JP2014239029A - 複数の無線周波数電力供給装置の周波数および位相の制御 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】システムは、第1のRF発生器812aおよび第2のRF発生器812bを有する。第1のRF発生器812aは、第2のRF発生器812bの周波数を制御する。第1のRF発生器812aは、RF電力源840a、RFセンサ844a、およびセンサ信号処理ユニット842aを含む。センサ信号処理ユニット842aは、RF電力源840aおよびRFセンサ844aに結合される。センサ信号処理ユニット842aは、第2のRF発生器812bの周波数を制御するために第1のRF発生器812aの周波数をスケール(scale)する。
【選択図】図8
Description
112a RF発信源1
112b RF発信源2
200 RF電力システム
212a RF発信源1
212b RF発信源2
300 RF電力システム
312a RF電力供給装置、RF発信源1
312b RF電力供給装置、RF発信源2
314a 整合ネットワーク
314b 整合ネットワーク
320 プラズマ源
400 RF電力システム
412a RF電力供給装置、RF発信源1
412b RF電力供給装置、RF発信源2
414 二重整合ネットワーク
420 プラズマ源
500 モジュール
516 周波数スケールプロセス
518 位相シフトモジュール
600 周波数合成モジュール
622a ダイレクトデジタル合成(DDS)モジュール
622b ダイレクトデジタル合成(DDS)モジュール
624 共通(基準)クロック
700 プロット
726 対称的プラズマ源
728 非対称的プラズマ源
730 ピーク
730' ピーク
732 第2のピーク
732' ピーク
734' ピーク
800 プラズマシステム
812a RF発生器
812b RF発生器
814a 整合ネットワーク
814b 整合ネットワーク
820 プラズマ室
840a RF電力源
840b RF電力源
842a センサ信号処理ユニット
842b センサ信号処理ユニット
844a RFセンサ
844b RFセンサ
846 周波数スケーラ
Claims (29)
- 無線周波数(RF)発生器であって、
RF電力源と、
前記電力源に結合されるセンサと、
前記電力源および前記センサに結合されるセンサ信号処理ユニットとを含み、
前記センサ信号処理ユニットが、外部RF発生器源から入力を受け取り、前記RF発生器の位相および周波数を制御するための制御信号を発生させるように構成され、
前記外部RF発生器源からの前記入力は、前記外部RF発生器源が動作する周波数のスケールされたバージョンを含む、RF発生器。 - 前記入力は、更に、位相シフトを含む、請求項1に記載のRF発生器。
- 前記RF発生器は、連続波で、またはパルス化動作モードで動作する、請求項1に記載のRF発生器。
- 前記センサ信号処理ユニットは、フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)ユニットおよびデジタル信号処理ユニットを含む、請求項1に記載のRF発生器。
- 前記信号処理ユニットは、前記制御信号を発生させるように動作可能である、請求項4に記載のRF発生器。
- 前記RF発生器は、前記RF発生器によって出力されるRF信号の振幅を変える、請求項1に記載のRF発生器。
- 前記位相は、少なくとも2つの位相の間で変えられる、請求項1に記載のRF発生器。
- 前記周波数は、1の値にスケールされる、請求項7に記載のRF発生器。
- 前記位相は、所定の範囲にわたって掃引される、請求項1に記載のRF発生器。
- 無線周波数(RF)システムにおいて、
電力源、
前記電力源に結合されるセンサ、ならびに
前記電力源および前記センサに結合されるセンサ信号処理ユニットを含む第1のRF発生器であって、前記センサ信号処理ユニットが、外部発信源から入力を受け取り、前記第1のRF発生器からのRF電力信号の第1の位相および第1の周波数のうちの少なくとも1つを制御する第1の制御信号を発生させるように構成される、前記第1のRF発生器と、
前記第1のRF発生器から第2の制御信号を受け取るように動作可能な第2のRF発生器であって、前記第2の制御信号が、前記第2のRF発生器の第2の位相および第2の周波数のうちの少なくとも1つを制御する、前記第2のRF発生器とを含み、
前記センサ信号処理ユニットは、周波数情報を生成するために前記第1の周波数をスケールし、前記第2の制御信号は、前記周波数情報を含む、RFシステム。 - 前記第2の制御信号は、更に、位相シフト情報を含む、請求項10に記載のRFシステム。
- 前記RFシステムは、連続波で、またはパルス化動作モードで動作する、請求項10に記載のRFシステム。
- 前記RFシステムは、前記RF発生器によって出力されるRF信号の振幅を変える、請求項12に記載のRFシステム。
- 前記位相は、少なくとも2つの位相の間で変えられる、請求項12に記載のRFシステム。
- 前記周波数は、1の値にスケールされる、請求項14に記載のRFシステム。
- 前記位相は、所定の範囲にわたって掃引される、請求項12に記載のRFシステム。
- RFシステムであって、
第1のRF発生器と、
前記第1のRF発生器に結合される第2のRF発生器とを含み、前記第1および前記第2のRF発生器が、それぞれ、
電力源と、
前記電力源に結合されるセンサと、
前記電力源および前記センサに結合されるセンサ信号処理ユニットとを含み、前記第1のRF発生器のための前記センサ信号処理ユニットが、前記第1のRF発生器の位相および周波数を制御し、前記第2のRF発生器のための前記センサ信号処理ユニットが、前記第2のRF発生器の位相および周波数を制御し、
前記第1のRF発生器は、制御信号を前記第2のRF発生器に出力し、前記制御信号は、周波数成分を含み、前記周波数成分は、前記第1のRF発生器の前記周波数に対してスケールされた周波数である、RFシステム。 - 前記制御信号は、更に、位相シフト情報を含む、請求項17に記載のRFシステム。
- 前記RFシステムは、連続波で、またはパルス化動作モードで動作する、請求項17に記載のRFシステム。
- 前記RFシステムは、前記RF発生器によって出力されるRF信号の振幅を変える、請求項17に記載のRFシステム。
- 前記位相は、少なくとも2つの位相の間で変えられる、請求項19に記載のRFシステム。
- 前記周波数は、1の値にスケールされる、請求項21に記載のRFシステム。
- 前記位相は、所定の範囲にわたって掃引される、請求項19に記載のRFシステム。
- センサを電力源に結合するステップと、
センサ信号処理ユニットを前記電力源および前記センサに結合するステップと、
第1のRF周波数信号を出力するように第1のRF発生器を制御するステップと、
前記第1のRF周波数信号をスケールするステップと、
スケールされた第1のRF周波数信号に従って第2のRF発生器の位相および周波数を制御するための制御信号を発生させるステップとを含む、方法。 - 前記第1のRF発生器と前記第2のRF発生器との間に位相シフトを発生させ、前記位相シフトに従って前記制御信号を発生させるステップを更に含む、請求項24に記載の方法。
- 前記第1のRF発生器および前記第2のRF発生器を、連続波で、またはパルス化動作モードで動作させるステップを更に含む、請求項24に記載の方法。
- 前記位相は、少なくとも2つの位相の間で変えられる、請求項24に記載の方法。
- 前記第1のRF周波数信号は、1の値にスケールされる、請求項27に記載の方法。
- 前記位相は、所定の範囲にわたって掃引される、請求項24に記載の方法。
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