このような構造は、本明細書で説明されるＣＮＴ浸出プロセスの基材として役立つ。
繊維の生成に使用される前駆体に基づいて分類される３種類の炭素繊維、すなわち、レーヨン、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）及びピッチがあり、そのいずれも本発明に使用することができる。セルロース材料であるレーヨン前駆体からの炭素繊維では、炭素含有率が約２０％と比較的低く、繊維の強度及び剛性が低いという傾向がある。ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）前駆体は、炭素含有率が約５５％という炭素繊維を提供する。ＰＡＮ前駆物質に基づく炭素繊維は、一般的に、表面欠陥が最小であるので、他の炭素繊維前駆体に基づく炭素繊維よりも高い引張強度を有する。
石油アスファルト、コールタール、及びポリ塩化ビニルに基づくピッチ前駆体も、炭素繊維の生成に使用することができる。ピッチは、低コストで入手でき、炭素収率が高いが、所与のバッチ内で均一性がないという問題があることがある。
炭素繊維材料への浸出に有用なＣＮＴには、単層ＣＮＴ、２層ＣＮＴ、多層ＣＮＴ、及びその混合物がある。使用される実際のＣＮＴは、ＣＮＴ浸出炭素繊維の用途によって決定される。ＣＮＴは、熱及び／又は電気伝導用途に、又は絶縁体として使用することができる。ある実施形態では、浸出したカーボンナノチューブは単層ナノチューブである。ある実施形態では、浸出したカーボンナノチューブは多層ナノチューブである。ある実施形態では、浸出したカーボンナノチューブは単層ナノチューブと多層ナノチューブの組合せである。単層ナノチューブと多層ナノチューブとの特徴的性質には、繊維の最終使用例のために、どのタイプのナノチューブを合成するかを決定付ける幾つかの違いがある。例えば、単層ナノチューブは半導体又は金属性となり得る一方、多層ナノチューブは金属性である。
ＣＮＴは、機械的強度、低い程度から中程度の電気抵抗、高い熱伝導性などの特徴的性質を、ＣＮＴ浸出炭素繊維材料に与える。例えば、ある実施形態では、カーボンナノチューブが浸出した炭素繊維材料の電気抵抗は、原炭素繊維材料（parent carbon fiber material）の電気抵抗より低い。さらに一般的には、得られるＣＮＴ浸出繊維がこれらの特徴を表す程度は、カーボンナノチューブによる繊維材料の被覆の程度及び密度の関数とすることができる。直径８ｎｍの５層ＭＷＮＴを想定すると、任意の量の繊維表面積、すなわち、繊維の０〜５５％を被覆することができる（この場合の計算もＣＮＴの内部空間が充填可能であるとみなしている）。この数字は、ＣＮＴの直径が小さいほど低くなり、ＣＮＴの直径が大きいほど高くなる。５５％の表面積被覆率は、約１５，０００ＣＮＴ／μｍ２に相当する。さらに、ＣＮＴの性質は、前述のように、ＣＮＴの長さに依存する形で炭素繊維材料に付与され得る。浸出ＣＮＴには約１ミクロンから約５００ミクロンに及ぶ様々な長さのものがあり、それは１ミクロン、２ミクロン、３ミクロン、４ミクロン、５ミクロン、６ミクロン、７ミクロン、８ミクロン、９ミクロン、１０ミクロン、１５ミクロン、２０ミクロン、２５ミクロン、３０ミクロン、３５ミクロン、４０ミクロン、４５ミクロン、５０ミクロン、６０ミクロン、７０ミクロン、８０ミクロン、９０ミクロン、１００ミクロン、１５０ミクロン、２００ミクロン、２５０ミクロン、３００ミクロン、３５０ミクロン、４００ミクロン、４５０ミクロン、５００ミクロン、及びその間の全ての値を含む。また、ＣＮＴは約１ミクロン未満の長さでもよく、これには、例えば約０．５ミクロンが含まれる。また、ＣＮＴは５００ミクロンを超えてもよく、これには、例えば５１０ミクロン、５２０ミクロン、５５０ミクロン、６００ミクロン、７００ミクロン及びその間の全ての値が含まれる。
本発明の組成物は、約１ミクロンから約１０ミクロンの長さを有するＣＮＴを組み込むことができる。このようなＣＮＴの長さは、せん断強度を向上させる用途で有用となり得る。また、ＣＮＴは、約５ミクロンから約７０ミクロンの長さを有してもよい。このようなＣＮＴの長さは、ＣＮＴが繊維方向に配列されている場合に、引張強度を向上させる用途で有用となり得る。また、ＣＮＴは、約１０ミクロンから約１００ミクロンの長さを有してもよい。このようなＣＮＴの長さは、電気的／熱的性質、さらに機械的性質を向上させるのに有用となり得る。本発明に使用されるプロセスは、約１００ミクロンから約５００ミクロンの長さを有するＣＮＴを提供することもでき、これは電気的及び熱的性質の向上にも有利となり得る。このようなＣＮＴ長さの制御は、様々なラインスピード及び成長温度と相まって、炭素原料ガス及び不活性ガスの流量を変化させることにより、容易に達成される。
ある実施形態では、巻き取り可能な長さのＣＮＴ浸出炭素繊維材料を含む組成物は、異なる長さのＣＮＴを有する様々な均一領域を有することができる。例えば、せん断強度特性を高めるためにＣＮＴ長さが均一に短くなったＣＮＴ浸出炭素繊維材料の第１の部分と、電気的又は熱的性質を向上させるためにＣＮＴ長さが均一に長くなった同材料の第２の部分と、を有することが望ましい場合がある。
炭素繊維材料にＣＮＴを浸出させる本発明のプロセスは、連続プロセスで均一なＣＮＴ長さの制御を可能にし、巻き取り可能な炭素繊維材料をＣＮＴで高速に機能化することができる。５秒から３００秒の材料滞留時間で、長さ３フィートのシステムの連続プロセスにおけるラインスピードは、約０．５フィート／分から約３６フィート／分の間のいずれか、及びそれ以上の範囲にすることができる。選択されるラインスピードは、以下でさらに説明されるように様々なパラメータで決定される。
ある実施形態では、約５秒から約３０秒の材料滞留時間は、約１ミクロンから約１０ミクロンの長さを有するＣＮＴを生成することができる。ある実施形態では、約３０秒から約１８０秒の材料滞留時間は、約１０ミクロンから約１００ミクロンの長さを有するＣＮＴを生成できる。またさらなる実施形態では、約１８０秒から約３００秒の材料滞留時間は、約１００ミクロンから約５００ミクロンの長さを有するＣＮＴを生成することができる。当業者であれば、これらの範囲がおおよそのものであり、ＣＮＴの長さが、反応温度、並びに、キャリア及び炭素原料の濃度及び流量によっても調節可能であることを理解できる。
