JP2014523892A - チエタンアミンの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
a.式II
求核試薬が、N3 -、2個の水素原子が窒素原子に結合したスルホンアミド、水素原子が窒素原子に結合したジイミドまたはそのアニオン、NH2OHおよびNH3からなる群から選択される工程と;
b.工程a.で使用される求核試薬がN3 -もしくはNH2OHであるときには、工程a.で生成した化合物を好適な還元剤と反応させて式Iの化合物を与える工程;または
工程a.で使用される求核試薬がスルホンアミドであるときには、工程a.で生成した化合物を、スルホンアミド基のS−N結合を開裂させるために好適な試薬と反応させて式Iの化合物を与える工程;または
工程a.で使用される求核試薬がジイミドであるときには、工程a.で生成した化合物を、アミド基のC−N結合を開裂させるために好適な試薬と反応させて式Iの化合物を与える工程と
を含む方法を提供する。
a−1.式IIの化合物をN3 -と水の存在下で反応させて式III−1
b−1.式III−1の化合物を好適な還元剤と反応させて式Iの化合物を与える工程と
を含む、式Iの化合物の製造方法を提供する。
a−2.式IIの化合物を式N−2
の化合物と水の存在下で反応させて式III−2
の化合物を与える工程と、
b−2.式III−2の化合物を、スルホンアミド基のS−N結合を開裂させるために好適な試薬と反応させて式Iの化合物を与える工程と
を含む、式Iの化合物の製造方法を提供する。
a−3i.式IIの化合物を式N−3a
R3およびR4は独立して、H、C1〜C8アルキルまたはC1〜C8ハロアルキル、C1〜C8アルコキシ、フェニルまたはハロゲン、CN、NO2、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキルおよびC1〜C4アルコキシから独立して選択される1〜5つの基で置換されたフェニルである)
の化合物と水の存在下で反応させて式III−3a
の化合物を与える工程;または
a−3ii.式IIの化合物を式N−3b
各R9、R10およびR11は独立して、水素、C1〜C8アルキルまたはC1〜C8ハロアルキルである)
の化合物と水の存在下で反応させて式III−3b
の化合物を与える工程;または
a−3iii.式IIの化合物を式N−3c
の化合物と水の存在下で反応させて式III−3c
の化合物を与える工程と;
b−3.式III−3a、III−3bまたはIII−3cの化合物を、それぞれ式III−3a、III−bまたはIII−3cの化合物のアミド基のC−N結合を開裂させるために好適な試薬と反応させて式Iの化合物を与える工程と
を含む、式Iの化合物の製造方法を提供する。
a−4.式IIの化合物をNH2OHと水の存在下で反応させて式III−4
b−4.式III−4の化合物を好適な還元剤と反応させる工程と
を含む、式Iの化合物の製造方法を提供する。
a−5.式IIの化合物をNH3と水の存在下で反応させて式Iの化合物を与える工程を含む、式Iの化合物の製造方法を提供する。
a.式II
求核試薬が、N3 -、2個の水素原子が窒素原子に結合したスルホンアミド、水素原子が窒素原子に結合したジイミドまたはそのアニオン、NH2OHおよびNH3からなる群から選択される工程
を含むチエタン部分の3位の炭素原子が窒素原子と結合しているチエタン部分の製造方法を提供する。
R1、R3、R8、n、A6、A7、R8、nおよびR12は、上に定義された通りである。
式III−1およびIII−4の化合物が好ましく、III−1がより好ましい。
水は、好ましくは溶媒として、より好ましくは有機溶媒、たとえば、反応がそのとき二相系で行われるように、好ましくは水と混ざらない有機溶媒との共溶媒として使用される。二相系を用いることの利点は、不純物をアジド生成物から容易に分離できることである。有機共溶媒は、非プロトン性であることが好ましく、より好ましくはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、またはメチル−第三ブチルエーテルから選ばれる。
式III−1の化合物の還元
式Iの化合物への式(III−1)の化合物の還元は、次の文献に記載されているように多種多様な方法を用いて行うことができる:Chemical Reviews 1988,88,297−368およびその中の参考文献;Synthesis 2001,81−84;Synthesis 2000,646−650;Tetrahedron Letters,2011,52,2730−2732およびその中の参考文献;Organic Preparations and Procedures International 2002,34,109,111−147およびその中の参考文献;Science of Synthesis 2009,40a,119−156およびその中の参考文献;Angewandte Chemie,International Edition 2005,44,5188−5240およびその中の参考文献。
式Iの化合物への式(III−2)の化合物の転化は、式(III−2)(式中、R1は、C1〜C8アルキル、C1〜C8ハロアルキル、フェニルまたはハロゲン、CN、NO2、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキルおよびC1〜C4アルコキシから独立して選択される1〜5つの基で置換されたフェニルである)の化合物、好ましくはトリフルオロメチルスルホンアミドからのスルホニル基の開裂によって行うことができる。
