JP2014500797A - 光触媒反応装置 - Google Patents

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Abstract

本発明による光触媒反応装置は、紫外線を放出する紫外線光源、前記紫外線光源の周辺を囲むように設置され、光触媒が塗布された不織布を含み、前記紫外線光源と前記不織布との間に形成され、汚染された流体が進行されて光触媒反応によって浄化作用が行われる反応流路が形成されることを特徴とする。

Description

本発明は光触媒反応装置に関するものであり、更に詳しくは、光触媒反応を誘発する光源とそれに反応する光触媒反応器を具備して殺菌、消毒及び悪臭の除去を行うように構成された光触媒反応装置に関するものである。
光触媒とは触媒の一つであって、触媒反応が光エネルギーを受けて起こることをいう。殺菌、消毒及び悪臭の除去を行うように構成された光触媒反応装置には、通常光触媒として二酸化チタン(TiO)が多く使用されており、光源としては紫外線(UV)光源多く使用されている。
光源の光エネルギーが光触媒に伝達されて光触媒反応が起こると、強い殺菌力を有する酸化物が発生して殺菌、消毒及び悪臭の除去が可能となる。よって、このような光触媒反応装置内で光触媒反応が起こる状態で汚染物質を含む 水や空気を注入すると殺菌、消毒及び悪臭除去の効果が得られる。
特許文献1(以下、「従来技術」と称する)には、このような光触媒反応装置が開示されている。従来技術による光触媒反応装置は、石英管で形成されて光触媒が充填された上昇管21、前記上昇管21の下端部に具備された多孔性分散板23、前記多孔性分散板23の最末端に具備された反応気体注入部28、前記上昇管21の上端部位と連結されたサイクロン26、前記サイクロン26の下端部に具備された下降管25、前記多孔性分散板23に連結され、前記下降管25の末端に具備されたループ−シール状の再循環設備、前記サイクロン26及び上昇管21の最上端部に具備された反応気体排出部27及び前記上昇管21の外部に具備された紫外線ランプ22を含む。
しかし、従来技術に光触媒反応装置は上昇管21の内部に光触媒が充填されるため殺菌、消毒能力に比べ光触媒装置に必要な光触媒剤の量が多くなり、光触媒剤が反応気体と一緒に循環するため殺菌消毒能力が均一ではなくなる可能性がある問題点があった。
大韓民国登録特許第0463713号
本発明は上述したような問題点を解決しようとするものであって、本発明の課題は光触媒を光触媒反応装置の内壁に固定し、少ない光触媒剤を使用しながらも均一で高い殺菌、消毒能力を有するようにした光触媒反応装置を提供するものである。
前記ような本発明の課題を解決するために、本発明による光触媒反応装置は、紫外線を放出する紫外線光源、前記紫外線光源の周辺を囲むように設置され、光触媒が塗布された不織布を含み、前記紫外線光源と前記不織布との間に形成され、汚染された流体が進行されて光触媒反応によって浄化作用が行われる反応流路が形成されることを特徴とする。
また、本発明による光触媒反応装置は、前記紫外線光源は円筒状に形成され、前記光触媒が塗布された不織布も前記紫外線光源の外側に円筒状のシート状に形成されることを特徴とする。
また、本発明による光触媒反応装置は、前記紫外線光源が設置される上部ハウジングと、前記上部ハウジングと結合され、前記不織布が設置される下部ハウジングを含むことを特徴とする。
また、本発明による光触媒反応装置は、前記上部ハウジングと前記下部ハウジングは密着手段によって密着結合されることを特徴とする。
また、本発明による光触媒反応装置は、前記下部ハウジングには汚染された反応流体が注入口を介して流入される注入部が形成され、前記反応流路は前記上部ハウジングの外壁と前記下部ハウジングの内壁との間に形成され、前記上部ハウジングには浄化された流体が排出される排出口が形成されることを特徴とする。
また、本発明による光触媒反応装置は、前記注入口と前記注入部が垂直に配置され、前記注入口を介して入ってくる汚染された反応流体の経路が注入部で垂直に曲がって前記反応流路に移動するとき乱流が形成されるようにすることを特徴とする。
また、本発明による光触媒反応装置は、前記注入口は前記注入部から下側に傾斜して配置され、前記注入口を介して入ってくる汚染された反応流体の経路が注入部で曲がって前記反応流路に移動するとき乱流が形成されるようにすることを特徴とする。