本発明のＣＮＴ浸出炭素繊維材料はバリアコーティングを含む。バリアコーティングは、例えばアルコキシシラン、メチルシロキサン、アルモキサン、アルミナナノ粒子、スピンオンガラス（spin on glass）及びガラスナノ粒子を含みうる。以下で説明するように、ＣＮＴ形成触を、未硬化（uncured）のバリアコーティング材料に添加し、次に炭素繊維材料に対して一緒に塗布することができる。他の実施形態では、ＣＮＴ形成触媒を付着させる前に、バリアコーティング材を炭素繊維材料に添加することができる。バリアコーティング材は、後続のＣＶＤ成長のために、炭素原料に対してＣＮＴ形成触媒がさらされることを可能にする十分薄い厚さとすることができる。ある実施形態では、その厚さはＣＮＴ形成触媒の有効直径未満、又はそれとほぼ等しい。ある実施形態では、バリアコーティングの厚さは、約１０ｎｍから約１００ｎｍの範囲である。また、バリアコーティングは１０ｎｍ未満でもよく、１ｎｍ、２ｎｍ、３ｎｍ、４ｎｍ、５ｎｍ、６ｎｍ、７ｎｍ、８ｎｍ、９ｎｍ、１０ｎｍ、及びその間の任意の値を含む。
理論に拘束されることなく、バリアコーティングは、炭素繊維材料とＣＮＴの間の中間層として機能し、また、ＣＮＴを炭素繊維材料に機械的に浸出させる働きをする。このような機械的浸出は、ＣＮＴの性質を炭素繊維材料に与えつつ、炭素繊維材料がＣＮＴを組織化するための基盤として機能する強固なシステムをさらに提供する。また、バリアコーティングを含めることの利点は、水分にさらされることに起因した化学的損傷、及び／又はＣＮＴの成長を促進するために使用される温度での炭素繊維材料の加熱による熱的損傷から、炭素繊維材料を直ちに保護することである。
本明細書で開示される浸出ＣＮＴは、従来の炭素繊維の「サイジング」の代替として有効に機能する。浸出ＣＮＴは、従来のサイジング物質よりも一層強固であり、複合材料における繊維とマトリックスとの界面を改良（より一般的には、繊維と繊維との界面を改良）することができる。実際、本明細書で開示されるＣＮＴ浸出炭素繊維材料は、ＣＮＴ浸出炭素繊維材料の性質が、炭素繊維材料の性質、さらに浸出ＣＮＴの性質を組み合わせたものになるという意味で、それ自体が複合材料である。したがって、本発明の実施形態は、炭素繊維材料に所望の性質を与える手段を提供し、これによらなければ、炭素繊維材料には、このような性質が欠如しているか、又は不十分にしか備わっていない。炭素繊維材料は、特定用途の要求を満たすために調整又は設計される。サイジングとして作用するＣＮＴは、疎水性のＣＮＴ構造体により炭素繊維材料が水分を吸収しないようにすることができる。さらに、疎水性のマトリックス材は、以下でさらに例示するように、疎水性ＣＮＴと良好に相互作用して、繊維とマトリックスとの相互作用を向上させる。
ある実施形態において、本発明は、（ａ）カーボンナノチューブを形成する触媒を巻き取り可能な寸法の炭素繊維材料の表面に配設すること、及び（ｂ）炭素繊維材料上でカーボンナノチューブを直接合成し、それによりカーボンナノチューブが浸出した炭素繊維材料を形成することと、を含むＣＮＴ浸出の連続プロセスを提供する。長さ９フィートのシステムでは、プロセスのラインスピードは約１．５フィート／分から約１０８フィート／分の範囲とすることができる。本明細書で説明されるプロセスによって達成されるラインスピードは、商業的に適量のＣＮＴ浸出炭素繊維材料を短い生産時間で形成可能にする。例えば３６フィート／分のラインスピードでは、独立した５つのトウ（２０ポンド／トウ）を同時に処理するように設計されたシステムにおいて、１日に生産されるＣＮＴ浸出炭素繊維（繊維上に浸出するＣＮＴが５重量％超）の量は１００ポンドを上回る。このシステムは、成長ゾーン（growth zone）を繰り返すことによって、一度に、又はより高速に大量のトウを生産するように構成され得る。さらに、ＣＮＴの作製工程の中には、当該技術分野で知られているように、連続モードの運転を阻む極低速なものがある。例えば、当技術分野で知られている典型的なプロセスにおいて、ＣＮＴ形成触媒の還元ステップは、実行するのに１〜１２時間かかることがある。ＣＮＴの成長自体も時間がかかることがあり、例えばＣＮＴの成長に数十分が必要で、本発明で実現される迅速なラインスピードを使用できなくする。本明細書で説明されるプロセスは、このような律速工程を解消する。
ＣＮＴ浸出炭素繊維材料を形成する本発明のプロセスは、事前に形成されたカーボンナノチューブの懸濁液を繊維材料に塗布しようとする場合に生じるＣＮＴの高度な絡み合い（high degrees CNT entanglement）を回避できる。すなわち、事前に形成されたＣＮＴは炭素繊維材料に融合しないため、ＣＮＴが束になって絡みやすくなる。その結果、炭素繊維材料への付着が弱いＣＮＴの均一分布性は不良となる。しかし、本発明のプロセスは、必要に応じて、成長密度を低下させることによって、炭素繊維材料の表面上に高均一に絡み合ったＣＮＴマットを提供できる。低密度で成長したＣＮＴは、最初に炭素繊維材料に浸出する。このような実施形態では、繊維は垂直方向の配列を生じさせるほどには高密度で成長せず、その結果、炭素繊維材料の表面上に絡み合ったマットが生じる。対照的に、事前に形成されたＣＮＴを手作業で塗布する場合、炭素繊維材料上のＣＮＴマットの分布及び密度を確実に均一にすることはできない。
カーボンナノチューブを炭素繊維材料に浸出させるために、カーボンナノチューブは、バリアコーティングでコンフォーマルにコーティングされた炭素繊維材料上で合成される。一実施形態では、これは、最初に炭素繊維材料をバリアコーティングでコンフォーマルにコーティングし、次にバリアコーティング上にナノチューブ形成触媒を配設することにより達成される。ある実施形態では、バリアコーティングを、触媒の付着前に部分的に硬化させることができる。これにより、ＣＮＴ形成触媒と炭素繊維材料との表面接触を可能にするなど、触媒を受け入れてバリアコーティングに埋め込み可能な表面を提供することができる。このような態様では、バリアコーティングは触媒を埋め込んだ後に十分に硬化可能である。ある実施形態では、バリアコーティングは、ＣＮＴ形成触媒の付着と同時に炭素繊維材料にコンフォーマルにコーティングされる。ＣＮＴ形成触媒及びバリアコーティングが適切に配置されると、バリアコーティングを十分硬化させることができる。
