JP2014534177A - 2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法 - Google Patents

2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法 Download PDF

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Abstract

本発明は、部分的に、1,1,2,3−テトラクロロプロペン(HCO−1230xa)の2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233xf)へのフッ素化中の高い温度が、触媒の不安定さ、減少した転化の選択性、及び/又は1種類以上の望ましくない副生成物の形成をもたらすという発見に関連する。反応温度を制御することによって、触媒寿命を伸ばし、反応の選択性を向上させることができることが示される。かかる制御は、同様に、幾つかのヒドロフルオロオレフィン、特に2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234yf)の製造における全体的な向上をもたらす。【選択図】なし

Description

[0001]本出願は、2011年9月30日に出願の出願番号61/541,744を有する仮出願(その内容を参照として包含する)の優先権を主張する。
[0002]本発明は、フッ素化有機化合物を製造する方法、より詳しくはフッ素化オレフィンを製造する方法、更により詳しくは2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234yf)を製造する方法に関する。
[0003]テトラフルオロプロペン(2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234yf)など)のようなヒドロフルオロオレフィン(HFO)は、現在、有効な冷媒、消火剤、熱伝達媒体、噴射剤、起泡剤、発泡剤、気体状誘電体、滅菌剤キャリア、重合媒体、粒状物除去流体、キャリア流体、バフ研磨剤、置換乾燥剤、及び動力サイクル作動流体であることが知られている。クロロフルオロカーボン(CFC)及びヒドロクロロフルオロカーボン(HCFC)(これらはいずれも地球オゾン層を損傷する可能性がある)とは異なり、HFOは塩素を含まず、したがってオゾン層を脅威にさらさない。HFO−1234yfはまた、低い毒性を有する低地球温暖化化合物であることが示されており、したがって可動型空調における冷媒に関する益々厳しくなっている要求を満足することができる。したがって、HFO−1234yfを含む組成物は、中でも、上述の用途の多くにおいて用いるように開発されている材料である。
[0004]HFOを製造する幾つかの方法が公知である。例えば、米国特許4,900,874(Iharaら)においては、水素ガスをフッ素化アルコールと接触させることによってフッ素含有オレフィンを製造する方法が記載されている。これは比較的高い収率のプロセスであるように思われるが、高温の水素ガスを商業的スケールで取扱うことは危険である。また、現場での水素プラントの建築のような水素ガスを商業的に製造するコストは経済的に高コストである。
[0005]米国特許2,931,840(Marquis)においては、塩化メチル及びテトラフルオロエチレン又はクロロジフルオロメタンを熱分解することによってフッ素含有オレフィンを製造する方法が記載されている。このプロセスは比較的低い収率のプロセスであり、有機出発材料の非常に大きな割合が、プロセスにおいて用いる触媒を失活させる傾向がある相当量のカーボンブラックなどの望まれておらず及び/又は重要でない副生成物に転化する。
[0006]トリフルオロアセチルアセトン及び四フッ化イオウからHFO−1234yfを製造することが記載されている(Banksら, Journal of Fluorine Chemistry, vol.82, 2号, p.171〜174(1997)を参照)。また、米国特許5,162,594(Krespan)においては、テトラフルオロエチレンを液相中で他のフッ素化エチレンと反応させてポリフルオロオレフィン生成物を生成させるプロセスが開示されている。
[0007]フッ素化オレフィンの形成を示す他の当該技術としては、米国特許8,071,825、8,058,486、及び8,084,653(これらの全ての内容を参照として包含する)が挙げられる。
米国特許4,900,874 米国特許2,931,840 米国特許5,162,594 米国特許8,071,825 米国特許8,058,486 米国特許8,084,653
Banksら, Journal of Fluorine Chemistry, vol.82, 2版, p.171〜174(1997)
[0008]しかしながら、HFO−1234yfのようなヒドロフルオロオレフィンを製造する経済的な手段に対する必要性が未だ存在する。本発明はとりわけこの必要性を満足する。