式Iの化合物への式(III−3)の化合物の転化は、R3が、C1〜C8アルキル、C1〜C8ハロアルキル、フェニルまたはハロゲン、CN、NO2、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキルおよびC1〜C4アルコキシ、好ましくはメチル、O−第三ブチルまたはO−メチルから独立して選択される1〜5つの基で置換されたフェニルである、式(III−3)の化合物からのたとえばアシルまたはカルバメート基の開裂によって行うことができる。
式Iの化合物への式(III−4)の化合物の還元は、式(III−4)の化合物からのN−O結合の開裂によって行うことできる。
i.式V
の化合物をアンモニアと反応させて式Iの化合物を与える工程
を含む方法を提供する。
ステップi−i.は、式II
の化合物と水の存在下で反応させて式Vの化合物を与えることを含む。
の化合物およびチオ尿素と水の存在下でまたはSCNと水の存在下で反応させて式Vの化合物を与えることを含む。
の化合物と式IXの化合物、式Xの化合物
R5はハロゲンであり、各R6およびR7は独立して、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、フェニルまたはハロゲン、CN、NO2、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキルおよびC1〜C4アルコキシから独立して選択される1〜5つの基で置換されたフェニルである)
またはSOCl2の存在下に反応させて式Vの化合物を与えることを含む。
ここで、式Vの化合物は、式V−1
(式V−Iの化合物は、University Microfilms,Ann Arbor,Michiganから入手可能な、Christy、The Synthesis and Reactions of Derivatives of Thietanes and Thietene,1961,PhD thesis,University of Pennsylvaniaに開示されている。)
式(I)の化合物は、たとえば式(V)の塩をアンモニアと反応させることによって得ることができる。この反応は通常、マイクロ波照射ありまたはなしで、大気圧よりも高い圧力、好ましくは5〜50バールの圧力下で行われる。温度は50℃〜250℃であってもよい。この反応のための好ましい溶媒は、水、メタノール、エタノールまたはイソプロパノールなどのアルコール、好ましくはメタノールまたはエタノールである。アンモニアは通常、過剰に、好ましくは10〜100当量で使用される。式Vの化合物は通常、1M〜20Mの濃度で存在する。反応時間は、たとえば1〜72時間、一般に2時間〜36時間であり得る。
1)式II
2)式XIの化合物を加水分解して、または式XIの化合物をアセトアルデヒドヒドロキシムとInCl3などの金属触媒の存在下で反応させて式XII
3)式XIIの化合物を、式XIII
4)工程3)の生成物を加水分解して式Iの化合物を与える工程と
を含む方法を提供する。
1)式II
5)式XIの化合物を加水分解して式XVII
6)式XVIの化合物をヒドロキシルアミンと反応させて式XVIII
7)式XVIIIの化合物を、式XIX
8)式XIVの化合物を加水分解して式Iの化合物を与える工程
を含む方法を提供する。
1)式II
5)式XIの化合物を加水分解して式XVII
9)式XVIの化合物をアジ化水素酸と反応させることによって、または式XVIの化合物をジフェニルホスホリルアジドと反応させ、引き続くアルコールとの反応によって相当するエステルを得て、引き続き脱保護して式Iの化合物を提供することによって式XVIの化合物を式Iの化合物に転化する工程
を含む方法を提供する。
R1は、好ましくはC1〜C8ハロアルキル、より好ましくはCF3である。
R3およびR4は好ましくは独立して、水素またはC1〜C8アルキル、より好ましくは水素またはメチルである。より好ましくはR3およびR4は両方とも水素または両方ともメチルである。
R5は好ましくはClまたはBr、より好ましくはClである。
R6およびR7は独立して、好ましくはメチル、フェニルまたはCN、NO2、メチル、ハロメチルおよびメトキシから独立して選択されるl〜5つの基で置換されたフェニルであり、より好ましくはR6およびR7は独立して、メチルまたはp−メチルフェニルである。
各R8は好ましくは独立して、ハロゲン、メチルまたはハロメチルである。
R9およびR10は好ましくは独立して、水素またはC1〜C8アルキル、より好ましくは水素またはメチル、より好ましくはメチルである。より好ましくはR9およびR10は両方ともメチルである。
R11は好ましくは水素またはC1〜C8アルキル、より好ましくは水素である。
R12は好ましくは水素である。
A6は好ましくはC(R9)R10である。A7は好ましくはNR11である。
nは好ましくは0でる。
1H−NMR(CDCl3,400MHz):3.21(dt,2H),3.50(dt,2H),4.61(五重線,1H).GCMS(方法C):rt=4.75分 m/z:[M−N3]+=73;[M−N2+1]=88;[M+1]+=116
1H NMR(400MHz,CD3OD)δ 4.89(s,2H),4.12(m,1H),3.59(t,2H),3.14(t,2H)