ある実施形態では、バリアコーティングは触媒の付着前に十分硬化可能である。このような実施形態では、十分硬化したバリアコーティングを施した炭素繊維材料をプラズマで処理して、触媒を受け入れる表面を作製することができる。例えば、硬化したバリアコーティングを有するプラズマ処理済み炭素繊維材料は、ＣＮＴ形成触媒の付着が可能な粗面化した（roughened）表面を提供することができる。したがって、バリアコーティングの表面を「粗面化する（roughing）」プラズマプロセスは、触媒の付着を容易にする。粗さは通常、ナノメートルのスケールである。プラズマ処理プロセスで、深さ及び直径が数ナノメートル単位のクレータ（crater）又は窪み（depression）が形成される。このような表面改質は、限定するものではないが、アルゴン、ヘリウム、酸素、窒素、及び水素など、種々異なる１以上のあらゆるガスをプラズマに使用して達成される。ある実施形態では、プラズマによる粗面化は、炭素繊維材料自体にも直接実行される。これにより、炭素繊維材料へのバリアコーティングの付着が容易になる。
以下でさらに説明されるように、触媒は、遷移金属ナノ粒子で構成されるＣＮＴ形成触媒を含む溶液として作製される。合成されたナノチューブの直径は、前述のように、金属粒子のサイズに関連する。ある実施形態では、ＣＮＴ形成遷移金属ナノ粒子触媒の市販分散液が入手可能であり、希釈せずに使用されるが、他の態様では触媒の市販分散体を希釈する。このような溶液を希釈するか否かは、前述のように、成長させるＣＮＴの所望の密度及び長さに基づいて決定することができる。
カーボンナノチューブの合成は、化学蒸着（ＣＶＤ）プロセスに基づいており、また、これは高温で生じる。具体的な温度は、触媒の選択に依存するが、通常は、約５００℃から約１０００℃の範囲である。この工程は、バリアコーティングを施した炭素繊維材料を前述した範囲の温度まで加熱して、カーボンナノチューブの合成を支援することを含む。
そして、触媒を含んだ炭素繊維材料（catalyst-laden carbon fiber material）上で、ＣＶＤにより促進されるナノチューブ成長が行われる。ＣＶＤプロセスは、例えばアセチレン、エチレン、及び／又はエタノールなどの炭素含有原料ガスにより行われる。ＣＮＴ合成プロセスは、主要なキャリアガスとして、一般に、不活性ガス（窒素、アルゴン、ヘリウム）を使用する。炭素原料は、混合物全体の約０％から約１５％の範囲で供給される。ＣＶＤ成長のための略不活性環境は、成長チャンバーから水分及び酸素を除去して準備される。
ＣＮＴ合成プロセスでは、ＣＮＴは、ＣＮＴ形成遷移金属ナノ粒子触媒の位置で成長する。強プラズマ励起電界の存在を任意に用いて、ナノチューブの成長に影響を与えることができる。すなわち、成長は電界方向に従う傾向がある。プラズマスプレー及び電界の配置（geometry）を適切に調節することにより、垂直配列の（すなわち、炭素繊維材料に対して垂直な）ＣＮＴを合成できる。一定の条件下では、プラズマがない場合であっても、密集したナノチューブは成長方向を垂直に維持し、その結果、カーペット又は森林に似た高密度アレイ（array）のＣＮＴとなる。バリアコーティングの存在もＣＮＴ成長の方向性に影響を及ぼしうる。
炭素繊維材料上に触媒を配設する工程は、溶液のスプレー若しくは浸漬コーティングにより、又は、例えば、プラズマプロセスを介した気相蒸着により可能である。手法の選択は、バリアコーティングを塗布するモードに合わせることができる。したがって、ある実施形態では、溶媒に触媒を含んだ溶液を形成した後、その溶液でバリアコーティングを施した炭素繊維材料をスプレー若しくは浸漬コーティングすることにより、又はスプレーと浸漬コーティングとの組合せにより、触媒が塗布される。単独で、あるいは組み合わせて用いられるいずれか一方の手法は、１回、２回、３回、４回、あるいは何回でも使用され、これにより、ＣＮＴ形成触媒で十分均一にコーティングされた炭素繊維材料を提供することができる。例えば浸漬コーティングを使用した場合、炭素繊維材料を、第１の浸漬槽において、第１の滞留時間だけ第１の浸漬槽内に置くことができる。第２の浸漬槽を使用する場合は、炭素繊維材料を、第２の滞留時間だけ第２の浸漬槽内に置くことができる。例えば、炭素繊維材料は、浸漬構成（dip configuration）及びラインスピードに応じて約３秒〜約９０秒間、ＣＮＴ形成触媒の溶液にさらされる。スプレー又は浸漬コーティングのプロセスを使用すると、炭素繊維材料は、表面被覆率で約５％未満から約８０％もの触媒の表面密度を有して処理され、そのＣＮＴ形成触媒ナノ粒子は殆ど単分子層となる。ある実施形態では、炭素繊維材料上にＣＮＴ形成触媒をコーティングするプロセスは、単分子層だけを生産するべきである。例えば、積み重なったＣＮＴ形成触媒上にＣＮＴが成長すると、炭素繊維材料へのＣＮＴ浸出の程度を損なうことがある。他の実施形態では、遷移金属触媒は、蒸着技術、電界析出技術、及び当業者に既知の他のプロセス（例えば、遷移金属触媒を、有機金属、金属塩又は気相輸送を促進する他の組成物としてのプラズマ原料ガスへ添加することなど）を使用して、炭素繊維材料上に付着し得る。
本発明のプロセスは連続的となるように設計されるので、一連の槽で巻き取り可能な炭素繊維材料に浸漬コーティングを施すことが可能である（この場合、浸漬コーティング槽は離間している）。発生期の炭素繊維を新たに生成する連続プロセスでは、ＣＮＴ形成触媒の浸漬コーティング又はスプレーは、バリアコーティングを炭素繊維材料に塗布して、硬化又は部分硬化した後の第１段階となり得る。バリアコーティング及びＣＮＴ形成触媒の塗布は、新たに形成される炭素繊維材料のために、サイジングの塗布に代えて行われる。他の態様では、ＣＮＴ形成触媒は、バリアコーティング後に、他のサイジング剤の存在下で、新たに形成された炭素繊維に塗布される。ＣＮＴ形成触媒及び他のサイジング剤のこのような同時塗布によっても、炭素繊維材料のバリアコーティングと表面接触するＣＮＴ形成触媒を供給し、これにより、ＣＮＴの浸出を確実にすることができる。
