JP2014231822A - 除害機能付真空ポンプ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】真空ポンプ1の排気口に、真空ポンプ1から排出された排ガスを処理して無害化する除害部10を付設した真空ポンプ1であって、排ガスの処理形式および/または排ガスの処理量が異なる除害部を複数種類用意し、真空ポンプ1から排出される排ガスのガス量およびガス種に応じて複数種類の除害部10から1又は複数の除害部10を選定し、選定された除害部10を真空ポンプ1の排気口に接続した。
【選択図】図1
Description
1)半導体製造プロセスで使用されるガスの種類(反応)およびガスの流量に応じ、装置の仕様を各ユーザー、プロセス毎に製作し、装置の評価を実施し市場に投入している。この場合、排ガスを許容濃度以下までに処理するために、処理部・冷却部、紛体捕集部等のカスタマイズ(仕様に応じて変更)を行っている。そのため、各ユーザー、プロセス毎に装置の設計、製作および評価が必要となり、多大な労力を要するとともに装置コストが上昇する。
本発明によれば、排ガスの処理形式が異なる複数種類の除害部を用意しておき、また、処理形式の異なる各除害部毎に排ガスの処理量が異なる除害部を複数個用意しておき、真空ポンプから排出される排ガスのガス量およびガス種に応じて上記複数種類の除害部および/または排ガスの処理量が異なる複数の除害部から最適なものを選定し、真空ポンプと一体化される。したがって、排ガスを許容濃度以下までに処理するために、除害部のカスタマイズ(仕様に応じて変更)を行う必要がなく、設計時間、検証時間の大幅な短縮が可能となり、結果としてリードタイム削減に寄与する。また、使用条件にあわせて、除害部の種類・個数の組合せ構成で対応が可能である。
本発明によれば、真空ポンプは、一台のドライ真空ポンプから構成してもよいし、複数台のドライ真空ポンプを直列又は並列に接続して構成してもよい。これら一台又は複数台のドライ真空ポンプは、ルーツ型ドライ真空ポンプ、スクリュー型ドライ真空ポンプ、クロー型ドライ真空ポンプ、スクロール型ドライ真空ポンプなどからなる。
本発明によれば、1台又は複数台の真空ポンプと一台又は複数台の除害部とが接続される。本発明によれば、複数台の除害部を直列および/または並列の組合せで接続することにより一連の除害群を形成することができ、様々な種類のプロセス要求、複雑なプロセス要求に対応が可能となる。複数台の除害部は排ガスのガス量およびガス種に応じて、燃焼式、乾式、湿式、固定式等の複数種の除害部を組み合わせて接続してもよいし、単一種の除害部を接続してもよい。
本発明によれば、前記真空ポンプおよび前記除害部に供給する冷却水および/または不活性ガスは、共通のユーティリティ設備から供給可能であるため、ユーティリティサイドのラインの簡素化が実現できる。したがって、設計工数低減(ハード・ソフト)を図ることができる。また、除害部用にユーティリティラインを確保する必要が無く、ユーティリティ計画が簡単になり、イニシャルコストの低減となる。さらに、一つのモニターで、除害部と真空ポンプのユーティリティ状況の管理が可能なため、運用管理が容易となる。
本発明によれば、除害部において排ガスの無害化処理の際に発生した廃熱を利用してN2等の不活性ガスを加熱し、加熱された不活性ガスを真空ポンプに供給することができる。したがって、加熱された不活性ガスにより真空ポンプのパージを行うことができ、真空ポンプの内部に生成物が付着することを防止することができる。本発明によれば、不活性ガスを加熱するための専用のヒーターを設置する必要がなく、設計工数の削減、部品点数の削減に伴うリードタイム削減およびコスト削減を図ることができる。また、ヒーター用の動力を必要とせず、省エネルギーを図ることができる。
本発明の好ましい態様によれば、前記共通のユーティリティ設備は、携帯可能なボンベから燃料を供給可能であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様によれば、前記除害部で排ガスを無害化処理した後に、処理後のガスを、設置先にある排気ダクトに直接排出するようにしたことを特徴とする。
本発明の好ましい態様によれば、前記除害部で排ガスを無害化処理した後に、処理後のガスを、スクラバに排出するようにしたことを特徴とする。
本発明によれば、制御部が真空ポンプの制御および除害部の制御を一括して行うように構成されているため、装置からのインターフェースを従来のように真空ポンプ用および排ガス処理装置用と区別して用意することが不要となる。メインの信号の窓口が真空ポンプとなることによって、装置側あるいは工場側の制御が簡略化される。真空ポンプの運転状態にあわせて、ポンプ制御部が除害部の制御を行うため、使用条件・使用環境にあわせて、除害部・真空ポンプのシンクロ運転、安全運転の実現が可能となる。真空ポンプの使用状況にあわせて、除害部の運転モードの最適化が図れる。