また、本発明による光触媒反応装置は、前記注入口の注入方向は前記注入部の中心から所定間隔離隔するように形成され、前記注入口を介して入ってくる汚染された反応流体の経路が前記注入部の内部で螺旋形をなすようにすることで乱流が形成されるようにすることを特徴とする。
また、本発明による光触媒反応装置は、前記注入口は前記注入部の両側面にそれぞれ一つずつ設置されることを特徴とする。
また、別の本発明による光触媒反応装置は、紫外線を放出する紫外線光源と、前記紫外線光源の周辺を囲むように設置され、光触媒が塗布された不織布と、上部に開口が形成され、前記光触媒の塗布された不織布が内壁に設置され、汚染された反応流体が注入口を介して注入される注入部を含む下部ハウジングと、前記下部ハウジングの内部に挿入され、前記紫外線光源が設置される光源保護部を含み、浄化された流体が排出流路を介して外部に排出されるように排出口が形成される上部ハウジングと、を含み、前記紫外線光源と前記不織布との間に形成され、汚染された流体が進行されて光触媒反応によって浄化作用が行われる反応流路が形成されることを特徴とする。
上記のような本発明による光触媒反応装置によると、不織布組織の間に光触媒剤が塗布されて固定されるため、狭い空間で高い光触媒反応効率が得られる効果がある。
また、注入口が反応流路内で乱流を形成するに適合するように形成されるため、光触媒反応の反応率が高くなる効果がある。
本発明の第1実施例による光触媒反応装置の正面を示す部分断面図である。 本発明の第1実施例による光触媒反応装置の側面を示す部分断面図である。 本発明の第1実施例による光触媒反応装置の下部ハウジングの正面を示す部分断面図である。 本発明の第1実施例による光触媒反応装置の下部ハウジングの側面を示す部分断面図である。 本発明の第1実施例による光触媒反応装置の下部ハウジングを示す断面図であって、図3のA−A線に沿ったものである。 本発明の第1実施例による光触媒反応装置の上部ハウジングの正面を示す部分断面図である。 本発明の第1実施例による光触媒反応装置の上部ハウジングの側面を示す部分断面図である。 本発明の第2実施例による光触媒反応装置の下部ハウジングを示す正面図である。 本発明の第2実施例による光触媒反応装置の下部ハウジングを示す側面図である。 本発明の第2実施例による光触媒反応装置の下部ハウジングを示す断面図であって、図8のB−B線に沿ったものである。 本発明の第3実施例による光触媒反応装置の下部ハウジングを示す正面図である。 本発明の第3実施例による光触媒反応装置の下部ハウジングを示す側面図である。 本発明の第3実施例による光触媒反応装置の下部ハウジングを示す断面図であって、図11のC−C線に沿ったものである。 本発明による光触媒反応装置の光触媒が塗布された不織布を示す拡大写真である。 本発明による光触媒反応装置の反応気体の流用による反応結果を示す比較実験資料である。 本発明による光触媒反応装置の安定性をテストした結果である。
以下では、添付した図面を参照して本発明による光触媒反応装置の好ましい実施例を詳細に説明する。
図1は本発明の第1実施例による光触媒反応装置の正面を示す部分断面図であり、図2は本発明の第1実施例による光触媒反応装置の側面を示す部分断面図である。
図1及び図2を参照すると、本発明による光触媒反応装置は上部ハウジング30と下部ハウジング20を含む。
上部ハウジング30と下部ハウジング20は、光が透過するようにガラス材質を選択することが好ましい。上部ハウジング30と下部ハウジング20は全体的におおよそ円筒状を有する。下部ハウジング20の上部は上部ハウジング30より直径が大きい。それゆえに、上部ハウジング30が下部ハウジング20の内部に差し込まれるように設置される。このように差し込まれた状態で固定されるように上部ハウジング30と下部ハウジング20の両側面には密着手段5が設置される。
上部ハウジング30の外面と下部ハウジング20の内面との間には反応流路10が形成され、この反応流路10の中で光触媒反応が起こる。
図3及び図4は本発明の第1実施例による光触媒反応装置の下部ハウジング20を示す部分断面図であって、図3は正面を、図4は側面を示す図である。図5は本発明の第1実施例による光触媒反応装置の下部ハウジング20を示す断面図であって、図3のA−A線に沿ったものである。
図3乃至図5を参照すると、本発明による光触媒反応装置の下部ハウジング20には上部に下側密着部25が形成される。下側密着部25は上部ハウジング30と密着される部位であって、上側に行くほど直径が広くなるように形成される。下側密着部25の上端には挿入口27が形成され、上部ハウジング30がこの挿入口27を介して下部ハウジング20の内部に挿入される。