使用する触媒溶液は遷移金属ナノ粒子でよく、これは前述したように任意のｄブロック遷移金属でよい。また、ナノ粒子には、元素形態又は塩形態のｄブロック金属の合金及び非合金混合物、並びにその混合物が含まれる。このような塩形態としては、限定するものではないが、酸化物、炭化物、及び窒化物が挙げられる。限定しない例示的な遷移金属ＮＰとしては、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ａｕ及びＡｇ及びその塩、並びに、その混合物が挙げられる。ある実施形態では、このようなＣＮＴ形成触媒は、バリアコーティングの付着と同時に、ＣＮＴ形成触媒を炭素繊維材料に直接塗布する又は浸出させることによって、炭素繊維に配設される。これらの遷移金属触媒の多くは、例えばＦｅｒｒｏｔｅｃ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（ニューハンプシャー州ベッドフォード）などの様々な供給業者から市販されており容易に入手可能である。
ＣＮＴ形成触媒を炭素繊維材料に塗布するために使用する触媒溶液は、ＣＮＴ形成触媒を全体にわたって均一に分散可能にするいかなる共通溶媒を用いてよい。このような溶媒としては、限定するものではないが、水、アセトン、ヘキサン、イソプロピルアルコール、トルエン、エタノール、メタノール、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、シクロヘキサン、又はＣＮＴ形成触媒ナノ粒子の適切な分散系を生成するために極性が制御された他のいかなる溶媒も含まれる。ＣＮＴ形成触媒の濃度は、触媒対溶媒で、約１：１から１：１００００の範囲とすることができる。このような濃度は、バリアコーティングとＣＮＴ形成触媒を同時に塗布する場合にも使用することができる。
ある実施形態では、ＣＮＴ形成触媒の付着後、カーボンナノチューブを合成するために、炭素繊維材料は、約５００℃と１０００℃の間の温度に加熱される。これらの温度への加熱は、ＣＮＴ成長のための炭素原料を導入する前に、又はそれと略同時に行われる。
ある実施形態では、本発明は、炭素繊維材料からサイジング剤を除去することと、炭素繊維材料にバリアコーティングをコンフォーマルに塗布することと、ＣＮＴ形成触媒を炭素繊維材料に塗布することと、炭素繊維材料を少なくとも５００℃に加熱することと、炭素繊維材料上でカーボンナノチューブを合成することと、を含むプロセスを提供することができる。ある実施形態では、ＣＮＴ浸出プロセスの工程は、炭素繊維材料からサイジングを除去することと、バリアコーティングを炭素繊維材料に塗布することと、ＣＮＴ形成触媒を炭素繊維に塗布することと、繊維をＣＮＴ合成温度まで加熱することと、触媒を含む炭素繊維材料をＣＶＤで促進されたＣＮＴ成長させることとを含む。したがって、市販の炭素繊維材料を使用する場合、ＣＮＴ浸出炭素繊維を構成するためのプロセスは、バリアコーティング及び触媒を炭素繊維材料上に配設する前に、炭素繊維材料からサイジングを除去する個別の工程を含むことができる。
カーボンナノチューブを合成する工程は、参照により本明細書に組み込まれる同時係属の米国特許出願第２００４／０２４５０８８号に開示されているものなど、カーボンナノチューブを形成する多くの手法を含むことができる。本発明において繊維上で成長するＣＮＴは、限定するものではないが、マイクロキャビティ（micro-cavity）、熱又はプラズマ促進ＣＶＤ法、レーザーアブレーション、アーク放電、及び高圧一酸化炭素（ＨｉＰＣＯ）など、当該技術分野において既知の手法により得られる。ＣＶＤ中は特に、バリアコーティングを施され、その上にＣＮＴ形成触媒が配設された炭素繊維材料を直接使用できる。ある実施形態では、ＣＮＴ合成の前に従来のいかなるサイジング剤も除去することができる。ある実施形態では、アセチレンガスをイオン化して、ＣＮＴ合成のための低温炭素プラズマジェットを生じさせる。プラズマは、触媒を担持する炭素繊維材料に向かって配向される。このように、ある実施形態では、炭素繊維材料上のＣＮＴ合成は、（ａ）炭素プラズマを形成すること、及び（ｂ）炭素繊維材料上に配設された触媒へと炭素プラズマを配向することを含む。成長したＣＮＴの直径は、前述のように、ＣＮＴ形成触媒のサイズにより決定される。ある実施形態では、サイジングした繊維基材を約５５０℃〜約８００℃に加熱して、これによりＣＮＴの合成を容易にする。ＣＮＴの成長を開始するために、アルゴン、ヘリウム、又は窒素などのプロセスガス、及び、アセチレン、エチレン、エタノール又はメタンなどの炭素含有ガス、の２つのガスが反応器に流される。ＣＮＴはＣＮＴ形成触媒の位置で成長する。
ある実施形態では、ＣＶＤ成長はプラズマで促進される。プラズマは、成長プロセス中に電界を与えることによって生成される。この条件下で成長するＣＮＴは、電界方向に従う。したがって、反応器の形状を調節することにより、垂直に配列されたカーボンナノチューブを円筒形繊維の周囲に半径方向に成長させることができる。ある実施形態では、繊維の周囲から半径方向に成長させるためにプラズマは必要とされない。テープ、マット、布地、プライなどのように明確な面を有する炭素繊維材料の場合は、触媒を片面又は両面に配置させることができ、それに応じてＣＮＴも片面又は両面で成長することができる。
前述したように、ＣＮＴ合成は、巻き取り可能な炭素繊維材料を機能化する連続プロセスを提供するのに十分な速度で行われる。以下に例示されるように、このような連続的な合成は、多くの装置構成により容易となる。
連続的なカーボンナノチューブ合成のための別構成は、炭素繊維材料上でカーボンナノチューブを直接合成し、成長させる専用の矩形反応器を含む。この反応器は、カーボンナノチューブを担持する繊維を生産するための連続的なインラインプロセス用に設計され得る。ある実施形態では、ＣＮＴは、化学蒸着（「ＣＶＤ」）プロセスにより、大気圧、かつ、約５５０℃から約８００℃の範囲の高温で、マルチゾーン反応器（multi-zone reactor）内で成長する。合成が大気圧で生じるということは、繊維上でＣＮＴを合成するための連続的な処理ラインに反応器を組み込むことを容易にする１つの要素である。このようなゾーン反応器を使用する連続的なインライン処理に合致する別の利点は、ＣＮＴの成長が秒単位で生じることであり、当技術分野で典型的な他の手法及び装置構成における分単位（又はもっと長い）とは対照的である。