[0009]本発明は、部分的に、2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234yf)のようなHFOを製造するために用いる気化した出発又は中間体供給流のフッ素化中の高い温度により、(a)プロセスにおいて用いる触媒の不安定さ及び失活、(b)減少した化合物選択性、及び/又は(c)望ましくない副生成物又は不純物の増加がもたらされる可能性があるという驚くべき発見に関連する。したがって、一形態においては、本発明は、触媒寿命を伸ばし、及び反応効率を向上させるように反応温度を制御するための1以上のプロセス工程を提供する。
[0010]本発明の他の形態は、部分的に、2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234yf)のようなHFOを製造するために用いる気化した出発又は中間体供給流のフッ素化中の高い温度及び高い圧力により、(a)プロセスにおいて用いる触媒の不安定さ及び失活、(b)減少した化合物選択性、及び/又は(c)望ましくない副生成物又は不純物の増加がもたらされる可能性もあるという更なる発見に関連する。
[0011]一形態においては、本発明は、式I:
CX=CCl−CHX (I)
(式中、Xは、独立して、F、Cl、Br、及びIから選択され、但し少なくとも1つのXはフッ素ではない)
の少なくとも1種類の化合物を含む出発組成物を与え、かかる出発組成物をフッ素化剤と接触させて2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含む最終組成物を生成させることによって2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを製造する方法に関する。幾つかの態様においては、式Iの少なくとも1種類の化合物は、Xとして少なくとも1つの塩素を有する。更なる態様においては、式Iの少なくとも1種類の化合物は、それぞれのX位置において塩素を有する。更なる態様においては、式Iの少なくとも1種類の化合物は1,1,2,3−テトラクロロプロペンを含む。
[0012]接触工程を行う温度は、反応の間中にわたって制御する。一態様においては、温度は約300℃を超えないように制御する。更なる態様においては、接触工程の温度は、275℃を超えないようにか、又は250℃を超えないように制御する。更なる態様においては、反応の温度は約180〜約300℃の間に維持する。更なる態様においては、反応の温度は、約180〜約200℃の範囲内の温度で開始して、少しずつ徐々に上昇させることができる。かかる少しずつの上昇分としては、必要に応じて所望の生成物回収速度を維持するために、約0.5〜20℃、約1〜10℃、約3〜8℃、又は約5℃の温度上昇を挙げることができる。幾つかの態様においては、生成物回収速度は、反応に供給する有機供給材料1ポンドあたり約0.1ポンド/時〜約1.0ポンド/時の間、反応に供給する有機供給材料1ポンドあたり約0.3ポンド/時〜約0.8ポンド/時の間、又は反応に供給する有機供給材料1ポンドあたり約0.5ポンド/時であってよく、最終反応温度は300℃を超えない。
[0013]本発明の他の形態においては、接触工程を行う温度及び圧力は、反応の間中にわたって制御する。第1工程の圧力は約0psig〜約150psigの範囲であってよい。一態様においては、温度は約300℃を超えないように制御し、圧力は、反応が約50psig〜約125psigの範囲の圧力で行われるように制御する。更なる態様においては、同時に反応の圧力を約50psig〜約125psigの範囲内に維持しながら、反応の温度を、約275℃を超えないようにか、又は約250℃を超えないように制御する。更なる態様においては、反応の温度は約180〜約300℃の間に維持し、圧力は約50psig〜約125psigの範囲である。更なる態様においては、反応の圧力を約50psig〜約125psigの範囲にしながら、反応の温度を約180〜約200℃の範囲内の温度で開始して少しずつ徐々に上昇させることができる。圧力が約50psig〜150psigの範囲にしながらのかかる少しずつの温度の上昇分としては、圧力を上述の圧力の範囲内に維持しながら、必要に応じて所望の生成物回収速度を維持するために約0.5〜20℃、約1〜10℃、約3〜8℃、又は約5℃の温度上昇を挙げることができる。幾つかの態様においては、生成物回収速度は、反応に供給する有機供給材料1ポンドあたり約0.1ポンド/時〜約1.0ポンド/時の間、反応に供給する有機供給材料1ポンドあたり約0.3ポンド/時〜約0.8ポンド/時の間、又は反応に供給する有機供給材料1ポンドあたり約0.5ポンド/時であってよく、最終反応温度は300℃を超えず、圧力は約50psig〜約125psigの範囲である。
[0014]出発組成物をフッ素化剤と接触させる工程は、触媒の存在下で行うことができる。一形態においては、接触工程は、蒸気相中において、蒸気相触媒を存在させるか又は存在させないで行う。かかる反応のために用いる蒸気相触媒としては、酸化クロム、水酸化クロム、ハロゲン化クロム、オキシハロゲン化クロム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、ハロゲン化アルミニウム、オキシハロゲン化アルミニウム、酸化コバルト、水酸化コバルト、ハロゲン化コバルト、オキシハロゲン化コバルト、酸化マンガン、水酸化マンガン、ハロゲン化マンガン、オキシハロゲン化マンガン、酸化ニッケル、水酸化ニッケル、ハロゲン化ニッケル、オキシハロゲン化ニッケル、酸化鉄、水酸化鉄、ハロゲン化鉄、オキシハロゲン化鉄、その無機塩、そのフッ素化誘導体、及びこれらの組み合わせが挙げられるが、これらに限定されない。幾つかの態様においては、触媒としては、Crなど(しかしながらこれに限定されない)の酸化クロムが挙げられる。
