JP2014512704A5 - モデルに基づく、研磨のためのスペクトルライブラリの生成 - Google Patents

Claims (21)

1. 基準スペクトルのライブラリを生成する方法であって、
   複数の層を有する層スタックに対する光学モデルを記憶することと、
   前記複数の層からの第１の層の１つまたは複数の屈折率関数のセットおよび１つまたは複数の消衰係数関数のセットを識別するユーザ入力を受け取ることと、１つまたは複数の屈折率関数の前記セットが複数の異なる屈折率関数を含み、あるいは１つまたは複数の消衰係数関数の前記セットが複数の異なる消衰係数関数を含み、
   屈折率関数の前記セットからの１つの屈折率関数と消衰係数関数の前記セットからの１つの消衰係数関数とのそれぞれの組合せに対して、前記屈折率関数、前記消衰係数関数、および前記第１の層の第１の厚さに基づいて、前記光学モデルを使用して基準スペクトルを計算して、複数の基準スペクトルを生成することと
   を含む、方法。
2. 基準スペクトルのライブラリを生成するためのコンピュータプログラムであって、前記コンピュータプログラムがコンピュータ可読媒体内で実施され、且つプロセッサに：
   複数の層を有する層スタックに対する光学モデルを記憶させ、
   前記複数の層からの第１の層の１つまたは複数の屈折率関数のセットおよび１つまたは複数の消衰係数関数のセットを識別するユーザ入力を受け取らせ、ここで１つまたは複数の屈折率関数の前記セットが複数の異なる屈折率関数を含み、あるいは１つまたは複数の消衰係数関数の前記セットが複数の異なる消衰係数関数を含み、
   屈折率関数の前記セットからの１つの屈折率関数と消衰係数関数の前記セットからの１つの消衰係数関数とのそれぞれの組合せに対して、前記屈折率関数、前記消衰係数関数、および前記第１の層の第１の厚さに基づいて、前記光学モデルを使用して基準スペクトルを計算させ、複数の基準スペクトルを生成させる
   指示を含む、コンピュータプログラム。
3. １つまたは複数の屈折率関数の前記セットが、複数の異なる屈折率関数を含む、請求項２に記載のコンピュータプログラム。
4. 前記複数の異なる屈折率関数を識別するユーザ入力を受け取らせる指示が、前記屈折率関数の第１の係数に対する第１の複数の異なる第１の値を識別するユーザ入力を受け取らせる指示を含む、請求項３に記載のコンピュータプログラム。
5. 前記複数の異なる屈折率関数を識別するユーザ入力を受け取らせる指示が、前記屈折率関数の第２の係数に対する第２の複数の異なる第２の値を識別するユーザ入力を受け取らせる指示を含む、請求項４に記載のコンピュータプログラム。
6. 前記第１の複数の値からの第１の値と前記第２の複数の値からの第２の値とのそれぞれの組合せに対して、指数の関数を計算させ、複数の異なる指数の関数を生成させる指示をさらに含み、前記指数の関数を計算させる指示が、次式
   

   