既設の真空ポンプを備えた排気システムに本発明の除害部を接続する場合あるいは真空ポンプが必要とされない市場へ本発明の除害部を投入する場合等には除害部を単独制御する必要がある。本発明によれば、除害部が除害部の全体を制御する制御部を備えることにより、スタンドアロン型の除害部を構成することができる。スタンドアロン型の除害部により、ブロアと除害部の組合せや除害部単独での使用が可能となる。したがって、既設の真空ポンプを備えた排気システムにも除害部の投入が可能となる。
(1)排ガスの処理形式が異なる複数種類の除害部を用意しておき、また、処理形式の異なる各除害部毎に排ガスの処理量が異なる除害部を複数個用意しておき、真空ポンプから排出される排ガスのガス量およびガス種に応じて上記複数種類の除害部および/または排ガスの処理量が異なる複数の除害部から最適なものを選定し、真空ポンプと一体化される。したがって、排ガスを許容濃度以下までに処理するために、除害部のカスタマイズ(仕様に応じて変更)を行う必要がなく、設計時間、検証時間の大幅な短縮が可能となり、結果としてリードタイム削減に寄与する。また、使用条件にあわせて、除害部の種類・個数の組合せ構成で対応が可能である。
(2)従来、排ガス処理装置は大型であったため、輸送、設置、取り外し、移設が容易ではなく、また複雑な制御を必要としたが、本発明の除害部によれば、小型でコンパクトな構成となり、部品点数が少なく、故障率の低減を図ることができる。故障した場合、現地で予備の除害部の交換で対応が可能であり、プロセスダウンタイムの低減を図ることができる。メンテナンスも、現地で予備の除害部の交換で対応が可能であり、プロセスダウンタイムの低減を図ることができる。
(3)真空ポンプから排気される排ガスは、真空ポンプにおける圧縮熱により200℃程度まで加熱されており、この加熱された排ガスを排気管から直接に除害部に導入して無害化処理を行うことができる。したがって、排ガスを常温から暖める必要がなく、除害部における燃料使用量を削減することができ、省エネルギーを図ることができる。真空ポンプの排気管の内部を200℃程度まで加熱された排ガスが流れるので、排気管を配管ヒーターで昇温する必要がない。したがって、配管ヒーターを設置しなくても済むため、省エネルギーを実現できる。
(4)除害部において排ガスの無害化処理の際に発生した廃熱を利用してN2等の不活性ガスを加熱し、加熱された不活性ガスを真空ポンプに供給することができる。したがって、加熱された不活性ガスにより真空ポンプのパージを行うことができ、真空ポンプの内部に生成物が付着することを防止することができる。本発明によれば、不活性ガスを加熱するための専用のヒーターを設置する必要がなく、設計工数の削減、部品点数の削減に伴うリードタイム削減およびコスト削減を図ることができる。また、ヒーター用の動力を必要とせず、省エネルギーを図ることができる。
(5)複数台の除害部を直列および/または並列の組合せで接続することにより一連の除害群を形成することができ、様々な種類のプロセス要求、複雑なプロセス要求に対応が可能となる。複数台の除害部は排ガスのガス量およびガス種に応じて、燃焼式、乾式、湿式、固定式等の複数種の除害部を組み合わせて接続してもよいし、単一種の除害部を接続してもよい。安全許容濃度にあわせて必要最低限の仕様を提供することによって、最小限のイニシャルコスト、運用コストが実現可能となる。除害部を並列に並べることで、一方の除害部の故障、メンテナンス時にはその他の除害部で対応が可能となり、プロセスダウンタイムをゼロにすることができる。
(6)ポンプ制御部が真空ポンプの制御および除害部の制御を一括して行うように構成されているため、装置からのインターフェースを従来のように真空ポンプ用および排ガス処理装置用と区別して用意することが不要となる。メインの信号の窓口が真空ポンプとなることによって、装置側あるいは工場側の制御が簡略化される。真空ポンプの運転状態にあわせて、ポンプ制御部が除害部の制御を行うため、使用条件・使用環境にあわせて、除害部・真空ポンプのシンクロ運転、安全運転の実現が可能となる。真空ポンプの使用状況にあわせて、除害部の運転モードの最適化が図れる。
図1(a),(b),(c)は、本発明の除害機能付真空ポンプの構成例を示す模式的斜視図である。
図1(a),(b),(c)に示すように、本発明の除害機能付真空ポンプは、真空ポンプ1の排気管1aに除害部10を付設した構成を備えている。真空ポンプ1は、一台のドライ真空ポンプから構成してもよいし、複数台のドライ真空ポンプを直列又は並列に接続して構成してもよい。これら一台又は複数台のドライ真空ポンプは、ルーツ型ドライ真空ポンプ、スクリュー型ドライ真空ポンプ、クロー型ドライ真空ポンプ、スクロール型ドライ真空ポンプなどからなり、これらドライ真空ポンプの構成は周知であるため、図示および説明を省略する。図1(a),(b),(c)では、真空ポンプ1は筺体Cを備えた形式の真空ポンプを例示している。除害部10は、全体として円筒状の容器として構成されている。また、各除害部が接続された場合、ドライポンプの制御部が除害部の種類を自動認識する。