[0015]更なる形態においては、本発明は、
(a)式I:
CX=CCl−CHX (I)
(式中、Xは、独立して、F、Cl、Br、及びIから選択され、但し少なくとも1つのXはフッ素ではない)
の化合物を含む出発組成物を与え;
(b)出発組成物を第1のフッ素化剤と接触させて、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン及び第1の塩素含有副生成物を含む第1の中間体組成物を生成させ;
(c)第1の中間体組成物を第2のフッ素化剤と接触させて、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを含む第2の中間体組成物を生成させ;そして
(d)2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンの少なくとも一部を脱塩化水素化して、2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エンを含む反応生成物を生成させる;
ことによって2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エンを製造する方法に関する。
[0016]ここでも、接触工程(b)の温度は、本明細書に与える教示にしたがって制御することができる。他の形態においては、接触工程(b)の温度及び圧力は、本明細書における教示にしたがって、温度が約300℃を超えず、圧力が約50〜約100psigの範囲になるように制御する。
[0017]本発明の更なる態様及び有利性は、本明細書に与える開示事項に基づいて当業者に容易に明らかになるであろう。
[0018]本発明のこれら及び他の特徴、形態、及び有利性は、以下の記載、特許請求の範囲、及び添付の図面に関してより良好に理解されるようになるであろう。
[0019]図1は、実施例3において記載するようなHCO−1230xaのHCFO−1233xfへの反応中における、異なる反応温度における運転時間の関数としてのPCC(生成物回収シリンダー)の重量増加をグラフで示す。
[0020]一態様によれば、本発明は、式I:
CX=CCl−CHX (式I)
(式中、Xは、独立して、F、Cl、Br、及びIから選択され、但し少なくとも1つのXはフッ素ではない)
にしたがう出発材料を用いて2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エンを製造するための製造方法を包含する。幾つかの態様においては、式Iの1種類又は複数の化合物は、Xとして少なくとも1つの塩素を含むか、Xの大部分を塩素として含むか、或いは全てのXを塩素として含む。幾つかの態様においては、式Iの1種類又は複数の化合物は1,1,2,3−テトラクロロプロペン(HCO−1230xa)を含む。
[0021]本方法は、一般に少なくとも3つの反応工程を含む。第1工程においては、式Iの出発組成物(例えば1,1,2,3−テトラクロロプロペン)を、第1の蒸気相反応器(フッ素化反応器)内で無水HFと反応させて、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233xf)及びHClの混合物を生成させる。幾つかの態様においては、反応は、蒸気相中において、フッ素化酸化クロムなど(しかしながらこれに限定されない)の蒸気相触媒の存在下で行う。触媒は、触媒の状態に応じて、使用前に無水フッ化水素:HF(フッ化水素ガス)で活性化してもよい(又は活性化しなくてもよい)。
[0022]蒸気相触媒としてフッ素化酸化クロムを開示するが、本発明はこの態様に限定されない。当該技術において公知の任意のフッ素化触媒を、このプロセスにおいて用いることができる。好適な触媒としては、クロム、アルミニウム、コバルト、マンガン、ニッケル、及び鉄の酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、オキシハロゲン化物、その無機塩、及びこれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されず、これらの任意のものは場合によってはフッ素化されていてもよい。本発明のために好適な触媒の組合せとしては、非排他的にCr、FeCl/炭素、Cr/Al、Cr/AlF、Cr/炭素、CoCl/Cr/Al、NiCl/Cr/Al、CoCl/AlF、NiCl/AlF、及これらの混合物が挙げられる。酸化クロム/酸化アルミニウム触媒は、米国特許5,155,082(参照として本明細書中に包含する)に記載されている。結晶質酸化クロム又はアモルファス酸化クロムのようなクロム(III)酸化物が好ましく、アモルファス酸化クロムが最も好ましい。酸化クロム(Cr)は商業的に入手可能な材料であり、種々の粒径で購入することができる。少なくとも98%の純度を有するフッ素化触媒が好ましい。フッ素化触媒は、過剰であるが、少なくとも反応を推進するのに十分な量で存在させる。