下側密着部25の下には下部ハウジング20の両側面に下側かかり部26が形成される。下側かかり部26には下部ハウジング20の外側に突出されて上部ハウジング30と下部ハウジング20を固定する密着手段5の下端が下側かかり部26にかかるようになる。それによって上部ハウジング30の外面と下部ハウジング20の内面が密着するようになり、その間にある流路の気密が維持される。
下側かかり部26の下部には反応部23が形成される。反応部23は内部空間が形成される円筒状を有する。この反応部23の内部で汚染流体が反応する。
反応部23の下部には注入部21が形成される。注入部21の一側面には注入口22が形成される。注入部21は内部に区間が形成されるおおよそ円筒状を有し、側面に注入口22が形成される。注入口22は長い管路状を有し、注入部21と一体に形成される。この注入口22を介して汚染流体が下部ハウジング20の内部に流入される。注入部21と反応部23との間には凹部24が形成される。凹部24は下部ハウジング20の側壁が内側に凹んだ形状を有するよう、側壁の周縁に沿って形成される。
注入部21の下部には排水口29が設けられ、この排水口29に排水弁28が設置される。排水口29は反応によって発生した水又はその他の液体を外部に排出するためのものである。注入部21の下側に液体を溜めてから排水弁28を開けて一時に排出するように構成される。排水口29は注入部21の下側に延長され、注入部21と一体に形成される。
図6及び図7は本発明の第1実施例による光触媒反応装置の上部ハウジング30を示す部分断面図であって、図6は正面を、図7は側面を示す図である。
図6及び図7を参照すると、本発明による光触媒反応装置は下部に光源保護部31が形成される。
光源保護部31の下部は塞がっており、外形は円筒状を成す。内部には光源が設置されるように円筒状の空間が形成される。光源保護部31は紫外線が通過するようにガラスや石英材質を使用してもよい。
光源保護部31の上側は紫外線光源1が光源保護部31の内部に入るように開口37が形成され、上側に行くほど直径が広くなるように形成されて容易に紫外線光源1を設置されるように形成される。光源保護部31の上部側面には上側かかり部39が形成される。上側かかり部29には密着手段5の上端がかかり、下側かかり部26には密着手段5の下端がかかって密着手段5の張力によって上部ハウジング30と下部ハウジング20が密着する。
光源保護部31の上部外側にはスカート部33が形成される。光源保護部31の外面から突出されて下側に延長されるスカート部33の内部には排出流路34が形成される。排出流路34はスカート部33の内面と光源保護部31の外面との間に形成される。スカート部33の一側面には外側に排出口35が形成されて排出流路34と連結される。よって、排出流路34に入った流体が排出口35から出るように形成される。
図1乃至図7を参照すると、本発明による光触媒反応装置は下部ハウジングの挿入口27に上部ハウジング30の光源保護部31が挿入設置される。この状態で密着手段5を上側かかり部39と下側かかり部26に設置すると、上部ハウジング30と下部ハウジング20が密着する。
また、図2及び図14に示したように、下部ハウジング20の反応部23の内面には支持台7と光触媒が塗布された不織布6が設置される。不織布6は円筒状に形成され、不織布6にスプレー型の光触媒を塗布して光触媒が不織布6の組織の間にもれなく分布されるようにする。支持台7は金属材質で形成され、不織布6を堅固に支持するためのものである。支持台7は不織布6より直径が微細に大きく、不織布6の外面が支持台7に接着固定される。
このように、不織布6と支持台7が設置された反応部23の内側面と光源保護部31の外面との間には流体が流通される反応流路10が形成される。この反応流路10は上部の排出流路34と連通され、下部の注入部21と連通される。よって、注入口22を介して注入部21に汚染された反応流体が入ってくると、反応流路10と排出流路34を通過し、排出口35を介して外部に排出される。
紫外線光源1を作動し、反応流体を汚染物質を含む空気(水分を含む)にして注入口22を介して注入すると、反応流路10の内部で光触媒反応が起こって殺菌、消毒、悪臭の除去が行われ、排出口35から浄化された空気が排出される。