   
   を計算させる指示を含み、上式で、ｎ（λ）が前記指数の関数であり、Ａが前記第１の値であり、Ｂが前記第２の値であり、Ｃが第３の値である、
   請求項５に記載のコンピュータプログラム。
7. １つまたは複数の消衰係数関数の前記セットが、複数の異なる消衰係数関数を含む、請求項２に記載のコンピュータプログラム。
8. 屈折率関数の前記セットからの１つの屈折率関数と、消衰係数関数の前記セットからの１つの消衰係数関数と、前記複数の異なる厚さ値からの１つの厚さ値とのそれぞれの組合せに対して、前記光学モデルを使用して基準スペクトルを計算する指示をさらに含む、請求項２に記載のコンピュータプログラム。
9. 基準スペクトルのライブラリを生成する方法であって、
   複数の層を有する層スタックに対する光学モデルを記憶することと、
   屈折率関数の第１の係数に対する第１の複数の異なる第１の値を識別するユーザ入力を受け取ることと、
   前記複数の異なる値からのそれぞれの第１の値に対する屈折率関数を計算して、複数の屈折率関数を生成することと、
   前記複数の屈折率関数からの各屈折率関数に対して、前記屈折率関数、消衰係数関数、および前記第１の層の第１の厚さに基づいて、前記光学モデルを使用して基準スペクトルを計算して、複数の基準スペクトルを生成することと
   を含む、方法。
10. 基準スペクトルのライブラリを生成するためのコンピュータプログラムであって、前記コンピュータプログラムがコンピュータ可読媒体内で実施され、且つプロセッサに：
    複数の層を有する層スタックに対する光学モデルを記憶させ、
    屈折率関数の第１の係数に対する第１の複数の異なる第１の値を識別するユーザ入力を受け取らせ、
    前記複数の異なる値からのそれぞれの第１の値に対する屈折率関数を計算して、複数の屈折率関数を生成させ、
    前記複数の屈折率関数からの各屈折率関数に対して、前記屈折率関数、消衰係数関数、および前記第１の層の第１の厚さに基づいて、前記光学モデルを使用して基準スペクトルを計算させ、複数の基準スペクトルを生成させる
    指示を含む、コンピュータプログラム。
11. 基準スペクトルのライブラリを生成する方法であって、
    基板上の、第１の誘電体層を含む第１のスタックの層の反射率を表す第１のスペクトルを受け取ることと、
    前記基板上の、前記第１の誘電体層、および前記第１のスタック内にない第２の誘電体層を含む第２のスタックの層の反射率を表す第２のスペクトルを受け取ることと、
    前記基板上の前記第１のスタックまたは前記第２のスタックの少なくとも１つに対する複数の異なる寄与百分率を識別するユーザ入力を受け取ることと、
    前記複数の異なる寄与百分率からの各寄与百分率に対して、前記第１のスペクトル、前記第２のスペクトル、および前記寄与百分率から基準スペクトルを計算することと
    を含む、方法。
12. 基準スペクトルのライブラリを生成するためのコンピュータプログラムであって、前記コンピュータプログラムがコンピュータ可読媒体内で実施され、且つプロセッサに：
    基板上の、第１の誘電体層を含む第１のスタックの層の反射率を表す第１のスペクトルを受け取らせ、
    前記基板上の、前記第１の誘電体層、および前記第１のスタック内にない第２の誘電体層を含む第２のスタックの層の反射率を表す第２のスペクトルを受け取らせ、
    前記基板上の前記第１のスタックまたは前記第２のスタックの少なくとも１つに対する複数の異なる寄与百分率を識別するユーザ入力を受け取らせ、
    前記複数の異なる寄与百分率からの各寄与百分率に対して、前記第１のスペクトル、前記第２のスペクトル、および前記寄与百分率から基準スペクトルを計算させる
    指示を含む、コンピュータプログラム。
13. 前記基準スペクトルＲ_{ＬＩＢＲＡＲＹ}を計算させる指示が、次式
    

    

    
    を計算させる指示を含み、上式で、Ｒ_{ＳＴＡＣＫ１}が前記第１のスペクトルであり、Ｒ_{ＳＴＡＣＫ２}が前記第２のスペクトルであり、Ｒ_{ＲＥＦＥＲＥＮＣＥ}が前記第１のスタックおよび前記第２のスタックの底層のスペクトルであり、Ｘが前記第１のスタックに対する前記百分率寄与である、
    請求項１２に記載のコンピュータプログラム。
14. 前記底層のスペクトルがケイ素または金属のスペクトルである、請求項１３に記載のコンピュータプログラム。
15. 前記基板上の金属層の反射率を表す第３のスペクトルを受け取らせ、
    前記金属層に対する複数の異なる金属寄与百分率を識別するユーザ入力を受け取らせ、
    前記複数の異なる寄与からの各寄与百分率に対して、および前記複数の異なる金属寄与百分率からの各金属寄与百分率に対して、前記第１のスペクトル、前記第２のスペクトル、前記第３のスペクトル、前記寄与百分率、および前記金属寄与百分率から基準スペクトルを計算させる
    指示をさらに含む、請求項１２に記載のコンピュータプログラム。
16. 前記基準スペクトルＲ_{ＬＩＢＲＡＲＹ}を計算させる指示が、次式
    

    