[0023]本明細書において規定するように、第1工程の温度は、触媒の寿命を伸ばし、触媒の再生を可能にするように制御する。温度を制御することによって、生成物選択性を向上させ、並びに不純物又は反応の副生成物を減少させることも可能になる。特に、本発明に対する限定ではないが、本発明にしたがって反応温度を制御することによって実質的に減少する1つの副生成物は塩化ビニル(HCO−1140)である。この化合物は出発試薬のHCO−1230xaの分解生成物であると考えられる。反応温度を制御することによって、HCO−1230xaの分解が減少し、HCO−1140の形成が最小になるか又は排除され、転化プロセスの選択性が向上する。
[0024]第1工程、特にHCO−1230xaをフッ素化してHCFO−1233xfを形成する工程の温度は、反応前及び反応中に制御して、最終反応温度が、触媒寿命が実質的に減少するか、及び/又は生成物(例えばHCFO−1233xf)の選択率が減少するか、及び/又は望ましくない副生成物の形成が観察される任意の点まで増加するのを阻止するようにすることができる。一態様においては、最終温度は、300℃、約275℃、又は約250℃を超えない。本発明の一形態においては、反応温度は約180℃の温度から約300℃までの範囲である。例えば、反応温度は、
Figure 2014534177
であってよい。他の態様においては、反応は、約50〜約125psigの範囲の圧力で行い、反応の温度は本明細書に記載する温度範囲内で行う。他の態様においては、反応は、反応を本明細書に記載する温度に維持しながら、
Figure 2014534177
の圧力で行う。或いは、反応は、約180℃〜約200℃の温度範囲において開始することができる。他の態様においては、反応は約180℃〜約200℃の温度範囲において開始することができ、圧力は約50psig〜約125psigの範囲内である。反応は、継続時間中はこの温度範囲内の1つの温度に維持することができるが、生成物回収速度を制御するように少しずつ徐々に上昇させることもできる。かかる少しずつの上昇分としては、必要に応じて所望の生成物回収速度を維持するように約0.5〜20℃、約1〜10℃、約3〜8℃、又は約5℃の温度上昇を挙げることができるが、これらに限定されない。幾つかの態様においては、生成物回収速度は、反応に供給する有機供給材料1ポンドあたり約0.1ポンド/時〜約1.0ポンド/時の間、反応に供給する有機供給材料1ポンドあたり約0.3ポンド/時〜約0.8ポンド/時の間、又は反応に供給する有機供給材料1ポンドあたり約0.5ポンド/時であってよく、最終反応温度は300℃を超えない。更に、一態様においては、反応は一定の圧力に維持することができるが、圧力は反応中に約1%〜約2%で僅かに変動してもよい。
[0025]式Iの化合物がHCO−1230xaである場合には、反応の工程1におけるHFとHCO−1230xaとのモル比は、約1:1〜約1:50、幾つかの態様においては約1:10〜約1:20の範囲である。HCO−1230xaと触媒との接触時間は約1秒間〜約60秒間の範囲であってよいが、より長いか又はより短い時間を用いることができる。
[0026]フッ素化反応は、好ましくは、約40%以上、好ましくは約90%以上の転化率を達成するように行う。転化率は、消費された反応物質(HCO−1230xa)のモル数を、反応器に供給した反応物質(HCO−1230xa)のモル数で割って100をかけることによって算出される。達成されるHCFO−1233xfに関する選択率は、好ましくは約60%以上、より好ましくは約80%以上である。選択率は、形成された生成物(HCFO−1233xf)のモル数を、消費された反応物質のモル数で割ることによって算出される。
[0027]反応のこの第1工程は、蒸気相フッ素化反応のために好適な任意の反応器内で行うことができる。幾つかの態様においては、反応器は、ハステロイ、ニッケル、インコロイ、インコネル、モネル、及びフルオロポリマーライニング材料などのようなフッ化水素及び触媒の腐食作用に抵抗性の材料から構成する。容器は固定触媒床又は流動床である。所望の場合には、運転中に窒素又はアルゴンのような不活性ガスを反応器内で用いることができる。
[0028]一般に、多段階反応器配置において存在する可能性がある任意の中間体流出流を含むフッ素化反応工程からの流出流は、処理して所望の分離度及び/又は他の処理度を達成することができる。例えば、反応器流出流がHCFO−1233xfを含む態様においては、流出流は一般に、HCl、並びにHF、2,3−ジクロロ−3,3−ジフルオロプロペン(HCFO−1232xf)、1,2−ジクロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233xd)、トリクロロフルオロプロペン(HCFO−1231)異性体、2−クロロ−1,1,1,2−テトラクロロプロパン(HCFC−244bb)、及び未反応のHCO−1230xaの1以上も含む。中和及び蒸留のような当該技術において公知の任意の分離又は精製方法を用いて、反応生成物のこれらの成分の幾つかの部分又は実質的に全部を反応混合物から回収することができる。未反応のHCO−1230xa及びHFは、完全か又は部分的に再循環して、所望のHCFO−1233xfの全収率を向上させることができるであろうと考えられる。形成されるHCFO−1232xf及びHCFO−1231も再循環することができる。
