JP2014522992A - ナノマニピュレータにより保持されたサンプルの処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】サンプルは基体から収集され、サンプルはナノマニピュレータの先端に取り付けられる。後続の処理を最適化するため、サンプルは、任意に方向付けられる。
ナノマニピュレータの先端は、安定化支持体と接触させられ、サンプルのドリフト又は振動を最小化される。
次に、取り付けられたサンプルは、安定化され、調整と解析が行われる。
【選択図】図1
Description
1) 誘導ビームCVD堆積、接着剤、静電気又は他の取付手段により、ナノマニピュレータの微細(ファイン)プローブ先端等のエンドエフェクタを、解析するサンプルに取り付ける。
2) エンドエフェクタにより取付け、支持される間、サンプルを元の位置から持ち上げる。
3) 持ち上げたサンプルを、TEMグリッド等の新しい基体又はホルダーに取り付けて、イオンビームによるサンプル成形等の処理を完了させる、又は(前述した、STEM、EDS、EBSD、又はTEM解析等の)色々の解析手段により、原位置又は当初の荷電粒子顕微鏡のチャンバの外の位置で、検査する。
安定化支持体130は、受動的な直線エッジ150、又は他の実施形態140では、図2に示されるVノッチ160のある受動的な直線エッジでもよい。又は、荷電粒子ビームに対するサンプルの振動とドリフトを受動的に最小限にするような複雑な形状でもよい。このような形状には、ナノマニピュレータの先端110を機械的に捕獲する形状が含まれる。また、安定化支持体130は、荷電粒子ビームの画像から、又はセンサ、又はナノマニピュレータに取り付けられたセンサから、サンプルステージ100又は荷電粒子ビーム顕微鏡へのフィードバック制御を使用して、能動的なドリフト又は振動最小化を提供することが出来る。
110 ナノマニピュレータの先端
120 サンプル
130 安定化支持体
150 直線エッジ
160 Vノッチ
Claims (15)
- ナノマニピュレータの先端により保持されたサンプルを処理する方法であって、
後続の処理を行う前に、前記ナノマニピュレータの先端を安定化支持体と接触させることを備えることを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
後続の処理を最適化するために、前記サンプルを方向付けることを備える方法。 - 請求項1に記載の方法であって、解析のため、安定化されたサンプルを準備することを備える方法。
- 請求項1に記載の方法であって、前記安定化されたサンプルを解析することを備える方法。
- 請求項1に記載の方法であって、前記ナノマニピュレータの先端を前記安定化支持体と接触させることは、更に前記ナノマニピュレータの先端を移動させて、前記安定化支持体と接触させることを備える方法。
- 請求項1に記載の方法であって、前記ナノマニピュレータの先端を前記安定化支持体と接触させることは、更に前記安定化支持体を移動させて、前記ナノマニピュレータの先端と接触させることを備える方法。
- 請求項3に記載の方法であって、前記サンプルを準備することは、イオンビームミリングを行い、サンプルを形作ることを備える方法。
- 請求項4に記載の方法であって、前記サンプルを解析することは、前記サンプルを走査透過型電子顕微鏡法で解析することを備える方法。
- 請求項4に記載の方法であって、前記サンプルを解析することは、前記サンプルのエネルギー拡散X線解析を備える方法。
- 荷電粒子ビーム顕微鏡内のサンプルを処理する方法であって、
基体からサンプルを収集し、
前記サンプルをナノマニピュレータの先端に取り付け、
後続の処理を最適化するため、前記サンプルを方向付け、
前記ナノマニピュレータの先端を安定化支持体と接触させ、
前記サンプルを解析のため準備し、
前記サンプルを解析する、
ステップを備えることを備えることを特徴とする方法。 - 請求項10に記載の方法であって、前記サンプルを準備することは、イオンビームミリングを行い、サンプルを形作ることを備える方法。
- 請求項10に記載の方法であって、前記サンプルを解析することは、前記サンプルの走査透過型電子顕微鏡で行うことを備える方法。
- 請求項10に記載の方法であって、前記サンプルを解析することは、前記サンプルのエネルギー拡散X線解析を備える方法。
- 製品であって、
ナノマニピュレータの先端と、
前記ナノマニピュレータの先端に取り付けられたサンプルと、
安定化支持体と、を備え、
前記ナノマニピュレータの先端は、安定化支持体と物理的に接触することを特徴とする製品。 - 請求項14に記載の製品であって、前記安定化支持体は、Vノッチを備える製品。
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