図2(a),(b)は、一台の真空ポンプ1の排気管1aを分岐して2つの除害部10,10を付設した構成の除害機能付真空ポンプを示す。
図2(a)に示す例においては、分岐した排気管1aを直接に2つの除害部10,10に接続しており、図2(b)に示す例においては、分岐した排気管1aにそれぞれ自動開閉(又は手動開閉)のバルブV1を配置することにより、各除害部10への排ガスの流入を制御できるようになっている。
図2(c),(d)は、二台の真空ポンプ1,1の排気管1a,1aをマニホールド2で連結し、マニホールド2に一台の除害部10を付設した構成の除害機能付真空ポンプを示す。
図2(c)に示す例においては、マニホールド2と除害部10とを接続しており、図2(d)に示す例においては、マニホールド2に二つの自動開閉(又は手動開閉)のバルブV2,V2を配置することにより、各真空ポンプ1から除害部10への排ガスの流入を制御できるようになっている。
図2(e)は、二台の真空ポンプ1の排気管1a,1aをマニホールド2で連結し、マニホールド2に三台の除害部10を付設した構成の除害機能付真空ポンプを示す。
除害部10の構造の簡素化によって、部品の共通化が図れる。したがって、製造リードタイムの削減、製造コスト削減を図ることができる。
除害部10の標準化が図れるため、除害部10の単体の安全規格・ガイドラインへの適用・準拠が容易となる。
メンテナンスも、現地で予備の除害部の交換で対応が可能であり、プロセスダウンタイムの低減を図ることができる。異常が起きた際に、除害部10を単独で工場・サービスセンターに引取り、調査が可能である。
図6(a)に示す例においては、複数台(図示例では三台)の除害部10が直列に接続されている。複数台の除害部10は接続配管11を介して接続してもよいし、接続配管11を無くして隣接する二つの除害部10のガス出口とガス入口を直接接続してもよい。
図6(b)に示す例においては、排ガスの流れ方向において除害部10の台数が次第に増加するように複数台の除害部10は接続配管11およびマニホールド12を介して直列および並列に接続されている。すなわち、除害部10は排ガスの流れ方向の上流側から下流側に向かって多段状に配置され、台数が一台、二台、三台と増加していき、これらの除害部10は上流側から下流側に直列に接続されている。また、各段にある複数の除害部10はマニホールド12によって並列に接続されている。
安全許容濃度にあわせて必要最低限の仕様を提供することによって、最小限のイニシャルコスト、運用コストが実現可能となる。
除害部10を並列に並べることで、バックアップ運転の実現が容易となる。すなわち、一方の除害部10の故障、メンテナンス時にはその他の除害部10で対応が可能となり、プロセスダウンタイムをゼロにすることができる。
また、真空ポンプ1のオーバーホール周期へ合わせこむために除害部10を複数設置し、相互にバックアップする運用が可能となる。
納入後のプロセス仕様変更に対しても、除害部毎の設定値の変更が容易となり、特定の除害部の変更で対応が容易な場合もある。
除害部毎に規格対応を行うため、新たな要求仕様に対して、規格の認証の検討、取得が不要となる。全ての配管が集合配管でなくてもよい。必要に応じて、配管部にバルブを設置してもよい。複数台の除害部10を直列や並列で接続する場合、除害部10の設置位置方向は自由に設定可能である。また、一台又は複数台の除害部10と制御盤13を組み合わせることによってスタンドアロンタイプの単体/複合除害システムも構築可能である。また、図6(a),(b)に示す構成に、補器類を適宜組み合せてもよい。
図7(a)に示す例においては、電源は真空ポンプ1に供給され、除害部10用の電源は真空ポンプ1から供給される。なお、真空ポンプ1に設置されるインターフェースボックスより除害部10に電源を供給してもよい。冷却水は、真空ポンプ1に供給されて真空ポンプ1を冷却した後に、除害部10に供給され、除害部10を冷却するようになっている。除害部10を冷却した冷却水は、ユーティリティ設備に戻るようになっている。また、真空ポンプ1の内部に生成物が付着することを防止するために、ユーティリティ設備からN2を真空ポンプ1に供給できるようになっている。除害部10が燃焼式除害部の場合には、ユーティリティ設備から燃料や酸化剤が除害部10に供給できるようになっている。燃料や酸化剤は、携帯可能なボンベによる供給も可能である。この場合、燃料供給ラインがない場所での燃焼式除害部の運用が可能となる。携帯可能なボンベは複列に設置可能で、運転中に、使用済みボンベの交換を可能とする。携帯可能なボンベから燃料や酸化剤を供給する場合には、圧力計Pを設けて残量検知(圧力監視)を行うようにしてもよい。この場合、携帯可能なボンベの残量が一定の量よりも低下した場合、信号/ランプ/音によるアナウンス機能を可能とする。