様々な実施形態によるＣＮＴ合成反応器は、以下の特徴を含む。
（矩形に構成された合成反応器）
当技術分野で既知の標準的なＣＮＴ合成反応器は横断面が円形である。これには、例えば、歴史的理由（ラボラトリでは円筒状の反応器が使用されることが多い）と利便性（流体力学は円筒状反応器にモデル化すると容易になり、また、加熱器システムは円管（石英など）に容易に対応する）、並びに、製造の容易性など、幾つかの理由がある。本発明は、従来の円筒形状を変えて、矩形横断面を有するＣＮＴ合成反応器を提供する。変更の理由は以下の通りである。１．反応器により処理できる多くの炭素繊維材料は、例えば、形態が平坦なテープ又はシート状など、比較的平面的であるので、円形横断面では反応器の体積の利用が不十分である。この不十分な利用は、円筒状のＣＮＴ合成反応器にとって、例えば、以下のａ）ないしｃ）に挙げるような幾つかの欠点となる。ａ）十分なシステムパージの維持。反応器の体積が増加すると、同レベルのガスパージを維持するためにガス流量を増加させる必要がある。これは、開放環境におけるＣＮＴの大量生産には不十分なシステムとなる。ｂ）炭素原料ガス流量の増加。前記ａ）のように、不活性ガス流量を相対的に増加させると、炭素原料ガス流量を増加させる必要がある。１２Ｋの炭素繊維トウの体積が、矩形横断面を有する合成反応器の全体積に対して２０００分の１であることを考慮されたい。同等の円筒状成長反応器（すなわち、矩形横断面の反応器と同じ平坦化された炭素繊維材料を収容できるだけの幅を有する円筒状の反応器）では、炭素繊維材料の体積はチャンバー体積の１７，５００分の１になる。
ＣＶＤなどのガス付着プロセス（gas deposition processes）は、通常、圧力及び温度のみに支配されるが、体積は付着効率に顕著な影響を及ぼす。矩形反応器の場合でも、なお過剰な体積がある。この過剰な体積は、無用の反応を助長するが、それでも円筒状反応器では、その体積が約８倍もある。このように競合する反応が生じる可能性が高まるので、所望の反応が効率的に生じるには、円筒形反応器のチャンバーでは一層遅くなってしまう。このようなＣＮＴ成長の速度低下は、連続プロセスの進行にとって問題となる。矩形反応器構成の１つの利点は、矩形チャンバーの低い高さを用いて反応器の体積を減少させ、これにより体積比を向上させて、反応をさらに効率化できることである。本発明の実施形態の中には、矩形合成反応器の全体積が、合成反応器を通過している炭素繊維材料の全体積に対して僅か約３０００倍にしかすぎないものがある。別の実施形態の中には、矩形合成反応器の全体積が、合成反応器を通過している炭素繊維材料の全体積の約４０００倍にしかすぎないものもある。さらに別の実施形態の中には、矩形合成反応器の全体積は、合成反応器を通過している炭素繊維材料の全体積に対して約１０，０００倍未満のものがある。また、円筒状反応器を使用した場合、矩形横断面を有する反応器と比較すると、同じ流量割合を提供するためには、より大量の炭素原料ガスが必要であることに留意されたい。当然のことながら、他の態様の中には、矩形ではないが、これに類似し、かつ、円形横断面を有する反応器に対して、反応器の体積を同様に低減する多角形状で表される横断面を有する合成反応器がある。ｃ）問題となる温度分布。比較的小径の反応器を使用する場合、チャンバー中心からその壁面までの温度勾配はごく僅かである。しかし、工業規模の生産に使用されるなど、サイズの増加とともに、温度勾配が増大する。このような温度勾配は、炭素繊維材料の基材の直径で製品品質がばらつく（すなわち、製品品質が半径方向の位置に応じて変化する）原因となる。この問題は、矩形横断面を有する反応器を使用した場合に殆ど回避される。特に、平面的な基材を使用する場合、基材のサイズが大きくなったときに、反応器の高さを一定に維持することができる。反応器の頂部と底部との間の温度勾配は基本的に無視することができ、その結果、熱的な問題及びそれによる製品品質のばらつきが回避される。２．ガス導入。当技術分野では、通常、管状炉を使用するので、典型的なＣＮＴ合成反応器は、ガスを一端に導入し、それを反応器に通して他端から引き出している。本明細書で開示される、ある実施形態では、ガスが、反応器の両側面又は反応器の頂面及び底面のいずれかを通して対照的に、反応器の中心、又は対象とする成長ゾーン内に導入される。これにより、流入する原料ガスが、ＣＮＴの成長が最も活発であるシステムの最高温度部分に連続的に補給されるので、全体的なＣＮＴの成長速度が向上する。このような一定のガス補給は、矩形のＣＮＴ反応器が示す成長速度向上の重要な側面である。
（ゾーン分け）
比較的低温のパージゾーンを提供するチャンバーは、矩形合成反応器の両端から延びる。出願人は、仮に高温ガスを外部環境（すなわち、反応器の外部）と接触（mix）すると、炭素繊維材料の劣化（degradation）が増大することを究明した。低温のパージゾーンは、内部システムと外部環境との間の緩衝となる。当技術分野で既知の典型的なＣＮＴ合成反応器の構成は、通常、基材を慎重に（及び緩やかに）冷却することが求められる。本発明の矩形ＣＮＴ成長反応器の出口における低温のパージゾーンは、連続的なインライン処理に必要とされるような短期間での冷却を実現する。
（非接触、ホットウォール型、金属製反応器）
ある実施形態では、金属、特にステンレス鋼で作られたホットウォール型（hot-walled）反応器を使用する。これは、金属、特にステンレス鋼が炭素の付着を受けやすい（すなわち、煤及び副生成物が形成されやすい）ために、常識に反するようにも考えられる。したがって、大部分のＣＮＴ反応器の構成では石英反応器を使用する。その方が炭素の付着が少なく、石英の方が洗浄しやすく、石英が試料の観察を容易にするからである。