この際、注入部21、反応流路10は垂直に形成される一方、注入口22は水平に形成される。よって、注入口22は注入部21及び反応流路10と直交に配置されるため反応流体に乱流が形成される。このように乱流が形成された状態で凹部24を通過しながら更に乱流が強くなり、この状態で不織布6周辺を通過するため、層流が完全に乱流に変化する。反応流体は反応流路10を通過しながら光触媒反応によって殺菌、消毒、悪臭の除去が行われるが、反応流路10内部で反応流体が完全に乱流になるため、反応物と光触媒との接触確率が増加し、それによって不織布6の表面に塗布された光触媒との反応が層流である場合より活性化される。また、光源保護部31と反応部23との間の狭い空間に反応流路10が形成されるため、不織布6を成す繊維の間に反応流体が浸透して接触面積が増加し、それによって反応装置の性能が向上される。
図8は、本発明の第2実施例による光触媒反応装置の下部ハウジング20を示す正面図である。図9は、本発明の第2実施例による光触媒反応装置の下部ハウジング20を示す側面図である。図10は、本発明の第2実施例による光触媒反応装置の下部ハウジング20を示す断面図であって、図8のB−B線に沿ったものである。
図8乃至図10を参照すると、本発明の第2実施例による光触媒反応装置の下部ハウジング20は注入口41が注入部21と第1実施例のように直交するのではなく、注入口41が下側に傾斜して形成され、注入口41の中心軸と注入部21の中心軸が直交せずに離隔するように形成される。よって、注入口41を介して注入される反応流体は螺旋形の経路を成して上側に進行する。反応流体が上側方向に進行するようになるため、反応流体が注入口41及び反応部23に進入する速度が増加する。また、反応流体の経路が螺旋形を成すため、遠心力によって外側の不織布6の方に圧力を受けるようになって乱流形成が更に容易である。よって、光触媒反応装置の効率が向上される。
図11は、本発明の第3実施例による光触媒反応装置の下部ハウジング20を示す正面図である。図12は、本発明の第3実施例による光触媒反応装置の下部ハウジング20を示す側面図である。図13は、本発明の第3実施例による光触媒反応装置の下部ハウジング20を示す断面図であって、図11のC−C線に沿ったものである。
図11乃至図13を参照すると、本発明の第3実施例による光触媒反応装置の下部ハウジング20には注入部21に注入口42,43が2つ形成される。2つの注入口42,43は互いに反対側に平行して形成され、2つの注入口42,43の中心軸は注入部21の中心軸と離隔される。また、2つの注入口42,43は注入部21から下側に傾斜して形成される。よって、2つの注入口42,43を介して反応流体が注入部21に入ってくると、反応流体が注入部21の内部で混合されて螺旋形の経路に沿って上側に移送され、この過程で反応流体に乱流が形成されて反応流路10内部での反応効果が向上される。
本発明による光触媒反応装置は、不均一状の光触媒(二酸化チタン、TiO)を不織布6に塗布して反応流路10の内部に設置し、流体の挙動を反応部23の内壁の方に最大に誘導すると同時に反応流体を乱流に形成させ、反応流体内の反応物に対する光触媒酸化反応の効率を向上させたものである。
また、円筒状を成す紫外線光源1の外側を囲むように光触媒が塗布された不織布6が設置されるため、紫外線光源1を照査された光触媒の酸化反応が反応部23全域にわたってむらなく起こる。
図15は本発明による光触媒反応装置の反応気体の流用による反応結果を示す比較実験資料であり、図16は本発明による光触媒反応装置の安定性をテストした結果である。
図15には、X軸の反応流体の流量によるY軸の反応流体内の反応物質の分解率が示されている。図15において、第1グラフは不織布6ではない一般的な金属材質の滑らかな支持台に光触媒が塗布された場合であり((1)STS−plain)、第2グラフは不織布6に光触媒が塗布された場合を示すグラフであり((2)Felt−plain)、第3グラフは不織布6に光触媒が塗布された場合であって((3)Felt−single tangent)、第2実施例による接線方向に注入口41が形成された光触媒反応装置を適用した場合である。
図15に示したように、流量が増加するほど流体が有する運動エネルギーが増加するため乱流の形成に役に立つ。よって、流量が増加するほど反応性が高くなる。しかし、流路が一定範囲を超えて更に増加する場合にはかえって反応性が減少する。これは、反応流体が反応部23の内部に留まる時間が減るようになって、反応流体と光触媒が接触する確率が低くなるためである。