[0029]場合によっては、次にフッ素化反応の結果物から塩化水素を回収する。塩化水素の回収は通常の蒸留によって行い、それを留出物から除去する。或いは、HClは、水又は苛性スクラバーを用いることによって回収又は除去することができる。水抽出器を用いる場合には、HClは水溶液として除去される。苛性スクラバーを用いる場合には、HClは水溶液中の塩化物塩として系から除去される。
[0030]一態様においては、第1のフッ素化工程は安定剤の不存在下で行う。安定剤は、ハロゲン化反応、特にアルカン、アルケン、及びアルキンが関与するハロゲン化反応において加えられており、ハロゲン化条件下でのアルカン、アルケン、又はアルキンの重合を阻止するために用いられている化合物である。安定剤の例としては、p−tap(4−tert−アミルフェノール)、メトキシヒドロキノン、4−メトキシフェノール(HQMME)、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ブチル化ヒドロキシアニソール(BHA)、チモール、又はこれらの組み合わせなどが挙げられる。
[0031]驚くべきことに、第1工程の温度を300℃より高く上昇させると、第1のフッ素化工程において用いる触媒の寿命が劇的に短くなることが見出された。上記において示すように、反応の第1工程において用いる触媒は化学触媒である。これは、酵素のような生物学的触媒ではなく、したがって、生物学的触媒とは異なり、その活性は温度の小さな上昇に対して感受性であるとは予測されない。しかしながら、本発明者らは、第1のフッ素化工程において用いる触媒の寿命は実際に温度によって影響を受けることを見出した。より具体的には、第1のフッ素化を約300℃より高い温度において行うと、触媒の寿命が相当に短くなることが見出された。これは、本出願の図1及び実施例3において劇的に見られる。触媒が新しい場合、即ち使用していないか又は再生していない場合には、温度に関係なく、反応の第1工程におけるフッ素化の初速度はほぼ同等である。しかしながら、第1のフッ素化反応をより高い温度において行うと、フッ素化触媒は、反応をより低い温度において行う場合よりも早く失活する。例えば、図1に示すように、100psigにおいて、第1のフッ素化反応を350℃において行うと、約50時間後においてフッ素化触媒は失活してくる。第1のフッ素化反応を同じ圧力で約300℃において行うと、触媒は失活してくるまでに相当により長く使用することができる。下記の実施例3においては、100psigにおいて、これは第1のフッ素化反応において触媒が失活してくるまで140時間使用することができる。他方において、同じ圧力で275℃のようなより低い温度においては、フッ素化触媒は、300時間使用した後においても、第1のフッ素化反応を触媒するのに未だ有効であった。而して、図1に示すように、75℃の温度の小さな相違が、第1のフッ素化反応におけるフッ素化触媒の寿命における非常に劇的な効果を有している。
[0032]2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エンを形成するためのプロセスの第2工程においては、HCFO−1233xfを2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HCFC−244bb)に転化させる。一態様においては、この工程は、液相反応器(これはTFE又はPFAライニングしていてよい)内において液相中で行うことができる。かかるプロセスは、約70〜120℃の温度範囲及び約50〜120psigにおいて行うことができる。
[0033]任意の液相フッ素化触媒を本発明において用いることができる。非包括的なリストとしては、ルイス酸、遷移金属ハロゲン化物、遷移金属酸化物、第IVb族金属ハロゲン化物、第Vb族金属ハロゲン化物、又はこれらの組み合わせが挙げられる。液相フッ素化触媒の非排他的な例は、ハロゲン化アンチモン、ハロゲン化スズ、ハロゲン化タンタル、ハロゲン化チタン、ハロゲン化ニオブ、及びハロゲン化モリブデン、ハロゲン化鉄、フッ素化ハロゲン化クロム、フッ素化酸化クロム、又はこれらの組み合わせである。液相フッ素化触媒の非排他的な具体例は、SbCl、SbCl、SbF、SnCl、TaCl、TiCl、NbCl、MoCl、FeCl、SbClのフッ素化種、SbClのフッ素化種、SnClのフッ素化種、TaClのフッ素化種、TiClのフッ素化種、NbClのフッ素化種、MoClのフッ素化種、FeClのフッ素化種、又はこれらの組み合わせである。五塩化アンチモンが最も好ましい。
[0034]これらの触媒は、失活してきら、当該技術において公知の任意の手段によって容易に再生することができる。触媒を再生する1つの好適な方法は、触媒を通して塩素流を流すことを含む。例えば、液相フッ素化触媒1ポンドあたり約0.002〜約0.2ポンド/時の塩素を液相反応に加えることができる。これは、例えば約65℃〜約100℃の温度において約1〜約2時間又は連続的に行うことができる。