しかし、ステンレス鋼における煤及び炭素の付着が増加した結果、より着実、より高速、より効率的、かつ、より安定的なＣＮＴ成長がもたらされること、が見出されている。理論に拘束されることなく、大気圧運転（atmospheric operation）と連動して、反応器内で起こるＣＶＤプロセスでは拡散が制限されることが示されている。すなわち、触媒に「過度に供給される（overfed）」、つまり、過量の炭素が、（反応器が不完全真空下で運転している場合よりも）その相対的に高い分圧により、反応器システム内で使用可能である。その結果、開放システム、特に清浄な（clean）開放システムでは、過量の炭素が触媒粒子に付着して、ＣＮＴの合成能力を低下させる。ある実施形態では、反応器に「汚れが付いて（dirty）」いる、すなわち、金属反応器壁に煤が付着している場合に、矩形反応器を意図的に運転する。炭素が反応器壁上の単分子層に付着すると、炭素は、その上に容易に付着することになる。使用可能な炭素の中には、このメカニズムにより「回収される（withdrawn）」ものがあるので、遊離基の形態で残っている炭素原料が、触媒を被毒させない速度で触媒と反応する。既存のシステムは「清浄に（cleanly）」運転されるが、連続処理のために開放状態であれば、成長速度が低下して、はるかに低い収率でしかＣＮＴを生産できない。
ＣＮＴ合成を、前述のように「汚れが付いて」いる状態で実施するのは概して有益であるが、それにもかかわらず、ガスマニホールド及びガス入口などの装置の特定部分は、煤が閉塞状態を引き起こした場合にＣＮＴの成長プロセスに悪影響を及ぼすことがある。この問題に対処するために、ＣＮＴ成長反応チャンバーのこのような部分を、例えば、シリカ、アルミナ、又はＭｇＯなどの煤抑制コーティングで保護することができる。実際には、装置のこのような部分は、これらの煤抑制コーティングで浸漬コーティングが施される。これらのコーティングには、ＩＮＶＡＲ（登録商標）などの金属を使用することができる。何故なら、ＩＮＶＡＲは同様のＣＴＥ（熱膨張率）を有し、より高温におけるコーティングの適切な付着を確実に行い、重要なゾーンにおける煤の大量蓄積を防止するからである。
（触媒還元及びＣＮＴ合成の組み合わせ）
本明細書で開示するＣＮＴ合成反応器では、触媒還元及びＣＮＴ成長のいずれもが反応器内で生じる。このことが重要であるのは、還元工程が個別の工程として実施されると、連続プロセスで使用するのに十分タイムリーに行えなくなるからである。当技術分野で既知の典型的なプロセスでは、還元工程の実施には、通常、１〜１２時間かかる。本発明によれば、両工程は１つの反応器内で起こるが、これは、少なくとも１つには、炭素原料ガスを導入するのが、円筒状反応器を使用する当技術分野で典型的な、反応器の端部ではなく、中心部であることに起因する。還元プロセスは、繊維が加熱ゾーンに入ると起こる。この時点までに、ガスには、触媒と反応して（水素とラジカルの相互作用を介した）酸化還元を引き起こす前に、壁と反応して冷却するまでの時間がある。還元が起こるのはこの遷移領域である。システムの最高温度の等温ゾーンにて、ＣＮＴが成長し、最速の成長速度は反応器の中心付近にあるガス入口の近傍で生じる。
ある実施形態では、例えば、炭素トウなど、緩くまとまった（loosely affiliated）炭素繊維材料を使用する場合、連続プロセスは、トウのストランド（strand）及び／又はフィラメントを展開する工程を含むことができる。したがって、トウがスプールから繰り出される（unspooled）ときに、例えば、真空ベースの開繊システム（vacuum-based fiber spreading system）を使用して開繊される（spread）。サイジングされて相対的に堅くなる炭素繊維を使用する場合、トウを「軟化」して繊維の開繊を容易にするために、更なる加熱を使用できる。個々のフィラメントを含んで構成される開繊繊維（spread fiber）は、フィラメントの全表面積をさらせるように十分離れて開繊され、こうして後続の処理工程でトウがさらに効率的に反応できるようにする。このような開繊は、３ｋのトウ全体を約４インチから約６インチに近づけることができる。開繊した炭素トウは、前述のようにプラズマシステムで構成される表面処理工程を通過することができる。バリアコーティングを塗布して粗面化した後、開繊繊維は、次に、ＣＮＴ形成触媒の浸漬槽を通過してよい。その結果、触媒粒子が表面上で半径方向に分布した炭素トウの繊維になる。触媒を含んだトウの繊維は、その後、例えば、前述の矩形チャンバーなどの適切なＣＮＴ成長チャンバーに入り、ここで大気圧ＣＶＤ又はＰＥ−ＣＶＤプロセスを通るフロー（flow）を使用して、毎秒数ミクロンもの高い速度でＣＮＴを合成する。トウの繊維は、こうして半径方向に配列されたＣＮＴを備えて、ＣＮＴ成長反応器を出る。
ある実施形態では、ＣＮＴ浸出炭素繊維材料はさらに別の処理プロセスを通過することができ、これは、ある実施形態では、ＣＮＴの機能化（官能化）に使用されるプラズマプロセスである。ＣＮＴの追加の機能化は、特定の樹脂に対する付着を促進するために用いられる。したがって、ある実施形態では、本発明は機能化したＣＮＴを有するＣＮＴ浸出炭素繊維材料を提供する。
巻き取り可能な炭素繊維材料の連続処理の一部として、ＣＮＴ浸出炭素繊維材料はさらにサイジング浸漬槽を通過して、これにより最終製品に有益となり得る任意のサイジング剤を更に塗布することができる。最終的に、湿式巻き（wet winding）が求められる場合、ＣＮＴ浸出炭素繊維材料は樹脂槽を通過して、これをマンドレル（mandrel）又はスプール（spool）に巻き付けることができる。その結果得られる炭素繊維材料／樹脂の組合せは、ＣＮＴを炭素繊維材料上に固着し、これにより、取扱い及び複合材料製造をさらに容易にすることを可能にしている。ある実施形態では、ＣＮＴ浸出を用いて、フィラメントの巻き（filament winding）を改良する。このように、例えば、炭素トウなどの炭素繊維上に形成されたＣＮＴが樹脂槽を通過して、これにより樹脂を含浸させたＣＮＴ浸出炭素トウを生産する。樹脂含浸後、炭素トウは、送出ヘッド（delivery head）によって回転するマンドレルの表面に位置決めされる。そして、トウは、既知の方法により正確な幾何学的パターンでマンドレルに巻き付けられる。