なお、十分な温度が排熱で確保できない場合でも、ある程度温度上昇したN2をホットN2用のヒーターに投入できるため、常温から昇温させる場合よりも、ホットN2用のヒーターの負荷率を低減することができ、必要消費電力の削減に寄与する。図7(b)に示す例において、電源や冷却水等のその他のユーティリティは、図7(a)に示す例と同様に供給される。
図8は、本発明の除害機能付真空ポンプの制御部の構成を示す模式図である。図8に示すように、本発明の除害機能付真空ポンプは、真空ポンプ1の排気管1aに除害部10を付設した構成を備えており、真空ポンプ1にはポンプ制御部30が設けられている。ポンプ制御部30は、製造装置等にある制御部31と通信線等を介して送受信が可能になっている。また、ポンプ制御部30は、集中監視システム32に真空ポンプ1と除害部10のステータス信号を出力するようになっている。ポンプ制御部30は真空ポンプ1の制御および除害部10の制御を一括して行うように構成されており、ポンプの信号入出力の一部を除害部10に接続し、除害部10の運転制御およびステータス監視をポンプ制御部30で実施する。すなわち、ポンプ制御部30から除害部10の制御ボックス10aに運転・停止信号を出力し、制御ボックス10aからポンプ制御部30の除害部10のステータス信号を出力するように構成されている。ポンプの運転はリモート運転、ローカル運転、COM運転のいずれでも対応可能になっている。真空ポンプ1の操作盤にメインブレーカを設置するため、除害部10では必要最低限の電源部品で対応が可能となる。
ポンプ制御部30より真空ポンプ1の運転信号が出力されると、同時にポンプ制御部30から除害部10に運転信号が出力され、除害部10の運転が開始される。除害部10が燃焼式の場合には、パイロットバーナの着火を開始する。アイドル時は、除害部10の運転を停止する。ポンプ制御部30において、除害部10の運転タイミングの設定変更が可能になっている。
また、メインの信号の窓口が真空ポンプ1となることによって、装置側あるいは工場側の制御が簡略化される。
ガスの種類や量によって除害部10の種類や数が選定される。その除害部10とポンプ制御部30が接続され、ポンプ制御部30が除害部10の種類や数を自動認識することも可能である。個別にポンプ制御部30で除害部10の種類と数を選択することも可能である。
真空ポンプ1の運転状態にあわせて、ポンプ制御部30が除害部10の制御を行うため、使用条件、使用環境にあわせた、除害部・真空ポンプのシンクロ運転、安全運転の実現が可能となる。
真空ポンプ1の使用状況にあわせて、除害部10の運転モードの最適化が図れる。ユーザー側で、除害部10の制御シーケンスの構築が不要となる。除害部10の設置の際、配線作業が不要となり、工数の低減となる。
また、除害部10の信号を真空ポンプ1に対して有効活用することができる。例えば、燃焼除害の場合、一般的にCl2等のクリーニングガスを処理するためには、燃料・酸素を増加させて高温状態でガスを分解させる必要がある。このクリーニングガス処理のための処理信号を別途出力するケースがあるが、インターフェースを真空ポンプの制御部に統合した場合、ポンプ部品の腐食対策として、前記処理信号を希釈N2の増量信号として活用することができる。これにより、真空ポンプの寿命延長を図ることができる。
真空ポンプ1の状態監視モニターに、除害部10のステータス表示がされるため、運用が容易となる。マスターの真空ポンプ1に表示されるステータスだけで一括管理が可能になり、除害・ポンプの異常をユーザーが一括でモニター可能になる。
また、真空ポンプ1と除害部10の統合された情報の収集が可能であるため、問題発生時の真空ポンプ1と除害部10の状態が把握でき、問題分析が容易となり、改善対応の時間短縮を図ることができる。
図9は、除害部10に設置された除害部10を単独制御する制御部の構成を示す模式図である。図9に示すように、除害部10には制御ボックス10aが設けられている。制御ボックス10aは、製造装置等にある制御部31と通信線等を介して送受信が可能になっている。また、制御ボックス10aは、集中監視システム32に除害部10のステータス信号を出力するようになっている。
図9に示すように、除害部10が除害部10の全体を制御する制御ボックス10aを備えることにより、スタンドアロン型の除害部10を構成することができる。スタンドアロン型の除害部10により、ブロアと除害部10の組合せや除害部10単独での使用が可能となる。したがって、既設の真空ポンプを備えた排気システムにも除害部10の投入が可能となる。
ポンプ制御部30と除害部10のインターフェースの手段は、電源供給と通信(RS485)に限らない。
燃料は除害部10に設けられた複数の燃料ノズル46から燃焼室Sに向けて旋回流を作り出すように吹き出される。また、複数の空気ノズル45から空気が燃焼室Sに向けて旋回流を作り出すように吹き出される。そして、燃料と空気の混合気がパイロットバーナPBにより点火されると、円筒体41の内周面に火炎の旋回流(旋回炎)を形成する。