[0035]反応のこの第2工程は、必ずしも液相反応に限定されず、米国公開特許出願20070197842(その内容を参照として本明細書中に包含する)において開示されているもののような蒸気相反応又は液相と蒸気相の組み合わせを用いて行うこともできる。この目的のために、HCFO−1233xfを含む供給流を約50℃〜約400℃の温度に予め加熱して、触媒及びフッ素化剤と接触させる。触媒にはかかる反応のために用いられる標準的な蒸気相試薬を含ませることができ、フッ素化剤としては、フッ化水素など(しかしながらこれに限定されない)の当該技術において一般的に知られているものを挙げることができる。
[0036]HFO−1234yf製造の第3工程においては、HCFC−244bbを第2の蒸気相反応器(脱塩化水素化反応器)に供給し、脱塩化水素化して所望の生成物の2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エン(HFO−1234yf)を生成させる。この反応器には、HCFC−244bbを接触脱塩化水素化してHFO−1234yfを生成させることができる触媒を含ませる。
[0037]触媒は、金属ハロゲン化物、ハロゲン化金属酸化物、中性(又は0の酸化状態)の金属又は金属合金、或いはバルク若しくは担持形態の活性炭であってよい。金属ハロゲン化物又は金属酸化物触媒としては、一価、二価、及び三価金属のハロゲン化物、酸化物、並びにこれらの混合物/組み合わせ、より好ましくは一価及び二価金属のハロゲン化物、及びこれらの混合物/組み合わせを挙げることができるが、これらに限定されない。構成成分の金属としては、Cr3+、Fe3+、Mg2+、Ca2+、Ni2+、Zn2+、Pd2+、Li、Na、K、及びCsが挙げられるが、これらに限定されない。構成成分のハロゲンとしては、F、Cl、Br、及びIが挙げられるが、これらに限定されない。有用な一価又は二価金属のハロゲン化物の例としては、LiF、NaF、KF、CsF、MgF、CaF、LiCl、NaCl、KCl、及びCsClが挙げられるが、これらに限定されない。ハロゲン化処理としては、従来技術において公知の任意のもの、特にハロゲン化源としてHF、F、HCl、Cl、HBr、Br、HI、及びIを用いるものを挙げることができる。
[0038]中性、即ち0価の金属、金属合金、及びこれらの混合物を用いる場合には、有用な金属としては、Pd、Pt、Rh、Fe、Co、Ni、Cu、Mo、Cr、Mn、及び合金又は混合物としての上記の組合せが挙げられるが、これらに限定されない。触媒は担持又は非担持であってよい。金属合金の有用な例としては、SS316、モネル400、インコネル825、インコネル600、及びインコネル625などが挙げられるが、これらに限定されない。
[0039]好ましいが非限定的な触媒としては、活性炭、ステンレススチール(例えばSS316)、オーステナイトニッケルベースの合金(例えばインコネル625)、ニッケル、フッ素化10%CsCl/MgO、及び10%CsCl/MgFなどが挙げられる。反応温度は約300〜約550℃の範囲であり、反応圧力は約0〜約150psigの範囲であってよい。反応器流出流は苛性スクラバー又は蒸留カラムに供給し、HClの副生成物を除去して酸を含まない有機生成物を生成させることができ、これは場合によっては当該技術において公知の精製技術の1つ又は任意の組み合わせを用いて更なる精製にかけることができる。
[0040]以下は本発明の例であり、限定として解釈すべきではない。
[0041]実施例1:
[0042]本実施例は、1,1,2,3−テトラクロロプロペン(HCO−1230xa)の2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233xf)への連続蒸気相フッ素化反応を示す。実験のためのフッ素化触媒はフッ素化Crであった。
[0043]N、HF、及び有機物質の供給システム、供給材料気化器、過熱器、内径2インチのモネル反応器、酸スクラバー、乾燥器、及び生成物回収システムから構成される連続蒸気相フッ素化反応システムを用いて反応を研究した。反応器に1.8Lの触媒を装填した。次に、反応器を一定温度の砂浴内に設置した後、触媒上にNパージを流しながら反応器を約180℃の温度に加熱した。HF供給材料を、Nとの共供給流として(気化器及び過熱器を介して)反応器に15分間導入し、この時点でN流を停止した。HFの流速を1.9ポンド/時に調節し、次に(気化器及び過熱器を介する)反応器への1,1,2,3−テトラクロロプロペン(HCO−1230xa)の供給を開始した。HCO−1230xa供給材料は5ppmのジイソプロピルアミンを含んでいた。HF:HCO−1230xaの約17:1のモル比のために、HCO−1230xaの供給速度を1.0ポンド/時において一定に維持し、HFの供給を1.9ポンド/時において一定に維持した。反応が開始したら、触媒床の温度は約200℃に上昇した。触媒の失活が起こるにつれて、所望の生成物回収速度を維持するために反応温度を徐々に上昇させ、反応温度が350℃に達したら反応を停止した。反応圧力は、反応の全過程中において100psigで一定に維持した。反応を約400時間連続的に運転し、146ポンドのHCFO−1233xf及びHCFO−1232xfが生成した。HCO−1230xaの平均転化率及びHCFO−1233xfへの平均選択率は、それぞれ76.1%及び84.6%であった。反応温度が320℃より高い温度に上昇した後は、未確認の成分(HCFC−244bb、HCFO−1233xf、HCFO−1232xf、及びHCO−1230xa以外の化合物)への選択率が増加した。当初は、未確認の成分のGC面積%の合計は約1.5であったが、温度が320℃を超えて上昇すると約5%に上昇した。GC−MS分析は、より高い温度において観察された未確認のピークの1つはHCO−1140によるものであったことを示した。