前述の巻きプロセス（winding process）は、パイプ、チューブ、又は雄型を介して特徴的に生産されるような他の形態を提供する。しかし、本明細書で開示される巻きプロセスから作られる形態は、従来のフィラメント巻きプロセスで生産されるものとは異なる。
特に本明細書で開示されるプロセスにおいて、その形態は、ＣＮＴ浸出トウを含む複合材料から作られる。したがって、このような形態にとって、ＣＮＴ浸出トウによって提供される強度向上などは有益となるであろう。
ある実施形態では、巻き取り可能な炭素繊維材料上にＣＮＴを浸出させるための連続プロセスは、約０．５フィート／分から約３６フィート／分のラインスピードを達成できる。この実施形態において、ＣＮＴ成長チャンバーが長さ３フィートであり、７５０℃の成長温度で稼動する場合、例えば、約１ミクロンから約１０ミクロンの長さを有するＣＮＴを生産するために、約６フィート／分から約３６フィート／分のラインスピードでプロセスが行われる。また、例えば、約１０ミクロンから約１００ミクロンの長さを有するＣＮＴを生産するために、約１フィート／分から約６フィート／分のラインスピードでプロセスを行うこともできる。例えば、約１００ミクロンから約２００ミクロンの長さを有するＣＮＴを生産するために、約０．５フィート／分から約１フィート／分のラインスピードでプロセスが行われる。ＣＮＴの長さは、ラインスピード及び成長温度のみに関係しているだけでなく、炭素原料及び不活性キャリアガスの両方の流量もＣＮＴの長さに影響を与える。例えば、高速のラインスピード（６フィート／分から３６フィート／分）で、不活性ガス中の炭素原料が１％未満からなる流量では、約１ミクロンから約５ミクロンの長さを有するＣＮＴとなる。高速のラインスピード（６フィート／分から３６フィート／分）で、不活性ガス中の炭素原料が１％を超える流量では、約５ミクロンから約１０ミクロンの長さを有するＣＮＴとなる。
ある実施形態では、複数の炭素繊維材料に対して同時にプロセスが実行される。例えば、テープ、トウ、フィラメント、ストランドなど複数に対し、並行してプロセスが実行される。したがって、炭素繊維材料の既製スプールには、いくつであっても、並行してプロセスが実行され、プロセスの最後で再び巻き取られる。並行して実行することが可能な炭素繊維材料のスプール数は、１つ、２つ、３つ、４つ、５つ、６つ、又は、最大でＣＮＴ成長反応器チャンバーの幅に収まるいかなる数も含まれる。さらに、複数の炭素繊維材料に対してプロセスが実行される場合、回収スプール数は、プロセス開始時のスプール数より少なくすることができる。このような実施形態では、炭素ストランド、トウなどは、このような炭素繊維材料を組み合わせて、例えば、織物など、より高秩序の炭素繊維材料にする更なるプロセスに送られてもよい。また、連続プロセスは、例えば、ＣＮＴ浸出短繊維（CNT-infused chopped fiber）マットの形成を容易にする後処理チョッパ（post processing chopper）を組み込むこともできる。
ある実施形態では、本発明のプロセスにより、炭素繊維材料上に第１の量の第１種カーボンナノチューブを合成することができ、ここで第１種カーボンナノチューブは、炭素繊維材料の少なくとも１つの第１の性質を変化させるために選択される。次に、本発明のプロセスにより、炭素繊維材料上に第２の量の第２種カーボンナノチューブを合成することができ、ここで第２種カーボンナノチューブは、炭素繊維材料の少なくとも１つの第２の性質を変化させるために選択される。
ある実施形態では、ＣＮＴの第１の量と第２の量が異なる。これは、ＣＮＴの種類を変化させるか、又は変化させないことに付随して起こる。したがって、ＣＮＴの種類が変化しなくても、ＣＮＴの密度を変化させて用いることにより、元の繊維材料の性質を変化させることができる。ＣＮＴの種類には、例えば、ＣＮＴの長さ及び層数が含まれる。ある実施形態では、第１の量、及び第２の量は同一である。この場合に、巻き取り可能な材料の２つの異なる区間（stretch）に沿って異なる性質が望ましいのであれば、例えば、ＣＮＴの長さなど、ＣＮＴの種類を変化させることができる。例えば、ＣＮＴが長くなるほど電気的／熱的用途に有用となるのに対し、ＣＮＴの長さが短くなるほど機械的強化の用途に有用となる。
電気的伝導性又は固有の導電率は、材料が電流を通す能力の１つの尺度である。例えば、ＣＮＴのキラリティに関連する捻りの程度など、特定の構造的パラメータを有するＣＮＴは、伝導率が高いことがあり、したがって金属的性質を示す。ＣＮＴのキラリティに関して、認定されている命名方式（M.S. Dresselhaus, et al. Science of Fullerenes and Carbon Nanotubes, Academic Press, San Diego, CA pp.756-760, (1996)）が形式化され、当業者に認識されている。したがって、例えば、ＣＮＴは、互いに、２つの指数（ｎ，ｍ）で識別される（ここで、ｎ及びｍは、六方晶系のグラファイトが円筒表面上で巻かれて、端部同士を接合した場合にチューブとなるように、六方晶系のグラファイトの切り方及び巻き方を表す整数である）。２つの指数が同じ、すなわち、ｍ＝ｎである場合、得られるチューブは「アームチェア」（又はｎ，ｎ）型であると言われる。何故なら、チューブがＣＮＴの軸に対して垂直に切断された場合に、六角形の辺のみが露出し、そのチューブ縁部の周縁のパターンが、ｎ回繰り返されるアームチェアのアームと座部に類似しているからである。アームチェアＣＮＴ、特にＳＷＮＴは金属的であり、極めて高い電気的及び熱的伝導性を有する。また、このようなＳＷＮＴは極めて高い引張強度を有する。
捻りの程度に加えて、ＣＮＴの直径も電気伝導性に影響する。前述のように、ＣＮＴの直径は、管理されたサイズのＣＮＴ形成触媒ナノ粒子を使用することによって制御できる。また、ＣＮＴは、半導体材料としても形成されうる。多層ＣＮＴ（ＭＷＮＴ）伝導性は、さらに複雑となる。ＭＷＮＴ内の層間反応は、個々のチューブ一面に電流を不均一に再分配させる。対照的に、金属的な単層ナノチューブ（ＳＷＮＴ）の様々な部分にわたって電流は変化しない。また、カーボンナノチューブは非常に高い熱伝導性も有し、これはダイアモンド結晶及び面内の（in-plane）グラファイトシートに匹敵する。