この実験を適用した装置にでは、汚染された反応流体を分当たり5リットルで注入したとき最も反応率が高く、それ以上の流量では反応率が減少していた。
また、不織布6に光触媒を適用した第2グラフが不織布6ではない一般的な滑らかな金属に光触媒を塗布適用した第1グラブの場合より反応性が甚だしく高いことが分かり、第1実施例による垂直な注入口22を提供した場合を示す第2グラフより第2実施例による接線方向に注入される注入口41を適用した場合を示す第3グラフの反応性が高いことが分かった。
図16には、本発明の第2実施例による光触媒反応装置を使用した安定性テストの結果を示すグラフが示されている。図16を参照すると、光触媒反応装置を数日間持続的に稼動しても時間が経つほど反応率が落ちないことが分かる。光触媒を不織布6に噴射塗布するため、光触媒反応装置を長期間使用すると光触媒が不織布6から落ちる確率が高くなる恐れがある。しかし、反応流体の流れが反応部23の内壁面に沿って上るため、発生するせん断応力は強く凝集されて結合された光触媒粒子を不織布6の外部に落とすには相対的に弱い力であることが分かる。
1 紫外線光源 6 不織布
20 下部ハウジング 22 注入口
24 凹部 29 排水口
30 上部ハウジング 31 光源保護部
35 排出口

Claims (10)

  1. 紫外線を放出する紫外線光源と、
    前記紫外線光源の周辺を囲むように設置され、光触媒が塗布された不織布と、を含み、
    前記紫外線光源と前記不織布との間に形成され、汚染された流体が進行されて光触媒反応によって浄化作用が行われる反応流路が形成されることを特徴とする光触媒反応装置。
  2. 前記紫外線光源は円筒状に形成され、
    前記光触媒が塗布された不織布も前記紫外線光源の外側に円筒状のシート状に形成されることを特徴とする請求項1に記載の光触媒反応装置。
  3. 前記紫外線光源が設置される上部ハウジングと、
    前記上部ハウジングと結合され、前記不織布が設置される下部ハウジングと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の光触媒反応装置。
  4. 前記上部ハウジングと前記下部ハウジングは、密着手段によって密着結合されることを特徴とする請求項3に記載の光触媒反応装置。
  5. 前記下部ハウジングには汚染された反応流体が注入口を介して流入される注入部が形成され、
    前記反応流路は前記上部ハウジングの外壁と前記下部ハウジングの内壁との間に形成され、
    前記下部ハウジングには浄化された流体が排出される排出口が形成されることを特徴とする請求項3に記載の光触媒反応装置。
  6. 前記注入口と前記注入部が垂直に配置され、前記注入口を介して入ってくる汚染された反応流体の経路が注入部で垂直に曲がって前記反応流路に移動するとき乱流が形成されるようにすることを特徴とする請求項5に記載の光触媒反応装置。
  7. 前記注入口は前記注入部から下側に傾斜するように配置され、前記注入口を介して入ってくる汚染された反応流体の経路が注入部で曲がって前記反応流路に移動するとき乱流が形成されるようにすることを特徴とする請求項5に記載の光触媒反応装置。
  8. 前記注入口の注入方向は前記注入部の中心から所定間隔離隔されるように形成され、前記注入口を介して入ってくる汚染された反応流体の経路が注入部の内部で螺旋形を成すようにすることで乱流が形成されるようにすることを特徴とする請求項7に記載の光触媒反応装置。
  9. 前記注入口は、前記注入部の両側面にそれぞれ一つずつ設置されることを特徴とする請求項5に記載の光触媒反応装置。
  10. 紫外線を放出する紫外線光源と、
    前記紫外線光源の周辺を囲むように設置され、光触媒が塗布された不織布と、
    上部に開口が形成され、前記光触媒の塗布された不織布が内壁に設置され、汚染された反応流体が注入口を介して注入される注入部を含む下部ハウジングと、
    前記下部ハウジングの内部に挿入され、前記紫外線光源が設置される光源保護部を含み、浄化された流体が排出流路を介して外部に排出されるように排出口が形成される上部ハウジングと、を含み、
    前記上部ハウジングの外壁と前記下部ハウジングに設置された不織布との間に形成され、汚染された流体が進行されて光触媒反応によって浄化作用が行われる反応流路が形成されることを特徴とする光触媒反応装置。
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