[0044]実施例2:
[0045]全ての事項は、実施例2においては温度を300℃より高く上昇させず、圧力は70psigであった他は実施例1と同じであった。反応を200℃において開始した。触媒が失活するにつれて、温度を5℃の増分で300℃まで上昇させた。表1は、温度の関数としての転化率、HCFO−1233xfへの選択率、並びにHCFC−244bb、HCFO−1233xf、及びHCFO−1232xf以外の化合物への選択率を示す。一般に、触媒が失活するにつれて、HCFO−1233xfへの選択率はそれにしたがって低下する。表1に示すように、温度を250℃より高く上昇させることは、1233xfへの選択率を高く維持することを助ける。他の化合物への選択率は<275℃の反応温度においては低いが、>275℃の反応温度においては顕著に増加する。失活速度は、>250℃の温度に関しては、<250℃の温度に関するものよりも相当に高い。反応を約1378時間連続して運転し、693ポンドのHCFO−1233xf及びHCFO−1232xfが生成した。HCO−1230xaの平均転化率及びHCFO−1233xfへの平均選択率は、それぞれ90.3%及び87.1%であった。
Figure 2014534177
[0046]実施例3:
[0047]本実施例は、1,1,2,3−テトラクロロプロペン(HCO−1230xa)の2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233xf)への連続蒸気相フッ素化反応における温度の影響を示す。本実施例に含まれる実験は、実施例1及び2に記載のものと同じ反応器システム内において、250℃より高い温度で行った。フッ素化Cr触媒の他のバッチを用いた。
[0048]実施例1及び2とは異なり、反応温度は予め設定した点に固定し、反応は触媒がその活性を失うまで運転した。次に、触媒を再生し、新しい温度において反応を再び開始した。3つの異なる温度、即ち275、300、及び350℃を研究した。反応器圧力は100psigであり、HF及びHCO−1230xaの流速はそれぞれ1.7及び0.5ポンド/時であった。HCO−1230xa供給材料はジイソプロピルアミンを含んでいなかった。図1は、3つの異なる温度における時間の関数としてのPCC(生成物回収シリンダー)における重量増加を示す。重量増加と時間との曲線の傾きは当初は同じであり、これはHCO−1230xaの転化率が当初はほぼ完全であったことを示唆する。傾斜は、その後、触媒が失活するにつれて徐々に減少し、最終的には触媒がその活性を完全に失ったので平坦になった。触媒活性の完全な損失に達するまでの時間は、より高い反応温度においてはより短かった。例えば、これは350℃においては約50時間かかったのに対して、275℃においては約280時間かかった。これらの結果は、触媒寿命は最も高い反応温度において最も短いことを示す。
[0049]上記の好ましい態様及び例は、本発明の範囲及び精神を示すために与えた。これらの態様及び例によって、他の態様及び例が当業者に明らかになるであろう。他の態様及び例は、本発明の意図の範囲内である。したがって、本発明は補正された特許請求の範囲によってのみ限定すべきである。

Claims (36)

  1. 式I:
    CX=CCl−CHX (I)
    (式中、Xは、独立して、F、Cl、Br、及びIから選択され、但し少なくとも1つのXはフッ素ではない)
    の少なくとも1種類の化合物を含む出発組成物を与え;
    かかる出発組成物をフッ素化剤と接触させて、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含む最終組成物を生成させ;そして
    接触工程の温度を、約300℃を超えないように制御する;
    ことを含み;
    反応の圧力が約50psig〜約125psigの範囲である、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンの製造方法。
  2. 反応の温度が275℃を超えない、請求項1に記載の方法。
  3. 反応の温度が250℃を超えない、請求項1に記載の方法。
  4. 反応の温度が約180℃〜約300℃の範囲である、請求項1に記載の方法。
  5. 反応の温度を約180℃〜約200℃の範囲の温度で開始する、請求項1に記載の方法。
  6. 温度を少しずつ徐々に上昇させて目標の生成物回収速度を維持するが、300℃を超えて上昇させない、請求項5に記載の方法。
  7. 少しずつの上昇分が約0.5℃〜約20℃の範囲である、請求項6に記載の方法。