Claims (27)
- 式I
a.式II
前記求核試薬が、N3 -、2個の水素原子が前記窒素原子に結合したスルホンアミド、水素原子が前記窒素原子に結合したジイミドまたはそのアニオン、NH2OHおよびNH3からなる群から選択される工程と;
b.工程a.で使用される前記求核試薬がN3 -もしくはNH2OHであるときには、工程a.で生成した化合物を好適な還元剤と反応させて式Iの化合物を与える工程;または
工程a.で使用される前記求核試薬がスルホンアミドであるときには、工程a.で生成した化合物を、スルホンアミド基のS−N結合を開裂させるために好適な試薬と反応させて式Iの化合物を与える工程;または
工程a.で使用される前記求核試薬がジイミドであるときには、工程a.で生成した化合物を、アミド基のC−N結合を開裂させるために好適な試薬と反応させて式Iの化合物を与える工程と
を含む方法。 - 前記還元剤が、プロトン源の存在下での金属もしくは金属塩、不均一触媒の存在下での水素化試薬または水素である、請求項2に記載の方法。
- 前記還元剤が、Raneyニッケルの存在下でのH2、Pt/Cの存在下でのH2、Pd/Cの存在下でのH2、NiCl2の存在下でのナトリウムボロハイドレート、CoCl2の存在下でのナトリウムボロハイドレート、水および/またはアルコールの存在下でのマグネシウム、または水および/またはアルコールの存在下でのFe/AlCl3と組み合わせた鉄である、請求項2に記載の方法。
- a−3i.式IIの前記化合物を式N−3a
R3およびR4は独立して、H、C1〜C8アルキルまたはC1〜C8ハロアルキル、C1〜C8アルコキシ、フェニルまたはハロゲン、CN、NO2、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキルおよびC1〜C4アルコキシから独立して選択される1〜5つの基で置換されたフェニルである)
の化合物と水の存在下で反応させて式III−3a
の化合物を与える工程;
または
a−3ii.式IIの前記化合物を式N−3b
各R9、R10およびR11は独立して、水素、C1〜C8アルキルまたはC1〜C8ハロアルキルである)
の化合物と水の存在下で反応させて式III−3b
の化合物を与える工程;
または
a−3iii.式IIの前記化合物を式N−3c
の化合物と水の存在下で反応させて式III−3c
の化合物を与える工程と;
b−3.式III−3a、III−3bまたはIII−3cの前記化合物を、それぞれ式III−3a、III−3bまたはIII−3cの前記化合物のアミド基のC−N結合を開裂させるために好適な試薬と反応させて式Iの化合物を与える工程と
を含む、請求項1に記載の式Iの化合物の製造方法。 - a−5.式IIの前記化合物をNH3と水の存在下で反応させて式Iの化合物を与える工程
を含む、請求項1に記載の式Iの化合物の製造方法。 - 請求項2〜7のいずれか一項に定義されるような工程a−1、a−2、a−3i、a−3ii、a−3iii、またはa−4を行うことを含む、請求項2〜7のいずれか一項に定義されるような式III−1、III−2、III−3a、III−3b、III−3c、またはIII−4の化合物の製造方法。
- 請求項2に定義されるような工程a−1を行うことを含む、請求項9に記載の式III−1の化合物の製造方法。
- 請求項2〜7のいずれか一項に定義されるような工程b−1、b−2、b−3i、b−3ii、b−3iiiまたはb−4を行うことを含む、式Iの化合物の製造方法。
- 請求項2〜4のいずれか一項に定義されるような工程b−1を行うことを含む、請求項11に記載の式Iの化合物の製造方法。
- 式III−1、III−2、III−3a、III−3b、III−3cまたはIII−4
R3およびR4は独立して、H、C1〜C8アルキルまたはC1〜C8ハロアルキル、C1〜C8アルコキシ、フェニルまたはハロゲン、CN、NO2、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキルおよびC1〜C4アルコキシから独立して選択される1〜5つの基で置換されたフェニルであり;
各R8は独立して、ハロゲン、CN、NO2、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキルまたはC1〜C4アルコキシであり;
nは0〜4であり;
A6およびA7は独立して、C(R9)R10またはNR11であり、ただし、A6およびA7は両方ともNR11であることはなく、またはA6およびA7は一緒になって−C(R9)=C(R9)−であり;
各R9、R10およびR11は独立して、水素、C1〜C8アルキルまたはC1〜C8ハロアルキルであり;
R12は、水素または−C(=O)-R4である]
の化合物。 - 請求項13に記載の式III−1またはIII−4の化合物。
- 請求項13に記載の式III−1の化合物。
- R6がメチルまたはp−メチルフェニルであり、各R7がp−メチルフェニルである、請求項19に記載の方法。
- 式I
1)式II
2)式XIの前記化合物を加水分解して、または式XIの前記化合物をアセトアルデヒドヒドロキシムとInCl3などの金属触媒の存在下で反応させて式XII
3)式XIIの前記化合物を、式XIII
4)工程3の生成物を加水分解して式Iの化合物を与える工程
を含む方法。
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