一方、処理対象の排ガスは、円筒体41の内周面に開口する排ガス導入口10INから前記燃焼室Sに向けて噴出する。この噴出された排ガスは混合気の旋回炎と混合して燃焼するが、この際、円周方向の全ての燃料ノズル46から燃料が一方向に強く旋回するように吹き出されているため、排ガスの燃焼効率は高くなる。また、空気ノズル45から噴出された空気も旋回しているため、この空気流が火炎と混合して火炎の旋回流を加速しつつ、排ガスを酸化分解する。処理後のガスは、除害部10の上端のガス出口10OUTから排出されて排気ダクトへ排出される。
1a 排気管
10 除害部
10a 制御ボックス
20 ポンプラック
21 排気ダクト
22 接続用配管
23 スクラバ
30 ポンプ制御部
31 制御部
32 集中監視システム
41 円筒体
42 外筒
43 加熱室
45 空気ノズル
46 燃料ノズル
48 UVセンサ
49 点火プラグ
50 パイロットバーナ部
51 燃料供給口
52 空気供給口
53 点火トランス
54 計測部
55 パルス発生器
56 電源
57 CPU
VAC 真空ポンプ
Claims (11)
- 真空ポンプの排気口に、真空ポンプから排出された排ガスを処理して無害化する除害部を付設した真空ポンプであって、
排ガスの処理形式および/または排ガスの処理量が異なる除害部を複数種類用意し、
前記真空ポンプから排出される排ガスのガス量およびガス種に応じて前記複数種類の除害部から1又は複数の除害部を選定し、
前記選定された除害部を前記真空ポンプの排気口に接続したことを特徴とする除害機能付真空ポンプ。 - 前記真空ポンプは、一台の真空ポンプから構成されるか、あるいは直列および/または並列に接続された複数台の真空ポンプから構成されることを特徴とする請求項1記載の除害機能付真空ポンプ。
- 前記除害部は、一台の除害部から構成されるか、あるいは直列および/または並列に接続された複数台の除害部から構成されることを特徴とする請求項1または2記載の除害機能付真空ポンプ。
- 前記真空ポンプおよび前記除害部に供給する冷却水および/または不活性ガスは、共通のユーティリティ設備から供給可能であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の除害機能付真空ポンプ。
- 前記不活性ガスは、前記除害部における排ガスの無害化処理の際に発生する熱を用いて加熱された後に前記真空ポンプに供給されることを特徴とする請求項4記載の除害機能付真空ポンプ。
- 前記共通のユーティリティ設備は、燃料および空気を燃焼式の前記除害部に供給可能であることを特徴とする請求項4記載の除害機能付真空ポンプ。
- 前記共通のユーティリティ設備は、携帯可能なボンベから燃料を供給可能であることを特徴とする請求項6記載の除害機能付真空ポンプ。
- 前記除害部で排ガスを無害化処理した後に、処理後のガスを、設置先にある排気ダクトに直接排出するようにしたことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の除害機能付真空ポンプ。
- 前記除害部で排ガスを無害化処理した後に、処理後のガスを、スクラバに排出するようにしたことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の除害機能付真空ポンプ。
- 前記真空ポンプと前記除害部とを一括して制御する制御部を備えたことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の除害機能付真空ポンプ。
- 排ガスを処理して無害化する除害部を一台または複数台備え、
前記一台または複数台の除害部の全体を制御する制御部を備え、
前記制御部は、設置先の装置に設けられた制御部と送受信可能であるとともに設置先の監視システムに前記一台または複数台の除害部のステータス信号を出力可能であることを特徴とする除害部。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102015119012A1 (de) | 2014-11-14 | 2016-05-19 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Brennstoffzellensystem und Betriebssteuerverfahren hierfür |
KR20170138946A (ko) * | 2016-06-08 | 2017-12-18 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 제해 기능 부착 건식 진공 펌프 |
KR20200087765A (ko) * | 2017-11-13 | 2020-07-21 | 에드워즈 리미티드 | 모듈형 진공 펌핑 및/또는 저감 시스템 |
JPWO2019186616A1 (ja) * | 2018-03-26 | 2021-04-08 | 株式会社Kokusai Electric | 処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム |
WO2021166815A1 (ja) * | 2020-02-21 | 2021-08-26 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ、除害装置、および排気ガス処理システム |
KR20220158631A (ko) | 2021-05-24 | 2022-12-01 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 서브팹 에어리어 설치 장치 |
KR20220158630A (ko) | 2021-05-24 | 2022-12-01 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 서브팹 에어리어 설치 장치 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101597008B1 (ko) * | 2010-08-05 | 2016-02-23 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 배기 시스템 |
JP6368458B2 (ja) * | 2013-05-24 | 2018-08-01 | 株式会社荏原製作所 | 除害機能付真空ポンプ |
US10037869B2 (en) | 2013-08-13 | 2018-07-31 | Lam Research Corporation | Plasma processing devices having multi-port valve assemblies |
JP5808454B1 (ja) * | 2014-04-25 | 2015-11-10 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、プログラムおよび記録媒体 |
WO2016182648A1 (en) * | 2015-05-08 | 2016-11-17 | Applied Materials, Inc. | Method for controlling a processing system |
JP7019513B2 (ja) | 2018-06-05 | 2022-02-15 | 株式会社荏原製作所 | 制御装置、制御システム、制御方法、プログラム及び機械学習装置 |
JP7299098B2 (ja) | 2018-08-06 | 2023-06-27 | エドワーズ株式会社 | 除害システム、除害装置、およびシステム制御装置 |
GB2579233A (en) * | 2018-11-27 | 2020-06-17 | Edwards Ltd | A method relating to controllers of a vacuum pumping and/or abatement system |
US20230277974A1 (en) * | 2020-07-28 | 2023-09-07 | Edwards Limited | A noble gas recovery system |
GB2622561A (en) * | 2022-05-30 | 2024-03-27 | Edwards Ltd | An abatement system for treatment of exhaust gases of a vacuum processing system |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006275421A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Ltd | 排ガス除害装置 |
JP2007014937A (ja) * | 2005-07-04 | 2007-01-25 | Katsutoshi Kihira | 有機廃棄物処理装置及び排ガス浄化装置 |
JP2012054541A (ja) * | 2010-08-05 | 2012-03-15 | Ebara Corp | 排気系システム |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IL117775A (en) | 1995-04-25 | 1998-10-30 | Ebara Germany Gmbh | Inhalation system with gas exhaust cleaner and operating process for it |
EP1143197B1 (en) | 1998-12-01 | 2017-03-29 | Ebara Corporation | Exhaust gas treating device |