ＣＮＴ浸出炭素繊維材料は、ＣＮＴの存在により、前述の性質の点で利益を得るだけでなく、本プロセスでより軽量の材料も提供できる。したがって、このように密度が低下し、強度が向上した材料は、換言すれば、強度重量比がより高いということができる。
前述の実施形態が、本発明の単なる例示にすぎず、また、本発明の範囲から離れることなく、当業者により、前述の実施形態の多くの変形を考案できることは理解されるべきである。例えば、本明細書において、多数の具体的な細部は、本発明の例示的な実施形態を詳細に説明し理解するために提供されている。しかし、当業者であれば、本発明の１以上の細部、又は他のプロセス、材料、若しくは構成要素がなくても、本発明を実施可能であることを認識できる。
また、場合によっては、周知の構造体、周知の材料、又は周知の工程は、例示の実施形態の態様が曖昧になることを避けるために、詳細に示されていないか、あるいは、説明されていない。図面に図示される様々な実施形態が、例示であり、また、必ずしも、縮尺通りに描かれていないことは理解されるべきである。明細書全体を通して、「一実施形態」若しくは「１つの実施形態」、又は「ある実施形態」と言っているのは、実施形態に関連して説明される特定の機能、特定の構造、特定の材料、あるいは、独自の特徴が、本発明の少なくとも１つの実施形態に含まれることを意味しているが、必ずしも、全ての実施形態に含まれること意味しているものではない。結果的に、明細書全体を通して、様々な箇所で現れる「一実施形態では」若しくは「１つの実施形態では」、又は「ある実施形態では」という表現は、必ずしも、全て同一の実施形態に言及しているものではない。また、特定の機能、特定の構造、特定の材料、又は独自の特徴は、１以上の実施形態においてあらゆる適切な方法で組合せ可能である。したがって、このような変形は、特許請求の範囲及びその均等の範囲内に含まれるものとする。

Claims (20)

  1. カーボンナノ構造体が配設された基材と、
    前記カーボンナノ構造体及び前記基材の周囲にコンフォーマルに配設された活物質を含むコーティングと、
    を含んで構成される電極。
  2. 前記基材は、ガラス、炭素、セラミック、金属、及び有機高分子からなる群より選択されたものを含んで構成されたことを特徴とする請求項１に記載の電極。
  3. 前記基材は、繊維、トウ、織物又は不織布、ホイル、プライ、短ストランドマット、及びフェルトからなる群より選択された形態を含んで構成されたことを特徴とする請求項１に記載の電極。
  4. 前記基材は、炭素繊維を含んで構成されたことを特徴とする請求項１に記載の電極。
  5. 前記基材は、炭素織物を含んで構成されたことを特徴とする請求項１に記載の電極。
  6. 前記活物質は、金属酸化物、金属リン酸塩、導電性高分子、及び半導体からなる群より選択されたものを含んで構成されたことを特徴とする請求項１に記載の電極。
  7. 前記活物質は、酸化リチウム、リン酸リチウム、酸化マンガン、酸化ルテニウム、ポリピロール、及びシリコンからなる群より選択されたものを含んで構成されたことを特徴とする請求項６に記載の電極。
  8. カーボンナノ構造体が配設された基材、及び
    前記カーボンナノ構造体及び前記基材の周囲にコンフォーマルに配設された活物質を含む任意のコーティング、
    を含んで構成される電極と、
    蓄電可能な２機能性電解質と、
    を含んで構成されるハイブリッド・キャパシタバッテリ。
  9. 前記基材は、ガラス、炭素、セラミック、金属、及び有機高分子からなる群より選択されたものを含んで構成されたことを特徴とする請求項８に記載のハイブリッド・キャパシタバッテリ。
  10. 前記基材は、繊維、トウ、織物又は不織布、ホイル、プライ、短ストランドマット、及びフェルトからなる群より選択された形態を含んで構成されたことを特徴とする請求項８に記載のハイブリッド・キャパシタバッテリ。
  11. 前記基材は、炭素繊維を含んで構成されたことを特徴とする請求項８に記載のハイブリッド・キャパシタバッテリ。
  12. 前記基材は、炭素織物を含んで構成されたことを特徴とする請求項８に記載のハイブリッド・キャパシタバッテリ。
  13. 前記活物質は、金属酸化物、金属リン酸塩、導電性高分子、及び半導体からなる群より選択されたものを含んで構成されたことを特徴とする請求項８に記載のハイブリッド・キャパシタバッテリ。
  14. 前記活物質は、酸化リチウム、リン酸リチウム、酸化マンガン、酸化ルテニウム、ポリピロール、及びシリコンからなる群より選択されたものを含んで構成されたことを特徴とする請求項１３に記載のハイブリッド・キャパシタバッテリ。
  15. 前記コーティングが配設され、かつ、前記２機能性電解質がバナジウムイオンを含んで構成されたことを特徴とする請求項８に記載のハイブリッド・キャパシタバッテリ。
  16. 前記コーティングが配設されず、かつ、前記２機能性電解質が有機電解質を含んで構成されたことを特徴とする請求項８に記載のハイブリッド・キャパシタバッテリ。
  17. カーボンナノ構造体を含む基材を提供するために、前記基材上に前記カーボンナノ構造体を合成する工程と、
    前記カーボンナノ構造体を含む基材を活物質でコンフォーマルにコーティングする工程と、
    を含んで構成された方法。
  18. 前記コーティングする工程は、化学蒸着、物理蒸着、電気化学析出、溶液浸漬、及び溶液スプレーからなる群より選択されたものを含んで構成されたことを特徴とする請求項１７に記載の方法。
  19. 前記基材は、繊維、トウ、織物又は不織布、ホイル、プライ、短ストランドマット、及びフェルトからなる群より選択された形態を含んで構成されたことを特徴とする請求項１７に記載の方法。
  20. 前記活物質は、酸化リチウム、リン酸リチウム、酸化マンガン、酸化ルテニウム、ポリピロール、及びシリコンからなる群より選択されたものを含んで構成されたことを特徴とする請求項１７に記載の方法。
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