    
    を計算させる指示を含み、上式で、Ｒ_{ＳＴＡＣＫ１}が前記第１のスペクトルであり、Ｒ_{ＳＴＡＣＫ２}が前記第２のスペクトルであり、Ｒ_{ＭＥＴＡＬ}が前記第３のスペクトルであり、Ｒ_{ＲＥＦＥＲＥＮＣＥ}が前記スタックの底層のスペクトルであり、Ｘが前記第１のスタックに対する前記百分率寄与であり、Ｙが前記金属に対する前記百分率寄与である、
    請求項１５に記載のコンピュータプログラム。
17. 前記底層のスペクトルが、前記金属層の前記金属のスペクトルである、請求項１６に記載のコンピュータプログラム。
18. 基準スペクトルのライブラリを生成する方法であって、
    基板上の、第１の層を含む第１の層スタックの反射率を表す第１のスペクトルを受け取ることと、
    前記基板上の、前記第１のスタック内にない第２の層を含む第２の層スタックの反射率を表す第２のスペクトルを受け取ることと、
    前記基板上の、前記第１のスタックおよび前記第２のスタック内にない第３の層を含む第３の層スタックの反射率を表す第３のスペクトルを受け取ることと、
    前記第１のスタックに対する第１の複数の異なる寄与百分率および前記第２のスタックに対する第２の複数の異なる寄与百分率を識別するユーザ入力を受け取ることと、
    前記第１の複数の異なる寄与百分率からのそれぞれの第１の寄与百分率および前記第２の複数の異なる寄与百分率からのそれぞれの第２の寄与百分率に対して、前記第１のスペクトル、前記第２のスペクトル、前記第３のスペクトル、前記第１の寄与百分率、および前記第２の寄与百分率から基準スペクトルを計算することと
    を含む、方法。
19. 基準スペクトルのライブラリを生成するためのコンピュータプログラムであって、前記コンピュータプログラムがコンピュータ可読媒体内で実施され、且つプロセッサに：
    基板上の、第１の層を含む第１の層スタックの反射率を表す第１のスペクトルを受け取らせ、
    前記基板上の、前記第１のスタック内にない第２の層を含む第２の層スタックの反射率を表す第２のスペクトルを受け取らせ、
    前記基板上の、前記第１のスタックおよび前記第２のスタック内にない第３の層を含む第３の層スタックの反射率を表す第３のスペクトルを受け取らせ、
    前記第１のスタックに対する第１の複数の異なる寄与百分率および前記第２のスタックに対する第２の複数の異なる寄与百分率を識別するユーザ入力を受け取らせ、
    前記第１の複数の異なる寄与百分率からのそれぞれの第１の寄与百分率および前記第２の複数の異なる寄与百分率からのそれぞれの第２の寄与百分率に対して、前記第１のスペクトル、前記第２のスペクトル、前記第３のスペクトル、前記第１の寄与百分率、および前記第２の寄与百分率から基準スペクトルを計算させる
    指示を含む、コンピュータプログラム。
20. 研磨を制御する方法であって、
    請求項１、９、１１または１８に記載の方法によって基準スペクトルのライブラリを生成することと、
    基板を研磨することと、
    研磨中に前記基板から光スペクトルのシーケンスを測定することと、
    前記スペクトルのシーケンスのうちの各測定スペクトルに対して、最良に整合する基準スペクトルを発見して、最良に整合する基準スペクトルのシーケンスを生成することと、
    前記最良に整合する基準スペクトルのシーケンスに基づいて、研磨終点または研磨速度の調整の少なくとも１つを決定することと
    を含む、方法。
21. 研磨を制御するためのコンピュータプログラムであって、前記コンピュータプログラムがコンピュータ可読媒体内で実施され、且つプロセッサに：
    請求項２、１０、１２または１９に記載のコンピュータプログラムの指示によって基準スペクトルのライブラリを生成させ、
    研磨中に前記基板から光スペクトルのシーケンスの測定を受け取らせ、
    前記スペクトルのシーケンスのうちの各測定スペクトルに対して、最良に整合する基準スペクトルを発見して、最良に整合する基準スペクトルのシーケンスを生成させ、
    前記最良に整合する基準スペクトルのシーケンスに基づいて、研磨終点または研磨速度の調整の少なくとも１つを決定させる
    指示を含む、コンピュータプログラム。