JP3709432B2 (ja) | 1999-04-30 | 2005-10-26 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 排ガス処理装置及び基板処理装置 |
WO2002016830A1 (fr) * | 2000-08-22 | 2002-02-28 | Ebara Corporation | Procede et dispositif de traitement par combustion des gaz d'echappement |
TW536604B (en) * | 2000-10-02 | 2003-06-11 | Ebara Corp | Combustion type waste gas treatment system |
JP2004044887A (ja) | 2002-07-11 | 2004-02-12 | Babcock Hitachi Kk | モノシラン燃焼処理装置および半導体排ガス処理システム |
JP2004200364A (ja) * | 2002-12-18 | 2004-07-15 | Seiko Epson Corp | 排ガス処理装置および排ガス処理方法 |
EP1899041A4 (en) * | 2005-05-03 | 2009-04-22 | Advanced Tech Materials | FLUID STORAGE AND DISPATCHING SYSTEMS AND THESE COMPREHENSIVE FLUID FEEDING PROCEDURES |
GB0521944D0 (en) * | 2005-10-27 | 2005-12-07 | Boc Group Plc | Method of treating gas |
KR101581673B1 (ko) * | 2008-02-05 | 2015-12-31 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 제조 프로세스들로부터의 가연성 폐기물 가스들을 처리하기 위한 시스템 및 방법 |
GB0809976D0 (en) * | 2008-06-02 | 2008-07-09 | Edwards Ltd | Vacuum pumping systems |
GB0902234D0 (en) * | 2009-02-11 | 2009-03-25 | Edwards Ltd | Method of treating an exhaust gas stream |
JP2010214302A (ja) | 2009-03-17 | 2010-09-30 | Ebara Corp | 排ガス処理装置および排ガス処理方法 |
KR101435371B1 (ko) * | 2012-10-16 | 2014-08-29 | 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 | CO, NOx 개별 제어 방식을 이용한 저공해 연소방법 |
JP6368458B2 (ja) * | 2013-05-24 | 2018-08-01 | 株式会社荏原製作所 | 除害機能付真空ポンプ |
-
2013
- 2013-05-30 JP JP2013114275A patent/JP6166102B2/ja active Active
-
2014
- 2014-05-27 EP EP14170056.7A patent/EP2815800B1/en active Active
- 2014-05-28 US US14/289,575 patent/US9956524B2/en active Active
- 2014-05-29 TW TW107123113A patent/TWI700433B/zh active
- 2014-05-29 CN CN201410234030.9A patent/CN104214101A/zh active Pending
- 2014-05-29 TW TW103118745A patent/TWI632293B/zh active
- 2014-05-30 KR KR1020140065730A patent/KR101972182B1/ko active IP Right Grant
-
2018
- 2018-03-20 US US15/926,844 patent/US10632419B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006275421A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Ltd | 排ガス除害装置 |
JP2007014937A (ja) * | 2005-07-04 | 2007-01-25 | Katsutoshi Kihira | 有機廃棄物処理装置及び排ガス浄化装置 |
JP2012054541A (ja) * | 2010-08-05 | 2012-03-15 | Ebara Corp | 排気系システム |