  8. 少しずつの上昇分が約1℃〜約10℃の範囲である、請求項6に記載の方法。
  9. 少しずつの上昇分が約3℃〜約8℃の範囲である、請求項6に記載の方法。
  10. 少しずつの上昇分が約5℃である、請求項6に記載の方法。
  11. 生成物回収速度が、反応に供給する有機供給材料1ポンドあたり約0.1ポンド/時〜約1.0ポンド/時の範囲である、請求項6に記載の方法。
  12. 生成物回収速度が、反応に供給する有機供給材料1ポンドあたり約0.3ポンド/時〜約0.8ポンド/時の範囲である、請求項6に記載の方法。
  13. 生成物回収速度が、反応に供給する有機供給材料1ポンドあたり約0.5ポンド/時である、請求項6に記載の方法。
  14. 式Iの少なくとも1種類の化合物が、少なくとも1つのXが塩素である化合物である、請求項1に記載の方法。
  15. 式Iの少なくとも1種類の化合物が、全てのXが塩素である化合物である、請求項1に記載の方法。
  16. 式Iの少なくとも1種類の化合物が1,1,2,3−テトラクロロプロペンである、請求項1に記載の方法。
  17. 出発組成物とフッ素化剤との接触を蒸気相中で行う、請求項1に記載の方法。
  18. 接触を触媒の存在下で行う、請求項1に記載の方法。
  19. 触媒が蒸気相触媒である、請求項18に記載の方法。
  20. 蒸気相触媒が、酸化クロム、水酸化クロム、ハロゲン化クロム、オキシハロゲン化クロム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、ハロゲン化アルミニウム、オキシハロゲン化アルミニウム、酸化コバルト、水酸化コバルト、ハロゲン化コバルト、オキシハロゲン化コバルト、酸化マンガン、水酸化マンガン、ハロゲン化マンガン、オキシハロゲン化マンガン、酸化ニッケル、水素化ニッケル、ハロゲン化ニッケル、オキシハロゲン化ニッケル、酸化鉄、水酸化鉄、ハロゲン化鉄、オキシハロゲン化鉄、その無機塩、そのフッ素化誘導体、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項19に記載の方法。
  21. 触媒が酸化クロムを含む、請求項18に記載の方法。
  22. 触媒がCrを含む、請求項21に記載の方法。
  23. (a)式I:
    CX=CCl−CHX (I)
    (式中、Xは、独立して、F、Cl、Br、及びIから選択され、但し少なくとも1つのXはフッ素ではない)
    の化合物を含む出発組成物を与え;
    (b)かかる出発組成物を第1のフッ素化剤と接触させて、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含む第1の中間体組成物を生成させ、そして接触工程中の温度を、約300℃を超えないように制御し;
    (c)第1の中間体組成物を第2のフッ素化剤と接触させて、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを含む第2の中間体組成物を生成させ;そして
    (d)2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンの少なくとも一部を脱塩化水素化して、2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エンを含む反応生成物を生成させる;
    ことを含む2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エンの製造方法。
  24. 反応の圧力が約50psig〜約125psigの範囲である、請求項23に記載の方法。
  25. 接触工程(b)中の温度が275℃を超えない、請求項23に記載の方法。
  26. 接触工程(b)中の温度が250℃を超えない、請求項23に記載の方法。
  27. 接触工程(b)中の温度が約180℃〜約300℃の範囲である、請求項23に記載の方法。
  28. 接触工程(b)中の温度を、約180℃〜約200℃の範囲の温度で開始する、請求項23に記載の方法。
  29. 温度を少しずつ徐々に上昇させて目標の生成物回収速度を維持するが、300℃を超えて上昇させない、請求項28に記載の方法。
  30. 少しずつの上昇分が約0.5℃〜約20℃の範囲である、請求項29に記載の方法。
  31. 少しずつの上昇分が約1℃〜約10℃の範囲である、請求項29に記載の方法。
  32. 少しずつの上昇分が約3℃〜約8℃の範囲である、請求項29に記載の方法。
  33. 少しずつの上昇分が約5℃である、請求項29に記載の方法。
  34. 生成物回収速度が、反応に供給する有機供給材料1ポンドあたり約0.1ポンド/時〜約1.0ポンド/時の範囲である、請求項29に記載の方法。
  35. 生成物回収速度が、反応に供給する有機供給材料1ポンドあたり約0.3ポンド/時〜約0.8ポンド/時の範囲である、請求項29に記載の方法。
  36. 生成物回収速度が、反応に供給する有機供給材料1ポンドあたり約0.5ポンド/時である、請求項29に記載の方法。
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