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102015119012A1 (de) | 2014-11-14 | 2016-05-19 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Brennstoffzellensystem und Betriebssteuerverfahren hierfür |
KR20170138946A (ko) * | 2016-06-08 | 2017-12-18 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 제해 기능 부착 건식 진공 펌프 |
JP2017223215A (ja) * | 2016-06-08 | 2017-12-21 | 株式会社荏原製作所 | 除害機能付ドライ真空ポンプ |
KR102338068B1 (ko) * | 2016-06-08 | 2021-12-10 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 제해 기능 부착 건식 진공 펌프 |
JP2021502518A (ja) * | 2017-11-13 | 2021-01-28 | エドワーズ リミテッド | モジュール式真空ポンプ及び/又は除害システム |
US11542932B2 (en) | 2017-11-13 | 2023-01-03 | Edwards Limited | Vacuum system pipe couplings |
JP2021502532A (ja) * | 2017-11-13 | 2021-01-28 | エドワーズ リミテッド | 真空システムパイプカップリング |
JP7395486B2 (ja) | 2017-11-13 | 2023-12-11 | エドワーズ リミテッド | 真空システムパイプカップリング |
KR102589654B1 (ko) | 2017-11-13 | 2023-10-16 | 에드워즈 리미티드 | 진공 펌핑 및/또는 저감 시스템을 위한 모듈 |
KR102589659B1 (ko) | 2017-11-13 | 2023-10-16 | 에드워즈 리미티드 | 모듈형 진공 펌핑 및/또는 저감 시스템 |
KR20200087765A (ko) * | 2017-11-13 | 2020-07-21 | 에드워즈 리미티드 | 모듈형 진공 펌핑 및/또는 저감 시스템 |
KR20200087762A (ko) * | 2017-11-13 | 2020-07-21 | 에드워즈 리미티드 | 진공 펌핑 및/또는 저감 시스템을 위한 모듈 |
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JP7038196B2 (ja) | 2018-03-26 | 2022-03-17 | 株式会社Kokusai Electric | 処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム |
JPWO2019186616A1 (ja) * | 2018-03-26 | 2021-04-08 | 株式会社Kokusai Electric | 処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム |
JP2021134662A (ja) * | 2020-02-21 | 2021-09-13 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ、除害装置、および排気ガス処理システム |
WO2021166815A1 (ja) * | 2020-02-21 | 2021-08-26 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ、除害装置、および排気ガス処理システム |
JP7374015B2 (ja) | 2020-02-21 | 2023-11-06 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ、除害装置、および排気ガス処理システム |
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KR20220158631A (ko) | 2021-05-24 | 2022-12-01 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 서브팹 에어리어 설치 장치 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
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